JPS6250334A - プラズマ処理装置 - Google Patents
プラズマ処理装置Info
- Publication number
- JPS6250334A JPS6250334A JP19034785A JP19034785A JPS6250334A JP S6250334 A JPS6250334 A JP S6250334A JP 19034785 A JP19034785 A JP 19034785A JP 19034785 A JP19034785 A JP 19034785A JP S6250334 A JPS6250334 A JP S6250334A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- bumper
- synthetic resin
- storage chamber
- discs
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
- B29C59/142—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment of profiled articles, e.g. hollow or tubular articles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/087—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J19/088—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の目的
（産業上の利用分野）
本発明は、収容室内の回転支持円盤に取着された複数個
のハンガーにバンパーその他の合成樹脂成形品を載置し
、その表面にプラズマ処理を施すことにより塗料などの
密着性を向上させるプラズマ処理装置に係わり、詳しく
は酸素プラズマガスを噴射するためのプラズマ噴射管に
関するものである。
のハンガーにバンパーその他の合成樹脂成形品を載置し
、その表面にプラズマ処理を施すことにより塗料などの
密着性を向上させるプラズマ処理装置に係わり、詳しく
は酸素プラズマガスを噴射するためのプラズマ噴射管に
関するものである。
（従来の技術）
ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）などの
ポリオレフィン系熱可塑性樹脂や各種熱硬化性樹脂は塗
料や接着剤に対する密着性に乏しく、これらを塗布して
も塗膜の剥離が生じやすいために各種の前処理法が採用
されているが、近年、減圧下における放電処理により合
成樹脂基材表面を改質するプラズマ処理法が多用される
ようになった。
ポリオレフィン系熱可塑性樹脂や各種熱硬化性樹脂は塗
料や接着剤に対する密着性に乏しく、これらを塗布して
も塗膜の剥離が生じやすいために各種の前処理法が採用
されているが、近年、減圧下における放電処理により合
成樹脂基材表面を改質するプラズマ処理法が多用される
ようになった。
上記プラズマ処理を行うための装置としては本願出願人
が先に出願した特願昭５８−２３６５４６号に示す装置
を例示することができる。
が先に出願した特願昭５８−２３６５４６号に示す装置
を例示することができる。
（発明が解決しようとする問題点）
ところが、上記装置をはじめとする従来のプラズマ処理
装置に設けられたプラズマ噴射管の基材には、酸素プラ
ズマガスによる腐食を防止する目的から、石英ガラスま
たはステンレス・スチールが採用されている。しかし、
石英ガラスやステンレス・スチールはいずれも加工性に
乏しく、しかも高価であるため、その製造コストが高価
なものになってしまうという問題点がある。
装置に設けられたプラズマ噴射管の基材には、酸素プラ
ズマガスによる腐食を防止する目的から、石英ガラスま
たはステンレス・スチールが採用されている。しかし、
石英ガラスやステンレス・スチールはいずれも加工性に
乏しく、しかも高価であるため、その製造コストが高価
なものになってしまうという問題点がある。
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであって、安
価で加工性の良好な基材を用い、かつ、酸化防止機能に
優れたプラズマ噴射管を備えたプラズマ処理装置を提供
することにある。
価で加工性の良好な基材を用い、かつ、酸化防止機能に
