JPS6246231B2 - - Google Patents
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- JPS6246231B2 JPS6246231B2 JP4367583A JP4367583A JPS6246231B2 JP S6246231 B2 JPS6246231 B2 JP S6246231B2 JP 4367583 A JP4367583 A JP 4367583A JP 4367583 A JP4367583 A JP 4367583A JP S6246231 B2 JPS6246231 B2 JP S6246231B2
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は溶液塗布装置に係り、溶媒の蒸発が
比較的速い速乾性の溶液、例えば、半導体集積回
路を製造する過程で使用されるマスク基板やウエ
ーハ等の被塗布材表面を保護し、その品質を良好
なものに管理維持すべく塗布される保護液、さら
にはマスク基板に半導体集積回路のパターンをか
きこむために塗布されるレジスト、あるいはウエ
ーハに塗布されるレジスト等の溶液をあらかじめ
任意に設定した塗布厚を均一に維持させて短時
間、かつ経済的に被塗布材に自動的に塗布するこ
とができるようにした溶液塗布装置に関するもの
である。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a solution coating device, which is a quick-drying solution in which the solvent evaporates relatively quickly. Protective liquids are applied to protect surfaces and maintain good quality, resists are applied to write semiconductor integrated circuit patterns onto mask substrates, and resists are applied to wafers. The present invention relates to a solution coating device that can automatically coat a material to be coated in a short time and economically by maintaining a uniform coating thickness arbitrarily set in advance.
もとより、半導体集積回路の製造には極微の加
工技術が要求されていることから、その製造過程
において使用されるマスク基板やウエーハ等の被
塗布材には損傷やごみの付着のない高度の品質の
ものが要求され、溶液としての保護液はかかる要
請から塗布されるものであり、クツシヨンとして
の機能と被膜としての機能とを可能な限り溶液の
使用量を少くして果たさせるべく、塗布むらのな
い均一な厚さの塗布層を形成する必要があつた。
しかも、かかる技術的課題は、被塗布材たるマス
ク基板やウエーハへレジストを塗布する場合など
のような電子部材関係のみならず、建材、フイル
ム材等のあらゆる部材において、これに溶液を塗
布する際にも存在しており、広汎な産業技術の分
野においてその解決が要請されているところのも
のである。 Of course, since the manufacture of semiconductor integrated circuits requires ultra-fine processing technology, the materials to be coated, such as mask substrates and wafers, used in the manufacturing process must be of high quality and free from damage and dust. The protective liquid as a solution is applied based on these requirements, and in order to fulfill the functions of a cushion and a film with as little amount of solution as possible, it is necessary to reduce the unevenness of the application. It was necessary to form a coating layer with a uniform thickness without any cracks.
Moreover, such technical issues are not only related to electronic components, such as when applying resist to mask substrates and wafers, but also apply solutions to all kinds of materials, such as building materials and film materials. It also exists in the field of industrial technology, and its solution is required in a wide range of industrial technology fields.
このような要請に対し、従来から開発されてき
ているものとしては、手塗り方式、ロールコータ
ー方式、スピンナ塗布方式等が存在しているもの
の、例えばスピンナ塗布方式による場合について
みても、ウエーハ等の被塗布材を固定載置した円
盤は高速回転するために、被塗布材表面に滴下し
た溶液は滴下地点から周縁部へと時間差をおいて
順次拡散していくために全面に亘つて均一な厚さ
で溶液を塗布することは高度の熟練を要すること
とされていた。そして、このような技術的課題を
解決するものとしては、特願昭56−14311号(特
開昭57−130570号公報)に係る「スピンナ塗布方
法及び装置」などが既に提案されてはいるもの
の、この方法及び装置を用いたとしても、溶液塗
布作業に時間を要すること、溶液の塗布厚設定の
自在性に欠けること等から効率的な大量生産には
不向きであるのみならず、滴下溶液の大半は遠心
力により周辺へと飛散してしまうことから、溶液
の損失が極めて大きく経済性の点でも難点を有す
るものであつた。 In response to these demands, there are hand coating methods, roll coater methods, spinner coating methods, etc. that have been developed in the past. Since the disk on which the material to be coated is fixedly mounted rotates at high speed, the solution dropped onto the surface of the material to be coated is sequentially diffused from the drop point to the peripheral edge at a time lag, resulting in a uniform thickness over the entire surface. It was believed that applying the solution in a vacuum required a high level of skill. In order to solve such technical problems, the "Spinner Coating Method and Apparatus" disclosed in Japanese Patent Application No. 14311/1983 (Japanese Unexamined Patent Publication No. 130570/1983) has already been proposed. Even if this method and apparatus are used, it is not only unsuitable for efficient mass production because it takes time to apply the solution and there is no flexibility in setting the coating thickness of the solution, but also it is not suitable for efficient mass production. Since most of the solution is scattered to the surrounding area by centrifugal force, the loss of the solution is extremely large, which is disadvantageous in terms of economic efficiency.
