JPS62293147A - 集中センサ及び制御装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ６、〔発明の詳細な説明〕 （産業上の利用分野） この発明は、一般的にはセンサに関するもので、更に具
体的には環境における濃縮物の童の瞬時的な表示を与え
るためのセンサに関するものである。

（従来の技術） 多（の応用においては、環境内で物質の量を連続的に監
視することが必要である。例えば、滅菌のために気相の
過酸化水素を用いる滅菌室の場合濃度の監視が重要であ
る。気相の過酸化水素の濃度を間接的に測定するための
種々の方法が現在存在するにも拘らず、滅菌の循環過程
中に気相の過酸化水素の瞬時濃度を直接測定する実際的
な方法は現在のところ存在しない。

間接的な測定技術の１例としては、気相の過酸化水素の
濃度の表示として圧力の上昇を用いるものがある。しか
しながら、圧力の読取りは、似かよった性質を持つ水蒸
気の存在により正確でない場合がある。有機体を滅菌器
の中に置く生物学的試験は、有機体が死ぬほど濃度が高
かったという情報を与えてくれるが、濃度がいくらかに
ついては何も教えて（れない。そのうえ、潜伏時間とそ
れに関連した負荷検疫期間とが長いため、生物学的試験
は瞬時の読み取り値を与えてくれない。

滅菌器に反応紙を置くような直接的な濃度測定技術は、
反応紙の濃度の量が累積的なため、連続的な測定値を提
供しない。循環過程の全て又は一部の期間中にキャリヤ
ーの中に滅菌剤を吸収させ、その後、キャリヤーを分光
分析する方法は、制御には利用できず、確認のためにか
ろうじて有益であるにすぎない。直接に気体の試料を採
取するのは、過酸化水素をその構成要素に分解させてし
まう汚染問題をもたらす筈である。加えて、滅菌器は概
して高度の真空で動作しているので、より一層高度の真
空が試料を引き抜くのに必要とされる。

か（して、適切な滅菌雰囲気であることを確認するため
ばかりでなく使用滅菌剤の量を制御するために、環境中
の滅菌剤の量を瞬時的に測定することの実際的な必要が
存在する。

（発明が解決しようとする問題点） 発明の最も広い見方において、本発明は環境の中の濃縮
物の瞬時的な量を表わす信号を与えるためのセンサを指
向している。該センサは、環境の温度を表わす第１の信
号を発生するために、濃縮物から隔離されている第１の
素子を有する。第２の素子は、該第２の素子により検知
した温度を変更するために濃縮物と相互作用をすること
ができる材料を有する。該第２の素子は変更された温度
を表わす第２の信号を発生し、かくして第１と第２の信
号は環境の中の濃縮物の瞬時的な量を表わす。

本発明の第２の素子は、例えば、過酸化水素の濃縮物と
相互作用をすることができる白金抵抗検出器を含む。

本発明のセンサは、環境における濃縮物の瞬時的な量を
表示するための装置の基礎を形成しうる。

該装置は、環境の温度を表わす第１の信号を発生するｋ
めに濃縮物から隔離された第１の抵抗性素子を有すミ濃
細物にさらされた第２の抵抗性素子は、該第２の抵抗性
素子により検知された温度を変更するために濃縮物と相
互作用をすることができる材料を有する。該第２の抵抗
性素子は変更された温度を表わす第２の信号を発生する
ためにあ発生する。出力装置は該出力信号に応答する。

濃縮物の瞬時的な童を表示するための本発明の装置は、
室の中の濃縮物の瞬時的な量を制御するために用いられ
る。このような制御装置は、室の中に設けられ該室の温
度を表わす第１の信号を発生するために濃縮物から隔離
された第１の抵抗性素子を有する。第２の抵抗性素子は
濃縮物にさらされ、該第２の抵抗性素子により検知され
た温度を変更するために濃縮物と相互作用をすることが
できる材料を有する。該第２の抵抗性素子は変更された
温度を表わす第２の信号を作るために設けられている。

第１の信号と第２の信号とは室の中の濃縮物の瞬時的な
量を表わす。室の中の濃縮物の量を減らす装置ばかりで
なく室の中の′Ｉ！に細物の量を増す装置も備えられて
いる。制御回路は、第１の信号と第２の信号とに応答し
て室中の償細物の量を増す装置及び室中の濃地物の量を
減らす装置を室の中の濃縮物の瞬時的な量が制御される
ように制御するための出力信号を発生する。

