JPS6251236A - Wafer processing system - Google Patents

Wafer processing system

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JPS6251236A
JPS6251236A JP60189870A JP18987085A JPS6251236A JP S6251236 A JPS6251236 A JP S6251236A JP 60189870 A JP60189870 A JP 60189870A JP 18987085 A JP18987085 A JP 18987085A JP S6251236 A JPS6251236 A JP S6251236A
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wafer
carrier
wafer carrier
hand
prober
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Teruya Sato
光弥 佐藤
Shunzo Imai
今井 俊三
Ryozo Hiraga
平賀 亮三
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Abstract

PURPOSE:To facilitate automation of a wafer processing line, by using an automatic wafer-carrier conveying vehicle operated by optical communication. CONSTITUTION:An automatic wafer-carrier conveying vehicle 90 makes its optical communications window 93 to face optical communications windows 99 of a wafer prober and performs communications with the wafer prober. The vehicle is moved at a low speed to a position where input light from the optical communications window becomes the maximum value Thus the vehicle is positioned with respect to the wafer prober. Then the conveying vehicle 90 transmits a signal to the wafer prober so as to perform wafer carrier replacement. When the wafer prober receives the signal, the wafer carrier table of a wafer carrier 91, whose inspection is finished, is pushed to the side of the conveying vehicle 90. The sending of the wafer carrier table is transmitted to the conveying vehicle 90 through the optical communications window 99. After the signal is received by the conveying vehicle 90, the wafer carrier 91 on the wafer carrier table is lifted with a wafer-carrier conveying hand 92 and accommodated in the specified position in the conveying vehicle 90. Then, the conveying vehicle 90 mounts the wafer carrier 91, on which wafers that are not inspected yet are placed, on the wafer carrier table of the wafer prober.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、ウェハ処理システムに関し、特に光通信操作
による。ウェハキャリヤ自動搬送車を用いることによっ
てウェハ処理ラインの自動化を容易にしたウェイ1処理
システムに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to wafer processing systems, and more particularly to optical communication operations. The present invention relates to a way 1 processing system that facilitates automation of a wafer processing line by using a wafer carrier automatic transport vehicle.

[従来の技術] つ]−ハブローバとは半導体ウェハトに形成された多数
のICチップを、切断およびパッケージイブする前のウ
ェハ状態のままでそのチップの特性を測定する際に用い
られる装置である。実際のテストはICテスタが行うが
、ウエハプローバはこのICテスタと前記つJハトの各
ICチップとを電気的に正確にコンタクトするための装
置である。
[Prior Art] - A hub lober is a device used to measure the characteristics of a large number of IC chips formed on a semiconductor wafer while the wafer remains in its state before being cut and packaged. The actual test is performed by an IC tester, and a wafer prober is a device for accurately electrically contacting the IC tester and each of the above-mentioned IC chips.

ところで、従来のウエハプローバにおいては、そのウェ
ハ搬送系は第11図に図示される構成となっていた。図
中、40は搬送コニツ]〜、41はつJハプローバ本体
、42は供給用ウェハキャリA7.43は収納用ウェハ
キャリヤ、44はウエハプローバ本体41に供給される
未検査ウェハ、45は既に測定を終了してウェハキャリ
ヤ42に収納される検査済みつJハである。このような
搬送系においては、供給用ウェハキャリA742および
収納用ウニ[ハ4ヤリャ43が別なものであったが、近
年のウェハの大型化、さらには自動化のため多数のウニ
「ハキ1?リヤを使用することになり、供給および収納
のためにそれぞれ別のつJハキヤリA7を用いることに
よって生じる搬送系の大型化の問題が無視出来ないもの
となってぎた。
Incidentally, in a conventional wafer prober, the wafer transfer system has a configuration shown in FIG. 11. In the figure, 40 is a conveyor prober body, 41 is a wafer prober body, 42 is a supply wafer carrier A7, 43 is a storage wafer carrier, 44 is an uninspected wafer that is supplied to the wafer prober body 41, and 45 is a wafer that has already been measured. The wafers that have been inspected are stored in the wafer carrier 42 after completion of the inspection. In such a transfer system, the supply wafer carrier A742 and the storage wafer carrier A742 were separate, but due to the recent increase in the size of wafers and further automation, a large number of wafer carriers A742 and storage wafer carrier A742 have been used. As a result, the problem of increasing the size of the conveyance system caused by the use of separate J-shape A7s for supply and storage has become a non-negligible problem.

そこで上記問題点を解決覆るために第12図に示される
構成の搬送系が提案された。図中、46.47および4
8は供給兼収納ウェハキャリヤ、49はウェハ、50は
つJハト−νリャに対してウーFハを引き出しまたは押
し入れるつTハハンドであり、その他の符号は第11図
と同一である。このJ、うな構成によれば、ウェハの供
給、収納が1つのつ1ニハキヤリヤで可能となったが、
複数のつTハキ1リヤ46゜47、48各/?に対し、
ウェハを引き出すための空領域が必要なため、やはり無
駄なスペースが多かった。
Therefore, in order to solve the above-mentioned problems, a conveyance system having the configuration shown in FIG. 12 was proposed. In the figure, 46, 47 and 4
Reference numeral 8 denotes a supply/storage wafer carrier, 49 a wafer, 50 a T hand for pulling out or pushing a wafer into or out of the holder, and other reference numerals are the same as in FIG. 11. According to this configuration, wafers can be supplied and stored in one single carrier.
Multiple T haki 1 rear 46° 47, 48 each/? For,
There was still a lot of wasted space because an empty area was needed to pull out the wafer.

そこで、第11によび12図に示した搬送系の欠点を除
去するために、本出願人は既に第13図に示す搬送系を
提案した。図中、51おにび52は供給兼収納ウェハキ
ャリヤ、53はつ王ハ、54はウェハキャリヤからウェ
ハを引き出しまたは押し入れるウ−[ハハンドである。
Therefore, in order to eliminate the drawbacks of the conveyance system shown in FIGS. 11 and 12, the applicant has already proposed the conveyance system shown in FIG. 13. In the figure, reference numeral 51 indicates a supply/storage wafer carrier, 53 indicates a wafer hand, and 54 indicates a wafer hand for pulling out or pushing a wafer from the wafer carrier.

ウェハハンド54は同図に示されるように回転可能であ
る。このJ、うな構成によれば、図示される2つのウェ
ハキャリA751および52のそれぞれからウェハを引
出まために必要な空領域を其通にし無駄bスペースを少
なくして装置を小型化している。
The wafer hand 54 is rotatable as shown in the figure. According to this configuration, the empty area necessary for pulling out wafers from each of the two wafer carriers A751 and 52 shown in the figure is passed through, thereby reducing wasted space and downsizing the apparatus.

