JPS6237392A - Radial cell electroplating apparatus - Google Patents

Radial cell electroplating apparatus

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Publication number
JPS6237392A
JPS6237392A JP61187934A JP18793486A JPS6237392A JP S6237392 A JPS6237392 A JP S6237392A JP 61187934 A JP61187934 A JP 61187934A JP 18793486 A JP18793486 A JP 18793486A JP S6237392 A JPS6237392 A JP S6237392A
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JP
Japan
Prior art keywords
electrolyte
strip
conduits
descending
ejector
Prior art date
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Pending
Application number
JP61187934A
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Japanese (ja)
Inventor
マウリジーノ・ポドリーニ
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CENTRO SPER METALL SpA
SPER METALL SpA CENTRO
Original Assignee
CENTRO SPER METALL SpA
SPER METALL SpA CENTRO
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Filing date
Publication date
Application filed by CENTRO SPER METALL SpA, SPER METALL SpA CENTRO filed Critical CENTRO SPER METALL SpA
Publication of JPS6237392A publication Critical patent/JPS6237392A/en
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/08Electroplating with moving electrolyte e.g. jet electroplating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/06Wires; Strips; Foils
    • C25D7/0614Strips or foils
    • C25D7/0635In radial cells

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ラジアル槽電気メッキ装置に関する。[Detailed description of the invention] Industrial applications The present invention relates to a radial bath electroplating apparatus.

詳言すれば、本発明は、電解液流れ状態を調整してメッ
キプロセスと得られる被膜の品質を最適化することがで
きる、金属および金属合金の高電流密度IX@に殊に適
した装置に関するものである。
In particular, the invention relates to an apparatus particularly suitable for high current densities IX of metals and metal alloys, in which the electrolyte flow conditions can be adjusted to optimize the plating process and the quality of the resulting coatings. It is something.

従来の技術 金属或いは金属合金の金属ストリップ、殊に鋼ストリツ
プ上への連続電着の場合、50A/dm”以上の電流密
度を含む高電流密度プロセスが急速に進歩している。例
えば密度は現在80〜12OA/dm”に達しているが
、将来は相当に高い値が採用されるものと予想されてい
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION In the continuous electrodeposition of metals or metal alloys onto metal strips, especially steel strips, high current density processes involving current densities of 50 A/dm'' and above are rapidly evolving. 80 to 12 OA/dm'', but it is expected that significantly higher values will be adopted in the future.

勿論、高い析出率は高電流密度によって得られるけれど
も、析出用の金属イオンが欠乏している金属ストリップ
に接触した電解液層の厚さを最小にするように、電解液
が被メツキストリップに対して相当な速度を持てるよう
にすることも必要であることは周知である。事実、この
方法でのみ、電気メツキプロセスの速度と効率は維持で
きるのである。
Of course, high deposition rates can be obtained by high current densities, but the electrolyte is applied to the strip to be plated in such a way as to minimize the thickness of the electrolyte layer in contact with the metal strip, which is deficient in metal ions for deposition. It is well known that it is also necessary to have considerable speed. In fact, only in this way can the speed and efficiency of the electroplating process be maintained.

しかしながら、高いプロセス効率と製品の一貫した高品
質が、勿論低い製造コストと共に求められるこの種の析
出プロセスでは、一連の操作パラメータの全てを最適化
しなければならない。例えば、その主なものを幾つか挙
げれば、ストリップ(陰極)と対向電極(陽極)との間
の定平行性、電極間およびストリップ自身に沿った電圧
降下、電解液の流れ状態、陽極におけるガス発生に起因
した電解液のエアレーション度、電流密度等がある。
However, in precipitation processes of this type, where high process efficiency and consistently high quality of the products are required, of course together with low production costs, a whole series of operating parameters must be optimized. For example, the constant parallelism between the strip (cathode) and the counter electrode (anode), the voltage drop between the electrodes and along the strip itself, the flow conditions of the electrolyte, the gas at the anode, to name a few of the main ones. There are factors such as the degree of aeration of the electrolytic solution and the current density that are caused by this.

まず初めに、明らかに重要と認められるパラメータに関
して、即ち電極間の定平行性および電圧降下に関しては
、ラジアル槽として知られていることを導入し改善する
ことによって、非常に有効な答えが得られる。実際、こ
れらの装置では、大型の回転ドラムを電解液の中に部分
的に浸漬させ、被メツキ金属ストリップは同ドラムの潜
没部に密接していて、その部分と共に移動させている。
First of all, regarding the clearly important parameters, namely the constant parallelism between the electrodes and the voltage drop, a very useful answer can be obtained by introducing and improving what is known as a radial bath. . In fact, in these devices, a large rotating drum is partially immersed in the electrolyte, and the metal strip to be plated is in close contact with a submerged part of the drum and is moved along with it.

