JPS62293583A - Bloch line memory and its manufacture - Google Patents

Bloch line memory and its manufacture

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JPS62293583A
JPS62293583A JP61136274A JP13627486A JPS62293583A JP S62293583 A JPS62293583 A JP S62293583A JP 61136274 A JP61136274 A JP 61136274A JP 13627486 A JP13627486 A JP 13627486A JP S62293583 A JPS62293583 A JP S62293583A
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JP
Japan
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magnetic
thin film
heating resistor
domain
line memory
Prior art date
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Pending
Application number
JP61136274A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hitoshi Oda
織田 仁
Takeo Ono
武夫 小野
Hiroshi Matsuoka
宏 松岡
Akira Niimi
新見 晄
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP61136274A priority Critical patent/JPS62293583A/en
Publication of JPS62293583A publication Critical patent/JPS62293583A/en
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  • Recording Or Reproducing By Magnetic Means (AREA)

Abstract

PURPOSE:To improve the position accuracy and transfer accuracy of paired Bloch lines by forming a heating resistor of a shape corresponding to a magnetic domain on the surface of a magnetic thin film and providing a power application means to the heating resistor. CONSTITUTION:A magnetic garnet thin film 4 is provided on a nonmagnetic garnet substrate 2. A film of HfB2 is formed on the entire face of the thin film 4 and patterning is applied to the film 20 so as to leave only a flat shape part slightly larger than the flat shape of an objective stripe magnetic domain 6. Then electrodes 22, 23 are formed by patterning on a prescribed location of the thin film 4 and the heat resistor 20. Then an upward bias magnetic field Hb is applied externally, a pulse voltage is applied between the electrodes 22 and 23 to give a pulse current to the resistor 20. Thus, a magnetic bubble 7 is generated on the thin film 4 corresponding to any of the maximum point of two temperatures and the stripe magnetic domain 6 corresponding to the heating resistor at the position formed in advance with the resistor 20 is formed accurately and stably.

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の詳細な説明 [産業上の利用分野] 本発明はブロッホラインメモリに関する。ブロッホライ
ンメモリは極めて高い密度にて情報を記録することがで
きるメモリとして各種電子装置への応用が考えられる。
Detailed Description of the Invention 3. Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to a Bloch line memory. Bloch line memory can be applied to various electronic devices as a memory that can record information at extremely high density.

[従来の技術] 現在、コンピュータ用外部メモリ、電子ファイル用メモ
リ、静止画ファイル用メモリ等のメモリとしては、磁気
テープ、ウィンチェスタ−ディスク、フロッピーディス
ク、光ディスク、光磁気ディスク、磁気バブルメモリ等
の各種のメモリデバイスが使用されている。これらのメ
モリデバイスのうちで、磁気バブルメモリを除く他のメ
モリ    。
[Prior Art] At present, as external memory for computers, memory for electronic files, memory for still image files, etc., there are magnetic tapes, Winchester disks, floppy disks, optical disks, magneto-optical disks, magnetic bubble memories, etc. Various types of memory devices are used. Among these memory devices, other memory except magnetic bubble memory.

は情報の記録や再生の際に記録再生用ヘッドをメモリに
対し相対的に移動させることが必要である。即ち、この
様なヘッドの相対的移動にともない、該ヘッドにより情
報トラックに固定的に情報列を記録したり該情報トラッ
クに固定的に記録されている情報列を再生したりする。
It is necessary to move the recording/reproducing head relative to the memory when recording or reproducing information. That is, with such relative movement of the head, the head records an information string fixedly on the information track or reproduces the information string fixedly recorded on the information track.