第14図は、第13図の搬送系をウェハブ「1−バに適
用した際のウ−[ハブローバの周囲状況を示す図である
。図中、54はオペレータ、55はオペレーションエリ
ア、56は通路τ゛あり、その仙の符号は第13図と同
一である。
FIG. 14 is a diagram showing the surrounding situation of the wafer 1-bar when the transfer system of FIG. 13 is applied to the wafer 1-bar. There is τ゛, and its sign is the same as in Fig. 13.

しかし、第14図のような構成のウニハブ[1−バは、
第11または12図に示すウエハプローバに対して確か
に小形化はされるものの、同様の欠点、すなわらウェハ
キャリヤをオペレーションエリア55から遠い位置にも
配置しており操作性に劣るという欠点がある。この欠点
はつ丁ハ号イズが6インチ程度までは大した問題ではな
かったが、つJハサイズが8インチ以」二になぁとぞの
ウェハキャリヤの大きさおよび重量ゆえに重大な問題と
なる。
However, the Unihub [1-bar] with the configuration shown in Figure 14 is
Although it is certainly smaller in size than the wafer prober shown in FIGS. 11 or 12, it has the same drawbacks, namely, the wafer carrier is located far from the operation area 55, resulting in poor operability. be. This drawback was not a major problem up to a size of about 6 inches, but becomes a serious problem when the size of a wafer is 8 inches or more because of the size and weight of the wafer carrier.

つまりウニハブ[1−バ正面から奥側のウェハキャリヤ
51の取外しや設定等の操作が困難とhす、ウエハプロ
ーバ側面からこのような操作をすることが必要どなる。
In other words, it is difficult to perform operations such as removing and setting the wafer carrier 51 on the back side from the front of the unihub [1-bar], and it becomes necessary to perform such operations from the side of the wafer prober.

従ってこのような搬送系を有するウエハプローバにおい
ては、第14図に示すようにウエハプローバ横につJハ
キャリャ設定用の通路56が必要となる。このため、ウ
エハプローバを第15図に示すように王場内配詔するこ
とが不可能となり、第16図に示すような配置に限定さ
れてしまう。第15図と第16図を比較すると、第15
図の方がスペースの有効利用の面で優れていることは明
らかである。
Therefore, in a wafer prober having such a transfer system, a passage 56 for setting a J-carrier is required beside the wafer prober, as shown in FIG. For this reason, it becomes impossible to arrange the wafer prober in the laboratory as shown in FIG. 15, and the arrangement is limited to that shown in FIG. 16. Comparing Figures 15 and 16, we find that
It is clear that the diagram is better in terms of efficient use of space.

また第12図において、供給兼収納つエバキャリヤ46
.47および48を1枚の板上に搭載し、ウェハキャリ
ヤ交換時にはその板を引出して全つエバキャリヤ46.
47および48を正面に引出せるようにしたものも知ら
れているが、この場合、後側のウェハキャリヤ46の交
換時には手前のつエバキャリヤ47および48に関する
装置動作まで中1トされるという欠点があった。
Also, in FIG. 12, the supply/storage evaporator carrier 46
.. 47 and 48 are mounted on a single plate, and when replacing the wafer carrier, the plate is pulled out and all the wafer carriers 46.
A device in which the wafer carriers 47 and 48 can be pulled out to the front is also known, but in this case, the disadvantage is that when the rear wafer carrier 46 is replaced, the operation of the apparatus regarding the front wafer carriers 47 and 48 is also interrupted. there were.

また、供給兼収納ウェハキヤリt746.47および4
8においては、ウェハの引出しまたは押し入れを確実に
行うためにそのつエバキャリヤ内のつTハの正確な位置
を計測Jる必要がある。しかし全ウェハキ1リヤ引き出
し方式では、1つのつエバキャリヤを交換すると他のウ
ェハキャリヤ内のウェハも動いてしまうため、それ以前
に行なった正確t【位回れ]測が無意味なものとなって
しまうという欠点もあった。
In addition, supply and storage wafer carriers T746.47 and 4
In step 8, it is necessary to measure the exact position of the T in the evaporator carrier in order to ensure that the wafer is pulled out or pushed in. However, in the all-wafer one-rear pull-out system, when one evaporator carrier is replaced, the wafers in other wafer carriers also move, making the accurate t (turn) measurement carried out before then meaningless. There was also a drawback.

さらに、従来のウ−「ハプローバにおいては、プリアラ
イメント部やアンロードストップ部が装置内において比
較的大きな面積を占めており、これがウニハブ[1−バ
の大型化の原因の1つになっていた。ここで、プリアラ
イメント部はウェハキヤリVから引き出したウェハをX
Yステージ上のつ:[ハチャックに乗せる前にプリアラ
イメントを行うものであり、アン[1−トストップ部は
ブロービングが終了したウェハをウェハチャックから回
収した後、人が目視でその表面状態を見るためにウェハ
を一時的に置く位置である。
Furthermore, in conventional U-Hub probers, the pre-alignment section and unload stop section occupy a relatively large area within the device, and this was one of the reasons for the increase in the size of the U-Ni-Hub. .Here, the pre-alignment section aligns the wafer pulled out from the wafer carrier V with
The first stop on the Y stage performs pre-alignment before placing the wafer on the wafer chuck. This is the position where the wafer is temporarily placed for viewing.

[発明の目的] 本発明は、−L述従来技術の欠点を除去するためになさ
れたもので、ウェハ処理ラインの自動化に容易に対応で
き、しかもT場内でのつ丁ハ処理システノ、の設置スペ
ースの有効利用が図れるウェハ処理システムを提供する
ことを目的とする。
[Object of the Invention] The present invention has been made in order to eliminate the drawbacks of the prior art mentioned above, and can easily cope with the automation of the wafer processing line, and moreover, it is possible to install a two-way processing system within the T-field. The purpose of the present invention is to provide a wafer processing system that can effectively utilize space.

上記目的は、ウェハキャリヤを装置正面部に配置したつ
“[ハ処理装置に、いずれかのウェハキャリャ内のウェ
ハが全で処即済みであることを知ら    。
The above purpose is to notify the wafer processing apparatus that all wafers in one of the wafer carriers have been processed when the wafer carriers are placed at the front of the apparatus.

せる光通信手段を設け、外部からその光通信手段からの
信号を検知してウニハキセリ12を出し入れすることに
よって達成される。
This is achieved by providing an optical communication means for transmitting the information, and detecting a signal from the optical communication means from the outside to move the sea urchin cutter 12 in and out.

[実施例の説明] 以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明する。[Explanation of Examples] Hereinafter, the present invention will be explained in detail based on examples.

