JPS6244718A - Pattern exposing device - Google Patents

Pattern exposing device

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Publication number
JPS6244718A
JPS6244718A JP60185212A JP18521285A JPS6244718A JP S6244718 A JPS6244718 A JP S6244718A JP 60185212 A JP60185212 A JP 60185212A JP 18521285 A JP18521285 A JP 18521285A JP S6244718 A JPS6244718 A JP S6244718A
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JP
Japan
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liquid crystal
exposed
exposure
pattern
storage device
Prior art date
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Application number
JP60185212A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hirotsugu Takano
博次 高野
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS6244718A publication Critical patent/JPS6244718A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Liquid Crystal Display Device Control (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a device which eliminates the need to store a wiring pattern mask and suits to various kinds of small - medium quantity production without spoiling productivity by providing a computer which reads stored graphic data and controls the pattern of a variable pattern mask. CONSTITUTION:A light source 1 for exposure, the variable pattern mask 3 where numbers of liquid crystal picture elements are arrayed on a two-dimensional plane, and a body to be exposed are arranged on the same optical path, and this exposing device consists of a liquid crystal control circuit 11 which controls the liquid crystal of the pattern mask for each picture element, a storage device 14 which is stored with graphic data on a wiring pattern to which a printed board is exposed, and the computer 13 for control which reads graphic data out of the storage device 14 and sends wiring pattern information necessary for the 1st exposure to the liquid crystal control circuit 11. Consequently, various kinds of wiring pattern masks need not be formed and stored at an actual article, and stored in the form of the graphic data in the storage device 14 and read out selectively by the control computer 13 in a short time when necessary, thereby producing a small quantity of various kinds of printed boards efficiently.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は電子回路の印刷配線板(プリント板)などの製
作工程の中で用いられる、銅箔を化学エツチングするた
めの、フォトレジストへの配線パターンの露光等に使用
できるパターン露光装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to a wiring pattern on a photoresist for chemically etching copper foil used in the manufacturing process of printed wiring boards (printed boards) for electronic circuits, etc. The present invention relates to a pattern exposure device that can be used for exposure, etc.

従来の技術 第2図に一般的なプリント板製作工程の一部を示す。第
2図Aは露光状態を示したもので、基板19の表面に銅
箔18aが貼シつけてあシ、銅箔の全表面にフォトレジ
ス)17aか塗られている。
BACKGROUND OF THE INVENTION FIG. 2 shows a part of a typical printed board manufacturing process. FIG. 2A shows the exposed state, in which a copper foil 18a is pasted on the surface of the substrate 19, and a photoresist 17a is coated on the entire surface of the copper foil.

この7オトレジストへ、光源15からの光(点線で示す
)が配線パターンマスク16を通して照射、    J
i、B、 I’m−27KJ″”61“″”″”用いら
れ黒く塗った部分は光を遮断し、透明部は光を通過させ
る。
Light from a light source 15 (indicated by a dotted line) is irradiated onto this 7-photoresist through a wiring pattern mask 16.
i, B, I'm-27KJ""61""""The black colored parts block light, and the transparent parts allow light to pass through.

フォトレジストは光の当った部分は光反応して硬化し、
光の当らなかった部分は質的に変化しない。
The part of the photoresist that is exposed to light reacts with light and hardens.
The parts that are not exposed to light do not change qualitatively.

次にこの板を7オトレジストの溶剤液に入れると、第2
図Bのように硬化した部分のフォトレジス)17bが残
り他は溶けて除去される。除去された部分には銅箔面が
露出する。
Next, when this plate is placed in a solvent solution of 7 Otoresist, the second
As shown in Figure B, the hardened portion of the photoresist 17b remains and the rest is melted and removed. The copper foil surface is exposed in the removed portion.

次にこの板を銅の溶剤液に入れると、露出している銅箔
が除去される。最後に前述の硬化して残っているフォト
レジス)17bを溶剤で除去すると、第2図Cの如く、
配線パターン通りの銅箔18bが基板上に残る。
The board is then placed in a copper solvent solution, which removes the exposed copper foil. Finally, when the photoresist (17b) remaining after hardening is removed with a solvent, as shown in Figure 2C,
The copper foil 18b according to the wiring pattern remains on the board.

以上のプリント板製作方法は、同じ配線パターンのプリ
ント板を大量生産する場合に適しておシ、一枚の配線パ
ターンマスクを用いて、露光工程を多数回くり返して行
え、溶剤による処理工程は、多数枚をまとめて液槽に入
れて行える。
The above printed board manufacturing method is suitable for mass producing printed boards with the same wiring pattern.The exposure process can be repeated many times using a single wiring pattern mask, and the solvent treatment process is Multiple sheets can be placed in a liquid tank at once.

発明が解決しようとする問題点 しかしながら、配線パターンの異る多種プリント板の少
量生産では問題がある。
Problems to be Solved by the Invention However, there are problems in producing small quantities of printed boards of various types with different wiring patterns.

それは、必要とする多種の配線ノζターンマスクをあら
かじめ用意しておき、これを短時間に選択的に取り出し
て露光のための取り付けを行う作業を多回数行う必要が
ある。この露光のための取シ付けは高精度の位置合わせ
が必要であり、特に多層の積層プリント板では、各層の
パターン合わせが重要となり、所要時間が長くなる。
In order to do this, it is necessary to prepare in advance ζ-turn masks for the various types of wiring that are required, and to selectively take them out in a short period of time and attach them for exposure many times. Mounting for this exposure requires highly accurate positioning, and in particular in multilayer laminated printed boards, pattern alignment of each layer is important, and the time required is long.