しかるに、近年、次第に記録密度の高度化が要求される
につれて、ヘッドを情報トラックに正確に追従させるた
めのトラッキング制御が複雑になり該制御が不十分なた
めに記録再生信号の品位が低下したり、ヘッド移動機構
の振動やメモリ表面に付着したゴミ等のために記録再生
信号の品位が低下したり、更に磁気テープ等ヘッドと接
触しながら記録再生を行なうメモリの場合にば摺動によ
り摩耗が発生し、光デイスク等ヘッドと非接触にて記録
再生を行なうメモリの場合には合焦のためのフォーカシ
ング制御が必要となり該制御が不十分なために記録再生
信号の品位が低下したりするという問題が生じている。
However, in recent years, as there has been a demand for increasingly higher recording densities, tracking control to make the head accurately follow the information track has become more complex, and the quality of recorded and reproduced signals may deteriorate due to insufficient control. The quality of recorded and reproduced signals deteriorates due to vibrations in the head moving mechanism and dust adhering to the surface of the memory, and in the case of memories such as magnetic tapes that perform recording and reproduction while in contact with the head, wear due to sliding occurs. In the case of a memory that performs recording and reproduction without contact with the head, such as an optical disk, focusing control is required for focusing, and if this control is insufficient, the quality of the recording and reproduction signal may deteriorate. A problem has arisen.

一方、磁気バブルメモリは、所定の位置にて情報の記録
を行ない該記録情報を転送することができ且つ情報を転
送しながら所定の位こにて情報を再生することができ記
録再生に際しへ一2ドとの相対的移動を必要とせず、こ
のため記録密度の高度化に際しても上記の様な問題を生
ずることがなく、高信頼性を実現することができると考
えられている。
On the other hand, magnetic bubble memory can record information at a predetermined position and transfer the recorded information, and can reproduce information at a predetermined position while transferring the information. Since there is no need for relative movement with the second card, the above-mentioned problems do not occur even when the recording density is increased, and it is thought that high reliability can be achieved.

しかしながら、磁気バブルメモリは磁性ガーネ−/ ト
膜等の膜面に垂直な方向に磁化容易軸をもつ磁性薄膜に
磁界を印加することにより生ぜしめられる円形の磁区(
バブル)を情報ビットとして用いるため、現在のガーネ
ット膜の材料特性から制限される最小バブル(直径o 
、 3 pm)を使用しても数十Mピッ)/crn’が
記Q密度の限界であり、更なる高密度化は困難である。
However, magnetic bubble memory uses circular magnetic domains (
bubbles) are used as information bits, the minimum bubble (diameter o
, 3 pm), the limit of the Q density is several tens of Mpi)/crn', and it is difficult to further increase the density.

そこで、最近、上記磁気バブルメモリの記録密度の限界
を越える記録密度をもつメモリとしてブロー2ホライン
メモリが注目されている。このブロッホラインメモリは
、磁性薄膜に生ぜしめられる磁区の周囲に存在するブロ
ッホ磁壁構造に挟まれたネール磁壁構造(ブロッホライ
ン)の対を情報ビットとして用いるものであるため、上
記磁気バブルメモリに比べて2桁近い記録密度の高度化
が可能である。たとえば、バブル径0.5gmのガーネ
ット膜を使用した場合、1.6Gビツト/crn’の記
録密度を達成することが可能である[[日経エレクトロ
ニクスJ 1983年8月15日、p141〜167 
 参照]。
Therefore, recently, blown 2-hole line memory has been attracting attention as a memory having a recording density that exceeds the recording density limit of the above-mentioned magnetic bubble memory. This Bloch line memory uses, as information bits, a pair of Neel domain wall structures (Bloch lines) sandwiched between Bloch domain wall structures that exist around magnetic domains generated in a magnetic thin film, so it is different from the above-mentioned magnetic bubble memory. It is possible to increase the recording density by nearly two orders of magnitude. For example, when using a garnet film with a bubble diameter of 0.5 gm, it is possible to achieve a recording density of 1.6 Gbit/crn' [[Nikkei Electronics J, August 15, 1983, p. 141-167
reference].

第3図にブロッホラインメモリを構成する磁性体構造の
一例の模式的斜視図を示す。
FIG. 3 shows a schematic perspective view of an example of a magnetic structure constituting the Bloch line memory.

図において、2はGGG 、NdGG等の非磁性ガーネ
ットから存る基板であり、該基板上には磁性ガーネット
薄膜4が付与されている。該膜は、たとえば液相エピタ
キシャル1171i、反注(LPE法)により成膜する
ことができ、その厚さはたとえば5ルm程度である。6
は磁性ガーネー、ト薄膜4中に形成されたストライブ状
磁区であり、該磁区の内外の境界領域として磁壁8が形
成されている。
In the figure, 2 is a substrate made of non-magnetic garnet such as GGG or NdGG, and a magnetic garnet thin film 4 is provided on the substrate. The film can be formed by, for example, liquid phase epitaxial 1171i or inverse injection (LPE method), and its thickness is, for example, about 5 μm. 6
is a striped magnetic domain formed in the magnetic Gurney thin film 4, and a domain wall 8 is formed as an inner and outer boundary region of the magnetic domain.