第1図は、本発明の一実施例に係るウエハプ口−バの概
略構成図を示す。図中、1はウェハキャリヤ出入口、2
はスライド機構を有するウェハキャリヤ台、3はウェハ
キャリヤ、4はブロービング湾みのウェハを目視する時
にウェハを置くアンロードストップ位置、5はアンロー
ドストップ状態のウェハ、6は操作パネル、7はつ:【
−ハの相位置合わせを行うプリアライメントステーショ
ン、8はプリアライメント中のウェハ、10はつTハを
バキュームによりホールドするウェハチャック、11は
測定持ち状態ウェハ、12は内部にプローブカード(図
示せず)をホールドしているヘッドプレ71−113は
1日−ブカードの設定114等に用いる実体顕微鏡、1
4はウエハプローバに設定されたパラメータ表示および
オートアライメントに用いる参照画像(以下テンプレー
トという)の設定等に用いるモニタである。
FIG. 1 shows a schematic diagram of a wafer opening according to an embodiment of the present invention. In the figure, 1 is the wafer carrier entrance/exit, 2
3 is a wafer carrier; 4 is an unload stop position where a wafer is placed when visually inspecting a wafer with a blobbing curve; 5 is a wafer in an unload stop state; 6 is an operation panel; 7 is a wafer carrier stand with a sliding mechanism; One: [
- a pre-alignment station for performing phase alignment of the wafer, 8 a wafer undergoing pre-alignment, 10 a wafer chuck that holds the wafer by vacuum, 11 a wafer in a measurement state, 12 a probe card inside (not shown). ) The head plate 71-113 holding the stereo microscope used for setting 114 etc. of the 1-day book card, 1
Reference numeral 4 denotes a monitor used for displaying parameters set in the wafer prober and setting a reference image (hereinafter referred to as a template) used for auto-alignment.

第2図は、第1図に示すウエハプローバの内部概略図で
ある。図中、15はウェハキャリヤ3の任意の位置から
ウェハを引出しまたは挿、入相能なパンタグラフハンド
、16はパンタグラフハンドを上下駆動させるパンタグ
ラフハンド上下機構部、11はプリアライメントステー
ション7からウェハチャック10にウェハを運ぶ搬入ハ
ンド、18はウェハチャック10を回転させまたは高さ
方向の駆動を行うθ7ステージ、19および20はそれ
ぞれXステージおよびYステージ、21はウェハの外周
計測およびウェハの表面の高さの計測を行う静電容量型
センサ、22はウェハの自動位置合わせ(以下、オード
アライメン1〜と称す)のためにウェハ表面のパターン
を捕えるオートアライメント用顕微鏡である。
FIG. 2 is an internal schematic diagram of the wafer prober shown in FIG. 1. In the figure, 15 is a pantograph hand capable of pulling out, inserting, and inserting a wafer from any position on the wafer carrier 3, 16 is a pantograph hand up-and-down mechanism that drives the pantograph hand up and down, and 11 is a wafer chuck 10 from the pre-alignment station 7. 18 is a θ7 stage that rotates or drives the wafer chuck 10 in the height direction; 19 and 20 are an X stage and a Y stage, respectively; 21 is a wafer circumference measurement and a wafer surface height A capacitive sensor 22 is an auto-alignment microscope that captures a pattern on the wafer surface for automatic wafer alignment (hereinafter referred to as auto-alignment 1).

第3図は、第1図のウェハプローバの外観概略図であり
、30はパラメータ等の設定に用いるフラットキーボー
ド(操作部)、31および32は透明カバーである。
FIG. 3 is a schematic external view of the wafer prober shown in FIG. 1, where 30 is a flat keyboard (operation unit) used for setting parameters, etc., and 31 and 32 are transparent covers.

第4.図は、警2図に示すパンタグラフハンド15の側
断面図である。図中、3はウェハキャリヤ、60はウェ
ハ、70はつ舌ハの有無検知およびウェハの位置計測に
光源として用いるコリメータ付半導体レーザ、71は平
面ミラー73によって反射して来たレーザ光を検知する
ホトディテクタ、72はハーフミラ−114はパンタグ
ラフハンド15の伸縮駆動部、75はパンタグラフハン
ド15全体を回転させる同転駆動部である。
4th. The figure is a side sectional view of the pantograph hand 15 shown in Figure 2. In the figure, 3 is a wafer carrier, 60 is a wafer, 70 is a semiconductor laser with a collimator used as a light source for detecting the presence or absence of a protrusion and measuring the position of the wafer, and 71 is for detecting the laser light reflected by a plane mirror 73. 72 is a half mirror; 114 is a telescopic drive unit for the pantograph hand 15; and 75 is a rotary drive unit that rotates the entire pantograph hand 15.

第5および6図はパンタグラフハンド15の上面図であ
り、それぞれ伸縮駆動部74の動作によってパンタグラ
フハンド15が伸びた状態および縮んだ状態を示す図で
ある。符号は第4図と同一である。
5 and 6 are top views of the pantograph hand 15, showing the pantograph hand 15 in an extended state and a contracted state, respectively, by the operation of the telescopic drive section 74. FIG. The symbols are the same as in FIG.

第7図はプリアライメントステーション周りの概略−で
ある。図中、80は搬入ハンド17をY軸方向に移動さ
せるリニアパルスモータ、81はリニアパルスモータの
ステータになるスケール、82は搬入ハンドを上下動さ
せる搬入ハンド上下駆動部、83はプリアライメント時
にウェハ裏面からつJハの外形を検知するためのつ1ハ
センサ、84はパンタグラフハンドフィンガ、85はプ
リアライメント時にウェハを回転させるためのプリアラ
イメント用ウェハ回転機構部、86はウェハをつTハチ
ャックからリフトさせるウェハチャックビンである。
FIG. 7 is a schematic diagram of the area around the pre-alignment station. In the figure, 80 is a linear pulse motor that moves the carrying hand 17 in the Y-axis direction, 81 is a scale that becomes the stator of the linear pulse motor, 82 is a carrying hand vertical drive unit that moves the carrying hand up and down, and 83 is a wafer during pre-alignment. 84 is a pantograph hand finger, 85 is a pre-alignment wafer rotation mechanism for rotating the wafer during pre-alignment, and 86 is a lift from the T-shaped chuck that holds the wafer. This is a wafer chuck bin.

第8および9図はプリアライメント動作を説明する図で
あり、第8図はパンタグラフハンド15上のウェハの外
形をウェハセンサ83により検出している状態、第9図
はプリアライメントステージ」ン7でのプリアライメン
ト実行状態を示す図である。
8 and 9 are diagrams for explaining the pre-alignment operation. FIG. 8 shows a state in which the outline of the wafer on the pantograph hand 15 is detected by the wafer sensor 83, and FIG. FIG. 3 is a diagram showing a pre-alignment execution state.

以下、上記構成に係るウェハブ11−バの動作を説明す
る。
The operation of the wafer 11-bar having the above configuration will be explained below.