ドラム表面から僅かな距離をおいて陽極があり、電解液
はドラムと陽極の間、即ちストリップと陽極の間の空間
を進むようになっている。ストリップはドラムの潜没表
面に対ししっかりと保持されるので、ストリップと陽極
との間に一定の距離を維持する問題は解決されている。
There is an anode at a small distance from the drum surface, and the electrolyte is directed through the space between the drum and the anode, ie, between the strip and the anode. Since the strip is held firmly against the submerged surface of the drum, the problem of maintaining a constant distance between the strip and the anode is solved.

次に、ドラムが電ヤ一 導体として働くことができる式、或いは給電ローラを、
ストリップが電解液に進入する点の極く近くで、そのス
トリップに接触して位置決めすることができるのかのい
ずれかであり、この方法で、電圧降下の問題も克服され
ている。
Next, the drum can act as a conductor, or the feed roller can be
Either the strip can be positioned in contact very close to the point where it enters the electrolyte, and in this way the voltage drop problem is also overcome.

しかしながら、その他の問題、特に電解液速度とエアレ
ーションに関する問題は、最近それなりに認識されるよ
うになったものの、満足し得る解決策は未だに見い出さ
れていない。
However, other problems, particularly those related to electrolyte velocity and aeration, have recently become reasonably recognized, but no satisfactory solution has yet been found.

メッキの品質、並びに合金電着の場合にはその組成の均
一性は、ストリップと電解液との相対速度の均一性に依
存することは、既に証明されている。非常に高品質の被
膜を得るには、電流密度ど電解液乱流との間に所定の関
係を維持しなければならないことも、最近認識されるよ
うになった(1985年7月18日付のイタリー特許出
願第411371−A/85号参照)。
It has already been established that the quality of the plating, as well as the uniformity of its composition in the case of alloy electrodeposition, depends on the uniformity of the relative velocity of the strip and the electrolyte. It has also recently been recognized that a certain relationship between current density and electrolyte turbulence must be maintained in order to obtain very high quality coatings. See Italian Patent Application No. 411371-A/85).

全てのこれらの制約は、公知技術に関する既存の資料や
提案が、必要とされるプラントやプロセスの極めて複雑
な性質を、またそれに関連するコストを正当化するに十
分に高い品質の製品が得られることを保証するにはまっ
たく不適当であったことを意味している。
All these constraints mean that existing documentation and proposals regarding the known art will yield a product of sufficiently high quality to justify the extremely complex nature of the plant and process required, as well as the costs associated therewith. This means that it was completely inadequate to guarantee that.

事実、産業用電気メッキのために適正なメッキ槽長さを
確保するには、非常に大きな直径、例えば直径2虞のド
ラムを持つことが必要であるが、その結果潜没ドラム半
部分の周長は約311となり、これは電解液の規則的な
定流をメッキ槽内に得るには長ずざるものである(スト
リップは幅1.831はどであり、かつ両電極間の空間
は大抵6〜8xmかに ら2.5〜3CIIIの範囲であること全留意すれば)
。更に、大きすぎる長さのために、陽極で必然的に発生
するガスを効果的に分散させることはできない。
In fact, in order to obtain a suitable bath length for industrial electroplating, it is necessary to have a drum of very large diameter, for example 2 degrees in diameter, with the result that the circumference of the submerged drum half is The length will be approximately 311 cm, which is not long enough to obtain a regular constant flow of electrolyte into the plating bath (the strip is 1.831 mm wide, and the space between the electrodes is approximately (Please note that the range is from 6-8xm to 2.5-3CIII)
. Moreover, due to the too large length, the gases that inevitably occur at the anode cannot be effectively dispersed.

これらの困難を克服するために、電解液は、ドラムを収
容しているタンクの最底部に供給され、ドラムの母線に
垂直な方向でその円筒面にかぶさって上昇する2つの流
れに分割されている。しかし、一方の側面では電解液は
逆方向に移動するストリップに会うものの、他の側面で
は両者は同方向に移動して会うために、この装置ですら
も、なお満足できるものではない、即ち一定の相対速度
であるべきだとする要件は明らかに重要視されてはいな
いのである。
To overcome these difficulties, the electrolyte is fed to the bottom of the tank housing the drum and is split into two streams that rise over its cylindrical surface in a direction perpendicular to the generatrix of the drum. There is. However, even this device is still not satisfactory, since on one side the electrolyte meets the strip moving in opposite directions, while on the other side they meet moving in the same direction, i.e. at a constant The requirement that the relative speed of

そこで、電解液を包含した多数の室でドラムを取り囲み
、電解液の移動を室ごとに行なう装置について提案され
ている。この設定は、非常に複雑かつ釣り合をとるのが
困難に思えるが、いずれのプラントでも故障のない操作
を確立するようにも思える。
Therefore, a device has been proposed in which a drum is surrounded by a large number of chambers containing an electrolytic solution, and the electrolytic solution is moved from chamber to chamber. Although this setup seems very complex and difficult to balance, it also seems to establish trouble-free operation in either plant.