このような多種多量の配線パターンマスクの保管方法も
また問題の1つである。
Another problem is how to store such a wide variety of wiring pattern masks in large quantities.

このために大型コンピュータ用のプリント板製作では配
線パターンを用いない露光方法がある。
For this reason, there is an exposure method that does not use a wiring pattern in manufacturing printed boards for large computers.

この方法は光源にレーザー光などの点光源を用い、配線
パターンの図形情報を記憶装置に蓄えておき、制御用コ
ンピュータで、図形情報を読み出しながら光を当てる位
置を移動制御し配線パターンを描画露光する方法である
This method uses a point light source such as a laser beam as a light source, stores the graphic information of the wiring pattern in a storage device, and uses a control computer to read out the graphic information while controlling the movement of the position where the light is applied to draw and expose the wiring pattern. This is the way to do it.

この方法の問題は、光の自る面積が点であるため、プリ
ント板全面の必要面積に元を当てるのに長時間を要する
のでプリント板への直接露光は実用的でなく、マスク製
作用にとどまっているし、加えて装置の価格も高価なも
のになっている。
The problem with this method is that the area of light is a point, so it takes a long time to apply the light to the required area of the entire printed board, so direct exposure to the printed board is not practical, and it is not suitable for mask production. In addition, the price of the equipment has become expensive.

本発明は上記従来の問題点を解消するもので、多種生産
に於いても生産性を損うことがなく、配線ハターンマス
クの保管も不要とした、プリント板などの少〜中量生産
に適するパターン露光装置を提供するものである。
The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and is suitable for small to medium volume production of printed circuit boards, etc., without compromising productivity even in multi-product production, and eliminating the need to store wiring pattern masks. A pattern exposure device is provided.

問題点を解決するための手段 本発明は、露光用の光源と、2次元平面に多数の液晶画
素を配した可変パターンマスクと、被露光物とを同一光
路上に配置し、上記被露光物に露光する露光パターンの
図形データを記憶しておき、この図形データを読み出し
、上記可変パターンマスクのパターンを制御する制御用
コンピュータから構成される。さらには被露光物を支え
直交する2軸方向に移動可能なテープノペさらには光の
7ヤツターを備えた構成を有する。
Means for Solving the Problems The present invention arranges a light source for exposure, a variable pattern mask in which a large number of liquid crystal pixels are arranged on a two-dimensional plane, and an object to be exposed on the same optical path. The variable pattern mask is composed of a control computer that stores graphic data of an exposure pattern to be exposed to light, reads out the graphic data, and controls the pattern of the variable pattern mask. Furthermore, it has a configuration including a tape knife that supports the object to be exposed and is movable in two orthogonal axes directions, and seven light beams.

作  用 以上の手段により例えば、プリント板の多種少量生産に
おいて、多種の配線パター7マスクをあらかじめ用意し
、現物で保管しておく必要はなく、制御用コンピュータ
によって、選択的に図形デ−タを記憶装置から読み出し
て、可変パターンマスクを制御し、必要な配線パターン
を短時間に構成する。又、寸法の大きな被露光物に対し
てもテーブルの移動によって容易に対応でき、従来例で
あげたようなレーザー光などの点光源に比べ露光面積が
広く生産性の良い実用新案効果の優れたものである。
Effect By using the above-mentioned means, for example, in the production of a wide variety of printed circuit boards in small quantities, it is not necessary to prepare and store various types of wiring pattern 7 masks in advance and to selectively input graphic data using a control computer. The variable pattern mask is read out from the storage device, and the necessary wiring pattern is configured in a short time. In addition, it is possible to easily deal with large-sized objects to be exposed by moving the table, and compared to point light sources such as laser beams as mentioned in the conventional example, the exposure area is wider and productivity is better.It has an excellent utility model effect. It is something.

実施例 以下に本発明の一実施例を図を用いて説明する。Example An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は全体構成図で、光源1を出た光は、シャッター
2が開口している場合はこれを通過し、点線で囲って示
す可変パターンマスク3を通うて、レンズ4で拡大又は
縮小され被露光物、こ\ではフォトレジストを塗ったプ
リント板6の表面に照射する。これが基本となる露光の
光路である。可変パターンマスク3は偏向板3aと、液
晶3bと、他方の偏向板3Cとから成る。この構成と動
作について、第3図を用いて詳述する。
Figure 1 shows the overall configuration. Light emitted from a light source 1 passes through a shutter 2 when it is open, passes through a variable pattern mask 3 shown enclosed by a dotted line, and is enlarged or reduced by a lens 4. The object to be exposed, in this case the surface of a printed board 6 coated with photoresist, is irradiated. This is the basic exposure optical path. The variable pattern mask 3 consists of a deflection plate 3a, a liquid crystal 3b, and the other deflection plate 3C. This configuration and operation will be explained in detail using FIG. 3.

2枚のガラス板3b−1,5b−sのそれぞれの内側面
には薄い透明電極M3b−2,3b−4が形成されてい
て、それらの間に液晶3b−3を挾んだ構造の一般的な
液晶パネルである。液晶には種類があり動作の原理が異
るが、ここでは1例として、光透過型の液晶TVなどに
多く使用されるT N (Twisted−Nemat
ic )方式とする。
Thin transparent electrodes M3b-2 and 3b-4 are formed on the inner surfaces of the two glass plates 3b-1 and 5b-s, respectively, and a liquid crystal 3b-3 is sandwiched between them. It is a typical LCD panel. There are different types of liquid crystals with different operating principles, but here we will use Twisted-Nemat (Twisted-Nemat), which is often used in light-transmissive liquid crystal TVs, as an example.
ic) method.

