JPS6252935B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6252935B2 JPS6252935B2 JP4408781A JP4408781A JPS6252935B2 JP S6252935 B2 JPS6252935 B2 JP S6252935B2 JP 4408781 A JP4408781 A JP 4408781A JP 4408781 A JP4408781 A JP 4408781A JP S6252935 B2 JPS6252935 B2 JP S6252935B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transformer
- cassette
- varnish
- hanger
- insulating varnish
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000002966 varnish Substances 0.000 claims description 38
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
- H01F41/04—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing coils
- H01F41/12—Insulating of windings
- H01F41/127—Encapsulating or impregnating
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Insulating Of Coils (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は小型トランスの絶縁ワニス連続含浸処
理方法に関する。
理方法に関する。
従来の小型トランスのワニス含浸処理はハンガ
ー、金網、籠等にトランスを載置し、これをワニ
スタンクに浸漬する方法、小型トランスを吊り金
具に引掛けて浸漬する方法で処理することが多か
つた。しかしハンガー等に載置して浸漬する方法
は、載置するため硬化完了後引きはがすとき、引
きはがすべき面積が大きく、固着力が強くなつて
いて引きはがしによりトランスを傷めやすい。さ
らに余分ワニスの除去も必要である。またハンガ
ー、金網、籠等が次第にワニスで太つてきてトラ
ンスを水平に載置することに支障を来すようにな
る。また吊り金具に引掛けて浸漬する方法はトラ
ンスが揺れるため含浸レベルを維持しにくい、ピ
ンタイプトランスは引掛ける箇所がないから、ど
のトランスにも適用できない等の欠点がある。
ー、金網、籠等にトランスを載置し、これをワニ
スタンクに浸漬する方法、小型トランスを吊り金
具に引掛けて浸漬する方法で処理することが多か
つた。しかしハンガー等に載置して浸漬する方法
は、載置するため硬化完了後引きはがすとき、引
きはがすべき面積が大きく、固着力が強くなつて
いて引きはがしによりトランスを傷めやすい。さ
らに余分ワニスの除去も必要である。またハンガ
ー、金網、籠等が次第にワニスで太つてきてトラ
ンスを水平に載置することに支障を来すようにな
る。また吊り金具に引掛けて浸漬する方法はトラ
ンスが揺れるため含浸レベルを維持しにくい、ピ
ンタイプトランスは引掛ける箇所がないから、ど
のトランスにも適用できない等の欠点がある。
本発明者らは上記欠点を解決するため種々研究
した結果、トランスを支持する表面積を極力少な
くする目的からピン支持方式を考え、この方式と
遂行するためのカセツトを、トランスの機種別に
よつてピンの位置等を適宜に変えたものとして、
機種に応じて予め製作しておけば、トランスの機
種に応じたカセツトをハンガーに載置してワニス
タンクに浸漬することにより、ハンガーはトラン
スの機種が異つても共通に使用でき、しかもカセ
ツトとハンガーとの関係およびワニスタンクに特
定のワニス含浸レベル調節機構に設けることによ
り各種の小型トランスの絶縁ワニスの連続含浸処
理を一定のレベルで実施することが可能であるこ
とを見出し本発明を完成した。
した結果、トランスを支持する表面積を極力少な
くする目的からピン支持方式を考え、この方式と
遂行するためのカセツトを、トランスの機種別に
よつてピンの位置等を適宜に変えたものとして、
機種に応じて予め製作しておけば、トランスの機
種に応じたカセツトをハンガーに載置してワニス
タンクに浸漬することにより、ハンガーはトラン
スの機種が異つても共通に使用でき、しかもカセ
ツトとハンガーとの関係およびワニスタンクに特
定のワニス含浸レベル調節機構に設けることによ