このような従来の技術的課題を解決すべく行つ
た数次に亘る実験を経て、ローラや塗布ブレード
による塗布方法が好適であるとの知見を得たが、
これによつてしても溶液が速乾性であるために1
回の塗布工程毎にローラや塗布ブレードに残液が
付着して固化してしまうことから、これを除去し
なければならず、したがつて作業が煩雑化すると
いう欠点を伴うものであつた。 After several experiments conducted to solve these conventional technical problems, it was discovered that a coating method using a roller or coating blade is suitable.
Even with this, since the solution dries quickly,
Since residual liquid adheres to the roller or coating blade and solidifies after each coating process, it must be removed, which has the disadvantage of complicating the work.
この発明は、如上の技術的課題に鑑み、これを
解決すべく鋭意研究を重ねて創出されたものであ
る。 This invention was created in view of the above-mentioned technical problems and through intensive research to solve them.
すなわち、金属等を素材とするローラやブレー
ド等の塗布体を介して被塗布材に溶液を塗布する
ものであり、しかも溶液塗布後に塗布体に付着し
た残液の除去作業についても完全な自動化を達成
することで、塗布作業を一貫した工程を経て自動
的に行なうことができるよう機械化を図り、溶液
の塗布厚精度が高いのみならず、塗布厚自体も薄
いものから厚いものまで任意に設定でき、さらに
は溶液の損耗も少い等、効率性、経済性にも富む
塗布装置を提供すべく開発されたものであり、そ
の要旨とするところは溶液が塗布される被塗布材
を載置固定するための載置台を可動とすることで
形成した被塗布材載置固定機構と、載置台に載置
固定された前記被塗布材に対し接離自在である溶
液塗布のための塗布体を塗布移動可能となして配
設するとともに、塗布体の塗布移動に応じて被塗
布材に所要の溶液を塗布させるべく適宜溶液を吐
出する吐出体を付設してなる溶液塗布機構と、溶
液塗布後の塗布体に付着した溶液を当接除去すべ
く設けた溶液除去機構とを基台の適位置に配設し
たことに存するものである。 In other words, the solution is applied to the material to be coated via an applicator such as a roller or blade made of metal, etc., and the removal of residual liquid adhering to the applicator after applying the solution is also completely automated. By achieving this, we will mechanize the coating process so that it can be performed automatically through a consistent process, and not only will the coating thickness of the solution be highly accurate, but the coating thickness itself can be set arbitrarily from thin to thick. It was developed to provide a coating device that is highly efficient and economical, with less wastage of the solution, and its main purpose is to place and fix the material to be coated with the solution. A mechanism for placing and fixing a material to be coated is formed by making a movable mounting table for applying a coating material, and a coating body for applying a solution that can move toward and away from the material to be coated that is placed and fixed on the mounting table. A solution application mechanism that is movably disposed and is attached with a discharge body that discharges a solution appropriately to apply the required solution to a material to be coated according to the movement of the application body; The present invention consists in that a solution removal mechanism provided to contact and remove the solution adhering to the application body is disposed at an appropriate position on the base.
以下、図面に示す実施例に基づいてこの発明を
説明する。 The present invention will be described below based on embodiments shown in the drawings.
図に示す符号Aは、溶液が塗布されるべきマス
ク基板等の被塗布材Pを載置固定する被塗布材載
置固定機構であり、所要の軸受1を介して基台1
00上に突出している回転軸2と、被塗布材Pを
載置固定すべく設けられた載置台3とからなり、
この載置台3は回転軸2に嵌着支持されており、
回転軸2自体はあらかじめ制御されたモーター等
の駆動装置(図示せず)により強制回転が可能と
なつている。もとより、具体的な被塗布材載置固
定機構Aはこれに限るものではなく、後述する溶
液塗布機構Bが進退する移動方向と同一の方向に
移動可動な構成とするものであつてもよい。 Reference numeral A in the figure is a material mounting and fixing mechanism for mounting and fixing a material P to be coated, such as a mask substrate to which a solution is to be applied.
It consists of a rotating shaft 2 protruding above 00, and a mounting table 3 provided to place and fix the material P to be coated.
This mounting table 3 is fitted and supported on the rotating shaft 2,
The rotating shaft 2 itself can be forcibly rotated by a drive device (not shown) such as a pre-controlled motor. Of course, the specific coating material mounting and fixing mechanism A is not limited to this, but may be configured to be movable in the same direction as the moving direction in which the solution coating mechanism B, which will be described later, advances and retreats.