第3図Aでは電源11−1につながるスイッチ11−2
が開いているため液晶の両電極3b−2゜3b−4には
電圧がかかっていないので、液晶3b−3には電界が無
い。
In FIG. 3A, switch 11-2 is connected to power supply 11-1.
Since the electrodes 3b-2 and 3b-4 of the liquid crystal are open, no voltage is applied to the liquid crystal electrodes 3b-2 and 3b-4, so there is no electric field in the liquid crystal 3b-3.

TN方式の液晶は電界の無いとき、分子配向が90°ね
じれるように作られている。このため液晶への入射光2
θは液晶を通過すると、偏向面が90°回転した出力光
21aとなる。
A TN liquid crystal is made so that its molecular orientation is twisted by 90 degrees when there is no electric field. Therefore, the incident light 2 to the liquid crystal
When θ passes through the liquid crystal, it becomes output light 21a with a deflection plane rotated by 90°.

入射光側には偏向フィルター3aが設けてあり、ここで
一定の偏向面の光のみが液晶に入射される。
A polarization filter 3a is provided on the incident light side, and only light with a certain polarization plane is incident on the liquid crystal.

他方の光の出口側には、偏向板3Cが、上記偏向板3a
の偏向面と直交するように設けてあり、この結果、上記
液晶通過によって90°回転した偏向面の光21aは、
偏向板3Cを通過できる。
On the other light exit side, a deflecting plate 3C is arranged on the deflecting plate 3a.
As a result, the light 21a of the deflection plane rotated by 90 degrees by passing through the liquid crystal is
It can pass through the deflection plate 3C.

第3図Bではスイッチ11−2が閉じられているので液
晶3b−3には電源11−1の電圧が加わる。この電界
によって液晶の分子配向のねじれが解け、入射光20は
偏向面が回転することなしに通過し、出力光21bとな
る。この光の偏向面ば偏向板3Cの偏向面と直交する方
向のため、通過できない。
In FIG. 3B, since the switch 11-2 is closed, the voltage of the power supply 11-1 is applied to the liquid crystal 3b-3. This electric field untwists the molecular orientation of the liquid crystal, and the incident light 20 passes through without rotating the deflection plane, becoming output light 21b. Since the polarization plane of this light is perpendicular to the polarization plane of the deflection plate 3C, it cannot pass through.

以上の構成を用いて、スイッチ11−2の開閉により光
の透過と遮断が行える。
Using the above configuration, light can be transmitted and blocked by opening and closing the switch 11-2.

第3図の如き光のスイッチを1単位として、これを多数
個平面パネル状に並べると、TV画面のような2次元子
面のパターンを形成できる。このような画面の構成単位
は画素又は画面を構成する点(ドツト)と呼ぶ。
When a large number of light switches as shown in FIG. 3 are arranged as one unit in the form of a flat panel, a two-dimensional surface pattern like a TV screen can be formed. The constituent units of such a screen are called pixels or dots that make up the screen.

次に第4図を用いて、ドツトマトリックス方式による2
次元画面構成方法を説明する。
Next, using Figure 4, 2
Explain how to configure a dimensional screen.

2枚のガラス板のそれぞれの内側面に、第4図忙示すよ
うな帯状の透明電極を設ける。
A band-shaped transparent electrode as shown in FIG. 4 is provided on the inner surface of each of the two glass plates.

一方′のガラス板にはxl、X2.X3・・・・・・の
如く水平方向にX電極を多数設け、他方のガラス板には
Y、、Y2.Y3・・・・・・の如く垂直方向にY電極
を設ける。図ではxl  とYl 電極のみに斜線を入
れて示している。これら2枚のガラス板を第5図のよう
に重ね、間に液晶を挾むと、X電極と、Y電極の交点が
光スィッチを構成する1つの画素(ドツト)となる。液
晶TVではX電極、Y電極それぞれ240本に及ぶ電極
がマトリックスに構成され、画素は4万ドツト以上に及
ぶ。
On the other hand, the 'glass plate' has xl, x2. A large number of X electrodes are provided in the horizontal direction like X3..., and Y, Y2... are provided on the other glass plate. A Y electrode is provided in the vertical direction as shown in Y3. In the figure, only the xl and Yl electrodes are shown with diagonal lines. When these two glass plates are stacked as shown in FIG. 5 and a liquid crystal is sandwiched between them, the intersection of the X electrode and the Y electrode becomes one pixel (dot) constituting the optical switch. In a liquid crystal TV, 240 X electrodes and 240 Y electrodes are arranged in a matrix, and the number of pixels is more than 40,000 dots.

このような多数の光スィッチを画面に表したいパターに
応じて個々に選択的に開閉制御する方法の1例を述べる
An example of a method for selectively controlling the opening and closing of a large number of such optical switches individually according to the putter desired to be displayed on the screen will be described.

いまここで使用する液晶は、第7図の如き一般的なTN
型液晶の動作特性を有するもの℃とする。
The liquid crystal used here is a general TN type as shown in Figure 7.
It has the operating characteristics of a liquid crystal type liquid crystal.

横軸は両電極への印加電圧で2vはVの2倍の電圧を意
味する。縦軸は液晶のねじれによる偏向板を含めた光の
透過度である。
The horizontal axis is the voltage applied to both electrodes, and 2v means twice the voltage of V. The vertical axis is the transmittance of light including the polarizing plate due to the twisting of the liquid crystal.