また、ストリップと電解液との相対速度の所望の均一性
が得られるように、ドラムを廻る2つの電解液流れの一
方を底部から、他方を頂部から供給するプラントについ
ても提案がなされている。
Proposals have also been made for plants in which one of the two electrolyte streams around the drum is fed from the bottom and the other from the top, so as to obtain the desired uniformity of the relative velocity of the strip and the electrolyte.

しかしながら、この解決策では、ストリップに電流を供
給するためにドラムを使用しなければならないので、こ
れもまた多くの理由から満足できる解決策とは思われな
い。代わりに、ドラムの上流および下流側で、ストリッ
プに接する圧力ローラを通じて電流を供給する場合には
、電解液が底部から頂部に流れる区間では、電流がスト
リップに進入する点、即ち電圧降下が最小で、ガスの集
中と最小電圧降下の平衡化した作用が相互に補償する点
の近くに、陽極ガスの最大発生が起こることは確かであ
る。しかしながら、他の区間では、反対の手植が生じ、
最大のガス集中が存在する、即ちここではストリップに
最大電圧降下が存在している。従って、これら二区間に
おける析出プロセスは異なった状態の下で起こっている
ので、析出物も゛また異なり、完成製品には全般的な品
質の低下があることは容易に理解されよう。
However, this solution also does not seem to be a satisfactory solution for a number of reasons, as it requires the use of a drum to supply current to the strip. Alternatively, if the current is supplied through pressure rollers contacting the strip upstream and downstream of the drum, the section where the electrolyte flows from the bottom to the top is located at the point where the current enters the strip, i.e. where the voltage drop is minimal. , it is certain that the maximum evolution of anode gas occurs near the point where the balanced effects of gas concentration and minimum voltage drop mutually compensate. However, in other sections, the opposite hand planting occurs,
There is a maximum gas concentration, ie there is now a maximum voltage drop across the strip. Therefore, it is easy to understand that since the precipitation process in these two sections is taking place under different conditions, the precipitates are also different and there is an overall quality reduction in the finished product.

次に、ラジアル槽装置はストリップの一方の側面、即ち
ドラムに接していない方の側面をメッキできるだけであ
ると言う事実が存在している。しか8、市場は、相当な
品質の両面メツキストリップを求めているのである。そ
の結果、ストリップを180° 回転させて、最初の方
向とは逆の方向に、同一群のメッキ槽或いは並列群のメ
ッキ槽内を走行させて両面をメッキするラジアル電気メ
ツキプラントが建設されている。しかしながら、該プラ
ントの第2区域は両面ストリップを必要とするときだけ
稼動するために、この最後の解決策も経済的には満足で
きないものである。更に、第2の面をメッキする際の流
れ状態は、最初の面を被覆するときとは逆であり、既に
言及した最終製品の品質に及ぼす不利な作用の全てのも
ゆとなっている。
Secondly, there is the fact that radial bath equipment can only plate one side of the strip, ie the side not in contact with the drum. However, the market is demanding double-sided plating strips of considerable quality. As a result, radial electroplating plants have been constructed in which the strip is rotated 180° and run in the opposite direction from its initial direction through the same group of plating baths or parallel groups of plating baths to plate both sides. . However, this last solution is also economically unsatisfactory, since the second section of the plant is operated only when double-sided strips are required. Moreover, the flow conditions when plating the second side are opposite to those when coating the first side, giving rise to all the already mentioned adverse effects on the quality of the final product.

得られる製品の品質を最高なものにするにはと言う質問
に対し満足な解答を見い出ださないままに、ストリップ
と電解液間の往復移動の可能性並びに電流を被メツキス
トリップに供給する可能性について以上述べてきたが、
現在の処では、ラジアル槽電気メッキ装置は品質が劣っ
ていて一定ではない製品を容認するものと決めていない
とすれば、この関連装置は特定の限定されたプロセス条
件下では利用できることは明らかである。
The possibility of back and forth movement between the strip and the electrolyte as well as the supply of electrical current to the strip to be plated has not been found to be a satisfactory answer to the question of how to maximize the quality of the resulting product. I have mentioned above the possibility of
Given that radial bath electroplating equipment is not currently determined to tolerate inferior and inconsistent product quality, it is clear that this related equipment can be utilized under certain limited process conditions. be.

発明の目的 従って、本発明の特定目的は、様々な操作条件キ装置を
提供することである。
OBJECTS OF THE INVENTION Accordingly, a particular object of the invention is to provide an apparatus for varying operating conditions.