まず、つTハキ11リヤ3の設定について説明する。First, the settings of the T-haki 11 rear 3 will be explained.

第1図を参照して、ウェハキャリヤ3の設定のためには
操作パネル6にあるキャリヤセットスイッチ(図示せず
)を押す。これにJ、す、装置正面にあるウェハキャリ
ヤ出入口1からウェハキャリヤ台2が手前に出てくる。
Referring to FIG. 1, to set the wafer carrier 3, a carrier set switch (not shown) on the operation panel 6 is pressed. At this point, a wafer carrier stand 2 comes out from the wafer carrier entrance/exit 1 located at the front of the apparatus.

このつJハ:1ヤリャ台2の移動は、本実施例ではリニ
アパルスモータにより行なっている。なお、第1図は左
側のつTハキャリャ台2が出ている状態を示しているが
、右側のつTハキャリャ台2も同様な動きが可能となっ
ている。ウェハキャリヤ台2にウェハキャリヤ3を設定
後、再度キャリ)7セツトスイツチを押すことによりこ
のウェハキャリヤ台2は装置内に移動し、この状態で本
装囮はスタート待ち状態となる。
In this embodiment, the movement of the stand 2 is carried out by a linear pulse motor. Although FIG. 1 shows the left side T-shaped carrier stand 2 in a state where it is out, the right-hand side T-shaped carrier stand 2 can also move in the same way. After setting the wafer carrier 3 on the wafer carrier table 2, the wafer carrier table 2 is moved into the apparatus by pressing the carry/7 set switch again, and in this state, the fully loaded decoy enters a start waiting state.

次に、プローブテスト動作について説明する。Next, the probe test operation will be explained.

上記スタート持ち状態において、操作パネル6のスター
トスイッチが押されるとパンタグラフハンド15は縮ん
だ状態(第6図参照)のままで、指定されたウェハキャ
リヤの方向を向ぎ、パンタグラフハンド上下機構部16
により上から下方向に移動を行なう。パンタグラフハン
ド15は第4図に示されるように内部にウェハセンス用
の半導体レ−ザ70およびホl−ディテクタ71を有し
ており、これらによりウェハキャリヤ内のウェハの有無
およびその正確な位置を検出することが可能となってい
る。パンタグラフハンド15は、このような機能により
ウェハキャリヤ3中任意の位置からウェハ60を引出す
ことが可能となっている。ウェハキャリヤ3からウェハ
60を引き出す様子を第5図および第6図に示す。
In the start holding state, when the start switch on the operation panel 6 is pressed, the pantograph hand 15 remains in the retracted state (see FIG. 6) and faces the specified wafer carrier, and the pantograph hand vertical mechanism section 16
to move from top to bottom. As shown in FIG. 4, the pantograph hand 15 has a semiconductor laser 70 and a hole detector 71 for wafer sensing inside, and these detect the presence or absence of a wafer in the wafer carrier and its exact position. It is possible to detect it. With such a function, the pantograph hand 15 can pull out the wafer 60 from any position in the wafer carrier 3. A state in which the wafer 60 is pulled out from the wafer carrier 3 is shown in FIGS. 5 and 6.

パンタグラフハンド15はウェハキャリヤ3からウェハ
60を引き出した後、パンタグラフハンド上下機構部1
6にJ:り上背し、さらにパンタグラフハンド回転駆動
部15により回転することによりウェハを第7図に示す
ようにプリアライメントステーション7の上方に位置さ
せる。
After the pantograph hand 15 pulls out the wafer 60 from the wafer carrier 3, the pantograph hand vertical mechanism section 1
6, the wafer is turned upside down, and further rotated by the pantograph hand rotation drive unit 15 to position the wafer above the pre-alignment station 7 as shown in FIG.

ここで、第7〜9図を参照してプリアライメント動作に
ついて説明づる。
Here, the prealignment operation will be explained with reference to FIGS. 7 to 9.

パンタグラフハンドフィンガ84上のウェハが、プリア
ライメントステーション7上に位置するとウェハセンサ
83を有する搬入ハンド11はこのウェハの下方(パン
タグラフハンドフィンガ84の下側)でスキャンを始め
る。このス4−ヤン峙にウェハセン罎J83はパンタグ
ラフハンドフィンガ84上のウェハの周辺部のセンスを
行ないY軸方向のウェハ周辺位置のデータを得る。この
後パンタグラフハンド15を第7図に示すX軸方向に伸
縮させ、上記と同様に周辺部のセンスを行ないこのウェ
ハのX軸方向の外周位置を検出する。この様子を第8図
に示す。この後、上記のようにして求めたウェハ外周位
置データから、ウェハの中心位置を求めこの中心が第7
図に示すX軸方向についてプリアライメント用ウェハ回
転機構部85の中心と一致するようにパンタグラフハン
ド15の伸縮状態を設定し、この後パンタグラフハンド
15を下降させることによりウェハをウェハ回転機構部
85に移す。なお、この動作の前に搬入ハンド17は第
9図に示す位置まで移動させておく。パンタグラフハン
ド15はウェハをウェハ回転機構部85に移した後、第
9図に示すように縮んだ状態になりプリアライメントス
テーション7へのウェハ搬入動作を終了する。
When the wafer on the pantograph hand finger 84 is positioned on the pre-alignment station 7, the carry-in hand 11 having the wafer sensor 83 starts scanning below the wafer (below the pantograph hand finger 84). At this time, the wafer sensor J83 senses the peripheral area of the wafer on the pantograph hand finger 84 to obtain data on the peripheral position of the wafer in the Y-axis direction. Thereafter, the pantograph hand 15 is expanded and contracted in the X-axis direction shown in FIG. 7, and the peripheral area is sensed in the same manner as described above to detect the outer peripheral position of this wafer in the X-axis direction. This situation is shown in FIG. After this, the center position of the wafer is determined from the wafer outer circumferential position data obtained as described above, and this center is located at the seventh point.
The expansion and contraction state of the pantograph hand 15 is set so as to coincide with the center of the wafer rotation mechanism section 85 for pre-alignment in the X-axis direction shown in the figure, and then the wafer is placed in the wafer rotation mechanism section 85 by lowering the pantograph hand 15. Move. Incidentally, before this operation, the carry-in hand 17 is moved to the position shown in FIG. 9. After the pantograph hand 15 transfers the wafer to the wafer rotation mechanism section 85, the pantograph hand 15 enters a contracted state as shown in FIG. 9 and finishes the operation of carrying the wafer into the pre-alignment station 7.