該ストライプ状磁区6の幅はたとえば5IL工程度であ
り長さはたとえばloogm程度である。また、/j1
壁8の厚さはたとえば0.5pm程度である。矢印で示
される様に、磁区6内においては磁化の向きは上向きで
あり、一方磁区6外においては磁化の向きは下向きであ
る。
The width of the striped magnetic domain 6 is, for example, 5 IL steps, and the length is, for example, about 10 gm. Also, /j1
The thickness of the wall 8 is, for example, about 0.5 pm. As shown by the arrows, the direction of magnetization is upward within the magnetic domain 6, while the direction of magnetization is downward outside the magnetic domain 6.

磁壁8内における磁化の向きは内面(即ち磁区6側の而
)側から外面側へと次第にねじれた様に回転している。
The direction of magnetization within the domain wall 8 gradually rotates from the inner surface (that is, the side facing the magnetic domain 6) to the outer surface in a twisted manner.

この回転の向きは磁壁6中に垂直方向に存在するブロッ
ホライン10を境界としてその両側では逆になる。第3
図においては磁壁8の厚さ方向の中央部における磁化の
向きが矢印で示されており、ブロッホライン10におけ
る磁化の向きも同様に示されている。
The direction of this rotation is opposite on both sides of the Bloch line 10 that is perpendicular to the domain wall 6 as a boundary. Third
In the figure, the direction of magnetization at the central portion of the domain wall 8 in the thickness direction is indicated by an arrow, and the direction of magnetization at the Bloch line 10 is similarly indicated.

尚、以上の様な磁性体構造には外部から下向きのバイア
ス磁界HBが印加されている。
Note that a downward bias magnetic field HB is applied to the above-described magnetic structure from the outside.

図示される様に、ブロッホライン10には磁化の向きの
異なる2つの種類が存在し、これらのブロッホラインの
対の有無を情報“1”、“0”に対応させる。該ブロッ
ホライン対は磁壁8中において規則正しい位を即ちポテ
ンシャルウェルのうちのいづれかに存在する。また、ブ
ロッホライン対は基板面に垂直なパルス磁界を印加する
ことにより各々が隣りのポテンシャルウェルへと1順次
転送される。かくして、ブロッホラインメモリへの情報
の記録(磁壁8へのプロ7ホライン対の書込み)及び該
ブロッホラインメモリに記録されている情報の再生(磁
壁8中のブロッホライン対の読出し)は、ブロッホライ
ン対を磁壁8内で転送しながらそれぞれ所定の位置で行
なうことができる。上記情報の記録及び再生はいづれも
それぞれ基板面に垂直な所定の強さのパルス磁界を所定
の部分に印加することで行なうことができ、第3図には
示されていないが、これら記録及び再生のためのパルス
磁界印加手段として磁性薄膜4の表面にストライプ状磁
区6に対しそれぞれ所定の位置関係にてパルス通電用の
導体パターンが形成される。
As illustrated, there are two types of Bloch lines 10 with different magnetization directions, and the presence or absence of a pair of these Bloch lines corresponds to information "1" and "0". The Bloch line pairs exist at regular positions in the domain wall 8, that is, in any of the potential wells. Further, each Bloch line pair is sequentially transferred to an adjacent potential well by applying a pulsed magnetic field perpendicular to the substrate surface. Thus, the recording of information to the Bloch line memory (writing of Pro7 Hol line pairs to the domain wall 8) and the reproduction of the information recorded in the Bloch line memory (reading of the Bloch line pairs in the domain wall 8) are performed using the Bloch line memory. This can be carried out at predetermined positions while transferring the pairs within the domain wall 8. The above information can be recorded and reproduced by applying a pulsed magnetic field of a predetermined strength perpendicular to the substrate surface to a predetermined portion.Although not shown in FIG. As a means for applying a pulsed magnetic field for reproduction, conductive patterns for pulsed current application are formed on the surface of the magnetic thin film 4 at predetermined positional relationships with respect to the striped magnetic domains 6, respectively.