本発明のセンサと装置は濃縮物の瞬時的な量を正確にか
つ連続的に決めることを可能にする。このため、滅菌循
環過程のような過程を正確に監視して、適切な滅菌を保
証するために、使用滅菌剤の量を制御し、十分に長い期
間にわたって十分に高い滅菌剤濃度を保証する。本発明
のこれらの及びその他の利点と利益は以下の好ましい実
施例の記述から明らかである。

（発明の実施例） 本発明の教示により構成されたセンサ１０を第１図に図
示する。センサ１０は芯１４に螺旋状に巻かれている第
１の抵抗性素子１２を有する。第１の素子１２はそれか
ら延びる一対の引出線１５゜１６を有する。第２の抵抗
性素子１８は芯２０に同様に巻かれる。第２の素子１８
はそれから延びる一対の引出線２２．２３を有する。

第２の素子１８は熱透過性の薄い不活性プラスチック又
はガラスの筒２５に封じ込められる。第１の素子１２と
第２の素子１８は支持体２７に互いに近接して保持され
る。空気又は水蒸気の環境の中で素子１２と１８の両方
は近接しているので同じ温度を測る。第２の抵抗性素子
１８は筒２５のだめに幾らかの最小時間遅れを経験する
。しかしながら、筒２５を熱透過性の良い材料で非常に
薄（作ることによりその時間遅れは最小に保たれる。

センサ１０は、検知される濃縮物と抵抗性素子１２が相
互作用をするという原理に従って働らく。

例えば、第１の素子１２と第２の素子１８とが白金で構
成されているならば、過酸化水素蒸気のごとき濃縮物は
、それにさらされた第１の素子１２の白金の存在下で、
触媒作用により変化し、周知の化学方程式に従い熱を放
出しながら、その構成成分即ち酸素と水に分解する。さ
らされた第１の素子１２は比例的に上昇する温度Ｔ２を
測り、第２の素子１８は蒸気温度Ｔ１を測る。第１の素
子１２と第２の素子１８とにより測った温度の差は、過
酸化水素蒸気の濃度を表わしている。

素子１２の白金の童は少量に保つべきである。

それは、触媒作用により変化を受ける過酸化水素蒸気の
量が僅かであり、室の中の全体的な過酸化水素濃度に全
く影響を及ぼさないようにするためである。過酸化水素
蒸気の分解は進行過程であり、熱が連続的に発生するこ
とに注意すべきである。

第１の素子１２の温度は周囲の温度より僅かに上昇し、
熱を周囲の領域に放出する。第１の素子氏の白金の全体
量を少量に保つことにより、周囲の領域に放出される熱
は第２の素子１８により検知される温度に影響を及ぼさ
ない。最終的には、第１の素子１２により検知される温
度は、過酸化水素蒸気の濃度に比例する周囲温度より高
い温度の平衡点に達する。その上、環境の過酸化水素蒸
気の濃度は飽和状態又は飽和より低い状態に保つべきで
ある。それは、触媒作用による変化過程の除虫ずる水蒸
気という副生物が気化したままで、第１の素子１２に悪
影響を及ぼさないようにするためである。

第１の素子１２が、該第１の素子により検知される温度
を変更するために濃縮物と相互作用をすることができる
材料から構成される場合には、前述の原理はその他の型
の濃縮物に等しく応用でざる。加えて、成る種のセンサ
１２と濃縮物との間で化学反応が生じるがそれが、可逆
的であれば、センサ１２を再生させることができ、又、
その化学反応が非可逆的であれば、センサ１２を消耗さ
せ曵しまう。

前述したように、第２の素子１８は環境の温度Ｔ１を測
る。さらされる第１の素子１２は、気相の過酸化水素の
触媒分解の結果としてより高い温度Ｔ２を測る。この第
２の温度Ｔ２は式（１）に示すように気相の過酸化水素
の濃度及び環境の温度の関数である。

Ｔ２＝ｆ１　（Ｔ１．Ｃ）　　・・・・・・・・・・・
・・・・式（］）滅菌剤の濃度は式（１）を配列し直す
ことにより次のように決められる。

Ｃ＝ｆ２（Ｔ１．Ｔ２）　　　・・・・・・・・・・・
・・・・式（２）式（２）は比較的一定の作用圧力Ｐを
仮定している。

Ｐが一定でなげれば、式（２）は次のように一般化でき
る。

Ｃ＝Ｆ３（ＴＩ、Ｔ２．Ｐ）・・・・・・・・・・・・
式（３）実際の適用では、例えば、滅菌室の温度は５５
０Ｃに制御され、滅菌室は１０ｉｍＨｇ　の絶対圧の真
空になる。これらの環境下では式（３）のＴ１とＰは一
定であり、かくして考慮しなくてよい。したがって式（
３）は次のように単純化できる。

