JPS6246997B2 - - Google Patents

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JPS6246997B2
JPS6246997B2 JP12658379A JP12658379A JPS6246997B2 JP S6246997 B2 JPS6246997 B2 JP S6246997B2 JP 12658379 A JP12658379 A JP 12658379A JP 12658379 A JP12658379 A JP 12658379A JP S6246997 B2 JPS6246997 B2 JP S6246997B2
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JP
Japan
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pattern
mold
film
manufacturing
photoresist
Prior art date
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Expired
Application number
JP12658379A
Other languages
Japanese (ja)
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JPS5650597A (en
Inventor
Kyoichi Asano
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Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Alps Electric Co Ltd filed Critical Alps Electric Co Ltd
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  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はダイスタンプ法により回路基板を製作
するのに用いられる金型をエツチング法によつて
製造する方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method of manufacturing, by an etching method, a mold used for manufacturing a circuit board by a die stamp method.

フオトエツチング法を用いてダイスタンプ法に
よる回路基板製作用金型を製造する従来の方法に
は、フオトエツチング工程を2段階に分けて行う
という製造工程上の複雑さがあり、又工程途中に
おいて正確な複写技術さらに複写の修正技術など
の非常に高度な熟練を要する技術が必要であり、
良質の金型を製造するのは非常に困難であつた。
The conventional method of manufacturing circuit board manufacturing molds using the die stamping method using the photoetching method has the complexity of the manufacturing process, as the photoetching process is divided into two stages, and there is also a problem in the precision process during the process. Requires extremely high level of skill, such as advanced copying techniques and copy correction techniques.
It was very difficult to manufacture high quality molds.

本発明はこの様な従来の欠点をなくし、簡単に
回路基板製作用金型を製造する方法を提供するこ
とを目的としてなされたものである。
The present invention has been made for the purpose of eliminating such conventional drawbacks and providing a method for easily manufacturing a mold for manufacturing a circuit board.

以下、図面をもとに説明する。 The explanation will be given below based on the drawings.