優れたプラズマ噴射管を備えたプラズマ処理装置を提供
することにある。
発明の構成
（問題点を解決するための手段）
すなわち、本発明は合成樹脂バンパー等の被塗装品を収
容する収容室と、同収容室内へプラズマガスを噴射−す
るプラズマ噴射管と、同収容室内を減圧する排気口とを
備えたプラズマ処理装置において、前記プラズマ噴射管
の基材が軽金属または合成樹脂であることを特徴とする
プラズマ処理装置を採用することにより、上記問題点の
解決を図ったものである。
容する収容室と、同収容室内へプラズマガスを噴射−す
るプラズマ噴射管と、同収容室内を減圧する排気口とを
備えたプラズマ処理装置において、前記プラズマ噴射管
の基材が軽金属または合成樹脂であることを特徴とする
プラズマ処理装置を採用することにより、上記問題点の
解決を図ったものである。
（作用）
合成樹脂や軽金属は、ステンレス・スチールに比べて安
価でしかも加工性の良好な基材である。
価でしかも加工性の良好な基材である。
そこで、前記プラズマ噴射管の基材として耐腐性の良好
な合成樹脂や軽金属を使用することにより、その製造コ
ストは極めて安価なものとなる。
な合成樹脂や軽金属を使用することにより、その製造コ
ストは極めて安価なものとなる。
（実施例）
以下、本発明を車両用バンパーの表面をプラズマ処理す
る装置に具体化した一実施例につき、第１〜６図に従っ
て説明する。
る装置に具体化した一実施例につき、第１〜６図に従っ
て説明する。
プラズマ処理装置の収容室１は中空円筒状に形成され、
その内部は気密保持が可能となっているとともに、その
左側壁には収容室１を開閉し得る図示しない扉が設けら
れている。また、右側壁上部には収容室１内部を減圧す
るための排気口２が設けられている。さらに、収容室１
の中央には四角枠状のフレーム３が収納され、その左右
両辺部には互いに対向する支柱４が立設されている。
その内部は気密保持が可能となっているとともに、その
左側壁には収容室１を開閉し得る図示しない扉が設けら
れている。また、右側壁上部には収容室１内部を減圧す
るための排気口２が設けられている。さらに、収容室１
の中央には四角枠状のフレーム３が収納され、その左右
両辺部には互いに対向する支柱４が立設されている。
両支柱４の上端部間には回転軸５が回転可能に支持され
、その回転軸５の両端には一対の支持円盤６ａ、６ｂが
一体回転可能に装着されている。
、その回転軸５の両端には一対の支持円盤６ａ、６ｂが
一体回転可能に装着されている。
また、前記両支持円盤６ａ、６ｂの内面間には被塗装品
、例えばポリプロピレン、ポリウレタンなどの合成樹脂
製バンパーＢをｊｒｌ！２置するための六個のハンガー
７が所定の角度間隔をおいて配設されている。
、例えばポリプロピレン、ポリウレタンなどの合成樹脂
製バンパーＢをｊｒｌ！２置するための六個のハンガー
７が所定の角度間隔をおいて配設されている。
第２図に示すように、各ハンガー７は金属板にて折曲形
成された一対の支持片８と、両支持片間に平行に架設さ
れた一対の架設棒９ａと、両架設棒９ａの各端部間を連
結するように各支持片８の下面に配設された連結棒９ｂ
とから構成され、各支持片８はその上端部において金具
１０により各支持円盤６ａ、６ｂに相対回転可能に支持
されている。従って、前記回転軸５および支持円盤６ａ
、６ｂの回転時および静止時において各ハンガー７は水
平位置に保持される。また、各支持片８の中央切欠部に
はネットが張設されている。
成された一対の支持片８と、両支持片間に平行に架設さ
れた一対の架設棒９ａと、両架設棒９ａの各端部間を連
結するように各支持片８の下面に配設された連結棒９ｂ
とから構成され、各支持片８はその上端部において金具
１０により各支持円盤６ａ、６ｂに相対回転可能に支持
されている。従って、前記回転軸５および支持円盤６ａ
、６ｂの回転時および静止時において各ハンガー７は水
平位置に保持される。また、各支持片８の中央切欠部に
はネットが張設されている。
第６図に示すように、前記回転軸５の左端部には鎖車１
２が挿嵌されるとともに、前記フレーム３上には一軸線
の回りで回転する鎖車１３および伝達ギア１４が設けら
れ、両鎖車１２．１３間にはチェーン１５が掛装される
とともに、前記伝達ギア１４には図示しない駆動モータ
ーにより回転駆動される駆動ギア１６が噛合されている
。
２が挿嵌されるとともに、前記フレーム３上には一軸線
の回りで回転する鎖車１３および伝達ギア１４が設けら