−ト述においては、本実施例のウェハプ口−バの三1−
な動作であるフルオート動作におけるA−ドローディン
グについて説明したが、このウェハブ[1−バはマニュ
アル操作によるつJハの「1−ディングおよびアンロー
ディングも極めて容易かつ高速に可能となっている。本
実施例においてマニュアル操作する場合は、ウェハの1
−ディングは第3図に示す装置右手前のフラットキーボ
ード30を上げ、この下に位置するブリライメントスチ
ージョン7上のプリアライメント用ウェハ回転機構部8
5−ににウェハを冒くだけでよい。なお、この時には搬
入ハンド17は第9図に示すにうにプリアライメントス
テーションに位置する。
- In the above description, the third 1-
Although A-loading in full automatic operation has been described, this wafer can also be loaded and unloaded extremely easily and quickly by manual operation. In this example, when performing manual operation, one of the wafers is
- To do this, raise the flat keyboard 30 on the right front of the apparatus shown in FIG.
5- Just attack the wafer. At this time, the carry-in hand 17 is located at the pre-alignment station as shown in FIG.

ウェハ回転機構部85は、ウェハがオートまたはマニュ
アルで載置されると、ウェハをバキュ−ム吸着して回転
動作に入る。載置されたウェハが割れつ1ハまたは変形
ウェハで1.1い場合にはウェハはウェハ回転機構部8
5によって回転させられ、この時搬入ハンド17はこの
ウェハの外周をリニアパルスモータ80の動作によりト
レースすることによりオリエンテーションフラット部の
検出を行なう。
When a wafer is placed automatically or manually, the wafer rotation mechanism section 85 vacuum-adsorbs the wafer and begins a rotation operation. If the placed wafer is a cracked or deformed wafer, the wafer is moved to the wafer rotation mechanism section 8.
At this time, the carry-in hand 17 detects the orientation flat portion by tracing the outer periphery of the wafer by the operation of the linear pulse motor 80.

そしてつ]−ハ回転機構部85によってこのウェハのオ
リエンテーションフラット部を所定の方向に向ける。
and (c) The rotation mechanism section 85 directs the orientation flat portion of the wafer in a predetermined direction.

なお、もしパンタグラフハンド15から回転機構部85
に渡されたつTハの中心位置がウェハ回転機構部85の
中心に対し゛τ第7図に示すY軸方向に大きく誤差を有
する場合には、ウェハ回転機構部85Fのウ−[ハを搬
入ハンド17で再度持ち上げ、この誤差を補正するよう
にY軸方向に動かした後、再度ウェハ回転機構部85に
降ろすことによりこの誤差を取り除くことができる。こ
のような動作によってつJハの中心をつJハ回転機構部
85の回転中心と一致させることが可能となりより安定
した回転を実行させることが可能となるばかりでなく、
ウェハセンサ83による前述のオリエンテーションフラ
ット部の検出を容易に、より高速に精度よく行なうこと
が可能となる。
In addition, if the rotation mechanism section 85 from the pantograph hand 15
If the center position of the T passed to the wafer rotation mechanism section 85 has a large error in the Y-axis direction shown in FIG. This error can be removed by lifting it up again with the hand 17, moving it in the Y-axis direction to correct this error, and then lowering it back onto the wafer rotation mechanism section 85. Such an operation not only makes it possible to align the center of the J-shape with the rotation center of the J-ha rotation mechanism section 85, but also enables more stable rotation.
The above-described orientation flat portion can be easily detected by the wafer sensor 83 at high speed and with high accuracy.

本実施例においてウェハセンサ83としては反射型の光
センサを用いているが、これは透過型の光センサ、また
は静電容量型センサ等を用いてもよい。
In this embodiment, a reflection type optical sensor is used as the wafer sensor 83, but a transmission type optical sensor, a capacitance type sensor, or the like may also be used.

ウェハ回転機構部85.1−でオリエンテーションフラ
ット部の検出が完了する仁、ウェハは指定された方向に
オリエンテーションフラット部が向くようにさらに回転
させられ、その後搬入ハンド17によってプリアライメ
ントステーション7から持ち上げられ、第7図に示す位
置に待機しているウニハチ1?ツク10の上に搬入され
る。
After the detection of the orientation flat part is completed by the wafer rotation mechanism section 85.1-, the wafer is further rotated so that the orientation flat part faces in the specified direction, and then lifted from the pre-alignment station 7 by the carry-in hand 17. , Sea urchin bee 1 waiting at the position shown in Figure 7? It is carried on top of the truck 10.

、つ1ハチヤツク10は、その表面から突出可能な3本
のウェハチャックピン86を有しており、搬入ハンド1
7からウェハを受け取る際にはウェハチャックビン86
をウェハチャックから突出させている。
The carry-in hand 10 has three wafer chuck pins 86 that can protrude from its surface.
When receiving wafers from 7, the wafer chuck bin 86
protrudes from the wafer chuck.

この状態で搬入ハンド17は搬入ハンド−L下部動部8
2により下降し、このことにより搬入ハどド17上のウ
ェハはウェハチャック10から突出しているウェハチャ
ックピン86上に渡される。こ)情、搬、入ハンド17
はブリアライメン1へステーション7側に戻り、ざらに
つJハヂャック10から突出しているウェハチャックビ
ン86が下がることによりウェハはウェハチャック10
上に渡され、バキューム吸着により固定される。
In this state, the carry-in hand 17 is moved to the carry-in hand-L lower moving part 8.
2, and thereby the wafer on the loading door 17 is transferred onto the wafer chuck pin 86 protruding from the wafer chuck 10. 17.
The wafer returns to the Briar Alignment 1 to the station 7 side, and the wafer chuck bin 86 protruding from the wafer chuck 10 is lowered, so that the wafer is transferred to the wafer chuck 10.
and fixed by vacuum suction.

なお、本実施例ではウェハを搬入する際にウェハチャッ
クビン86をつ1ハチヤツク10から突出させているが
、ウェハチャックビン86を固定しておき、ウェハチャ
ック10を下降させても本実施例と同様な動ぎが可能で
ある。
In this embodiment, the wafer chuck bin 86 is made to protrude from the hatch chuck 10 when loading wafers, but even if the wafer chuck bin 86 is fixed and the wafer chuck 10 is lowered, this embodiment will not work. Similar movements are possible.

ここで、第2図を参照してXYステージ19.20上の
ウェハチャック10上にウェハが渡された後の動作につ
いて説明づる。
Here, the operation after the wafer is transferred onto the wafer chuck 10 on the XY stage 19.20 will be explained with reference to FIG.

ウェハがウェハチャック10上に渡されると、ウェハチ
セック10は静電容量型センサ2,1の下でスキャン動
作を行なってウェハの外周位置を検出し、より正確むオ
リエンテーションフラット部の方向合わせを行ないざら
にウェハの中心を計測する。
When the wafer is transferred onto the wafer chuck 10, the wafer chuck 10 performs a scanning operation under the capacitive sensors 2 and 1 to detect the outer peripheral position of the wafer and perform more accurate orientation of the flat portion. Measure the center of the wafer.