第1図は、従来の、この種金型の製造工程を示
す図である。まず、イ図に示す如く、原紙1上に
所望の回路パターンより2〜3倍の大きさのパタ
ーン2のポジをトレースして原図を作る。次に該
原図を用いて写真縮尺法によつて、ロ図に示す様
に、所望の回路パターンと同じ大きさのパターン
2aを持つたネガフイルム3を作成する。さらに
ハ図に示す如く表面を研磨した鋼材の如き金型材
5上にフオトレジスト4を塗布し乾燥する。次に
前記ネガフイルム3を、該フオトレジスト4上に
密着させて置き、上部より光を照射し、フオトレ
ジスト4を露光した後、現像すると、ニ図に示す
様に、所望の回路パターンに対応した部分のフオ
トレジスト4aのみが金型材表面に残る。次に該
フオトレジスト4aのみをその表面に残した金型
材5をエツチング液(例えば塩化第2鉄溶液)に
浸すと、ホ図に示す如くフオトレジスト4aが形
成されていない金型材の部分のみがエツチングさ
れ凹部6が形成される。この後前記フオトレジス
ト4aを除去すると、ヘ図に示す如く、平担な表
面の金型(平面金型)5aが作られる。さらに、
ト図に示した様に、前記凹部6に耐酸性の樹脂例
えばエポキシ樹脂6aなどを、前記平面金型5a
と同一面になるまで充填する。なお、エポキシ樹
脂6aの色は、金型材表面の色と対象的な、写真
撮影により、樹脂部と金型材部との差がくつきり
つくものがよい。ここで、でき上つた平面金型5
aは、前記ネガフイルム3のパターン2aと全く
同じ寸法にはなつていない場合が多く、回路基板
製作用金型に必要な刃を形成させるために、平面
金型5aの正確な複写をつくらねばならない。こ
の平面金型5aの複写方法としては、エポキシ樹
脂6aを充填した金型材表面の写真を正確に撮影
することにより行われる。この際金型面は、研磨
されており光の反射率が高いため、平面金型部と
エポキシ樹脂部との境界をはつきりと撮影するに
は高度な技術と熟練が必要である。こうして写真
撮影によつて得られたネガフイルムからポジフイ
ルムを作り、このポジフイルムをわずかにぶらせ
ながら写真撮影しネガフイルムを作り、さらに普
通の写真法によりチ図に示す如く、所望の金型の
回路巾よりも狭い回路巾に修正された回路パター
ン2bを持つたポジフイルム3aが得られる。こ
の様に修正された回路パターン2bを持つポジフ
イルム3aを作成するにも、フイルムをわずかに
ぶらせるという高度な技術が必要である。次に、
凹部6にエポキシ樹脂6aを充填させた金型材表
面にフオトレジストを塗布乾燥し、該フオトレジ
スト上に前記ポジフイルム3aを所定の如く位置
を決めて密着させ、上部より光を照射し露光した
後、現像すると、リ図に示す様に平面金型5a上
に少しはみ出したパターンにフオトレジスト4b
が形成される。次に金型材5をエツチング液に浸
すと、ヌ図に示す如く、フオトレジスト4bが形
成されていない平面金型部分が除去される。さら
にフオトレジスト4b及エポキシ樹脂6aを除去
すると、ル図に示す如く刃5bを持つた金型がで
き上る。
FIG. 1 is a diagram showing the conventional manufacturing process of this type of mold. First, as shown in Fig. A, an original pattern is prepared by tracing a positive pattern 2, which is two to three times larger than the desired circuit pattern, on the original paper 1. Next, using the original drawing, a negative film 3 having a pattern 2a of the same size as the desired circuit pattern is produced as shown in FIG. Furthermore, as shown in Figure C, a photoresist 4 is applied onto a mold material 5 such as a steel material with a polished surface and dried. Next, the negative film 3 is placed in close contact with the photoresist 4, irradiated with light from above, and the photoresist 4 is exposed and developed to form a desired circuit pattern as shown in Figure 2. Only the photoresist 4a of the removed portion remains on the surface of the mold material. Next, when the mold material 5 with only the photoresist 4a left on its surface is immersed in an etching solution (for example, a ferric chloride solution), only the portion of the mold material on which the photoresist 4a is not formed is removed, as shown in Figure E. A recess 6 is formed by etching. Thereafter, when the photoresist 4a is removed, a mold 5a having a flat surface (flat mold) is produced as shown in FIG. moreover,
As shown in FIG.
Fill until it is flush with the surface. The color of the epoxy resin 6a should be symmetrical with the color of the surface of the mold material, and should be such that the difference between the resin part and the mold material part is clearly visible when photographed. Here, the completed flat mold 5
In many cases, a does not have exactly the same dimensions as the pattern 2a of the negative film 3, and an exact copy of the flat mold 5a must be made in order to form the necessary blades in the circuit board manufacturing mold. No. The planar mold 5a is copied by accurately taking a photograph of the surface of the mold material filled with the epoxy resin 6a. At this time, since the mold surface is polished and has a high light reflectance, advanced technology and skill are required to clearly photograph the boundary between the flat mold part and the epoxy resin part. A positive film is made from the negative film thus obtained by photography, a photograph is taken while slightly shaking the positive film, a negative film is made, and then a desired mold is molded using ordinary photographic methods as shown in Fig. A positive film 3a having the circuit pattern 2b modified to have a circuit width narrower than the circuit width is obtained. Creating a positive film 3a having the circuit pattern 2b modified in this manner requires a sophisticated technique of slightly shaking the film. next,
A photoresist is applied to the surface of the mold material whose recesses 6 are filled with epoxy resin 6a, dried, the positive film 3a is placed on the photoresist in a predetermined position, and exposed by irradiating light from above. When developed, the photoresist 4b is formed into a pattern that slightly protrudes onto the flat mold 5a as shown in FIG.
is formed. Next, when the mold material 5 is immersed in an etching solution, the planar mold part on which the photoresist 4b is not formed is removed, as shown in FIG. Further, when the photoresist 4b and the epoxy resin 6a are removed, a mold having a blade 5b as shown in the diagram is completed.