れ、両鎖車１２．１３間にはチェーン１５が掛装される
とともに、前記伝達ギア１４には図示しない駆動モータ
ーにより回転駆動される駆動ギア１６が噛合されている
。
そして、駆動ギア１６の回転に伴い、伝達ギア１４、鎖
車１３、チェーン１５および鎖車１２を介して回転軸と
ともに支持円盤６ａ、６ｂが回転されるようになってい
る。
車１３、チェーン１５および鎖車１２を介して回転軸と
ともに支持円盤６ａ、６ｂが回転されるようになってい
る。
第４図に示すように、収容室ｌの下部内壁には酸素プラ
ズマガスを噴射するための一本のアルミ製プラズマ噴射
管１７が配設されている。このプラズマ噴射管１７はア
ルミを押出成形後、アルマイト処理されたものであって
、酸素プラズマガスによる腐食に耐え得るようになって
いる。
ズマガスを噴射するための一本のアルミ製プラズマ噴射
管１７が配設されている。このプラズマ噴射管１７はア
ルミを押出成形後、アルマイト処理されたものであって
、酸素プラズマガスによる腐食に耐え得るようになって
いる。
第１図に示すように、アルミ製プラズマ噴射管１７のほ
ぼ中央に形成されたプラズマ導入口（図示しない）には
導入管１８が接続され、その端部が収容室１外のプラズ
マ供給装置（図示しない）に接続されている。アルミ製
プラズマ噴射管１７にはその端部に向かって配置間隔お
よび内径が漸増する多数の噴射口１９が形成されている
。そして、各噴射口１９は垂直面Ｓに対して前側へ所定
角度θ、（本実施例では３０度）傾斜する方向に開ロす
るもの１９３と、後側へ所定角度θこ（本実施例では３
０度）傾斜する方向に開口するもの１９ｂとから構成さ
れている。そして、前側へ傾斜する噴射口１９ａと後側
へ傾斜する噴射口１９ｂとは交互に配列されている。ま
た、導入管１日の排気口２側、すなわち右側の噴射口１
９の数は排気口２の左側のそれよりも１５％だけ少なく
設定されている。
ぼ中央に形成されたプラズマ導入口（図示しない）には
導入管１８が接続され、その端部が収容室１外のプラズ
マ供給装置（図示しない）に接続されている。アルミ製
プラズマ噴射管１７にはその端部に向かって配置間隔お
よび内径が漸増する多数の噴射口１９が形成されている
。そして、各噴射口１９は垂直面Ｓに対して前側へ所定
角度θ、（本実施例では３０度）傾斜する方向に開ロす
るもの１９３と、後側へ所定角度θこ（本実施例では３
０度）傾斜する方向に開口するもの１９ｂとから構成さ
れている。そして、前側へ傾斜する噴射口１９ａと後側
へ傾斜する噴射口１９ｂとは交互に配列されている。ま
た、導入管１日の排気口２側、すなわち右側の噴射口１
９の数は排気口２の左側のそれよりも１５％だけ少なく
設定されている。
従って、各ハンガー７にバンパーＢを載置した状態で駆
動モーターを作動すれば、駆動ギア１６、伝達ギア１４
、鎖車１３、チェーン１５および鎖車１２を介して回転
軸５および支持円盤６ａ、６ｂが回転するとともにバン
パーＢの載置された各ハンガー７がその上端部を中心と
して各支持円盤６ａ、６ｂに対して相対回動じ、各支持
円盤６ａ、６ｂの回転中においてもバンパーＢは水平状
態に保持されている。そして、アルミ製プラズマ噴射管
１７の各噴射口１９から酸素プラズマガスが噴射され、
各バンパーＢの表面は均一に活性化される。
動モーターを作動すれば、駆動ギア１６、伝達ギア１４
、鎖車１３、チェーン１５および鎖車１２を介して回転
軸５および支持円盤６ａ、６ｂが回転するとともにバン
パーＢの載置された各ハンガー７がその上端部を中心と
して各支持円盤６ａ、６ｂに対して相対回動じ、各支持
円盤６ａ、６ｂの回転中においてもバンパーＢは水平状
態に保持されている。そして、アルミ製プラズマ噴射管
１７の各噴射口１９から酸素プラズマガスが噴射され、
各バンパーＢの表面は均一に活性化される。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではな（、
その要旨を逸脱しない範囲で細部の仕様を適宜変更する
ことが可能である。例えば、■ プラズマ噴射管の基材
としてアルミ以外の安価で加工性が良く、かつ、腐食に
強い軽金属を使用してもよく、さらに硬質塩化ビニル、
ポリプロピレン、ポリエチレン、ＡＢＳ樹脂、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリオキシメチレンなどの合成樹脂
を使用することもできる。
その要旨を逸脱しない範囲で細部の仕様を適宜変更する
ことが可能である。例えば、■ プラズマ噴射管の基材