印加電圧が0からV″&での低い電圧では液晶のねじれ
は変化せず光は透過する(第3図Aと同じ状態)。印加
電圧がVから2vの間で液晶のねじれは解け、2v以上
の高い電圧では確実に光は遮断される(第3図Bと同じ
状態)。このような特性の液晶を第5図の如き電極の中
間に挾んで使用するものとし、これのxlとYlの交点
、X2とT2 の交点、x3とT3の交点の3ケ所の光
を遮断し、他のドツトは光を透過させる制御を行う場合
について述べる。この目的のためには第6図の如き電圧
を各電極に印加する。
When the applied voltage is low, from 0 to V''&, the twist of the liquid crystal does not change and light passes through (the same state as in Figure 3A).When the applied voltage is between V and 2V, the twist of the liquid crystal is untwisted and the liquid crystal becomes 2V. At such a high voltage, light is reliably blocked (same condition as in Figure 3B).A liquid crystal with such characteristics is used by sandwiching it between the electrodes as shown in Figure 5, and its xl and Yl A case will be described in which the light is blocked at three points: the intersection of , the intersection of X2 and T2, and the intersection of is applied to each electrode.

X電極は走査電極で順次一定の短時間(X、電極にはT
1時に+V電圧22を印加し、X2電極には12時に+
V電圧23を印加し、X3電極には73時に+V電圧2
4を印加する。以下は省略しているが同様にX電極全て
に順次一定の短時間ずつ+V雷電圧印加し、これを休み
なくくり返す。
The X electrode is a scanning electrode for a certain period of time (X, T
+V voltage 22 is applied at 1 o'clock, and +V voltage is applied to the X2 electrode at 12 o'clock.
V voltage 23 is applied, and +V voltage 2 is applied to the X3 electrode at 73 o'clock.
Apply 4. Although the following description is omitted, +V lightning voltage is similarly applied to all the X electrodes sequentially for a fixed short period of time, and this is repeated continuously.

一方Y電極は必要に応じて選択的に電圧を制御する電極
で、いま、T1 時には、Y、電極は一■電圧25が印
加され、T2とY3電極には+V電圧26.27が印加
されている。
On the other hand, the Y electrode is an electrode that selectively controls the voltage as necessary, and at the time of T1, a voltage of 25 is applied to the Y electrode, and a +V voltage of 26.27 is applied to the T2 and Y3 electrodes. There is.

I       この結果、XlとYlの交点には+V
電圧22と−V電圧26とによって2倍の電圧2vが加
わシ、液晶のねじれが解けて光は遮断される。
I As a result, +V at the intersection of Xl and Yl
A double voltage of 2V is applied by the voltage 22 and the -V voltage 26, and the liquid crystal is untwisted and light is blocked.

X とT2の交点には+V電圧22と26とが加えられ
いずれも+V雷電圧同電圧で、液晶に電界は加わらない
。Xl  とT3の交点も又同様である。
+V voltages 22 and 26 are applied to the intersection of X and T2, both of which have the same +V lightning voltage, and no electric field is applied to the liquid crystal. The same applies to the intersection of Xl and T3.

とのT1 時には、X2.X3・・・・・・などの他の
全てのX電極はいずれも0電圧のため、Y電極に加わる
電圧が+Vか−Vにかかわらず2v電圧に達する交点は
無く、光は通過する。
T1 with X2. Since all other X electrodes such as X3... are at 0 voltage, there is no intersection point where the voltage reaches 2V, regardless of whether the voltage applied to the Y electrode is +V or -V, and the light passes through.

次に12時を見ると、X2に+V電圧23が加わシ、T
2に−V電圧28が加わりこの交点は2V電圧となシ光
は遮断される。他のY電極(Y、。
Next, when looking at 12 o'clock, +V voltage 23 is added to X2, T
A -V voltage 28 is added to 2, and this intersection becomes a 2V voltage, and light is blocked. The other Y electrode (Y,.

T3・・・・・・)は全て+■電圧なのでそれらの交点
は電界が加わらない。更に73時にはx3に+■電圧2
4が加わシ、T3に一■電圧29が加わりこの交点のみ
が2v電圧となり光が遮断される。
T3...) are all +■ voltage, so no electric field is applied to their intersections. Furthermore, at 73, +■ voltage 2 to x3
4 is applied, a voltage of 29 is applied to T3, and only this intersection becomes a voltage of 2V, and light is blocked.

以上のように、走査されているX電極上の各ドツトの中
で光を透過させたいところのY電極は+V雷電圧し、光
を遮断したいところは−V電圧となるような電圧制御す
ればよいことがわかる。
As mentioned above, among the dots on the X electrode being scanned, if you control the voltage so that the Y electrode where you want the light to pass through has +V voltage, and where you want to block the light, it has -V voltage. I know it's good.

実際の液晶は応答時間が遅いので、2v電圧が【却加さ
れた瞬間に十分な動作に至らないが、休み′4′−4 なくくり返し上記の電圧制御を行うことによって、液晶
は動作に至る。このような遅延動作は、復旧時間も遅く
第6図のような間歇的な駆動には都合が良い。
Since the response time of an actual liquid crystal is slow, the liquid crystal does not fully operate at the moment the 2V voltage is applied, but by repeating the above voltage control without a break, the liquid crystal will be able to operate. . Such a delay operation has a slow recovery time and is convenient for intermittent driving as shown in FIG.

このような原理動作によって今日では液晶TVのような
多数ドツトのものまで実用化されている。
Due to this principle of operation, even multi-dot devices such as liquid crystal TVs have been put into practical use today.