図に示す符号Bは、溶液を被塗布材Pの表面に
塗布する溶液塗布機構であり、溶液塗布部5と溶
液吐出部6とこれら両者5,6を進退自在に駆動
する駆動部7とからなる。このうち、溶液塗布部
5は、下部支持枠8とこの支持枠8に着脱が自在
で、かつ制御された駆動装置9を介することで強
制回転を可能として付設されたローラ状の塗布体
10とからなる。溶液吐出部6は、上部支持枠1
1と、この支持枠11に横架され、かつ制御され
た駆動装置12を介しての強制回転が可能である
ねじの切つてある横軸13と、この横軸13と支
杆14とを介して前記塗布体10の長さ方向に沿
つての往復運動が可能に付設されている吐出体1
5とからなり、上部支持枠11自体は、ねじを切
つてあり、かつ制御された駆動装置16により強
制回転が可能な縦軸17を介して上下動自在とな
しており、18と19は上部支持枠11を支える
支杆である。また、上部支持枠11と下部支持枠
8とは、上部支持枠11に付設された支持板20
に設けてある制御された駆動装置21により強制
回転が可能であるねじが切られている縦軸22を
介して下部支持枠8の上下動を自在にして連結さ
れており、23と24とは下部支持枠8を支える
べく遊嵌された支杆である。一方、相互に連結さ
れている溶液塗布部5と溶液吐出部6とを被塗布
材載置固定機構Aへと進退可能にする駆動部7
は、制御された駆動装置25とこれに連動するベ
ルト26、及びこのベルト26と溶液吐出部6と
を連結する連結板27、さらには上下に配設され
た1対の支杆28,29とからなり、上部の支杆
28は、前記上部支持枠11の適位置に付設され
たガイドローラ30により挾持され、下部の支杆
29は上部支持枠11の適位置に遊嵌されてい
る。なお、塗布体10の具体的形状については、
図示例の如きローラ状のものに限らず、ブレード
状のものを下部支持枠8に横架固着するものであ
つてもよく、また、吐出体15への溶液の供給は
ソレノイドバルブ31を介して溶液タンク32か
ら制御供給されるものであり、33は液送管、3
4はノズルである。 Reference numeral B in the figure is a solution application mechanism that applies a solution to the surface of the material P to be coated, and is composed of a solution application section 5, a solution discharge section 6, and a drive section 7 that drives both 5 and 6 so as to move forward and backward. Become. Of these, the solution applicator 5 includes a lower support frame 8 and a roller-shaped applicator 10 attached to the support frame 8 such that it can be freely attached to and detached from the support frame 8 and can be forcibly rotated via a controlled drive device 9. Consisting of The solution discharge part 6 is connected to the upper support frame 1
1, a threaded horizontal shaft 13 which is suspended horizontally on the support frame 11 and is capable of forcible rotation via a controlled drive device 12; A discharge body 1 is attached so as to be able to reciprocate along the length direction of the application body 10.
The upper support frame 11 itself is vertically movable via a vertical shaft 17 which is threaded and can be forcibly rotated by a controlled drive device 16. This is a support rod that supports the support frame 11. Further, the upper support frame 11 and the lower support frame 8 are connected to a support plate 20 attached to the upper support frame 11.
The lower support frame 8 is connected so as to be able to move up and down freely through a threaded vertical shaft 22 that can be forcibly rotated by a controlled drive device 21 provided in the lower support frame 8. This is a support rod loosely fitted to support the lower support frame 8. On the other hand, a drive unit 7 allows the mutually connected solution applicator 5 and solution discharge unit 6 to move forward and backward toward the material placement and fixing mechanism A.
, a controlled drive device 25, a belt 26 interlocked therewith, a connecting plate 27 that connects this belt 26 and the solution discharge part 6, and a pair of support rods 28 and 29 arranged above and below. The upper support rod 28 is held between guide rollers 30 attached to the upper support frame 11 at an appropriate position, and the lower support rod 29 is loosely fitted into the upper support frame 11 at an appropriate position. In addition, regarding the specific shape of the coating body 10,
It is not limited to a roller-shaped one as shown in the illustration, but a blade-shaped one horizontally fixed to the lower support frame 8 may also be used. It is controlled and supplied from a solution tank 32, and 33 is a liquid feed pipe;
4 is a nozzle.
図に示す符号Cは、塗布体10に付着した溶液
を除去する溶液除去機構であり、列設した第1除
去部35と第2除去部36とからなる。第1除去
部35は箱状に形成された第1除去ボツクス37
と、これに付設された溶液除去ブレード38と、
第1除去ボツクス37の底板39の適位置にて連
通し、廃液タンクNへと除去溶液などを送る廃液
パイプ40とから構成されている。第2除去部3
6は、第1除去部35を経ても塗布体Pに未だ残
存している付着溶液を完全に除去するためのもの
であり、ソレノイドバルブ41を介して溶剤タン
ク42から液送管43を経て制御供給される溶剤
Lが溜められている第2除去ボツクス44と、こ
れに付設された溶液除去ブレード45とから構成
されており、第2除去ボツクス44と第1除去ボ
ツクス37とは適位置に設けられた連通管46を
介して相互に連通している。なお、溶液塗布機構
Bにおける塗布体10をローラ状のものに代えて
ブレード状のものとしている場合には、第1除去
部35と第2除去部36とにおける溶液除去ブレ
ード38,45を、いずれも搬入された塗布体1
0の長さ方向に沿つて移動させる構造のもの(図
示せず)とすることで、塗布体10に当接させつ
つ付着溶液を除去するものとすればよい。また、
図示例によれば溶液除去機構Cは第1除去部35
と第2除去部36とから構成されているも、これ
に限らず必要に応じて第1除去部35か第2除去
部36のいずれか一方のみ有するものであつても
よい。 Reference numeral C shown in the figure is a solution removal mechanism that removes the solution adhering to the application body 10, and is composed of a first removal section 35 and a second removal section 36 arranged in a row. The first removal section 35 includes a first removal box 37 formed in a box shape.