[発明が解決しようとする問題点1 以上の様なブロッホラインメモリにおいて、ブロッホラ
イン対の書込み、読出し及び転送を良好に行なうために
は、磁壁8の位置即ちストライプ磁区6の位置を安定に
保つことが必要である。
[Problem to be Solved by the Invention 1] In the Bloch line memory as described above, in order to perform writing, reading, and transfer of Bloch line pairs well, the position of the domain wall 8, that is, the position of the striped magnetic domain 6 must be kept stable. It is necessary.

そこで、従来、ストライプ磁区の表面に溝を設けること
が行なわれている。
Therefore, grooves have been conventionally provided on the surface of striped magnetic domains.

第4図(a)は以上の様なストライプ磁区を示す平面図
であり、第4図(b)はそのB−B断面図である。
FIG. 4(a) is a plan view showing such a striped magnetic domain as described above, and FIG. 4(b) is a sectional view taken along line BB.

図において、2は非磁性ガーネット基板であり、4は磁
性ガーネット薄膜であり、6は該薄膜中に形成されたス
トライプ磁区であり、8は81壁である。ストライプ磁
区6の表面には該磁区の幅の半分程度の幅をもつ111
2が形成されている。
In the figure, 2 is a nonmagnetic garnet substrate, 4 is a magnetic garnet thin film, 6 is a striped magnetic domain formed in the thin film, and 8 is an 81 wall. On the surface of the striped magnetic domain 6, there is a layer 111 having a width about half of the width of the magnetic domain.
2 is formed.

該溝はたとえばイオンミリングやケミカルエツチング等
の方法により形成することができる。磁区6内の磁化の
向きは下向きであり、該磁区6外の磁性g膜4部分の磁
化の向きは上向きである。
The groove can be formed, for example, by ion milling, chemical etching, or the like. The direction of magnetization within the magnetic domain 6 is downward, and the direction of magnetization of the portion of the magnetic g film 4 outside the magnetic domain 6 is upward.

しかしながら1以上の様な溝付きのストライプ磁区を有
するブロッホラインメモリには次の様な151題点があ
る。
However, the Bloch line memory having one or more grooved striped magnetic domains has the following 151 problems.

即ち、記録の高密度化のためには磁区6の幅をできるだ
け細くして単位面積当り多くの磁区を配置することが必
要となるが、上記溝12の幅は磁区の幅の半分程度であ
り、このため高密度化に対応して微細加工が要求され十
分な精度にて溝加工を行なうことが困難になる。
That is, in order to increase the recording density, it is necessary to make the width of the magnetic domains 6 as thin as possible and arrange many magnetic domains per unit area, but the width of the groove 12 is about half the width of the magnetic domains. For this reason, fine machining is required in response to higher density, making it difficult to perform groove machining with sufficient accuracy.

更に、上記の様に、磁壁8内のブロッホライン対の位置
の安定化のために規則正しいポテンシャルウェルを作る
ことが行なわれるが、上記溝12が存在すると、その影
響によりポテンシャルウェルが乱されてブロッホライン
対の位置精度及び転送精度に悪影響を及ぼす。
Furthermore, as described above, regular potential wells are created to stabilize the positions of the Bloch line pairs within the domain wall 8, but if the grooves 12 exist, the potential wells are disturbed due to the influence of the grooves 12, and the Bloch lines are This adversely affects the positional accuracy and transfer accuracy of line pairs.

また、以上の様なブロッホラインメモリの製造に際して
は、ストライプ磁区6の形成及び固定のために、最初大
きなバイアス磁界HBを作用させて磁性薄膜4全体を一
様に磁化させた後に該バイアス磁界の大きさを次第に小
さくして上記溝に対応する薄膜4の一部分に磁気バブル
を発生させ該バブルを成長させてストライプ磁区6とす
ることが行なわれ、バイアス磁界の大きさを制御しなけ
ればならないという不便さがある。
In addition, when manufacturing the Bloch line memory as described above, in order to form and fix the striped magnetic domains 6, first a large bias magnetic field HB is applied to uniformly magnetize the entire magnetic thin film 4, and then the bias magnetic field is Magnetic bubbles are generated in a portion of the thin film 4 corresponding to the grooves by gradually reducing the size, and the bubbles are grown to form striped magnetic domains 6, and the magnitude of the bias magnetic field must be controlled. It's inconvenient.

