|
DE3036660A1
(de)
*
|
1980-09-29 |
1982-05-19 |
Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München |
Anordnung fuer stroboskopische potentialmessungen mit einem elektronenstrahl-messgeraet
|
|
DE3110140A1
(de)
*
|
1981-03-16 |
1982-09-23 |
Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München |
Vorrichtung und verfahren fuer eine rasche interne logikpruefung an integrierten schaltungen
|
|
DE3110138A1
(de)
*
|
1981-03-16 |
1982-09-23 |
Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München |
Verfahren zur darstellung logischer zustandsaenderungen mehrerer benachbarter schaltungsknoten in integrierten schaltungen in einem logikbild mittels einer gepulsten elektronensonde
|
|
DE3206309A1
(de)
*
|
1982-02-22 |
1983-09-15 |
Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München |
Sekundaerelektronen-spektrometer und verfahren zu seinem betrieb
|
|
JPS58166734A
(ja)
*
|
1982-03-29 |
1983-10-01 |
Fujitsu Ltd |
集積回路の不良箇所解析方法
|
|
US4520313A
(en)
*
|
1982-03-30 |
1985-05-28 |
Advanced Semiconductor Materials America, Inc. |
Semiconductor testing and apparatus therefor
|
|
EP0113746B1
(en)
*
|
1982-07-16 |
1988-01-07 |
Lintech Instruments Limited |
An elektrode system of a retarding-field spectrometer for a voltage measuring electron beam apparatus
|
|
DE3231036A1
(de)
*
|
1982-08-20 |
1984-02-23 |
Max Planck Gesellschaft |
Kombinierte elektrostatische objektiv- und emissionslinse
|
|
DE3234413A1
(de)
*
|
1982-09-16 |
1984-03-22 |
Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München |
Verfahren zur automatischen fehlersuche im innern von vlsi-schaltungen mit einer elektronensonde und vorrichtung zur durchfuehrung eines solchen verfahrens
|
|
DE3235100A1
(de)
*
|
1982-09-22 |
1984-03-22 |
Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München |
Verfahren zur messung elektrischer potentiale an vergrabener festkoerpersubstanz
|
|
DE3235484A1
(de)
*
|
1982-09-24 |
1984-03-29 |
Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München |
Verfahren zur unterdrueckung einer stoerung bei der messung von signalverlaeufen mit einer korpuskularsonde und vorrichtung zur durchfuehrung eines solchen verfahrens
|
|
JPS607049A
(ja)
*
|
1983-06-24 |
1985-01-14 |
Hitachi Ltd |
電位測定装置
|
|
DE3334494A1
(de)
*
|
1983-09-23 |
1985-04-11 |
Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München |
Verfahren zum messen niederfrequenter signalverlaeufe innerhalb integrierter schaltungen mit der elektronensonde
|
|
DE3334534A1
(de)
*
|
1983-09-23 |
1985-04-04 |
Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München |
Verfahren zur aufnahme und darstellung von signalen im innern integrierter schaltungen unter beruecksichtigung der flankensteilheit und vorrichtung zur durchfuehrung eines solchen verfahrens
|
|
DE3335623A1
(de)
*
|
1983-09-30 |
1985-04-11 |
Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München |
Verfahren zur herstellung einer kohlenstoff enthaltenden schicht, kohlenstoff enthaltende schicht, verwendung einer kohlenstoff enthaltenden schicht und vorrichtung zur durchfuehrung eines verfahrens zur herstellung einer kohlenstoff enthaltenden schicht
|
|
DE3335671A1
(de)
*
|
1983-09-30 |
1985-04-04 |
Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München |
Verfahren zur lokalisierung von zeitkritischen vorgaengen im innern einer getakteten elektronischen schaltung
|
|
DE8336881U1
(de)
|
1983-12-22 |
1984-07-26 |
Rose, Harald, Prof.-Dr., 6100 Darmstadt |
Korpuskularstrahl-austastvorrichtung
|
|
DE3407041A1
(de)
*
|
1984-02-27 |
1985-09-05 |
Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München |
Verfahren zur automatischen einstellung des arbeitspunktes bei signalverlaufsmessungen mit korpuskularstrahl-messgeraeten
|
|
DE3407071A1
(de)
*
|