and a solution removal blade 38 attached thereto,
It is composed of a waste liquid pipe 40 that communicates with the bottom plate 39 of the first removal box 37 at an appropriate position and sends a removal solution and the like to the waste liquid tank N. Second removing section 3
6 is for completely removing the adhering solution that still remains on the application body P even after passing through the first removal section 35, and is controlled from the solvent tank 42 via the liquid feed pipe 43 via the solenoid valve 41. It is composed of a second removal box 44 in which the supplied solvent L is stored and a solution removal blade 45 attached thereto, and the second removal box 44 and the first removal box 37 are installed at appropriate positions. They communicate with each other via a communicating pipe 46. In addition, when the application body 10 in the solution application mechanism B is replaced with a roller-like one and a blade-like one, the solution removing blades 38 and 45 in the first removing part 35 and the second removing part 36 are Coated body 1 was also brought in.
By using a structure (not shown) that moves along the length direction of the coating member 10, the adhering solution may be removed while being brought into contact with the coating member 10. Also,
According to the illustrated example, the solution removal mechanism C is the first removal section 35
and a second removing section 36; however, the present invention is not limited thereto, and may include only either the first removing section 35 or the second removing section 36 as needed.
なお、図中、Dは被塗布材Pを装填した容器M
を一定方向へと順次搬送する容器搬送機構を、E
はこの容器搬送機構Dを介して所定位置に搬送さ
れてきた容器Mを上下させることで装填されてい
る被塗布材Pの位置決めを行なう被塗布材位置決
め機構を、Fはこの被塗布材位置決め機構Eを介
することで位置決めされた被塗布材Pを前記被塗
布材載置固定機構Aにおける載置台3上へと送り
出す被塗布材送出機構を、Gは溶液が塗布された
被塗布材Pを前記容器M内の所定位置へと送り返
す被塗布材返送機構をそれぞれ示すものであり、
その具体的な実施例を説明すれば次のとおりであ
る。 In addition, in the figure, D is a container M loaded with the material P to be coated.
E is a container transport mechanism that sequentially transports
F is a material positioning mechanism for positioning a loaded material P by raising and lowering a container M that has been transported to a predetermined position via the container transport mechanism D; G is a material delivery mechanism that sends the material P positioned through E onto the mounting table 3 in the material mounting and fixing mechanism A; Each shows a mechanism for returning the material to be coated to a predetermined position in the container M,
A specific example thereof will be explained as follows.
すなわち、容器搬送機構Dは、搬送爪50が付
設された搬送杆51と、この搬送杆51に容器M
搬送方向への制御された往復運動を行なわせるべ
く設けられシリンダー52内を進退する駆動杆5
3とからなり、搬送杆51は制御された駆動装置
54と連動するスプロケツト55を介して回転さ
せることができる。56は搬送される容器Mを案
内するために基台100上に立設されたガイド板
を示す。もとより、搬送手段はこれに限るもので
はなく、ベルトコンベアやローラコンベア等、適
宜の手段によることも自由である。 That is, the container transport mechanism D includes a transport rod 51 to which the transport claw 50 is attached, and a container M on the transport rod 51.
A drive rod 5 that is provided to perform controlled reciprocating motion in the conveying direction and moves back and forth within the cylinder 52.
3, and the conveying rod 51 can be rotated via a sprocket 55 in conjunction with a controlled drive 54. Reference numeral 56 indicates a guide plate erected on the base 100 to guide the container M being transported. Of course, the conveyance means is not limited to this, and any suitable means such as a belt conveyor or roller conveyor may be used.
被塗布材位置決め機構Eは、ねじが切られた縦
軸57と、この縦軸57に螺着され基台100上
に上下動自在に出没する台座58と、縦軸57に
対して制御された回転力を付与する駆動装置59
とからなり、60は掛け渡されているベルト、6
1は補強板、62は支持板を示す。 The material positioning mechanism E is controlled with respect to a threaded vertical shaft 57, a pedestal 58 that is screwed onto the vertical shaft 57 and is movable up and down on the base 100, and the vertical shaft 57. Drive device 59 that provides rotational force
, 60 is the belt that is stretched around, 6
1 indicates a reinforcing plate, and 62 indicates a supporting plate.
被塗布材送出機構Fは、被塗布材Pに当接させ
てこれを送り出す送出腕63と、この送出腕63
を支持して案内する支杆64と、送出腕63に連
結されたベルト65を介して送出腕63に対して
制御された往復運動を行なわせる駆動装置66と
からなる。なお、送出腕63における被塗布材P
への当接部67と支腕部68との間には、コイル
スプリング等の緩衝材69を介在させることで被
塗布材Pに対する衝撃を緩和させることもでき
る。 The material to be coated delivery mechanism F includes a delivery arm 63 that makes contact with the material to be coated P and sends it out, and this delivery arm 63
It consists of a support rod 64 that supports and guides the delivery arm 63, and a drive device 66 that causes the delivery arm 63 to perform controlled reciprocating motion via a belt 65 connected to the delivery arm 63. In addition, the material to be coated P in the delivery arm 63
By interposing a buffer material 69 such as a coil spring between the abutting part 67 and the support arm part 68, the impact on the material P to be coated can be alleviated.