り各種の小型トランスの絶縁ワニスの連続含浸処
理を一定のレベルで実施することが可能であるこ
とを見出し本発明を完成した。
本発明を図によつて詳細に説明する。
第１図は本発明によつて考え出されたカセツト
を示す。カセツト１にはトランス２の形状に合わ
せたトランス支持ピン３を予め植えておく。トラ
ンス支持ピン３はトランスが水平になるように植
えつけられている。またカセツト１の板１９はワ
ニス切れがよく、ワニスを含浸したとき、浮力が
生じないように孔２０が適宜個所に開けてある。
またカセツト１の両端には機種別含浸レベル調節
ピン４を植えておき、ハンガー５の枠にピン４が
当るとトランス２のレベルが決まるようにする。
これによつて従来ハンガー５と共にでなければト
ランス２の機種変更ができなかつたのを１台のハ
ンガーでカセツトさえ機種別に変えれば共通で使
用しても含浸レベル調節が可能となる。これは第
１図Ｂ，Ｃにより理解される。
を示す。カセツト１にはトランス２の形状に合わ
せたトランス支持ピン３を予め植えておく。トラ
ンス支持ピン３はトランスが水平になるように植
えつけられている。またカセツト１の板１９はワ
ニス切れがよく、ワニスを含浸したとき、浮力が
生じないように孔２０が適宜個所に開けてある。
またカセツト１の両端には機種別含浸レベル調節
ピン４を植えておき、ハンガー５の枠にピン４が
当るとトランス２のレベルが決まるようにする。
これによつて従来ハンガー５と共にでなければト
ランス２の機種変更ができなかつたのを１台のハ
ンガーでカセツトさえ機種別に変えれば共通で使
用しても含浸レベル調節が可能となる。これは第
１図Ｂ，Ｃにより理解される。
さらにカセツト１とハンガー５がワニス固着力
によつて引きはがしにくくならないようにカセツ
ト支持位置決めピン６と機種別含浸レベル調節ピ
ン４によつてしか接触していないので非常に引き
はがしやすい。（第２図） 第３図は搬送チエーン９によつて含浸すべき位
置まで来たハンガー５が絶縁ワニス槽７の上で停
止した図である。工程はこれから絶縁ワニス槽が
昇降器８によつて上昇し、１次レベル１６までト
ランスが含浸される。この際トランス２の載置量
によつて絶縁ワニス槽７の内部のワニス押のけ量
が異なり、またワニス自身の粘度によつて表面張
力が働き、ワニスレベルが持上がる現象を生じ
る。従つて１次レベル１６の低いレベルで先ず含
浸し、絶縁ワニス槽７の上昇限２１で駆動シリン
ダー１３が作動し、連結アーム１４が働きレベル
調節板１２がオーバフロー堰１８の切欠き部２２
に当り、ワニスはワニス供給口１０より常時供給
されるので、２次レベル１７に近づくことによ
り、精度のよいワニスの２次レベル１７を得るこ
とができる。なおワニスはワニス戻り口１１によ
りワニスタンク（図示せず）に戻され、再びワニ
スポンプ（図示せず）で加圧されワニス供給口１
０に供給される。
によつて引きはがしにくくならないようにカセツ
ト支持位置決めピン６と機種別含浸レベル調節ピ
ン４によつてしか接触していないので非常に引き
はがしやすい。（第２図） 第３図は搬送チエーン９によつて含浸すべき位
置まで来たハンガー５が絶縁ワニス槽７の上で停
止した図である。工程はこれから絶縁ワニス槽が
昇降器８によつて上昇し、１次レベル１６までト
ランスが含浸される。この際トランス２の載置量
によつて絶縁ワニス槽７の内部のワニス押のけ量
が異なり、またワニス自身の粘度によつて表面張
力が働き、ワニスレベルが持上がる現象を生じ
る。従つて１次レベル１６の低いレベルで先ず含
浸し、絶縁ワニス槽７の上昇限２１で駆動シリン
ダー１３が作動し、連結アーム１４が働きレベル
調節板１２がオーバフロー堰１８の切欠き部２２
に当り、ワニスはワニス供給口１０より常時供給
されるので、２次レベル１７に近づくことによ
り、精度のよいワニスの２次レベル１７を得るこ
とができる。なおワニスはワニス戻り口１１によ
りワニスタンク（図示せず）に戻され、再びワニ
スポンプ（図示せず）で加圧されワニス供給口１
０に供給される。
ワニスは温度を一定にして粘度を安定させ、含
浸特性を安定させるため冷却水ジヤケツト１５を
具備している。
浸特性を安定させるため冷却水ジヤケツト１５を
具備している。
またレベル調節板１２はワニス固着しやすいの
で四弗化エチレン等の樹脂によつて作られてお
り、昇降器８は油圧式駆動でリミツトスイツチ等
により上、下限位置が自由に得られる。
で四弗化エチレン等の樹脂によつて作られてお
り、昇降器８は油圧式駆動でリミツトスイツチ等
により上、下限位置が自由に得られる。
図は本発明の小型トランスの絶縁ワニス連続含
浸処理方法において使用する含浸処理装置を示
す。第１図はカセツトの説明図、第２図はカセツ
トをハンガーに載置した際のレベルおよびカセツ