発明の概要 この目的に対し、−他の条件が等しく(か、つ、電解液
がある速度を有し、その結果流れが十分な乱流であると
すれば)−高電流密度で最適な品質の被膜を達成するた
めには、ストリップと電解液。
SUMMARY OF THE INVENTION For this purpose, - other things being equal (and provided that the electrolyte has a certain velocity and the resulting flow is sufficiently turbulent) - optimum quality at high current densities. To achieve a coating of strips and electrolyte.

との間にある相対速度が存在しなければならないが、こ
の相対速度の絶対値のみが重要であって、ストリップに
対する電解液流れの方向は重要ではないと言う観察に本
質的に基づいた構造上の解決策が、本発明ζこよって、
示唆された。
The structure is essentially based on the observation that there must be a relative velocity between According to the present invention, the solution to
It was suggested.

従って、この概念によって、メッキプロセスの収率並び
に全体効率を確立するのに都合のよい方向に、電気メツ
キ帯域内の電解液流れを指向することのできるラジアル
槽電気メッキプラントに関しまったく新しい見通しが開
発されることになった。
This concept therefore opens up entirely new prospects for radial bath electroplating plants that can direct the electrolyte flow within the electroplating zone in a direction favorable to establishing the yield as well as the overall efficiency of the plating process. It was decided that it would be done.

すなわち、電解液の方向および速度を容易に制御できる
ように電解液を循環させる手段の配置に関する特別な示
唆から成る技術革新が確立したのである。
Thus, an innovation has been established which consists of special suggestions regarding the arrangement of the means for circulating the electrolyte so that the direction and speed of the electrolyte can be easily controlled.

それ故に、本発明の特定役目的は、 水平軸回転ドラムであって、その円筒面に接する被メツ
キストリップを引っばる回転ドラムと、前記ストリップ
によって、1つには頂部から底部ヘー降下用みぞとして
周知−1もう1つは底部から頂部へ一上昇用みぞとして
周知−縦走される2つのみぞを前記ストリップ表面と共
に形成するように、前記ドラムの前記円筒面に面し、対
になって配置された数組の電極であって、前記電極は幾
らかの距離をおいて下向きに終端すると共に、前記降下
用および上昇用みぞの中を電解液が圧送流通できるよう
に前記電極装置の低端部に設置された少なくとも一対の
導管で終結している電極とを備えたラジアル槽電気メッ
キ装置において、6対の前記導管は前記導管の夫々の内
に配置したエゼクタに給液し、前記電解液を前記降下用
および上昇用みぞを通じて前記みぞの上方に設置されへ
前記みぞに連通しているタンクから吸入する管状手段を
有しており、前記導管の夫々は前記エゼクタが作動して
前記電解液を前記導管から前記降下用および上昇用みぞ
を通じて前記タンクに圧送する方向とは反対の方向に前
記電解液を給液する手段を有すると共に、前記上昇用お
よび降下用みぞの中の前記電解液流れが確定された方向
で、かつ所望の速度にあることを確立するための協働手
段で終結していることを特徴とするラジアル槽電気メッ
キ装置、にある。
Therefore, a particular object of the present invention is to provide a rotating drum with a horizontal axis, which draws a strip to be plated in contact with its cylindrical surface, and by means of which said strip serves, in part, as a descending groove from the top to the bottom. Known - 1 Another is known as a rising groove from bottom to top - arranged in pairs facing said cylindrical surface of said drum so as to form with said strip surface two longitudinally running grooves. several sets of electrodes, said electrodes terminating downwardly at some distance and extending from the lower end of said electrode arrangement to permit pumping flow of electrolyte through said descending and ascending grooves; and an electrode terminating in at least one pair of conduits disposed in a radial bath electroplating apparatus, the six pairs of conduits supplying an ejector disposed within each of the conduits and discharging the electrolyte. tubular means are provided through the descending and ascending channels for suction from a tank placed above the channel and in communication with the channel, each of the conduits being operated by the ejector to draw the electrolyte; means for supplying the electrolyte from the conduit through the descending and ascending channels in a direction opposite to the direction of pumping it into the tank, and wherein the electrolyte flow in the descending and descending channels is A radial bath electroplating apparatus, characterized in that it terminates in cooperating means for establishing in a defined direction and at a desired speed.

前記対の夫々のエゼクタは、一方または両方のエゼクタ
或いは両方のエゼクタに給液できるように、それとも両
方のエゼクタに給液できないように、三方弁を通じ同一
の給液器によって給液されるのが好ましい。
Each ejector of said pair is supplied by the same dispenser through a three-way valve so that one or both or both ejectors may be dispensed, or both ejectors may not be dispensed. preferable.