被塗布材返送機構Gは、溶液塗布後の被塗布材
Pに当接させてこれを送り返す返送腕70と、こ
の返送腕70を支持して案内する支杆71と、返
送腕70に連結されたベルト72を介することで
返送腕70に対し制御された往復運動を行なわせ
る駆動装置73とからなり、74はガイドローラ
ーを、78は支杆を示す。また、返送腕70にお
ける被塗布材Pへの当接部75と支腕部76との
間には、コイルスプリング等の緩衝材77を介在
させることで被塗布材Pに対する衝撃を緩和させ
ることもできる。 The material return mechanism G is connected to a return arm 70 that contacts the material P after applying the solution and returns it, a support rod 71 that supports and guides the return arm 70, and the return arm 70. 74 is a guide roller, and 78 is a support rod. Additionally, a shock absorber 77 such as a coil spring may be interposed between the contact portion 75 of the return arm 70 that contacts the material P and the support arm 76 to reduce the impact on the material P. can.
図中、101は廃液パイプ40を支える支持
板、102は上部機枠、103は下部機枠を示
す。 In the figure, 101 is a support plate that supports the waste liquid pipe 40, 102 is an upper machine frame, and 103 is a lower machine frame.
次いでこれが作動について説明すれば、被塗布
材Pが装填されている容器Mは容器搬送機構Dを
介することで、被塗布材載置固定機構A近傍の被
塗布材位置決め機構Eへと自動搬送される。搬送
されてきた容器Mは、前記位置決め機構Eの台座
58とともに上下動することで適位置へと自動的
に位置決めされる。位置決めされた被塗布材Pに
対しては、被塗布材送出機構Fにおける送出腕6
3の当接部67が当接され、被塗布材載置固定機
構Aの載置台3上へと送り出される。この載置台
3上に被塗布材Pが載置固定されると、溶液塗布
機構Bが駆動部7の駆動力により載置台3へと自
動的に接近し溶液の塗布態勢に入る。 Next, to explain the operation, the container M loaded with the material to be coated P is automatically transported via the container transport mechanism D to the material to be coated positioning mechanism E near the material to be coated mounting and fixing mechanism A. Ru. The transported container M is automatically positioned at an appropriate position by moving up and down together with the pedestal 58 of the positioning mechanism E. For the positioned material P, the delivery arm 6 in the material delivery mechanism F
The contact portion 67 of No. 3 is brought into contact with the material to be coated, and the material to be coated is sent onto the mounting table 3 of the mounting and fixing mechanism A. When the material P to be coated is mounted and fixed on the mounting table 3, the solution application mechanism B automatically approaches the mounting table 3 by the driving force of the drive unit 7 and enters the solution application state.
すなわち、駆動装置25を介して移動するベル
ト26と溶液吐出部6及び溶液塗布部5とは連結
板27を介して連動し、かつ支杆28を挾持する
ガイドローラ30と遊嵌された支杆29との存在
により円滑に溶液塗布機構Cを被塗布材載置固定
機構Aにおける載置台3へと移動させ、塗布態勢
を完了する。 That is, the belt 26 moving via the drive device 25, the solution discharge section 6, and the solution application section 5 are interlocked via the connecting plate 27, and the guide roller 30 that clamps the support rod 28 and the support rod loosely fitted 29, the solution coating mechanism C is smoothly moved to the mounting table 3 in the coating material mounting and fixing mechanism A, and the coating preparation is completed.
次いで、一体となつている溶液吐出部6と溶液
塗布部5とを、駆動装置16と連動する縦軸17
の回転に伴なわせて被塗布材P方向へと下降させ
る。塗布体10と被塗布材Pとの間の距離は、必
要に応じて駆動装置21と連動する縦軸22を回
転させて下部支持枠8を更に上下に微動させるこ
とで接離自在に設定することができる。塗布体1
0と被塗布材Pとの間の距離を所定のものに設定
した後は、吐出体15よりノズル34を介して所
要の溶液を被塗布材P表面へ、あるいは塗布体1
0へと吐出させる。この際、吐出体15は、駆動
装置12と連動する横軸13を介して塗布体10
の長さ方向に沿わせて移動させることで広域に亘
り溶液を吐出させることができ、しかも溶液の吐
出量はソレノイドバルブ31を介して任意に設定
することができるので、溶液の塗布厚も所望する
ものを形成することができる、被塗布材Pに対し
ては、以上に述べた一連の動作をさせつつ、しか
も、駆動部7を介して溶液塗布機構B全体を前進
させることで溶液を塗布するもので、溶液塗布後
の塗布体10は、これを上方へ引き上げることで
被塗布材Pから離脱せしめ、しかも駆動装置9を
介して半回転させることで、塗布体10に付着し
ている残液の液だれを防止するものである。 Next, the solution discharge section 6 and the solution application section 5, which are integrated, are connected to a vertical shaft 17 that is linked to a drive device 16.
