JPS6231772A - ダイアフラムの絞り成形方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、ダイアフラムの絞り成形方法に関し特に深絞
りのダイアフラムの絞り成形に適した絞り成形方法に関
する。

ここで深絞りとは、第３図を例に採ると、高さＨと深さ
Ｄの比Ｈ／Ｄ≧１／２のものをいう〈従来の技術〉 ここでは、深絞りのダイアフラムとして、第３図に示す
ような、外周部にビード部１を、中央部に深皿形の絞り
部２を有するものを例に採る。

この種のダイアフラムの絞り成形は下記のようにして行
なっていた。

（ａ）基布３の両面又は片面（図例では両面）にトッピ
ングにより高分子弾性体層４が形成された積層シート材
を打ち抜いてブランク５を得る。

（ｂ）該ブランク５を、第１図工に示すように、雌型６
にセット後、雄型７又は雌型６を型閉じ方向に移動させ
、第１図Ｈに示すように、材料流れ開始直前の浅い絞り
から材料流れを生じさせ最終的に第２図に示すように絞
り込んで（圧伸して）成形する。

上記絞り成形において、材料流れ開始直前には、第１図
Ｈに示すように、ブランク５の周縁外方に材料に存在し
ない環状空間１０ができるため、第２図に示す絞り込み
完了に至るまでの材料流れは、環状空間１０方向、即ち
放射方向となり、基布３は放射方向に引っ張られる。こ
のとき、基布３は一般に補強性の見地から伸びないボリ
エステル糸、ナイロン糸等で形成され、平織又はニット
で形成されているため、はとんど伸びないか又はニット
であっても伸びにくい方向があり、また。

基布の布目は一般に流動材料を通す、従って、第２図に
示すように基布３が偏在して絞り部２の内側に部分的に
露出しやすい、このダイアフラム１における基布の露出
は、接触流体のダイアフラム内へ毛細管現象的に透過を
促進し、また、ダイアフラムの膜作動性に悪影響を与え
望ましくない。

なお、基布をゴム糸のような伸びる糸で形成すれば、基
布は材料流れに追従して基布は偏在しないが、成形品を
金型から取り出した後の糸の弾性戻りが大きいため、ダ
イアフラムの膜面に“しわ”が発生するとともに、ゴム
糸は引張モジュラスが小さく基布の補強性が十分でない
。

なお、ブランクが基布３の片面にのみ高分子弾性体層４
を有する場合も同様である。即ち、第４図に示すように
絞り部２の外側に基布３を有するダイアフラムを絞り成
形した場合、やはり基布３が偏在して絞り部２の内側に
部分的に露出しやすい。

く問題点を解決するための手段） 本・発明者らは、上記問題点を解決すべく鋭意開発に努
力した結果、基布の両面又は片面が高分子弾性体層とさ
れたシート状のブランクからダイアフラムを絞り成形す
るに際して、基布として、絞り成形温度において緊張熱
固定性を有するポリウレタン系弾性糸を使用すればよい
ことに想到し。

本発明のダイアフラムの絞り成形方法を完成させた。

〈発明の作用効果〉 本発明のダイアフラムの絞り成形方法は、上記手段によ
り、基布の両面又は片面に高分子弾性体層を有するブラ
ンクから絞り成形するに際して、ブランクの放射方向へ
の材料流れにより、基征が放射方向に引っ張られてても
、基布は伸びるため材料流れに追従して、基布が偏在す
ることがなく、基布が露出して形成されることがない、
また、基布を形成するポリウレタン系弾性糸はダイアフ
ラム成形温度で緊張熱固定性を有するので、成形品を金
型から取り出した後の糸、即ち基布の弾性戻りが小さく
、ダイアフラムの膜面にしわが発生することがなく、さ
らには、ポリウレタン系弾性糸はゴム糸に比して引張モ
ジュラスも２〜４倍と大きく基布の補強性も十分である
。