としてアルミ以外の安価で加工性が良く、かつ、腐食に
強い軽金属を使用してもよく、さらに硬質塩化ビニル、
ポリプロピレン、ポリエチレン、ＡＢＳ樹脂、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリオキシメチレンなどの合成樹脂
を使用することもできる。
■ 複数のプラズマ噴射管を備えたタイプのプラズマ処
理装置に適用することもでき、この場合、安価で加工性
の良好な基材を使用する効果は一層顕著である。
理装置に適用することもでき、この場合、安価で加工性
の良好な基材を使用する効果は一層顕著である。
発明の効果
上記プラズマ処理装置のプラズマ噴射管の基材には、ス
テンレス・スチールに比べて安価でしかも加工性の良好
な耐食性軽金属や合成樹脂が使用されているため、耐食
性に優れ、かつ、製造コストも極めて安価であるという
効果を発揮し、プラズマ処理装置として優れた発明であ
る。
テンレス・スチールに比べて安価でしかも加工性の良好
な耐食性軽金属や合成樹脂が使用されているため、耐食
性に優れ、かつ、製造コストも極めて安価であるという
効果を発揮し、プラズマ処理装置として優れた発明であ
る。
第１図は本発明のプラズマ噴射管の正面図、第２図は第
１図のＡ−Ａ線断面図、第３図は第１図のＢ−Ｂ線断面
図、第４図はプラズマ処理装置の一実施例を示す斜視図
、第５図はハンガーの一部を示す拡大斜視図、また第６
図は支持円盤の部分左側面図である。 ６ａ、６ｂ・・支持円盤、７・・ハンガー、１７・・プ
ラズマ噴射管、Ｂ・・バンパー。 特許出願人 豊田合成株式会社代理人
弁理士 恩田博宣第４図
１図のＡ−Ａ線断面図、第３図は第１図のＢ−Ｂ線断面
図、第４図はプラズマ処理装置の一実施例を示す斜視図
、第５図はハンガーの一部を示す拡大斜視図、また第６
図は支持円盤の部分左側面図である。 ６ａ、６ｂ・・支持円盤、７・・ハンガー、１７・・プ
ラズマ噴射管、Ｂ・・バンパー。 特許出願人 豊田合成株式会社代理人
弁理士 恩田博宣第４図
Claims (1)
- １、合成樹脂バンパー（Ｂ）等の被塗装品を収容する収
容室（１）と、同収容室（１）内壁に配設され、同収容
室（１）内へプラズマガスを噴射するプラズマ噴射管（
１７）と、同収容室（１）内を減圧する排気口（２）と
を備えたプラズマ処理装置において、前記プラズマ噴射
管（１７）の基材が軽金属または合成樹脂であることを
特徴とするプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19034785A JPS6250334A (ja) | 1985-08-28 | 1985-08-28 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19034785A JPS6250334A (ja) | 1985-08-28 | 1985-08-28 | プラズマ処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6250334A true JPS6250334A (ja) | 1987-03-05 |
Family
ID=16256682
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19034785A Pending JPS6250334A (ja) | 1985-08-28 | 1985-08-28 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6250334A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6372360B1 (en) | 1996-05-01 | 2002-04-16 | Itri Ltd. | Fire retardant treatment |
-
1985
- 1985-08-28 JP JP19034785A patent/JPS6250334A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6372360B1 (en) | 1996-05-01 | 2002-04-16 | Itri Ltd. | Fire retardant treatment |
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