又、動作応答速度や、光の透過と遮断のコントラストを
更に向上させるために、上述のX電極とY電極は極く細
い幅とし、これらの交点にスイッチ用トランジスタを小
さく配置し、XとY電極に加える制御電圧でこのトラン
ジスタを制御しこのトランジスタの出力で画素用(光ス
イツチ用)の透明電極に印加する電圧を制御する。
In addition, in order to further improve the operational response speed and the contrast between light transmission and blocking, the X and Y electrodes mentioned above are made extremely narrow, and a small switching transistor is placed at the intersection of these. This transistor is controlled by the control voltage applied to the electrode, and the voltage applied to the transparent electrode for the pixel (for the optical switch) is controlled by the output of this transistor.

カラーTVのように画素数が多くなるとこのような方法
が採られるようになってきた。
This method has come to be used when the number of pixels increases, such as in color TVs.

第1図の可変パターンマスク3は上述のような液晶と偏
向板から成るもので光を通すパターンを電気制御によっ
て可変できるマスクである。
The variable pattern mask 3 in FIG. 1 is composed of the above-mentioned liquid crystal and a polarizing plate, and is a mask whose pattern through which light passes can be varied by electrical control.

プリント板の配線パターンは今日ではCAD(Comp
utor Aided Des+ign )と呼ばれる
コンピュータを用いた図形作成システムを使用して作ら
れることが多くなった。
Today, printed circuit board wiring patterns are created using CAD (Comp).
They are now often created using a computer-based graphic creation system called ``Utor Aided Des+ign''.

この方法で作られた図形データは通称CADデータと呼
ばれている。このような配線パターンのCADデータを
第1図−14の記憶装置に記憶しておき、制御用コンピ
ュータ13は必要なCADデータを読み出し、可変パタ
ーンマスク1画面分の情報を液晶制御回路11へ送る。
Graphic data created using this method is commonly called CAD data. The CAD data of such a wiring pattern is stored in the storage device shown in FIG. .

この情報によって液晶制御回路は液晶の画素ごとの動作
を制御し配線パターンの一画面を形成する。これらの技
術はコンピュータによってTV画面上に図形を表示する
コンピュータグラフィックスの構成を用いて実現できる
Based on this information, the liquid crystal control circuit controls the operation of each pixel of the liquid crystal to form one screen of wiring patterns. These techniques can be realized using a computer graphics configuration in which graphics are displayed on a TV screen by a computer.

液晶に形成された配線パターンは、レンズ4によって光
学的に朕爵中蜘た酷←拡大又は縮小され峠てプリント板
6の表面を露光する。すでに述べたように液晶画面の寸
法は、ガラス板に設けた□透明電極の位置で決っておシ
、ガラスは温度変化による伸縮が少いので高精度の寸法
で製作でき、使用できる。
The wiring pattern formed on the liquid crystal is optically enlarged or reduced by the lens 4, and the surface of the printed board 6 is exposed. As already mentioned, the dimensions of the liquid crystal screen are determined by the position of the transparent electrodes provided on the glass plate, and since glass does not expand or contract due to temperature changes, it can be manufactured and used with highly accurate dimensions.

このだめ、制御用コンピュータ13によって液晶に形成
される配線パターンの寸法は常に正確であり、レンズ4
による光学的な拡大又は縮小が正確な倍率で行われれば
、プリント板5の表面に露光されるパターンの寸法は正
確である。
However, the dimensions of the wiring pattern formed on the liquid crystal by the control computer 13 are always accurate, and the lens 4
If the optical magnification or reduction is performed at an accurate magnification, the dimensions of the pattern exposed on the surface of the printed board 5 will be accurate.

この寸法の正確さを利用して、可変パターンマスク3の
面積より大きなプリント板への露光が可能である。この
方法を第8図を用いて説明する。
Utilizing this dimensional accuracy, it is possible to expose a printed board larger than the area of the variable pattern mask 3. This method will be explained using FIG. 8.

第8図は1枚のプリント板で、斜線部は露光すべき配線
パターンである。第1図の可変パターンマスク3を用い
て1回で露光できる面積が第8図A部分の面積(縦寸法
=Q、横寸法=p)である場合、まず制御用コンピュー
タ13の制御によって、Aの部分の配線パターンを液晶
に表し、プリント板の左上に露光する。次に横方向に正
確に寸法Pだけ移動させてかつ制御用コンピュータ13
の制御によってB部分の配線パターンを液晶に表し、露
光する。次は更に横方向に寸法Pだけ移動し、配線パタ
ーンはC部分を液晶に表す。以上の操作i。
FIG. 8 shows one printed board, and the shaded area is the wiring pattern to be exposed. If the area that can be exposed at one time using the variable pattern mask 3 in FIG. 1 is the area of the part A in FIG. Display the wiring pattern in the area on the LCD and expose it to the upper left of the printed board. Next, the control computer 13 is moved in the horizontal direction by exactly the dimension P.
Under the control of , the wiring pattern of portion B is displayed on the liquid crystal and exposed. Next, the wiring pattern is moved further horizontally by a dimension P, and the wiring pattern shows part C on the liquid crystal. Above operation i.

2、憎プリント板の縦・横全面に一順させることによシ
、可変パターンマスクより大きなプリント板でも全面に
露光できる。このとき配線パターンはA。
2. By uniformly applying light to the entire vertical and horizontal surfaces of the printed board, even printed boards larger than the variable pattern mask can be exposed over the entire surface. At this time, the wiring pattern is A.

B、C,D、E、Fの如くつながって行くので位置と寸
法の正確なパターンが必要であシ、本構成はこれに適し
ている。
Since the patterns are connected like B, C, D, E, and F, a pattern with accurate positions and dimensions is required, and this configuration is suitable for this purpose.