上昇および降下用みぞ両者内の電解液流れの方向および
速度を相互に独立に調整するために、また実際的なプロ
セス条件を適合させるために、本質的に三方弁から成る
適当な手段と、必要なポンプの流れを調整する手段と、
それに流れ制御弁が設けである。好ましくは、前記導管
は前記エゼクタの下流の三方弁と、前記三方弁に連結す
るパイプとによって相互連結され、また前記パイプはエ
ゼクタに給液する三方弁に対して、可及的なバイパス機
能も有している。
In order to adjust the direction and speed of the electrolyte flow in both the ascending and descending channels independently of each other and to adapt the practical process conditions, suitable means consisting essentially of three-way valves and the necessary means for adjusting the flow of the pump;
It is equipped with a flow control valve. Preferably, said conduit is interconnected by a three-way valve downstream of said ejector and a pipe connecting said three-way valve, said pipe also having a possible bypass function for the three-way valve feeding the ejector. have.

発明の実施例 以下、本発明を第1図および第2図に示す実行可能な二
実施例を通じ詳細に説明するが、これらの実施例は真に
例示するためのものであって、本発明やその特許請求の
範囲を限定するためのものではない。
Embodiments of the Invention The present invention will now be described in detail through two possible embodiments shown in FIGS. It is not intended to limit the scope of the claims.

第1図では、袖のまわりを回転するドラム1がストリッ
プ2を引っばっているので、ストリップ2は陽極4とド
ラムlの間のみぞ6の降下路を、次いで陽極3とドラム
1の間のみぞ5の上昇路を進むように、矢印の方向に移
動している。給電用ローラは符号41および42で示す
。電極3および4は、底部で導管8および9にそれぞれ
連結し、また上部では、導管35および36を経て到着
する電解液のための液受区域23および26を画定して
いる分離用邪魔板兼溢流板38および39を備えたタン
ク22および25に連結している。液受区域23および
26内の乱流や同区域からの飛散は素板24および27
によって遮断している。
In FIG. 1, the drum 1 rotating around the sleeve is pulling the strip 2 so that the strip 2 follows the path down the groove 6 between the anode 4 and the drum l and then between the anode 3 and the drum 1. It is moving in the direction of the arrow, following the upward path of groove 5. The power feeding rollers are designated by numerals 41 and 42. The electrodes 3 and 4 are connected at the bottom to conduits 8 and 9, respectively, and at the top to a separating baffle which defines liquid receiving areas 23 and 26 for the electrolyte arriving via conduits 35 and 36. Connected to tanks 22 and 25 with overflow plates 38 and 39. Turbulent flow in the liquid receiving areas 23 and 26 and scattering from the areas are caused by the blank plates 24 and 27.
It is blocked by.

図示の流れ図によれば、相互連通している上部タンク2
2および25は、新しい電解液をタンク28からT字管
40、制御弁43およびパイプ35を経て送出するポン
プ29によって満たされている。この方法では、みぞ5
もまた電解液で満たされている。ポンプ30も同様新し
い電解液をタンク28からパイプ13を経て三方弁12
に送出している。三方弁12は、図示の位置では、エゼ
クタ10に給液していて、エゼクタIOは次いで導管8
を通じ、新しい電解液を液受区域23からみぞ5を経て
吸入している。弁14が、図示の位置にある場合、エゼ
クタ10の一次液は導管16を経て放出され、その二次
液は導管8を経て吸入される。
According to the illustrated flowchart, the upper tanks 2 are in communication with each other.
2 and 25 are filled by a pump 29 which pumps fresh electrolyte from the tank 28 via the T-tube 40, the control valve 43 and the pipe 35. In this method, groove 5
is also filled with electrolyte. The pump 30 also pumps new electrolyte from the tank 28 through the pipe 13 to the three-way valve 12.
It is being sent to The three-way valve 12, in the position shown, supplies fluid to the ejector 10, which in turn supplies the conduit 8.
Through this, fresh electrolyte is sucked in from the liquid receiving area 23 through the groove 5. When the valve 14 is in the position shown, the primary liquid of the ejector 10 is ejected via the conduit 16 and its secondary liquid is sucked in via the conduit 8.

この様態では、本装置の右側、即ち上昇用みぞ5の部分
が付勢されて作動状態にある。
In this mode, the right side of the device, ie the part of the lifting groove 5, is energized and active.

本装置の左側、即ち降下用みぞ6の部分は、次に、下記
の方法で活動下作動状態となる。
The left side of the device, ie the part of the lowering channel 6, is then brought into active operation in the following manner.

ポンプ29によって送出された電解液は、T字管40に
到達し、その一部がパイプ19に送られ(流景は制御弁
44によって調整されている)、更にこのパイプI9を
経て三方弁32に送られる。三方弁32は、図示の位置
では、電解液をエゼクタ11の作動方向とは逆の方向に
パイプ34および三方弁15によって導管9内に送出し
ており、同導管9からは、電解液はみぞ6および液受区
域26を上昇し、溢流板39によってそこから流出し、
そして導管20を経てタンク28へと送出されている。
The electrolytic solution delivered by the pump 29 reaches the T-tube 40, a part of which is sent to the pipe 19 (the flow is regulated by the control valve 44), and further passes through this pipe I9 to the three-way valve 32. sent to. In the illustrated position, the three-way valve 32 sends the electrolyte into the conduit 9 through the pipe 34 and the three-way valve 15 in a direction opposite to the direction of operation of the ejector 11, from which the electrolyte flows into the channel. 6 and the liquid receiving area 26 and drains therefrom by the overflow plate 39;
It is then delivered to a tank 28 via a conduit 20.