そこで、本発明は、以上の様な従来のブロッホラインメ
モリの問題点を解決し、簡単且つ精度良好に安定な磁区
及び磁壁を形成しブロッホライン対の位置精度及び転送
精度を向上させることを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to solve the problems of the conventional Bloch line memory as described above, form stable magnetic domains and domain walls easily and with good accuracy, and improve the positional accuracy and transfer accuracy of Bloch line pairs. shall be.

[問題点を解決するための手段] 本発明によれば、以上の如き目的を達成するものとして
、磁性薄膜中の磁区の周囲に形成された磁壁内における
プロ7ホラインを用いて情報の記録を行なうブロッホラ
インメモリにおいて、磁性薄膜表面上に磁区に対応する
形状の発熱抵抗体が形成されており、該発熱抵抗体に通
電するための手段が備えられていることを特徴とする、
ブロッホラインメモリが提供される。
[Means for Solving the Problems] According to the present invention, in order to achieve the above-mentioned objects, information is recorded using pro-7 holes in domain walls formed around magnetic domains in a magnetic thin film. A Bloch line memory carried out is characterized in that a heating resistor having a shape corresponding to a magnetic domain is formed on the surface of a magnetic thin film, and a means for energizing the heating resistor is provided.
Bloch line memory is provided.

また、未発IgIによれば、この様なブロッホラインの
製造に好適な方法として、磁性薄11!2中の磁区の周
囲に形成された磁壁内におけるブロッホラインを用いて
情報の記録を行なうプロツボラインメモリを製造する方
法において、磁性薄膜の表面に発熱抵抗体と該発熱抵抗
体への通′屯のための1[極を形成し、外部からバイア
ス磁界を印加しながら発熱抵抗体を通電により発熱させ
該発熱抵抗体に対応する磁性薄膜中に磁区を形成せしめ
ることを特徴とする、ブロッホラインメモリの製造方法
が提供される。
Furthermore, according to unreleased IgI, a suitable method for manufacturing such Bloch lines is a process in which information is recorded using Bloch lines within the domain walls formed around the magnetic domains in the magnetic thin film 11!2. In a method for manufacturing a point line memory, a heating resistor and a pole for conducting electricity to the heating resistor are formed on the surface of a magnetic thin film, and the heating resistor is energized while applying a bias magnetic field from the outside. Provided is a method for manufacturing a Bloch line memory, which is characterized by generating heat by forming a magnetic domain in a magnetic thin film corresponding to the heating resistor.

[実施例] 以下1図面を参照しながら本発明の具体的実施例を説明
する。
[Example] A specific example of the present invention will be described below with reference to one drawing.

第1図(a)は本発明によるブロッホラインメモリの部
分平面図であり、第1図(b)はそのB−B断面図であ
る。
FIG. 1(a) is a partial plan view of a Bloch line memory according to the present invention, and FIG. 1(b) is a sectional view thereof taken along line B--B.

第1図において、2は非磁性ガーネット基板であり、4
は磁性ガーネット薄膜である。該磁性ガーネッ)IN膜
中にはストライプ状の平面形状を有する磁区6が形成さ
れている。8は該ストライプ磁区6の周囲の磁壁である
。磁性薄膜4の表面上には発熱抵抗体20及び電極22
.23が付与されている。
In FIG. 1, 2 is a non-magnetic garnet substrate, and 4 is a non-magnetic garnet substrate.
is a magnetic garnet thin film. Magnetic domains 6 having a striped planar shape are formed in the magnetic garnet IN film. 8 is a domain wall around the striped magnetic domain 6. A heating resistor 20 and an electrode 22 are arranged on the surface of the magnetic thin film 4.
.. 23 is given.

発熱抵抗体20はたとえばHfB2等からなり、その厚
さはたとえば0 、 I ILm程度である。
The heating resistor 20 is made of, for example, HfB2 or the like, and has a thickness of, for example, about 0.03 m.