尚実際には配線パターンの接続部分で断線が生じないよ
う第9図の如き、微小寸法の重なり部分を設は接続部分
を2重露光し確実に配線パターンを接続することが望ま
しい。
In fact, in order to prevent disconnection from occurring at the connection portion of the wiring patterns, it is desirable to provide minute overlapping portions as shown in FIG. 9 and double expose the connection portions to ensure the connection of the wiring patterns.

以上のように、プリント板全面への露光は、パターンマ
スクとプリント板の相対的な移動によって行われる。第
1図の実施例ではプリント板6を移動させる構成を示し
たもので、プリント板6はyテーブル6yの上に載って
おり、該テーブルはモータ7yの回転で駆動ねじ(図示
されていない)を介して、y軸方向(図の奥行き方向)
へ移動する。
As described above, the entire surface of the printed board is exposed to light by relative movement of the pattern mask and the printed board. The embodiment shown in FIG. 1 shows a configuration in which a printed board 6 is moved, and the printed board 6 is placed on a Y-table 6y, which is driven by a drive screw (not shown) by the rotation of a motor 7y. through the y-axis direction (depth direction in the figure)
Move to.

これらのy軸移動機構は全てXテーブル6xの上に載っ
ており、該テーブルはモータ7xの回転で駆動ねじ8x
が回転し!テーブルに固定したナツト9xがX軸方向(
図の横方向)へ平行移動する。以上の構成によってプリ
ント板5はx−7両方向にモータによって移動できる。
All of these y-axis moving mechanisms are placed on an X table 6x, which is driven by a drive screw 8x by the rotation of a motor 7x.
is rotating! The nut 9x fixed to the table is in the X-axis direction (
(horizontal direction in the figure). With the above configuration, the printed board 5 can be moved in both x-7 directions by the motor.

モータ7xと7yidモ一タ駆動回路12の電流によっ
て回転制御され、その電流の制御情報は制御用コンピユ
ー、り13から送られる。なお、前記制御情報について
は、別の制御用コンピュータを使用してもよい。
Rotation is controlled by the currents of the motors 7x and 7yid motor drive circuit 12, and control information for the currents is sent from the control computer 13. Note that another control computer may be used for the control information.

期間では光源1からの光を全て遮断するよう、シャッタ
ー2が設けてあり、制御用コンピュータ13からの信号
がシャッター駆動回路1oに送られて、シャッターの適
切な開閉が制御される。このシャッターはカメラに使用
されているような機械的に光を遮断する構造のものや、
或いは光学的なミラーやプリズムを機械的に運動させ光
路を切換る方式のものでもよい。
A shutter 2 is provided to block all light from the light source 1 during the period, and a signal from the control computer 13 is sent to the shutter drive circuit 1o to control appropriate opening and closing of the shutter. This shutter has a structure that mechanically blocks light like that used in cameras,
Alternatively, it may be of a type in which an optical mirror or prism is mechanically moved to switch the optical path.

このシャッターを設けることは他の効果もねらえる。そ
れは、液晶の寿命を延すだめに液晶へ光−を当てている
時間をできるだけ短縮したい場合で、露光に必要な短時
間だけシャッターを開き、それ以外の時間は常にシャッ
ターを閉じることによって液晶への光の照射時間を抑制
することで、液晶の使用回数を増加できる。
Providing this shutter also aims at other effects. This is done when you want to shorten the time that light is shining on the liquid crystal as much as possible in order to extend the life of the liquid crystal, and by opening the shutter only for a short period of time necessary for exposure, and closing the shutter at all other times, the liquid crystal is exposed to light. By suppressing the light irradiation time, the number of times the liquid crystal can be used can be increased.

このような寿命の問題が無く、単に光を遮断するだけの
目的の場合は、シャッター2は省略して、パターンマス
ク3の液晶3bにその役割を兼ねさせることも可能であ
る。
If there is no problem with such a lifespan and the purpose is simply to block light, the shutter 2 can be omitted and the liquid crystal 3b of the pattern mask 3 can also serve that role.

以上の実施例の説明では、露光の対象物をプリント板と
して行ったが、これ以外の対象物を用いる場合で、光に
よって硬化又は軟化させるなどの化学反応を利用する場
合の露光、あるいは又、光による電荷や磁化の制御のた
めの露光の場合などにも適用できることは云うまでもな
い。
In the description of the above embodiments, the object to be exposed was a printed board, but when using other objects, exposure may be performed using a chemical reaction such as hardening or softening with light, or Needless to say, this method can also be applied to exposure for controlling electric charges and magnetization by light.

又、実施例としてあげた液晶はTN方式のものであった
が、他の種類、例えばD S M (Dynami c
 −Scattering Mode =散乱による光
の透過率の変化を利用する方式)方式を使用することも
できる。
Furthermore, although the liquid crystal shown in the example was of the TN type, other types, such as DSM (Dynamic
- Scattering Mode = a method that utilizes changes in light transmittance due to scattering) can also be used.