実際問題として、タンク28は、電気メツキ槽から戻っ
た電解液を単に貯蔵するだけでなく、これを精製する−
例えば、陽極3および4で必然的に生ずるガスを除去す
る− と共に電解液の最適組成やpHを回復させるため
の一連のタンクおよび装置から構成されていることに注
意されたい。
In practice, the tank 28 not only stores the electrolyte returned from the electroplating bath, but also purifies it.
Note that it consists of a series of tanks and devices for removing the gases necessarily occurring at the anodes 3 and 4, for example, and for restoring the optimum composition and pH of the electrolyte.

添付図面第1図は、電解液とメッキ用ストリップゐ(相
互に逆流状態で進んでいる流れ図に関する。
FIG. 1 of the accompanying drawings relates to a flow diagram of the electrolyte and the plating strip (running in countercurrent flow to each other).

しかしながら、弁12.14.15.31および32の
設定を適当に変えることによって、所望の電解液流れ状
態をみぞ5および6の中に確立し得ることは容易に理解
される処である。
However, it will be readily appreciated that by suitably varying the settings of valves 12.14.15.31 and 32, desired electrolyte flow conditions may be established in grooves 5 and 6.

従って、例えば、両面メッキ製品を得る必要が4、ある
とすれば、ストリップを適当な装置によって180° 
回転させ、これまで説明してきた方向とは逆の方向でメ
ッキ槽内に通せばよい、即ちこの場合、やらねばならな
いこトぼ、弁12.14.15.31および32の設定
を逆にし完全な逆流の流れを維持することだけである。
Thus, for example, if it is necessary to obtain a double-sided plated product, the strip should be rotated through 180° by suitable equipment.
All you have to do is rotate it and pass it through the plating bath in the opposite direction to that described so far, that is, in this case, the only thing you need to do is reverse the settings of valves 12, 14, 15, 31 and 32, and completely The only thing to do is to maintain a steady countercurrent flow.

しかるに、上述の説明は、自から明らかなプロセス要件
および/または製品の品質要求を満足させる゛ために本
発明が提案した可能性については述べ尽くしていない。
However, the above description does not exhaust the possibilities proposed by the invention for satisfying self-evident process requirements and/or product quality requirements.

事実、優れた品質の被膜を得るためには、流体の流れ状
態(乱流)と使用する電流密度との間に所定の関係を維
持しなければならないことは、既に述べている。
In fact, it has already been mentioned that in order to obtain coatings of good quality, a certain relationship must be maintained between the fluid flow conditions (turbulence) and the current density used.

電解液とストリップとの間の最適相対速度は、電解液に
とっである速度を持つことが必要であるために、循環が
もっばら逆流であれば、2m/sであることを、使用し
た電流密度と本装置の全体特性とが予定していると仮定
すれば、最大許容ストリップ速度は約1.5m/sはど
の比較的低いものである。しかしながら、かかる条件下
では、電解液速度のために陽極で生ずるガスの十分な希
釈ができないので、プロセス効率は、製品品質がそうで
あるように低下することになる。この場合(第2図)に
は、降下用みぞ6において、電解液の循環がストリップ
2と同方向であるへきであるが、ただし絶対的な所望の
相対速度値を維持するに充分な高速度でなければならな
いことで十分である。
The optimum relative velocity between the electrolyte and the strip is 2 m/s if the circulation is mostly countercurrent, since it is necessary for the electrolyte to have a certain velocity, depending on the current used. Assuming the density and overall characteristics of the device are as expected, the maximum allowable stripping speed is relatively low, about 1.5 m/s. However, under such conditions, the electrolyte velocity does not allow sufficient dilution of the gas produced at the anode, so the process efficiency will be reduced, as will the product quality. In this case (FIG. 2), in the descending groove 6, the circulation of the electrolyte is in the same direction as the strip 2, but at a high enough velocity to maintain the absolute desired relative velocity value. It is sufficient that it must be.

第2図に示す配置の場合、ポンプ30によって圧送され
た流体が弁12を経て両エゼクタlOおよび11に供給
され、タンク22および25から来る電解液を導管8お
よび9を通じて吸入するように、三方弁12.14.1
5.31および32の設定を選ぶことによって、操作は
行なわれる。図示の装置では、三方弁31と32は、電
解液をポンプ29を経てタンク22および25に直接供
給できるように設定されている。
In the case of the arrangement shown in FIG. 2, the three-way system is arranged so that the fluid pumped by the pump 30 is supplied via the valve 12 to both ejectors lO and 11, and the electrolyte coming from the tanks 22 and 25 is sucked in through the conduits 8 and 9. Valve 12.14.1
The operation is performed by selecting settings 5.31 and 32. In the illustrated device, three-way valves 31 and 32 are configured to allow electrolyte to be supplied directly to tanks 22 and 25 via pump 29.