It is lowered in the direction of the material to be coated P as the material rotates. The distance between the coating body 10 and the material to be coated P can be freely set by rotating the vertical shaft 22 interlocked with the drive device 21 to move the lower support frame 8 slightly up and down as necessary. be able to. Application body 1
After setting the distance between 0 and the material P to be coated to a predetermined value, the required solution is applied from the discharge body 15 to the surface of the material P to be coated through the nozzle 34, or to the surface of the material P to be coated.
Discharge to 0. At this time, the discharge body 15 is connected to the application body 10 via the horizontal shaft 13 which is interlocked with the drive device 12.
By moving the solution along its length, the solution can be discharged over a wide area, and since the discharge amount of the solution can be arbitrarily set via the solenoid valve 31, the coating thickness of the solution can be adjusted to the desired thickness. The solution is applied to the material to be coated P, which can be coated with a liquid, by performing the series of operations described above and moving the entire solution coating mechanism B forward via the drive unit 7. After applying the solution, the coated body 10 is pulled upward to separate it from the material P to be coated, and then rotated by half a rotation via the drive device 9 to remove any residue adhering to the coated body 10. This prevents liquid from dripping.
一方、被塗布材Pが円形を呈するものなどであ
つて必要があるときは、被塗布材Pを載置固定し
ている載置台3自体を、これと連動する回転軸2
を所定の回転数にて回転させつつ、静止固定して
いる塗布体10を介して溶液を展延させ、しかる
後に塗布体10を徐々に被塗布材Pから引き離す
ことにより塗布することもできる。 On the other hand, if the material to be coated P has a circular shape and it is necessary, the mounting table 3 itself on which the material to be coated P is placed and fixed is moved to the rotating shaft 2 that interlocks with the mounting table 3 itself.
The solution can also be applied by spreading the solution through the applicator 10 which is stationary while rotating at a predetermined number of rotations, and then gradually pulling the applicator 10 away from the material P to be coated.
かくして、溶液塗布後は、前記縦軸17を強制
回転させることで塗布体10を被塗布材Pから所
要の距離まで引き離し、しかる後に、被塗布材返
送機構Gの返送腕70を介して溶液塗布後の被塗
布材Pを待機する容器M内へと送り返す。 Thus, after applying the solution, the application body 10 is separated from the material P to a required distance by forcibly rotating the vertical shaft 17, and then the solution is applied via the return arm 70 of the material return mechanism G. The subsequent material P to be coated is sent back into the waiting container M.
一方、溶液塗布作業を完了した溶液塗布機構B
は、前記駆動部7を介して元の位置方向へと後退
動作に移行する。この後退動作の過程で、塗布体
10は溶液除去機構C内へと搬入される。 On the other hand, solution application mechanism B has completed the solution application work.
Then, via the drive section 7, the movement moves back toward the original position. During this retreating process, the application body 10 is carried into the solution removal mechanism C.
すなわち、溶液を塗布して残液の付着している
塗布体10は、まず、溶液除去機構Cにおける第
1除去部35へと導びかれ、第1除去ボツクス3
7内へと下降させることで搬入され、第1除去ボ
ツクス37内に付設されている溶液除去ブレード
38に当接させつつ強制回転させて付着溶液を除
去する。次いで、塗布体10を第6図の如くして
第2除去部36へと移送し、第2除去ボツクス4
4内へと降下させる。第2除去ボツクス44内に
は、ソレノイドバルブ41を介して溶剤タンク4
2から供給される溶剤Lが溜められており、この
溶剤Lに塗布体10を浸漬させつつ、付設されて
いる溶液除去ブレード45に当接させ、かつ強制
回転させることで付着溶液を完全に除去すること
ができる。このようにして、塗布体10に付着し
た溶液を一掃した後、溶液塗布機構Bは再度、新
たな被塗布材Pに対する溶液塗布態勢へと復帰
し、溶液塗布作業を一巡する。 That is, the coated body 10 on which the solution has been applied and the residual liquid is attached is first guided to the first removal section 35 in the solution removal mechanism C, and is removed from the first removal box 3.
The solution removing blade 38 attached to the first removal box 37 is brought into contact with the solution removal blade 38 and forcedly rotated to remove the adhering solution. Next, the application body 10 is transferred to the second removal section 36 as shown in FIG.
Descend to within 4. A solvent tank 4 is provided in the second removal box 44 via a solenoid valve 41.
A solvent L supplied from 2 is stored, and the adhering solution is completely removed by immersing the coating body 10 in this solvent L, bringing it into contact with the attached solution removal blade 45, and forcing it to rotate. can do. After wiping out the solution adhering to the coating body 10 in this manner, the solution coating mechanism B returns to the solution coating state for a new material P to be coated, and completes one cycle of the solution coating operation.