発明の効果 ・以上のように本発明は、露光用の光源と、2次元平面
に多数の液晶画素を配した可変パターンマスクと、被露
光物を同一光路上に配置し、上記パターンマスクの液晶
を画素ごとに制御する液晶制御回路と、上記プリント板
に露光する配線パターンの図形データを記憶させる記憶
装置と、この記憶装置から図形データを読み出して1回
の露光に必要な配線パターン情報を上記液晶制御回路に
送る制御用コンピュータから成る構成によって、従来の
ように多種の配線パターンマスクをあらかじめ用意し、
現物で保管する必要はなく、図形データとして記憶装置
に記憶収納しておき、必要に応じて選択的に制御用コン
ピュータによって短時間に読み出せる。読み出したパタ
ーンの形成は液晶への電気的な制御で行われるので、パ
ターンマスクの取付は交換は不要で、可変パターンの切
換時間/′i、極めて高速短時間に行える。
Effects of the invention As described above, the present invention provides a light source for exposure, a variable pattern mask in which a large number of liquid crystal pixels are arranged on a two-dimensional plane, and an object to be exposed are placed on the same optical path, and the liquid crystal of the pattern mask is a liquid crystal control circuit that controls each pixel; a storage device that stores graphic data of the wiring pattern to be exposed on the printed board; and a storage device that reads the graphic data from this storage device and stores the wiring pattern information necessary for one exposure. With a configuration consisting of a control computer that sends data to the liquid crystal control circuit, a wide variety of wiring pattern masks can be prepared in advance, as in the past.
There is no need to store it in physical form; it can be stored in a storage device as graphic data and can be selectively read out by a control computer in a short time as needed. Since the readout pattern is formed by electrically controlling the liquid crystal, there is no need to replace the pattern mask, and the pattern mask can be attached very quickly and in a short time, i.e., variable pattern switching time/'i.

i       これによ・て従来困難であ・た多種プ
リ〜ト板の少量生産が効率良〈実施できる。
i This makes it possible to efficiently produce small quantities of various kinds of pre-printed plates, which was previously difficult.

本可変パターンマスクは多数の画素から成る2〕゛次元
平面であり、レーザー光などの点光源に比べ、単位時間
での露光面積が広く、生産性が良いため、プリント板へ
の直接露光に使用でき中量生産でも実用的である。
This variable pattern mask is a two-dimensional plane consisting of a large number of pixels, and compared to a point light source such as a laser beam, the exposed area per unit time is wider and productivity is better, so it can be used for direct exposure to printed circuit boards. It is practical even for medium volume production.

本可変パターンマスクによる1回の露光面積より寸法の
大きなプリント板に対しては、被露光物を支え、直交す
る2軸方向に移動するテーブルを設け、このテーブルの
移動制御とパターンを変えた露光のくシ返えしによって
、全面積への露光が可能であり、しかもこれは一台ある
いは複数台の制御用コンピュータによって自動的に実施
されるなど、実用的効果は犬なるものがある。
For printed boards whose dimensions are larger than the area exposed once using this variable pattern mask, a table that supports the exposed object and moves in two orthogonal axes is installed, and the movement of this table can be controlled and the exposure pattern can be changed. By reversing, it is possible to expose the entire area to light, and this is automatically carried out by one or more control computers, which has great practical effects.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

作工程の説明図、第3図は一般的な液晶の基本的な構成
を示す説明図であシ、八けその動作時、Bは非動作時の
説明図、第4図はマトリックス構成の液晶対電極を別々
、に分けて示した説明図、第5図はマトリックス構成の
液晶対電極を重ねて示した説明図、第6図はマトリック
ス構成の液晶対電極に印加する制御電圧のタイミング図
、第7図は液晶の動作特性図、第8図は複数回の露光で
1枚のプリント板全面を露光する場合を示すプリント板
の平面図、第9図は複数回の露光を行う場合の露光のオ
ーバーラツプ状態を示すプリント板の平面図である。 1・・・・・・光源、2・・・・・・シャッター、3・
・・・・可変パターンマスク、11・・・・・・液晶制
御回路、13・・川・制御用コンピュータ、14・・・
・・・記憶装置。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名1−
一先う4色 ”−−−51!jv11」’15p回41j−−g鰭ε
用コンC゛ユーグ ;4−  πY、*を 第2図 第3図 胎、 兜九伍 九ばη− 第 4 図 第5図 第6図 1111丁23−−−− 霞 第7図 ip力u/l;五 シj 8 図 第9図
An explanatory diagram of the manufacturing process, Figure 3 is an explanatory diagram showing the basic configuration of a general liquid crystal, B is an explanatory diagram when it is in operation, B is an explanatory diagram when it is not in operation, and Figure 4 is an explanatory diagram showing the basic configuration of a general liquid crystal. An explanatory diagram showing the counter electrodes separately; FIG. 5 is an explanatory diagram showing the liquid crystal counter electrodes in a matrix configuration overlaid; FIG. 6 is a timing diagram of the control voltage applied to the liquid crystal counter electrode in the matrix configuration; Figure 7 is a diagram of the operating characteristics of the liquid crystal, Figure 8 is a plan view of a printed board showing the case where the entire surface of one printed board is exposed with multiple exposures, and Figure 9 is the exposure when multiple exposures are performed. FIG. 3 is a plan view of the printed board showing an overlapping state. 1...Light source, 2...Shutter, 3.
...Variable pattern mask, 11...Liquid crystal control circuit, 13...Control computer, 14...
···Storage device. Name of agent: Patent attorney Toshio Nakao and 1 other person1-
4 more colors "---51! jv11"'15p times 41j--g fin ε
4- πY, /l;goshij 8 Figure Figure 9