お支かりのように、この配置によって、電解液の応差集
束流れを確立することができる。
As you can see, this arrangement allows the establishment of differentially focused flow of the electrolyte.

しかしながら、最近の電気メッキ・プラントでは、スト
リップ速度は2178以上を採用することがあたりまえ
となっているので、ストリップと電解液との間の上述の
相対速度を含むこれらの条件の中では、できる限り最良
の品質の製品を得る+1 ことは、明らかに、決して実行し得ること鴎で城ない。
However, in modern electroplating plants it is common practice to employ strip speeds of 2178 or higher, so within these conditions, including the above-mentioned relative speeds between the strip and the electrolyte, as much as possible Obtaining the best quality product +1 is obviously not something that can be done at all.

このような場合、電解液をストリップと同じ方向に十分
な高速度で両方のみぞに送出して、所望の相対速度を維
持すれば、十分であろう。
In such cases, it may be sufficient to deliver the electrolyte to both grooves in the same direction as the strip at a sufficiently high velocity to maintain the desired relative velocity.

他に可能な装置としては、応差拡散流れが得られるよう
にした装置がある。すなわち、この場合には、電解液は
エゼクタlOおよび11が作動する方向と逆の方向で導
管8および9両者に送出される。
Other possible devices include devices that provide differential diffusion flow. That is, in this case the electrolyte is delivered into both conduits 8 and 9 in a direction opposite to the direction in which ejectors IO and 11 operate.

従って、本発明によれば、幾つかの三方弁の設定を変え
るだけで、所望の、或いは必要な電解液全ての場合に最
高品質の製品が得られることは、明らかである。
It is therefore clear that according to the invention, the highest quality product can be obtained for all desired or required electrolytes by simply changing the settings of a few three-way valves.

最後に、本発明を利用する更に別な方法がある。Finally, there are still other ways to utilize the invention.

flり 多数のメッキ槽をライン膏排除することなく一排除はコ
イラ装置の適正位置を維持する間は困難であるー、関連
の本装置によって非常に薄い被膜を製造する必要がある
とすれば、唯一個のエゼクタ、例えば符号10のエゼク
タだけを利用し、締切弁37を閉弁し、そして導管8か
ら来る電解液がパイプ16および17を通って導管9を
直接上昇するように、弁15および14を設定して、電
流密度を、それ故メッキ槽内の電解液の流量を低減させ
ることで十分である。
Removing a large number of plating baths without removing the line coating is difficult while maintaining the proper position of the coiler equipment, given the need to produce very thin coatings with the associated equipment. Only one ejector, e.g. 10, is utilized to close the shut-off valve 37 and to close the valves 15 and 15 so that the electrolyte coming from conduit 8 rises directly up conduit 9 through pipes 16 and 17. 14 to reduce the current density and therefore the flow rate of the electrolyte in the plating bath.

なお、注意すべき最後の点は、部品7の働きであるが、
この部品7はみぞ5および6の間に分離用空間を形成す
るものである。部品7のドラムに面した表面は、電極3
および4の表面よりもドラムに対し密接している。この
表面は、高圧の導管から低圧の導管に漏出する流体の圧
力降下を著しく増大させるように非常な粗面にもなって
いる。
The final point to note is the function of part 7.
This part 7 forms a separating space between grooves 5 and 6. The surface of component 7 facing the drum is connected to electrode 3
and 4 are closer to the drum than the surfaces of 4 and 4. This surface is also very rough so as to significantly increase the pressure drop of fluid leaking from the high pressure conduit to the low pressure conduit.

この方法では、圧力が高い方の枝管内の流量の20%未
満にも等しい漏出流量が記録されている。
With this method, a leakage flow rate equal to less than 20% of the flow rate in the higher pressure branch has been recorded.

以」二、幾つかの形態の実施例を参照して本発明を説明
してきたが、ここに述へた本発明の範囲を逸脱すること
なく、変更や改善を行ない得ることは当業者にとって理
解されるであろう。
Although the invention has been described with reference to several embodiments, those skilled in the art will appreciate that changes and improvements can be made without departing from the scope of the invention as described herein. will be done.