以上の説明でもわかる通り、従来のダイスタン
プによる回路基板製作に用いられる金型の製造方
法には、フオトエツチング工程が2回に分かれる
という工程上の複雑さと高度な写真技術が必要で
あるという欠点があつた。
As can be seen from the above explanation, the conventional mold manufacturing method used for manufacturing circuit boards by die stamping has disadvantages such as the complexity of the photo-etching process, which is divided into two steps, and the need for advanced photographic technology. It was hot.

本発明の説明に入る前に、直接反転乳剤を塗布
した感光紙(ダイレクトリバーシブペーパー)例
えばコダツク社製コダグラフトランスフアーペー
パーTPP5を使つて地紋入り袋文字を製作する方
法を説明する。まずダイレクトリバーシブペーパ
ー(以後TPP5という)9は、第2図に示した様
に、原稿10を密着させてストロボ光11で露光
すると、原稿10により光がマスクされて露光さ
れなかつた部分12と、拡散された弱い光で露光
され、反転された状態にとどまつた部分13と高
照度なストロボ露光により再反転された部分14
とが出来るという特色を持つている。この特色を
利用して地紋入り袋文字を製作した例が第3図に
示してある。
Before entering into the description of the present invention, a method for producing bag letters with background patterns using photosensitive paper (direct reversible paper) coated with a direct reversal emulsion, such as Kodagraph Transfer Paper TPP5 manufactured by Kodatsu Corporation, will be explained. First, as shown in FIG. 2, when direct reversible paper (hereinafter referred to as TPP5) 9 is exposed to strobe light 11 with an original 10 in close contact with it, light is masked by the original 10 and a portion 12 that is not exposed to light is removed. The part 13 that was exposed to diffused weak light and remained inverted, and the part 14 that was re-inverted by high-intensity strobe exposure.
It has the characteristic of being able to FIG. 3 shows an example in which bag letters with background patterns are produced using this special feature.

第3図a―1図は「イ」という文字パターン8
を持つたポジフイルム7の平面図であり、a―2
図は、その断面図である。b―1図は地紋例えば
網目状模様8aを有したフイルム7aの平面図で
あり、b―2図はその断面図である。これら2つ
のフイルム7,7a及びTPP59を使用して地紋
入り袋文字を製作するには、まずc図に示す如
く、網目状模様を有したフイルム7aをTPP59
に密着させタングステン光を照射した後、フイル
ム7aを取り去り、次にd図に示す如く、文字パ
ターンを有したポジフイルム7をTPP59に密着
させストロボ光により露光した後、現像するとe
図に示した様な網目状模様入りの袋文字「イ」の
ネガフイルムができ上がる。
Figure 3 a-1 shows the character pattern 8 for “i”
It is a top view of the positive film 7 with a-2
The figure is a sectional view thereof. Figure b-1 is a plan view of a film 7a having a background pattern, for example, a mesh pattern 8a, and figure b-2 is a cross-sectional view thereof. In order to produce bag letters with a background pattern using these two films 7, 7a and TPP59, first, as shown in figure c, the film 7a with a mesh pattern is made into TPP59.
After irradiating with tungsten light, the film 7a is removed, and then, as shown in Figure d, a positive film 7 with a character pattern is brought into close contact with the TPP 59, exposed to strobe light, and then developed.
A negative film of the bag character "I" with a mesh pattern as shown in the figure is completed.