この発明は以上の如くして構成され、かつ作動
することから、被塗布体Pと塗布体10との間の
間隔を接離自在な適宜なものに設定することがで
き、しかも、ソレノイドバルブ31を介すること
で吐出体15による溶液の吐出量を任意のものに
管理することができるので、被塗布材Pに対する
溶液の塗布厚を厚薄自在なものとして無駄なく自
動的に形成することができるのである。 Since the present invention is configured and operates as described above, the distance between the object P to be applied and the object 10 to be applied can be set to an appropriate value that allows them to freely approach and separate, and furthermore, the solenoid valve 31 Since the amount of solution discharged by the discharge body 15 can be controlled to an arbitrary value, the thickness of the solution applied to the material P to be coated can be automatically formed as thick or thin as desired without waste. be.
すなわち、被塗布材Pに対して接離自在に形成
した塗布体10と溶液の吐出量を制御した吐出体
15とを有する溶液塗布機構Bと、載置台3を回
転自在とした被塗布材載置固定機構Aとを設けた
ことにより、方形や円形である被塗布材Pの形状
如何にかかわらず、必要とされる塗布厚にて溶液
を塗布することを可能としたのである。 That is, there is a solution application mechanism B having a coating body 10 formed to be able to move toward and away from the material P to be coated, and a discharge body 15 in which the amount of solution discharged is controlled; By providing the positioning and fixing mechanism A, it is possible to apply the solution to the required coating thickness regardless of the shape of the material P to be coated, which may be rectangular or circular.
しかも、溶液塗布後の塗布体10については、
第1除去ボツクス37内にて溶液除去ブレード3
8に当接させて強制回転させ、しかる後に第2除
去ボツクス44内の溶剤Lに浸漬して溶液除去ブ
レード45に再度当接させて強制回転させること
から、付着溶液は完全に一掃することができ、し
たがつて、塗布体10の外周面は常に平滑な状態
に維持させておくことができるので、被塗布材P
に対する塗布むらの生ずることは皆無である。 Moreover, regarding the coated body 10 after applying the solution,
Solution removal blade 3 in first removal box 37
8 and forced rotation, and then immersed in the solvent L in the second removal box 44, brought into contact with the solution removal blade 45 again, and forced rotation, so that the adhering solution can be completely wiped out. Therefore, the outer circumferential surface of the coating body 10 can always be maintained in a smooth state, so that the coated material P
There is no occurrence of uneven coating.
なお、第1除去ボツクス37と第2除去ボツク
ス44とは連通管46にて連通しているので、溶
剤Lの液面を常に一定なものとしつつ溶剤L自体
を常に一定の濃度のものとしておくことができ、
余剰溶剤Lは第1除去ボツクス37の廃液パイプ
40を介して廃液タンクNへと流下させることが
できる。 Note that since the first removal box 37 and the second removal box 44 are in communication with each other through a communication pipe 46, the liquid level of the solvent L is always kept constant and the concentration of the solvent L itself is always kept constant. It is possible,
The excess solvent L can be allowed to flow down to the waste tank N via the waste pipe 40 of the first removal box 37.
さらには、容器搬送機構Dと被塗布材位置決め
機構Eと被塗布材送出機構Fと被塗布材返送機構
Gとを付設することにより、被塗布材Pに対する
溶液塗布作業を完全に自動化することもでき、そ
の効率化への寄与も極めて大きなものとすること
ができる。 Furthermore, by adding a container conveyance mechanism D, a material positioning mechanism E, a material delivery mechanism F, and a material return mechanism G, it is possible to completely automate the solution application work on the material P. , and its contribution to efficiency can be made extremely large.
以上説明したようにこの発明によれば、被膜を
形成すべく塗布されるあらゆる種類の速乾性溶液
を被塗布材に塗布するに際して、無駄なく、かつ
均一の塗布厚にて自動的に短時間で作業を進める
ことができるのみならず、溶液の塗布厚自体の設
定も任意に選定することができる等、大量生産に
好適な汎用性のある溶液塗布装置を提供すること
ができる。 As explained above, according to the present invention, all types of quick-drying solutions to be applied to form a film can be applied to a material to be coated automatically and in a short time without waste and with a uniform coating thickness. It is possible to provide a versatile solution coating apparatus suitable for mass production, in which not only the work can be carried out, but also the setting of the coating thickness of the solution itself can be arbitrarily selected.