発明の効果 本発明のラジアルWI電気メッキ装置は、回転ドラムと
対をなす電極との間に電解液が圧送流通する上昇用およ
び効果用みぞを形成したラジアル槽装置に対して、内部
にエゼクタを配置した一対の導管で両みぞを連結すると
共に三方弁とペイプによって導管を相互連結してなる電
解液循環手段を配置した構造であるので、みぞ内の電解
液の方向および速度を三方弁等の設定を単に変えるだけ
で容易に制御することができるために、高電流密度で高
品質の被膜が得られ、更に両面メッキの場合にも経済的
にメッキを行うことのできる優れた電気メツキ装置であ
る。
Effects of the Invention The radial WI electroplating apparatus of the present invention has an ejector inside the radial tank apparatus in which a rising groove and an effect groove are formed between a rotating drum and a pair of electrodes in which an electrolytic solution is pumped and distributed. The structure includes an electrolyte circulation means that connects both grooves with a pair of conduits and interconnects the conduits with a three-way valve and a pipe. It is an excellent electroplating system that can be easily controlled by simply changing the settings, resulting in high current density, high quality coatings, and economical plating even when plating on both sides. be.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明によるラジアル槽電気メッキ装置の一
実施例を示す略図である。 第2図は、本発明によるラジアル槽電気メッキ装置の他
の実施例を示す略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing one embodiment of a radial bath electroplating apparatus according to the present invention. FIG. 2 is a schematic diagram showing another embodiment of a radial bath electroplating apparatus according to the present invention.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 水平軸回転ドラムであって、その円筒面に接する被
メッキストリップを引っぱる回転ドラムと、前記ストリ
ップによって、1つには頂部から底部へ、もう1つは底
部から頂部へと縦走される2つのみぞ(前者は降下用み
ぞ、後者は上昇用みぞとして周知)を前記ストリップ表
面とともに形成するように、前記ドラムの前記円筒面に
面し、対になって配置された数組の電極であって、前記
電極は幾らかの距離をおいて下向きに終端すると共に、
前記降下用および上昇用みぞの中を電解液が圧送流通で
きるように前記電極装置の低端部に設置された少なくと
も一対の導管で終結している電極とを備えたラジアル槽
電気メッキ装置において、各対の前記導管は前記導管の
夫々の内に配置したエゼクタに給液し、前記電解液を前
記降下用および上昇用みぞを通じて前記みぞの上方に設
置され前記みぞに連通しているタンクから吸入する管状
手段を有しており、前記導管の夫々は前記エゼクタが作
動して前記電解液を前記導管から前記降下用および上昇
用みぞを通じて前記タンクに圧送する方向とは反対の方
向に前記電解液を給液する手段を有すると共に、前記上
昇用および降下用みぞの中の前記電解液流れが確定され
た方向で、かつ所望の速度にあることを確立するための
協働手段で終結していることを特徴とするラジアル槽電
気メッキ装置。 2 前記各対の前記エゼクタが三方弁を通じ同一の給液
器によって給液されることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載のラジアル槽電気メッキ装置。 3 前記導管は、前記エゼクタの下流に位置する三方弁
によって、かつ前記三方弁を連結するパイプによって相
互連結されており、また前記パイプは前記エゼクタに給
液する前記三方弁に対し可及的なバイパス機能も有して
いることを特徴とする特許請求の範囲第1項および第2
項記載のラジアル槽電気メッキ装置。
[Scope of Claims] 1. A rotating drum with a horizontal axis, which pulls a strip to be plated in contact with its cylindrical surface, and by said strip, one from the top to the bottom and the other from the bottom to the top. a number facing said cylindrical surface of said drum and arranged in pairs so as to form with said strip surface two longitudinal grooves, the former known as descending grooves and the latter known as ascending grooves; a set of electrodes, the electrodes terminating downwardly at some distance;
a radial bath electroplating apparatus comprising: an electrode terminating in at least a pair of conduits disposed at a lower end of the electrode arrangement to permit flow of electrolyte under pressure through the descending and ascending grooves; Each pair of said conduits feeds an ejector disposed within each of said conduits and draws said electrolyte through said descending and ascending grooves from a tank located above said groove and communicating with said groove. each of said conduits having tubular means for discharging said electrolyte in a direction opposite to the direction in which said ejector is actuated to pump said electrolyte from said conduit through said descending and ascending channels into said tank. and terminating in cooperating means for establishing that said electrolyte flow in said ascending and descending channels is in a defined direction and at a desired velocity. A radial tank electroplating device characterized by: 2. The radial tank electroplating apparatus according to claim 1, wherein the ejectors of each pair are supplied with liquid by the same liquid supply device through a three-way valve. 3. The conduits are interconnected by a three-way valve located downstream of the ejector and by a pipe connecting the three-way valve, and the pipe is as close as possible to the three-way valve supplying the ejector. Claims 1 and 2 are characterized in that they also have a bypass function.
Radial bath electroplating equipment as described in Section 1.
JP61187934A 1985-08-12 1986-08-12 Radial cell electroplating apparatus Pending JPS6237392A (en)

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AU580505B2 (en) 1989-01-12
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