なお、この位置でのオリエンテーションフラット部の方
向合わせはθZステージ18をθ回転させて行なう。さ
らに−1]記のより正確なブリア?イメント後、ウェハ
チャック10は静電容量型センサ21の下で再度スキャ
ン動作を行ない、ウェハ表面の^さ方向の検出を行なう
。この高さ方向の検出はプローブカードのプ[=1−ブ
組とウェハとのコンタク1〜圧をつエバ上の全ての位置
で一定に保つための補正データを得るためである。
The direction of the orientation flat portion at this position is adjusted by rotating the θZ stage 18 by θ. Further -1] is the more accurate Bria? After the implantation, the wafer chuck 10 performs a scanning operation again under the capacitive sensor 21 to detect the wafer surface in the longitudinal direction. This detection in the height direction is to obtain correction data for keeping the contact pressure between the probe card set and the wafer constant at all positions on the evaporator.

この後、ウェハチャック10はウェハ上の所定の位置が
オートアライメント用顕微鏡22の下に位置するように
移動する。この位置では、予め記憶しておいたつエバ上
のテンプレートと、実際にこの位置にウェハが置かれた
時にオー1−アライメント用顕微鏡22によって観察さ
れるパターンとを化較して、チャック士のウェハのパタ
ーンが予め定めた位置からどれだけXYh向に誤差をも
った位置にあるかを検出する。
Thereafter, the wafer chuck 10 is moved so that a predetermined position on the wafer is located below the auto-alignment microscope 22. At this position, the chucking technician compares the pre-stored template on the evaporator with the pattern observed by the O-1 alignment microscope 22 when the wafer is actually placed at this position. It is detected how far the pattern deviates from a predetermined position in the XYh directions.

なお、この×Y方向の誤差検出は不図示の装置下部のパ
ターンマツチングによる誤差位置検出装置によって自動
的に行なわれる。この操作はθ方向の誤差検出のためウ
ェハ上の別なもう1点の所定位置においても同様に行な
われる。
Note that this error detection in the xY direction is automatically performed by an error position detection device (not shown) using pattern matching provided at the bottom of the device. This operation is similarly performed at another predetermined position on the wafer for error detection in the θ direction.

以上、2点の×Y方向の誤差検出からウェハ上のパター
ンの×、Y、θ方向誤差の粋出を行ない、θ成分誤差に
ついてはウェハチャック10を回転さUることによって
補正し、XYh向成分成分誤差いてはブロービングの際
にこの誤差成分を取り除くようにXYステージの補正駆
動を行なう。
As described above, the errors in the x, Y, and θ directions of the pattern on the wafer are extracted from the error detection in the xY directions at two points, and the θ component error is corrected by rotating the wafer chuck 10. If there is a component error, the XY stage is corrected and driven to remove this error component during blobbing.

オートアライメント用顕微鏡22の下でO成分誤差の補
正動作おにびXY成分誤差の検出が完了すると、つエバ
上の最初のICチップ(以下、ファーストチップという
)をヘッドプレート12に固定されているプローブカー
ド(図示せず)の下に移動させる。この動作はXYステ
ージ19.20によって行なわれ、この際には前述のよ
うにオートアライメント時に検出したXY成分誤差の補
正も同時に行なわれる。フ/7−ス]・チーツブがプロ
ーブカード下に移動した後θ7ステージ18の7駆動機
構によりつJハチセック10は所定ストローク上背し、
ウェハのICチップのポンディングパッドとプローブカ
ードのプローブ針とのコンタクトが行なわれる。この状
態においてウェハ111−バが外部のテスタ(図示1!
ず)にテスhスタート信号を送信すると、テスタはこの
ICチップのテストを開始する。このテストの結果lC
チップが良品と判定されると、テスタはテスト終了信号
をつJハプローバに送信して来る。また、このICチッ
プが不良品と判定されると、テスタはテスト終了信号と
不良を示す信号を送信しC来る。ウエハプローバはこの
テスト終了信号受信時に、不良を示す信号が受信される
か否かによりこのICチップの良、不良を判別し不良な
らばインカー(図示せず)によってこのICチップに印
を付ける。
When the O-component error correction operation and the XY-component error detection are completed under the auto-alignment microscope 22, the first IC chip on the evaporator (hereinafter referred to as the first chip) is fixed to the head plate 12. Move it under the probe card (not shown). This operation is performed by the XY stages 19 and 20, and at this time, as described above, the XY component errors detected during autoalignment are also corrected at the same time. After the chitsub has moved below the probe card, the 7 drive mechanism of the θ7 stage 18 moves the J Hachisec 10 upward for a predetermined stroke.
Contact is made between the bonding pads of the IC chips on the wafer and the probe needles of the probe card. In this state, the wafer 111-bar is placed on an external tester (1!
When the tester sends a test h start signal to the IC chip, the tester starts testing this IC chip. The result of this test
If the chip is determined to be good, the tester sends a test end signal to the J haprober. If the IC chip is determined to be defective, the tester sends a test completion signal and a signal indicating defectiveness. When the wafer prober receives this test end signal, it determines whether the IC chip is good or bad depending on whether a signal indicating a defect is received or not, and if it is defective, it marks the IC chip with an inker (not shown).

以下のようにしてファーストチップの検査の一連の動作
が終了すると、XYステージ19.20を移動させて順
次未検査のICチップをプローブカードの下に位置させ
ファーストチップと同様に処理する。
When the series of operations for testing the first chip is completed as described below, the XY stages 19 and 20 are moved to sequentially position untested IC chips under the probe card and process them in the same way as the first chip.

ウェハ上の全てのICチップのテストが完了すると、ウ
ェハチャック10は第2図に示ず最初の位置に戻り、バ
キコーム吸着を止めウェハチシック10から3本のウェ
ハチャックビン86を突出させることによりウェハをウ
ェハチャック10からリフトさせる。この状態において
、パンタグラフハンド15は縮/vだ状態で第2図に示
すウェハチャック10のh向を向き、さらにパンタグラ
フハンド15が伸びることによりパンタグラフハンドフ
ィンガ84をウェハチシック10とウェハの間に挿入し
、さらにパンタグラフハンド15が若干上昇した後縮む
ことによりこのウェハをウェハチャック10から回収す
る。
When all the IC chips on the wafer have been tested, the wafer chuck 10 returns to the initial position (not shown in FIG. 2), stops the vacuum comb suction, and causes the three wafer chuck bins 86 to protrude from the wafer chuck 10, thereby removing the wafer. It is lifted from the wafer chuck 10. In this state, the pantograph hand 15 is in a contracted/v state and faces the h direction of the wafer chuck 10 shown in FIG. Then, the pantograph hand 15 rises slightly and then retracts to collect the wafer from the wafer chuck 10.