1984-02-27 |
1985-08-29 |
Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München |
Verfahren zur automatischen einstellung der spannungsaufloesung in korpuskularstrahl-messgeraeten und vorrichtung zur durchfuehrung eines solchen verfahrens
|
|
SE452526B
(sv)
*
|
1984-05-09 |
1987-11-30 |
Stiftelsen Inst Mikrovags |
Forfarande for att inspektera integrerade kretsar eller andra objekt
|
|
DE3519401A1
(de)
*
|
1984-05-30 |
1985-12-05 |
Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München |
Verfahren und vorrichtung zur detektion und abbildung eines punktes einer probe, der ein signal wenigstens einer bestimmten frequenz fuehrt
|
|
EP0166814B1
(de)
*
|
1984-05-30 |
1990-07-18 |
Siemens Aktiengesellschaft |
Verfahren und Vorrichtung zur Detektion und Abbildung eines Messpunkts, der eine Spannung wenigstens einer bestimmten Frequenz führt
|
|
EP0166912B1
(de)
*
|
1984-06-01 |
1990-08-29 |
Siemens Aktiengesellschaft |
Verfahren zur elektrischen Prüfung von Mikroverdrahtungen mit Hilfe von Korpuskularsonden
|
|
DE3428965A1
(de)
*
|
1984-08-06 |
1986-02-06 |
Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München |
Verfahren und vorrichtung zur detektion und abbildung von messpunkten, die einen bestimmten signalverlauf aufweisen
|
|
US4713543A
(en)
*
|
1984-08-13 |
1987-12-15 |
Siemens Aktiengesellschaft |
Scanning particle microscope
|
|
DE3570324D1
(en)
*
|
1984-09-04 |
1989-06-22 |
Siemens Ag |
Process for the automatic positioning of a curpuscular probe
|
|
US4733176A
(en)
*
|
1984-09-13 |
1988-03-22 |
Siemens Aktiengesellschaft |
Method and apparatus for locating defects in an electrical circuit with a light beam
|
|
US4689555A
(en)
*
|
1985-03-22 |
1987-08-25 |
Siemens Aktiengesellschaft |
Method for the determination of points on a specimen carrying a specific signal frequency by use of a scanning microscope
|
|
JPH0775155B2
(ja)
*
|
1985-08-20 |
1995-08-09 |
富士通株式会社 |
ストロボ電子ビーム装置
|
|
EP0226913A3
(de)
*
|
1985-12-17 |
1988-10-05 |
Siemens Aktiengesellschaft |
Verfahren und Anordnung zur Lokalisierung und/oder Abbildung der ein bestimmtes zeitabhängiges Signal führenden Punkte einer Probe
|
|
EP0232790A1
(de)
*
|
1986-02-06 |
1987-08-19 |
Siemens Aktiengesellschaft |
Verfahren und Anordnung zur Messung zeitabhängiger Signale mit einer Korpuskularsonde
|
|
US4766372A
(en)
*
|
1987-02-10 |
1988-08-23 |
Intel Corporation |
Electron beam tester
|
|
JPH065691B2
(ja)
*
|
1987-09-26 |
1994-01-19 |
株式会社東芝 |
半導体素子の試験方法および試験装置
|
|
US4829243A
(en)
*
|
1988-02-19 |
1989-05-09 |
Microelectronics And Computer Technology Corporation |
Electron beam testing of electronic components
|
|
US5144225A
(en)
*
|
1989-03-31 |
1992-09-01 |
Schlumberger Technologies, Inc. |
Methods and apparatus for acquiring data from intermittently failing circuits
|
|
US5404110A
(en)
*
|
1993-03-25 |
1995-04-04 |
International Business Machines Corporation |
System using induced current for contactless testing of wiring networks
|
|
US5602489A
(en)
*
|
1994-12-02 |
1997-02-11 |
Alcedo |
Switch potential electron beam substrate tester
|
|
DE19742055C2
(de)
*
|
1997-09-24 |
2000-02-24 |
Ita Ingb Testaufgaben Gmbh |
Vorrichtung zum Testen von Schaltungsplatinen
|
|
US6359451B1
(en)
|
2000-02-11 |
2002-03-19 |
Image Graphics Incorporated |
System for contactless testing of printed circuit boards
|
|
AU3354401A
(en)
|
2000-02-14 |
2001-08-20 |
Eco 3 Max Inc. |
Process for removing volatile organic compounds from an air stream and apparatustherefor
|
|
EP3203494B1
(en)
*
|
2014-09-24 |
2019-12-18 |
National Institute for Materials Science |
Energy-discrimination electron detector and scanning electron microscope in which same is used
|
|
WO2022091234A1
(ja)
*
|
2020-10-28 |
2022-05-05 |
株式会社日立ハイテク |
荷電粒子ビーム装置および試料観察方法
|