なお、上記基布の偏在を防止するために、特開昭５５−
９０３１６号公報において、基布の両面に高分子弾性体
層を増するブランクからダイアフラムを絞り成形するに
際して、絞り当初金型のぼり形成部にある材料のみを圧
伸して流動させ、金型が完全に閉じる直前に始めて金型
の製品形成部にある材料を圧伸して流動させるようにし
た方法が提案されている。しかし、この方法は、■基布
が伸びないので、その絞り込みの度合が限定され深絞り
が困難である。■無理に深絞りをしようとして、伸びる
基布を使用した場合は、前述の如く糸の弾性戻りにより
、ダイアフラムの膜面に“しわ”が発生する１等の問題
点がある。

〈実施例〉 以下１本発明の方法を、第３図に示すようなダイアフラ
ムを成形する場合を例に採り説明する。

従来と同様、下記仕様のポリウレタン系弾性糸からなる
基布３の両面が高分子弾性体層４，４とされた積層シー
ト材から打ち抜きにより得たブランクを第１図工に示す
ように雌型６にセット後。

雄型７又は雌型６を型閉じ方向に移動させ、第１図Ｈに
示すように、材料流れ開始直前の浅い絞りから材料流れ
を生じさせ最終的に第１図ｍに示す如゛く絞り込んで（
圧伸して）成形する。

上記ポリウレタン系弾性糸は、ダイアフラム成形温度に
おいて、緊張熱固定性を有するものである。具体的には
、“オペロン”の商標で東し・デュポン（株）から製造
販売しているものを挙げることができ、通常、太さ１０
〜２００００のものを用いる。また、緊張熱固定性とは
、緊張熱処理後の糸の弾性戻りが少ない性質を言い、定
量的には下記式で示される熱固定率で示され１通常熱固
定率が６０％以上のものを緊張熱固定性を有するとする
。

熱固定率＝熱処理後の糸長さ／緊張時の糸長さなお、オ
ペロンの場合、絞り成形温度１８０〜２００℃で、熱固
定率約６０〜９０％である。

また、−１−記高分子弾性体には、ＮＢＲ，ＥＰＤＭ、
ＣＯ，ＥＣＯ等のゴム材の他に、ウレタン系、ポリオレ
フィン系等の熱可塑性エラストマーも含まれる。

上記絞り成形過程において従来同様、材料流れ開始直前
には、第１図Ｈに示すようにブランク５の周縁外方に材
料の存在しない環状量Ｍ１０ができ、第１図■に示す絞
り込み完了までの材料流れは、放射方向となり、基布３
は放射方向に引っ張られる。ところが、基布３は弾性糸
からなるため、材料流れに追従して基布３も伸び、基布
３が偏在して成形されることはなく、基布３が露出する
おそれがない、成形品を型から取り出した場合。

、２！ｉ布を形成する弾性糸は緊張熱固定性を有するた
め、弾性戻りが小さく、ダイアフラムの膜面に“しわ”
が発生することもない、さらに当該弾性糸は、ゴム糸に
比して引張モジュラスも２〜４倍と大きいため基布の補
強性も十分である。

こうして得た成形品から、ビード部１の外ａｔ９】除し
て、第３図に示すようなダイアフラムを得る。

本発明のダイアフラムの絞り成形方法は、第３図の形状
のものに限られず、第４図に示すような基布３の片面に
のみ、即ち絞り部２の内側にのみ高分子弾性体層４が形
成されたシルクハツト形のもの、第５争６図に示すよう
な絞り部２が環状、また多重になっているもの等、任意
の絞り形状をもったダイアフラムに適用可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のダイアフラムの絞り成形方法の一例を
示す概略断面図、第２図は従来のダイアフラムの絞り成
形方法における絞り込み完了１ｉ７の断面図、第３図は
第１図の成形方法を適用するダイアフラムの断面図、第
４〜６図は本発明の方法を適用可能な他の形状のダイア
フラムの各断面図である。 ２・・・絞り部。 ３・・・基布、 ４・・・高分子弾性体層、 ５・・・ブランク、 ６・・・雌型、 ７・・・雄型。 １０・・・環状空間。 特　　許　　出　　願　　人 ｇ３　　図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 基布の両面又は片面が高分子弾性体層とされたシート状
   のブランクからダイアフラムを絞り成形するに際して、 前記基布として、絞り成形温度において緊張熱固定性を
   有するポリウレタン系弾性糸からなるものを使用するこ
   と を特徴とするダイアフラムの絞り成形方法。