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)露光用の光源と、2次元平面に多数の液晶画素を
配した可変パターンマスクと、被露光物とが同一光路上
に、上記順に配置され、かつ上記被露光物が露光するパ
ターンのデータを記憶させる記憶装置と、上記可変パタ
ーンマスクの液晶画素ごとに光の透過遮断制御を行う液
晶制御回路と、上記記憶装置から必要なパターンデータ
を読み出し、このデータに基づいて上記液晶制御回路へ
制御情報を送る制御用コンピュータとを備えたパターン
露光装置。
(1) A light source for exposure, a variable pattern mask with a large number of liquid crystal pixels arranged on a two-dimensional plane, and an object to be exposed are arranged in the above order on the same optical path, and the object to be exposed has a pattern to be exposed. A storage device that stores data; a liquid crystal control circuit that performs light transmission/blocking control for each liquid crystal pixel of the variable pattern mask; and a liquid crystal control circuit that reads necessary pattern data from the storage device and sends it to the liquid crystal control circuit based on this data. A pattern exposure apparatus equipped with a control computer that sends control information.
(2)露光用の光源と、2次元平面に多数の液晶画素を
配した可変パターンマスクと、被露光物とが同一光路上
に、上記順に配置され、かつ前記被露光物を載せて直交
する2軸方向に移動可能なテーブルと、このテーブルの
駆動部とこの駆動部へ制御情報を送る制御用コンピュー
タと、上記被覆露光物に露光するパターンのデータを記
憶させる記憶装置と、上記可変パターンマスクの液晶画
素ごとに光の透過遮断制御を行う液晶制御回路と、上記
記憶装置から必要なパターンデータを読み出し、このデ
ータに基づいて上記液晶制御回路へ制御情報を送る制御
用コンピュータとを備えたパターン露光装置。
(2) A light source for exposure, a variable pattern mask with a large number of liquid crystal pixels arranged on a two-dimensional plane, and an object to be exposed are arranged in the above order on the same optical path, and are orthogonal to each other with the object to be exposed placed thereon. A table movable in two axes, a drive unit for this table, a control computer that sends control information to this drive unit, a storage device that stores data of a pattern to be exposed on the coated exposure object, and the variable pattern mask. A pattern comprising: a liquid crystal control circuit that performs light transmission/blocking control for each liquid crystal pixel; and a control computer that reads necessary pattern data from the storage device and sends control information to the liquid crystal control circuit based on this data. Exposure equipment.
(3)露光用の光源と、2次元平面に多数の液晶画素を
配した可変パターンマスクと、被露光物とが同一光路上
に、上記順に配置され、かつ上記被露光物に露光するパ
ターンのデータを記憶させる記憶装置と、上記可変パタ
ーンマスクの液晶画素ごとに光の透過遮断制御を行う液
晶制御回路と、上記記憶装置から必要なパターンデータ
を読み出し、このデータに基づいて上記液晶制御回路へ
制御情報を送る制御用コンピュータとを備え、さらに上
記露光用光源と、上記可変パターンマスクの中間に、光
を透過遮断するシャッターを設け、このシャッターを開
閉制御するシャッター駆動回路を備えると共に、このシ
ャッター駆動回路は、露光時にシャッターを開く信号を
上記制御用コンピュータから受ける構成のパターン露光
装置。
(3) A light source for exposure, a variable pattern mask having a large number of liquid crystal pixels arranged on a two-dimensional plane, and an object to be exposed are arranged in the above order on the same optical path, and a pattern to be exposed to the object to be exposed is arranged. A storage device that stores data; a liquid crystal control circuit that performs light transmission/blocking control for each liquid crystal pixel of the variable pattern mask; and a liquid crystal control circuit that reads necessary pattern data from the storage device and sends it to the liquid crystal control circuit based on this data. A control computer for transmitting control information, further provided with a shutter for transmitting and blocking light between the exposure light source and the variable pattern mask, and a shutter drive circuit for controlling opening/closing of this shutter. The pattern exposure apparatus is configured such that the drive circuit receives a signal from the control computer to open the shutter during exposure.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6481928A (en) * 1987-09-24 1989-03-28 Asahi Optical Co Ltd Exposing device
EP0363590A2 (en) * 1988-10-11 1990-04-18 Gebr. Schmid GmbH & Co. Method and device for exposing light sensitive layers provided on support
JPH02187287A (en) * 1989-01-11 1990-07-23 Hitachi Ltd Laser beam marker
JPH04288988A (en) * 1991-03-18 1992-10-14 Hitachi Ltd Method and device for laser beam machining, transmission type liquid crystal element, and method and device for correcting wiring pattern defect
WO1998052714A1 (en) * 1997-05-23 1998-11-26 Komatsu Ltd. Marking position controller for laser marker
US6710292B2 (en) 2000-01-19 2004-03-23 Hamamatsu Photonics K.K. Laser machining device

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6054434A (en) * 1983-09-06 1985-03-28 Toshiba Corp Exposure device
JPS60135907A (en) * 1983-12-23 1985-07-19 Matsushita Electric Works Ltd Production of optical waveguide

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6054434A (en) * 1983-09-06 1985-03-28 Toshiba Corp Exposure device
JPS60135907A (en) * 1983-12-23 1985-07-19 Matsushita Electric Works Ltd Production of optical waveguide

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6481928A (en) * 1987-09-24 1989-03-28 Asahi Optical Co Ltd Exposing device
EP0363590A2 (en) * 1988-10-11 1990-04-18 Gebr. Schmid GmbH & Co. Method and device for exposing light sensitive layers provided on support
JPH02187287A (en) * 1989-01-11 1990-07-23 Hitachi Ltd Laser beam marker
JPH04288988A (en) * 1991-03-18 1992-10-14 Hitachi Ltd Method and device for laser beam machining, transmission type liquid crystal element, and method and device for correcting wiring pattern defect
WO1998052714A1 (en) * 1997-05-23 1998-11-26 Komatsu Ltd. Marking position controller for laser marker
US6710292B2 (en) 2000-01-19 2004-03-23 Hamamatsu Photonics K.K. Laser machining device
DE10085411B3 (en) * 2000-01-19 2017-03-02 Hamamatsu Photonics K.K. Laser light processing device with a spatial light modulator

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