本発明においては、以上説明した様な特色を持
つたダイレクトリバーシブペーパーTPP5を使用
して回路基板製作用金型製造に必要な、所望の回
路パターンに対応した地紋入り袋文字状パターン
を有したネガフイルムを製作し、該ネガフイルム
を用いる事により簡単に回路基板製作用金型を製
造できる様にしたものである。
In the present invention, the direct reversible paper TPP5 having the characteristics described above is used to produce a negative having a bag letter-like pattern with a background pattern corresponding to a desired circuit pattern, which is necessary for manufacturing molds for circuit board production. By producing a film and using the negative film, it is possible to easily produce a mold for producing a circuit board.

本発明を第4図にもとづいて説明する。 The present invention will be explained based on FIG.

第4図は、本発明による回路基板製作用金型製
造の工程を示したものである。A図には、第3図
において説明したのと同様の方法で作成した所望
の回路パターンに対応した網目状模様入り袋文字
状パターンを有したネガフイルム3bの断面図を
示してある。まずB図に示した如くフオトレジス
ト4cを金型材5上に塗布し乾燥させる。次に前
記ネガフイルム3bをフオトレジスト4cに密着
させ露光した後、現像すると、C図に示した如く
網目状模様入り袋文字状パターン部のみレジスト
4dが金型材5上に残される。次に金型材5をエ
ツチング液に浸すと、エツチング段階の初期にお
いては、D図に示す如く、所望の回路パターンに
対応している金型材の部分には網目状模様にレジ
ストが形成されているためエツチング速度も、回
路パターン以外の金型材部分6bより遅く、サイ
ドエツチもそれ程進んでいないので網目状に形成
されたレジストもまだ金型表面に付着している。
がエツチングが進行するにつれサイドエツチも進
みついには、金型材表面に付着していた網目状の
レジストが、金型材表面より離れてしまう。さら
にエツチングが進み、E図に示した様に適当な形
状の刃5b′が形成されるとエツチング液より金型
を取り出す。さらに金型材の表面に付着している
レジスト4dを除去して、F図に示した様な刃5
b′を有した回路基板製作用金型が得られる。
FIG. 4 shows the process of manufacturing a mold for manufacturing a circuit board according to the present invention. FIG. A shows a cross-sectional view of a negative film 3b having a cross-hatched pattern corresponding to a desired circuit pattern prepared by the same method as described in FIG. 3. First, as shown in Figure B, a photoresist 4c is applied onto the mold material 5 and dried. Next, the negative film 3b is brought into close contact with the photoresist 4c, exposed, and then developed, leaving only the resist 4d on the mold material 5, as shown in FIG. Next, when the mold material 5 is immersed in an etching solution, at the beginning of the etching stage, a resist is formed in a mesh pattern in the portion of the mold material corresponding to the desired circuit pattern, as shown in Figure D. Therefore, the etching speed is slower than that of the mold material portion 6b other than the circuit pattern, and side etching has not progressed so much that the resist formed in a mesh shape still adheres to the mold surface.
However, as etching progresses, side etching also progresses, and eventually the mesh-like resist that has adhered to the surface of the mold material separates from the surface of the mold material. When the etching progresses further and a blade 5b' of a suitable shape is formed as shown in Fig. E, the mold is removed from the etching solution. Furthermore, the resist 4d attached to the surface of the mold material is removed, and the blade 5 as shown in Fig.
A circuit board manufacturing mold having b' is obtained.