また、該発熱抵抗体20は磁区6及び磁壁8に対応する
位置に形成されており且つ該磁区6よりも少し大きめの
平面形状を有する。たとえば、ストライプ磁区が幅5I
Lmで長さ1100pの場合には、発熱抵抗体20は輻
7gmで長さ1054mである。電極22.23はたと
えばAI 、Al−Cu、Al/Mo等からなり、その
厚さはたとえばlILm程度である。該電極は発熱抵抗
体20の両端部にそれぞれわずかに重ね合わされて付与
されている。尚、これら1対の電極間には不図示の電圧
印加手段が接続されている。
Further, the heating resistor 20 is formed at a position corresponding to the magnetic domain 6 and the domain wall 8, and has a planar shape slightly larger than the magnetic domain 6. For example, if a striped domain has a width of 5I
In the case of Lm and length 1100p, the heating resistor 20 has a radius of 7gm and a length of 1054m. The electrodes 22.23 are made of, for example, AI, Al-Cu, Al/Mo, etc., and have a thickness of, for example, about 1ILm. The electrodes are provided at both ends of the heating resistor 20, slightly overlapping each other. Note that a voltage applying means (not shown) is connected between these pair of electrodes.

ストライプ磁区6内における磁化の向きは下向きであり
、該磁区外の磁性?1lll!24の部分における磁化
の向きは上向きである。また、HBは外部から印加され
るバイアス磁界であり上向きである。
The direction of magnetization within the striped magnetic domain 6 is downward, and the magnetization outside the magnetic domain 6 is downward. 1llll! The direction of magnetization in the portion 24 is upward. Further, HB is a bias magnetic field applied from the outside and directed upward.

磁壁8内においては不図示のブロッホライン対が安定に
存在している。
Within the domain wall 8, a pair of Bloch lines (not shown) stably exist.

以上の様な本実施例のブロッホラインメモリは、たとえ
ば次の様にして製造することができる。
The Bloch line memory of this embodiment as described above can be manufactured, for example, in the following manner.

第2図(a)は上記実施例のブロッホラインメモリの製
造方法の一例における工程途中の状態を示す部分平面図
であり、第2図(b)はそのB−B断面図である。
FIG. 2(a) is a partial plan view showing a state in the middle of the process in an example of the method for manufacturing the Bloch line memory of the above embodiment, and FIG. 2(b) is a sectional view taken along line BB.

先ず、非磁性ガーネット基板2の上に液相エピタキシャ
ル成長法により磁性ガーネット薄膜4を付与する。そし
て、該薄膜4上にスパッタ法により全面にHfBzv2
0を厚さo、i鉢m程度に成膜し、該膜を目的とするス
トライプ磁区6の平面形状よりも少し大きな平面形状の
部分のみを残す様にフォトリソグラフィー技術を用いて
パターニングする。
First, a magnetic garnet thin film 4 is deposited on a non-magnetic garnet substrate 2 by liquid phase epitaxial growth. Then, HfBzv2 is applied to the entire surface of the thin film 4 by sputtering.
0 is formed into a film with a thickness of about o and an i-pot m, and the film is patterned using a photolithography technique so as to leave only a portion with a planar shape slightly larger than the planar shape of the intended striped magnetic domain 6.

次に、同様にして、磁性薄膜4及び発熱抵抗体20の表
面上の所定の位置に電極22.23を所定の形状にパタ
ーニング形成する。
Next, in the same manner, electrodes 22 and 23 are patterned into predetermined shapes at predetermined positions on the surfaces of the magnetic thin film 4 and heating resistor 20.

次に、外部から上向きのバイアス磁界HBを印加しなが
ら、電極22.23間にパルス電圧を印加して発熱抵抗
体20にパルス電流iを流す、このパルス電流はたとえ
ば発熱抵抗体20の厚さが0.1p、mj幅が7JLm
の場合には電流値200mAでパルス輻1鉢S程度が適
当である。このパルス電流印加の立上りから100ns
程度経過した時の発熱抵抗体面内の温度分布は第2図(
a)に示される様になり、対称的な位置に温度の極大点
が2つ存在する。
Next, while applying an upward bias magnetic field HB from the outside, a pulse voltage is applied between the electrodes 22 and 23 to cause a pulse current i to flow through the heating resistor 20. is 0.1p, mj width is 7JLm
In this case, it is appropriate to use a current value of 200 mA and a pulse intensity of about 1 s. 100ns from the rise of this pulse current application
The temperature distribution in the plane of the heating resistor after a certain period of time is shown in Figure 2
As shown in a), there are two maximum temperature points at symmetrical positions.