ト支持の状況を示す。第３図は含浸処理の際の含
浸レベルの調節の仕方を説明するための図であ
る。 １…カセツト、２…トランス（ピンタイプ）、
３…トランス支持ピン、４…機種別含浸レベル調
節ピン、５…ハンガー、６…カセツト支持位置決
めピン、７…絶縁ワニス槽、８…昇降器、９…搬
送チエーン、１０…ワニス供給口、１１…ワニス
戻り口、１２…レベル調節板、１３…駆動シリン
ダー、１４…連結アーム、１５…冷却水ジヤケツ
ト、１６…１次レベル、１７…２次レベル、１８
…オーバフロー堰、１９…カセツト板、２０…カ
セツト板孔、２１…絶縁ワニス槽上昇限、２２…
オーバフロー堰の切欠き部。
浸処理方法において使用する含浸処理装置を示
す。第１図はカセツトの説明図、第２図はカセツ
トをハンガーに載置した際のレベルおよびカセツ
ト支持の状況を示す。第３図は含浸処理の際の含
浸レベルの調節の仕方を説明するための図であ
る。 １…カセツト、２…トランス（ピンタイプ）、
３…トランス支持ピン、４…機種別含浸レベル調
節ピン、５…ハンガー、６…カセツト支持位置決
めピン、７…絶縁ワニス槽、８…昇降器、９…搬
送チエーン、１０…ワニス供給口、１１…ワニス
戻り口、１２…レベル調節板、１３…駆動シリン
ダー、１４…連結アーム、１５…冷却水ジヤケツ
ト、１６…１次レベル、１７…２次レベル、１８
…オーバフロー堰、１９…カセツト板、２０…カ
セツト板孔、２１…絶縁ワニス槽上昇限、２２…
オーバフロー堰の切欠き部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ トランス支持ピンを有するカセツトにトラン
スを固定し、該カセツトをハンガーに載置して、
該ハンガーごと含浸レベル調節機構を有する絶縁
ワニス槽に含浸させることを特徴とする小型トラ
ンスの絶縁ワニス連続含浸処理方法。 ２ トランス支持ピンを有するカセツトが機種別
含浸レベル調節ピンを有しハンガー枠との間でカ
セツトの水平位置を調節できる機能を有するもの
である特許請求の範囲第１項記載の小型トランス
の絶縁ワニス連続含浸処理方法。 ３ 絶縁ワニス槽の含浸レベル調節機構はオーバ
フロー堰とそれに設けた切欠き部およびレベル調
節板とからなるものである特許請求の範囲第１項
記載の小型トランスの絶縁ワニス連続含浸処理方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4408781A JPS57160112A (en) | 1981-03-27 | 1981-03-27 | Continuous immersing process into insulation varnish for small transformer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4408781A JPS57160112A (en) | 1981-03-27 | 1981-03-27 | Continuous immersing process into insulation varnish for small transformer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57160112A JPS57160112A (en) | 1982-10-02 |
| JPS6252935B2 true JPS6252935B2 (ja) | 1987-11-07 |
Family
ID=12681832
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4408781A Granted JPS57160112A (en) | 1981-03-27 | 1981-03-27 | Continuous immersing process into insulation varnish for small transformer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57160112A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6299372U (ja) * | 1985-12-12 | 1987-06-24 |
-
1981
- 1981-03-27 JP JP4408781A patent/JPS57160112A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57160112A (en) | 1982-10-02 |
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