パンタグラフハンド15は、もしアン[1−トストップ
動作が設定されていれば、アンロートス(ヘツプ位置4
につTハを渡し、さらに予め設定した時間後または人手
によるウェハ収納指示後このウェハをアンロードストッ
プ位置4から回収して、一方、もしアンロードストップ
動作が設定されていなければ直接、ウェハキレリV3内
のこのウェハが検査前にあった位置に戻す。
If the pantograph hand 15 is set to the unlow toss (hep position 4)
After a preset time has elapsed or after a manual instruction to store the wafer, the wafer is retrieved from the unload stop position 4. On the other hand, if the unload stop operation is not set, the wafer is directly transferred to the wafer cleaner V3. Return this wafer to the position it was in before inspection.

なお、ウェハチセック10−Lのウェハがブロービング
動作中、次のウェハがウェハキャリヤ3内からパンタグ
ラフハンド15により引き出され、プリアライメントス
テーション7に渡される。この後、プリアライメントス
テーション7では前述と同様なプリアライメント動作が
行なわれる。つまり、ウニハチ1フツク10からウェハ
が搬出される時には次のウェハがブリアライメン1へス
テーション7においてプリアライメント完了状態で待機
しており、次のウェハのウェハチャック10への搬入は
プリアライメント等のための無駄時間をかけることなく
実行される。
Note that while the wafer in the wafer stack 10-L is being blown, the next wafer is pulled out from inside the wafer carrier 3 by the pantograph hand 15 and delivered to the pre-alignment station 7. Thereafter, the same prealignment operation as described above is performed at the prealignment station 7. In other words, when a wafer is unloaded from the Urchin Hachi 1 hook 10, the next wafer is waiting for the Briar Alignment 1 at the station 7 with pre-alignment completed, and the next wafer is loaded into the wafer chuck 10 for pre-alignment etc. It is executed without wasting time.

以上の動作により1ウエハキヤリヤ内の全てのウェハの
テストが終了すると、操作パネル6上のキャリヤセット
スイッチ(図示せず)がブリンク状態となり、1ウエハ
キヤリヤのウェハテストが終了したことをオペレータに
知らせる。もし、オペレータがこの状態でこのキャリヤ
セットスイッチを押せば、ウェハキャリ17台2が手前
に出て来て、このウェハキャリヤの取り外しおよび交換
等が容易に行なえるようになっている。なお、オペレー
タによるキャリV交換時ち時において、もし他方のつT
ハキヤリ1フ台2にテストすべきウェハが入っているウ
ェハキャリヤが設定されていれば、ウエハプローバはこ
のウェハキャリヤ内のつJハについて上述のプローブテ
スト動作を自動的に実行する。
When all the wafers in one wafer carrier have been tested by the above operations, the carrier set switch (not shown) on the operation panel 6 is turned into a blinking state, notifying the operator that the wafer test for one wafer carrier has been completed. If the operator presses the carrier set switch in this state, the wafer carriers 17 2 come forward, making it easy to remove and replace the wafer carriers. Note that when the operator replaces the carrier V, if the other
If a wafer carrier containing a wafer to be tested is set on the 1st floor 2 of the cleaning knife, the wafer prober automatically performs the above-described probe test operation on the wafers in this wafer carrier.

次に、第10図に基づいて本発明のつ王ハプローバを適
用したウェハプローバラインの自動化例について説明す
る。図中、90はつ■バカセット自動搬送車、91はつ
Tハキャリャ、9?はウェハキャリヤ搬送ハンド、93
は搬送車の光通信用窓、99はウェハプロパーの光通信
用窓で・ある。
Next, an example of automation of a wafer prober line to which the wafer prober of the present invention is applied will be explained based on FIG. In the diagram, 90 is the Bakaset automated guided vehicle, 91 is the T-carrier, and 9? is a wafer carrier transfer hand, 93
9 is the optical communication window of the transport vehicle, and 99 is the optical communication window of the wafer proper.

同図において、搬送車90は、搬送車通路94を常時(
)復移動しており、この移動の途中で光通信用窓93を
ウニ[ハプローバの光通信用窓99に対向させながらウ
ニハブ日−バと通信を行なっている。この通信の結束、
いずれかのウエハプローバで1ウエハキヤリヤ91内の
ウェハのテストが終了していることを検知すれば、搬送
車90はそのつ工ハプローバの前で停止する。さらに光
通信用窓からの入力光が最大になる4dM■まで低速移
動することによりつ1ハプローバに対しての位置出しを
行なう。
In the same figure, the transport vehicle 90 always travels along the transport vehicle passage 94 (
), and during this movement, the optical communication window 93 is placed opposite the optical communication window 99 of the UNI HUB while communicating with the UNI HUB. This unity of communication,
If any wafer prober detects that testing of the wafers in one wafer carrier 91 has been completed, the transport vehicle 90 stops in front of that wafer prober. Furthermore, by moving at a low speed until the input light from the optical communication window reaches a maximum of 4 dM, positioning for one haplober is performed.

この後搬送車90はウエハプローバに対してウェハキャ
リヤ交換を行なうことを送信する。ウエハプローバはこ
の信号を受信すると、検査済みのつ工ハキVリヤ91の
ウェハキャリャ台2を搬送車90側に押し出し、ウェハ
キャリヤ台2を出したことを光通信用窓99を通じて搬
送車90に対して送信する。
Thereafter, the transport vehicle 90 transmits to the wafer prober that the wafer carrier will be replaced. When the wafer prober receives this signal, it pushes out the wafer carrier stand 2 of the inspected V rear 91 toward the transport vehicle 90 side, and notifies the transport vehicle 90 through the optical communication window 99 that the wafer carrier stage 2 has been taken out. and send.

搬送車90はこの信号を受信後、ウェハキャリヤ搬送ハ
ンド92によつCウェハキャリヤ台2土のつ]二ハキャ
リャ91を持ち上げ、搬送車90内の所定の位置に収納
する。さらに搬送車90は、未検査ウェハが入っている
ウェハキャリヤ91をウェハキャリヤ搬送ハンド92を
用い“Cウェハプロパーのウェハキャリャ台2に乗せ、
ウェハブローバにウェハキャリヤ交換が終了したことを
送信する。ウエハプローバはこの信号を受信するとウェ
ハキャリヤ台2を本体内に戻し、ウェハキャリャ91の
交換を終了する。
After receiving this signal, the transport vehicle 90 lifts the C wafer carrier 91 using the wafer carrier transport hand 92 and stores it in a predetermined position within the transport vehicle 90. Further, the transport vehicle 90 uses the wafer carrier transport hand 92 to place the wafer carrier 91 containing the uninspected wafer on the wafer carrier stand 2 of the "C wafer proper".
Sends the completion of wafer carrier exchange to the wafer blower. When the wafer prober receives this signal, it returns the wafer carrier stand 2 into the main body and completes the exchange of the wafer carrier 91.