この極大点の温度が臨界値を越えると、第2図(b)に
示される様に、2つの極大点のいづれかに対応する磁性
薄膜4部分に磁気バブル7が発生する。どちらの極大点
に対応する位置にバブルが発生するかは同じ確率である
。尚、上記の温度臨界イめは磁性ガーネットFM膜4の
厚さ、飽和磁化及び異方性磁界等によって決まるが、上
記実施例の様な5gm幅のストライプ磁区形成のための
5pLmバブル薄膜ではキュリ一温度と同程度の200
℃前後である。この様なバブル発生のための所定の発熱
が得られる様に上記パルス電yi、iの特性が設定され
る6発生した磁気バブル7は1発熱抵抗体20の下方の
FMlhi!4部分が他の薄膜部分よりも温度が高いた
めに、この高温部分を占める様に成長し第1図に示され
る様なストライプ磁区6となる。
When the temperature at this maximum point exceeds a critical value, a magnetic bubble 7 is generated in a portion of the magnetic thin film 4 corresponding to either of the two maximum points, as shown in FIG. 2(b). The probability of a bubble occurring at a position corresponding to either local maximum point is the same. The temperature criticality described above is determined by the thickness of the magnetic garnet FM film 4, saturation magnetization, anisotropic magnetic field, etc., but in the case of a 5pLm bubble thin film for forming a stripe magnetic domain with a width of 5gm as in the above example, the temperature criticality 200, which is about the same as one temperature
It is around ℃. The characteristics of the pulse voltage yi,i are set so as to obtain a predetermined heat generation for generating such a bubble.6 The generated magnetic bubble 7 is FMlhi! below the heating resistor 20. Since the temperature of the thin film portion 4 is higher than the other thin film portions, the magnetic domain grows to occupy this high temperature portion, forming a striped magnetic domain 6 as shown in FIG.

L記パルス電流が切れると発熱抵抗体20が次第に冷却
され、これにともないストライプ磁区6は収縮する傾向
をもつが、しかしながら発熱抵抗体20の形成時に該抵
抗体に対応する磁性%jj膜部分に歪が生じており、適
切なバイアス磁界HBの存在のもとでは該歪に基づくポ
テンシャルにより収縮を妨げられ、その形状及び位置を
安定に保つことができる。
When the L pulse current is cut off, the heating resistor 20 gradually cools down, and the striped magnetic domains 6 tend to contract accordingly. However, when the heating resistor 20 is formed, the magnetic %jj film portion corresponding to the resistor A strain is generated, and in the presence of an appropriate bias magnetic field HB, a potential based on the strain prevents contraction, and the shape and position can be kept stable.

以上の様な方法によれば、予゛め発熱抵抗体20を形成
した位置に該発8抵抗体に対応する形状のストライプ磁
区6を正確丘つ安定に形成することができる。
According to the method described above, it is possible to accurately and stably form striped magnetic domains 6 having a shape corresponding to the heat generating resistor 20 at the position where the heat generating resistor 20 has been previously formed.