以上の説明でわかる様に、本発明の回路基板製
作用金型の製造方法によれば、エツチング工程も
一工程であり、非常に高度な写真技術も必要では
なく、簡単にこの種の金型が製造できるという大
きな利点がある。
As can be seen from the above explanation, according to the method of manufacturing a mold for manufacturing a circuit board of the present invention, the etching process is also a single step, and very advanced photographic technology is not required, and this type of mold can be easily manufactured. It has the great advantage of being able to be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、従来のダイスタンプ法による回路基
板製作用金型の製造工程を示す図で、第2図は、
直接反転乳剤を塗布した感光紙の特色を説明する
ための図、第3図は、前記感光紙を使用してネガ
フイルムを製作する方法を示す図、第4図は本発
明による回路基板製作用金型の製造工程を示す図
である。 1:原紙、2:拡大された回路パターン、3:
ネガフイルム、4:フオトレジスト、5:金型
材、6:凹部、7:フイルム、8:文字パター
ン、9:ダイレクトリバーシブペーパー
(TPP5)、10:原稿、11:ストロボ光、1
2:露光されなかつた部分、13:反転された部
分、14:再反転された部分、15:タングステ
ン光、2a:回路パターン(ネガ)、2b:回路
パターン(ポジ)、3a:ポジフイルム、3b:
ネガフイルム、4a,4b,4c:フオトレジス
ト、5a:平面金型、5b′:刃、6a:エポキシ
樹脂、7a:フイルム、8a:網目状パターン。
Figure 1 is a diagram showing the manufacturing process of a mold for manufacturing a circuit board using the conventional die stamp method, and Figure 2 is a diagram showing the manufacturing process of a mold for manufacturing a circuit board using the conventional die stamp method.
A diagram for explaining the characteristics of photosensitive paper coated with a direct reversal emulsion, FIG. 3 is a diagram showing a method for producing a negative film using the photosensitive paper, and FIG. 4 is a diagram for explaining the characteristics of a photosensitive paper coated with a direct reversal emulsion. It is a figure which shows the manufacturing process of a metal mold|die. 1: Original paper, 2: Enlarged circuit pattern, 3:
Negative film, 4: Photoresist, 5: Mold material, 6: Recess, 7: Film, 8: Character pattern, 9: Direct reversible paper (TPP5), 10: Original, 11: Strobe light, 1
2: unexposed part, 13: inverted part, 14: re-inverted part, 15: tungsten light, 2a: circuit pattern (negative), 2b: circuit pattern (positive), 3a: positive film, 3b :
Negative film, 4a, 4b, 4c: photoresist, 5a: plane mold, 5b': blade, 6a: epoxy resin, 7a: film, 8a: mesh pattern.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 地紋となるべき模様を有したフイルムを直接
反転乳剤を塗布した感光紙に密着させタングステ
ン光により露光する工程と、前記地紋となるべき
模様を有したフイルムを取り除いて、所望の回路
パターンのポジフイルムを前記感光紙に密着させ
ストロボ光にて露光した後、現像して、地紋入り
袋文字状の回路パターンを有したネガフイルムを
作成する工程と、金型材の表面にフオトレジスト
を塗布する工程と、該フオトレジスト上に前記地
紋入り袋文字状の回路パターンを有したネガフイ
ルムを密着させ露光した後、現像する工程と、エ
ツチング法により所望の回路パターンに対応した
金型を製作する工程とを備えたことを特徴とする
回路基板製作用金型の製造方法。
1. A step in which a film with a pattern to be used as a background pattern is directly brought into close contact with photosensitive paper coated with an inversion emulsion and exposed to tungsten light, and the film with a pattern to be used as a background pattern is removed to form a positive image with the desired circuit pattern. A step of bringing the film into close contact with the photosensitive paper, exposing it to strobe light, and developing it to create a negative film having a circuit pattern in the form of a bag letter with a background pattern, and a step of applying a photoresist to the surface of the mold material. A negative film having the circuit pattern in the form of a bag letter with background pattern is closely attached to the photoresist and exposed, and then developed; A step of manufacturing a mold corresponding to the desired circuit pattern by an etching method. A method for manufacturing a mold for manufacturing a circuit board, characterized by comprising:
JP12658379A 1979-10-01 1979-10-01 Method of manufacturing mold for fabricating circuit board Granted JPS5650597A (en)

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Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5650597A JPS5650597A (en) 1981-05-07
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