なお、第10図には搬送車通路94の片側にしか、ウエ
ハプローバを図示していないが、ウエハプローバをこの
通路の両側に配置することも当然容易に実現可能である
Although the wafer prober is shown only on one side of the transport vehicle passage 94 in FIG. 10, it is naturally possible to arrange the wafer prober on both sides of this passage.

[発明の効果] 以上説明したように、本発明のウェハ処理システムは、
光通信手段にJζつて処即済みつJハを収納したウェハ
キャリャを自動的に交換できるようにしたので、つJハ
処理ラインの自動化に容易に対応でき、ウェハの処理を
迅速に行なうことができる。またつ1ハ処理装置は、ウ
ェハキャリセを装置本体正面部に配置しているので、装
置が小形化され、かつウェハキャリヤ交換のための余分
なスペースを必要としないのでT場内でスペースの有効
利用が図れる。
[Effects of the Invention] As explained above, the wafer processing system of the present invention has the following effects:
Since the wafer carrier containing the processed wafers can be automatically replaced by connecting the wafer to the optical communication means, the wafer processing line can be easily automated and the wafers can be processed quickly. . In addition, the 1-wafer processing equipment has a wafer carrier placed at the front of the equipment body, making the equipment more compact and requiring no extra space for exchanging wafer carriers, allowing effective use of space within the T field. I can figure it out.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明の一実施例に係るウェハプロパーの概
略構成図、 第2図は、第1図のウェハプローバの内部概略図、 第3図は、第1図のウェハプローバの外観概略図、 第4〜6図は、第2図におけるパンタグラフハンドの構
造および動作説明図、 第7図は、第2図におけるプリアライメントステーショ
ンの概略斜視図、 第8および9図は、第7図のプリアライメントステーシ
ョンの動作説明図、 第10図は、第1図のウエハプローバを適用したウェハ
プローバラインの概略構成図、 第11〜13図は、従来のウエハプローバの搬送系を説
明する図、 第14図は、第13図の搬送系を用いたウエハプローバ
の周囲の状況を説明する図、そして第15および16図
は、ウニハブ日−バの工場内における配置例を示す図で
ある。 1:ウェハキャリヤ出入口、 2:ウェハキャリア台、3:ウェハキャリヤ、4:アン
ロードストップ位置、6:操作パネル、7:プリアライ
メントステーション、 10:つ1ハチpツク、12:ヘッドプレート、13:
実体顕微鏡、14:モニタ、 15:パンタグラフハンド、17:搬入ハンド、18:
07ステージ、19:Yステージ、20:×ステージ、
21:静電容量型センサ、22:オートアライメント用
顕微鏡、 90:ウェハキャリヤ自動搬送車。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a wafer proper according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is an internal schematic diagram of the wafer prober shown in FIG. 1. FIG. 3 is a schematic external view of the wafer prober shown in FIG. 1. Figures 4 to 6 are explanatory diagrams of the structure and operation of the pantograph hand in Figure 2. Figure 7 is a schematic perspective view of the pre-alignment station in Figure 2. Figures 8 and 9 are illustrations of the pantograph hand in Figure 2. FIG. 10 is a schematic configuration diagram of a wafer prober line to which the wafer prober of FIG. 1 is applied. FIGS. FIG. 14 is a diagram illustrating the surrounding situation of a wafer prober using the transfer system of FIG. 13, and FIGS. 15 and 16 are diagrams showing an example of the arrangement of the Unihub daybar in a factory. 1: Wafer carrier entrance/exit, 2: Wafer carrier stand, 3: Wafer carrier, 4: Unload stop position, 6: Operation panel, 7: Pre-alignment station, 10: Hatch, 12: Head plate, 13:
Stereo microscope, 14: Monitor, 15: Pantograph hand, 17: Carrying hand, 18:
07 stage, 19: Y stage, 20: × stage,
21: Capacitive sensor, 22: Auto alignment microscope, 90: Wafer carrier automatic transport vehicle.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、単数または複数のウエハキヤリヤの所望のウェハ収
納位置から未処理ウェハを取り出して所定のウェハ受け
渡し位置まで搬送し、かつ処理済みのウェハを該ウェハ
受け渡し位置で回収して該ウェハキャリヤの所定の収納
位置へ搬送し収納するウェハ搬送手段と、いずれかのウ
ェハキャリヤ内のウェハが全て処理済みであることを知
らせる光通信手段とを備え、上記ウェハキャリヤが装置
本体正面部に配置されている複数のウェハ処理装置本体
と、 該光通信手段からの信号を検知して該ウエハキャリヤを
出し入れするウェハキャリヤ自動搬送車とを具備するこ
とを特徴とするウェハ処理システム。 2、前記ウェハキャリヤ自動搬送車のウェハキャリヤの
出し入れのための最適停止位置が、前記光通信手段から
受信する信号が最大となる位置となるようにした前記特
許請求の範囲第1項記載のウェハ処理システム。 3、前記ウェハ処理本体は、前記ウェハ搬送手段の前記
ウェハキャリヤに対してウェハを挿脱するウェハ挿脱機
構部分も装置本体正面部に配置されている特許請求の範
囲第1項記載のウェハ処理システム。
[Claims] 1. Unprocessed wafers are taken out from a desired wafer storage position of one or more wafer carriers and transported to a predetermined wafer delivery position, and processed wafers are collected at the wafer delivery position and transferred to the desired wafer storage position. The wafer carrier is equipped with a wafer transport means for transporting and storing the wafer carrier to a predetermined storage position, and an optical communication means for notifying that all the wafers in one of the wafer carriers have been processed. A wafer processing system comprising: a plurality of wafer processing apparatus main bodies disposed; and a wafer carrier automatic transport vehicle that detects a signal from the optical communication means and takes out and takes out the wafer carrier. 2. The wafer according to claim 1, wherein the optimum stopping position for loading and unloading the wafer carrier of the wafer carrier automatic transport vehicle is a position where the signal received from the optical communication means is maximized. processing system. 3. The wafer processing according to claim 1, wherein the wafer processing main body also includes a wafer insertion/removal mechanism portion for inserting and removing a wafer into the wafer carrier of the wafer transport means, which is disposed on the front side of the apparatus main body. system.
JP60189870A 1985-08-30 1985-08-30 Wafer processing system Expired - Lifetime JPH0642506B2 (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS63275475A (en) * 1987-05-07 1988-11-14 Shinko Electric Co Ltd Unmanned car for transport of semiconductors

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59175740A (en) * 1983-03-25 1984-10-04 Telmec Co Ltd Extractor for wafer in measuring device for semiconductor

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