[発明の効果] 以上の様な本発明によれば、単に発熱抵抗体を発熱させ
るだけで外部バイアス磁界の大きさを一定に保ったまま
Il’J単に磁性薄膜の所望の位置に安定な磁区及び磁
壁を形成することができ、また発熱抵抗体寸法は形成す
べきストライプ磁区の寸法よりも大きくてよいので微細
な磁区をも精度良好に形成することができ、更に磁性B
Il!2表面に付与される膜は比較的薄いものでよいの
で表面をほぼ平坦に保つことができ該表面に絶縁層を介
して良好に所望のパターンを形成することができ、更に
かくして形成されたブロッホライン対の書込み手段、読
出し手段及び転送手段等と磁壁との位置関係を安定に保
つことができ良好な記録再生を行なうことができる。
[Effects of the Invention] According to the present invention as described above, by simply causing the heating resistor to generate heat, stable magnetic domains can be generated at desired positions of the magnetic thin film while keeping the magnitude of the external bias magnetic field constant. In addition, since the dimensions of the heating resistor may be larger than the dimensions of the striped magnetic domains to be formed, even minute magnetic domains can be formed with good precision.
Il! 2. Since the film applied to the surface can be relatively thin, the surface can be kept almost flat, and a desired pattern can be well formed on the surface through the insulating layer. The positional relationship between the line pair writing means, reading means, transfer means, etc. and the domain wall can be kept stable, and good recording and reproduction can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図(a)は本発明ブロッホラインメモリの部分上面
図であり、第1図(b)はそのB−B断面図である。 第2図(a)は本発明ブロッホラインメモリの製造方法
における工程途中の状態を示す部分平面図であり、第2
図(b)はそのB−B断面図である。 第3図はブロッホラインメモリを構成する磁性体構造の
模式的斜視図である。 第4図(a)は従来のブロッホラインメモリの磁区を示
す部分平面図であり、第4図(b)はそのB−B断面図
である。 2:基板、    4:磁性薄膜1 6:磁区、    7:磁気バブル、 8:磁壁、    10:ブロッホライン、20:発熱
抵抗体。 22 、23 :電極。 代理人  弁理士  山 下 穣 子 弟2図(a) 第2図(b) ==9  ぐ
FIG. 1(a) is a partial top view of the Bloch line memory of the present invention, and FIG. 1(b) is a sectional view thereof taken along line BB. FIG. 2(a) is a partial plan view showing a state in the middle of the process in the Bloch line memory manufacturing method of the present invention;
Figure (b) is the BB sectional view. FIG. 3 is a schematic perspective view of the magnetic structure constituting the Bloch line memory. FIG. 4(a) is a partial plan view showing the magnetic domains of a conventional Bloch line memory, and FIG. 4(b) is a sectional view taken along line B--B. 2: Substrate, 4: Magnetic thin film 1 6: Magnetic domain, 7: Magnetic bubble, 8: Domain wall, 10: Bloch line, 20: Heat generating resistor. 22, 23: Electrode. Agent Patent Attorney Minoru Yamashita Children Figure 2 (a) Figure 2 (b) ==9

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)磁性薄膜中の磁区の周囲に形成された磁壁内にお
けるブロッホラインを用いて情報の記録を行なうブロッ
ホラインメモリにおいて、磁性薄膜表面上に磁区に対応
する形状の発熱抵抗体が形成されており、該発熱抵抗体
に通電するための手段が備えられていることを特徴とす
る、ブロッホラインメモリ。
(1) In a Bloch line memory that records information using Bloch lines within a domain wall formed around a magnetic domain in a magnetic thin film, a heating resistor with a shape corresponding to the magnetic domain is formed on the surface of the magnetic thin film. A Bloch line memory comprising: a means for energizing the heating resistor;
(2)磁性薄膜が磁性ガーネット薄膜である、特許請求
の範囲第1項のブロッホラインメモリ。
(2) The Bloch line memory according to claim 1, wherein the magnetic thin film is a magnetic garnet thin film.
(3)磁性薄膜中の磁区の周囲に形成された磁壁内にお
けるブロッホラインを用いて情報の記録を行なうブロッ
ホラインメモリを製造する方法において、磁性薄膜の表
面に発熱抵抗体と該発熱抵抗体への通電のための電極を
形成し、外部からバイアス磁界を印加しながら発熱抵抗
体を通電により発熱させ該発熱抵抗体に対応する磁性薄
膜中に磁区を形成せしめることを特徴とする、ブロッホ
ラインメモリの製造方法。
(3) In a method for manufacturing a Bloch line memory in which information is recorded using Bloch lines in a domain wall formed around a magnetic domain in a magnetic thin film, a heating resistor is provided on the surface of the magnetic thin film, and a heating resistor is attached to the heating resistor. A Bloch line memory is characterized in that an electrode for energization is formed, and a heating resistor is energized to generate heat while applying an external bias magnetic field to form a magnetic domain in a magnetic thin film corresponding to the heating resistor. manufacturing method.
(4)磁性薄膜が磁性ガーネット薄膜である、特許請求
の範囲第3項のブロッホラインメモリの製造方法。
(4) The method for manufacturing a Bloch line memory according to claim 3, wherein the magnetic thin film is a magnetic garnet thin film.
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