図面はこの発明の実施例を示すもので、第1図
は一部省略全体平面図、第2図は同正面図、第3
図は同側面図、第4図と第5図は被塗布材載置固
定機構と溶液塗布機構とにおける作動状態を示す
要部拡大図であり、第4図はその一部切欠背面
図、第5図はその側面図、第6図は溶液除去機構
の作動状態を示す要部拡大側断面図、第7図は容
器搬送機構を示す平面図、第8図は被塗布材送出
機構を示す平面図、第9図は被塗布材返送機構を
示す平面図である。
A……被塗布材載置固定機構、B……溶液塗布
機構、C……溶液除去機構、D……容器搬送機
構、E……被塗布材位置決め機構、F……被塗布
材送出機構、G……被塗布材返送機構、1……軸
受、2……回転軸、3……載置台、5……溶液塗
布部、6……溶液吐出部、7……駆動部、8……
下部支持枠、9……駆動装置、10……塗布体、
11……上部支持枠、12……駆動装置、13…
…横軸、14……支杆、15……吐出体、16…
…駆動装置、17……縦軸、18,19……支
杆、20……支持板、21……駆動装置、22…
…縦軸、23,24……支杆、25……駆動装
置、26……ベルト、28……連結板、28,2
9……支杆、30……ガイドローラ、31……ソ
レノイドバルブ、32……溶液タンク、33……
液送管、34……ノズル、35……第1除去部、
36……第2除去部、37……第1除去ボツク
ス、38……溶液除去ブレード、39……底板、
40……廃液パイプ、41……ソレノイドバル
ブ、42……溶剤タンク、43……液送管、44
……第2除去ボツクス、45……溶液除去ブレー
ド、46……連通管、L……溶剤、M……容器、
N……廃液タンク、P……被塗布材。
The drawings show an embodiment of the present invention, and FIG. 1 is a partially omitted overall plan view, FIG. 2 is a front view of the same, and FIG. 3 is a partially omitted overall plan view.
4 and 5 are enlarged views of main parts showing the operating states of the material placement and fixing mechanism and the solution application mechanism, and FIG. 4 is a partially cutaway rear view of the same, and Fig. 5 is a side view thereof, Fig. 6 is an enlarged side sectional view of main parts showing the operating state of the solution removal mechanism, Fig. 7 is a plan view showing the container conveyance mechanism, and Fig. 8 is a plan view showing the material delivery mechanism. 9 are plan views showing the material return mechanism. A...Mechanism for placing and fixing the material to be coated, B...Mechanism for applying the solution, C...Mechanism for removing the solution, D...Mechanism for conveying the container, E...Mechanism for positioning the material to be coated, F...Mechanism for delivering the material to be coated. G... Material return mechanism to be coated, 1... Bearing, 2... Rotating shaft, 3... Mounting table, 5... Solution application section, 6... Solution discharge section, 7... Drive section, 8...
lower support frame, 9... drive device, 10... application body,
11... Upper support frame, 12... Drive device, 13...
...Horizontal axis, 14... Support rod, 15... Discharge body, 16...
... Drive device, 17... Vertical axis, 18, 19... Support rod, 20... Support plate, 21... Drive device, 22...
... Vertical shaft, 23, 24 ... Support rod, 25 ... Drive device, 26 ... Belt, 28 ... Connection plate, 28, 2
9... Support rod, 30... Guide roller, 31... Solenoid valve, 32... Solution tank, 33...
Liquid feed pipe, 34... nozzle, 35... first removal section,
36... Second removal section, 37... First removal box, 38... Solution removal blade, 39... Bottom plate,
40...Waste liquid pipe, 41...Solenoid valve, 42...Solvent tank, 43...Liquid feed pipe, 44
...Second removal box, 45...Solution removal blade, 46...Communication pipe, L...Solvent, M...Container,
N... Waste liquid tank, P... Material to be coated.
Claims (1)
めの載置台を可動とすることで形成した被塗布材
載置固定機構と、載置台に載置固定された前記被
塗布材に対し接離自在である溶液塗布のための塗
布体を塗布移動可能となして配設するとともに、
塗布体の塗布移動に応じて被塗布材に所要の溶液
を塗布させるべく適宜溶液を吐出する吐出体を付
設してなる溶液塗布機構と、溶液塗布後の塗布体
に付着した溶液を当接除去すべく設けた溶液除去
機構とを基台の適位置に配設したことを特徴とす
る溶液塗布装置。1. A material mounting and fixing mechanism formed by making a movable mounting table for mounting and fixing the material to be coated on which a solution is applied, and a mechanism for mounting and fixing the material to be coated that is placed and fixed on the mounting table. A removable coating body for applying a solution is disposed in a movable manner, and
A solution application mechanism is provided with a discharge body that discharges the appropriate solution in order to apply the required solution to the material to be coated as the coating movement of the coating body, and a solution application mechanism that contacts and removes the solution attached to the coating body after the solution has been applied. What is claimed is: 1. A solution application device, characterized in that a solution removal mechanism is provided at an appropriate position on a base.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4367583A JPS59169566A (en) | 1983-03-16 | 1983-03-16 | Solution applicator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4367583A JPS59169566A (en) | 1983-03-16 | 1983-03-16 | Solution applicator |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59169566A JPS59169566A (en) | 1984-09-25 |
JPS6246231B2 true JPS6246231B2 (en) | 1987-10-01 |
Family
ID=12670410
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4367583A Granted JPS59169566A (en) | 1983-03-16 | 1983-03-16 | Solution applicator |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59169566A (en) |
-
1983
- 1983-03-16 JP JP4367583A patent/JPS59169566A/en active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59169566A (en) | 1984-09-25 |
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