Ｃ”ｆ　４　（Ｔ２−Ｔ　Ｉ　）　　　・・・・・・・
・・・・・・・・式（４）操作が温度と圧力の狭い範囲
にわたる場合にのみ、単純化された式（４）が適用でき
ることに留意すべきである。こうした条件からはずれれ
ば、一層一般的な式（３）を用いなければならない。

当該技術の分野における通常の知識を有する者は、関数
ｆ６とＴ４を近似する検索表を作成し得ることが分るで
あろう。これは、様々な既知濃度の気相の過酸化水素に
センサ１０をさらすことによって公知の手順に従って行
われる。温度Ｔ１と圧力Ｐとを保持することにより、Ｔ
４のデータは二つの温度の読取値の差の関数として決め
られる。

温度Ｔ１と圧力Ｐ１とを変えることにより、Ｔ６のデー
タは両方の温度と圧力との関数として決められる。こう
して、近似検索表を作ることができる。

第２図は、滅菌室３０の過激化水素の量を制御するため
に本発明のセンサＪＯを用いる制御装置を図示する。滅
菌室３０は管路３４を介して過酸化水素タンク３２に接
続される。タンク３２から管路３４を介して滅菌室３０
へ行く過酸化水素の流量は弁３６により制御される。

滅菌室３０からの物質の流れは、管路４０を介して滅菌
室３０に接続された真空ポンプ３８により制御される。

管路４０を介しての物質の流れは弁４２により制御され
る。又、滅菌室３０は通気管路４４を介して排気される
。通気管路４４は、通気管路４４を通る物質の流れを制
御するための弁４６を有する。

センサ１０により発生した温度信号Ｔ１とＴ２は入力線
５０を介して制御回路４８に入力される。

圧力センサ５２は圧力Ｐを表わす信号を発生し、その信
号は入力線５４を介して制御回路４８に入力される。こ
の未加工のデータに応答して、制御回路４８は出力信号
（後述）を電線５６．５８．匁６２．６４に出力して弁
３６．加熱器５９．弁４２゜弁４６．真空ポンプ３８の
作動をそれぞれｆｆｌ制御する。又、制御回路は表示計
６８への電線６６に出力される出力信号を発生して、滅
菌室３０での過酸化水素濃度の瞬時的な値を表示する。

第２図に図示された滅菌室３０は任意の種々の周知の滅
菌循環過程により作動することができる。

包装された顕微手術器具のために用いられる典型的な公
知の過酸化水素滅菌の循環過程が第３図に図示されてい
る。第３図に図示されたグラフは本発明の一面ではなく
、完全を期す目的で開示されている。当業者であればわ
かることであるが、滅菌の循環過程中の変数の中には、
滅菌室３０の中で生じる真空の深さと、パルス毎に滅菌
室３０に注入される過酸化水素の量と、各パルスの保持
時間と、パルス数と、滅菌室３０内の温度と、過酸化水
素滅菌剤の濃度とが含まれる。

第３図において、滅菌室が加熱される滅菌の循環過程の
最初の約８分間は、滅菌室が真空にされる。循環過程に
入ってから約８分で過酸化水素が滅菌室３０に注入され
、滅菌室３０内の真空状態は弱まる。滅菌の循環過程に
入ってから約１０分で滅菌室３０内の圧力は安定し、約
６分間保持される。滅菌の循環過程に入ってから約１６
分で、滅菌室３０の中を真空にして元の値に戻すために
真空ポンプ３８が作動する。その真空状態が最初の値に
戻ると、過酸化水素のもう一つのパルスが滅菌室に注入
される。真空にしてから過酸化水素を注入するこの過程
は、滅掬が完了する迄何回か繰り返される。循環過程に
入って約４０分の時点で滅菌室３０は大気に通気される
。

制御回路４８の構成要素を示すブロックダイアグラムが
第４図に図示されている。制御回路４８は第１の抵抗性
素子１２へ電流を与えるための第１の電流源７０と、第
２の抵抗性素子１８へ電流を与えるための第２の電流源
７２とを有する。抵抗温度検出器１２．１８のための電
流源７０．７２の設備は当該技術分野では周知である。

第１と第２の電流源７０．７２により発生された信号は
時間マルチプレクサ７４にそれぞれ入力される。温度Ｔ
１とＴ２とを表わすこれらの信号はサンプルホールド回
路７６に交互に入力される。サンプルホールド回路７６
の出力は増幅器７８により増幅される。増幅された信号
はアナログ−ディジタル変換器８０によりディジタル形
式に変換される。

温度Ｔ１とＴ２とを表わすディジタル信号は入出力ボー
ト８４を介してマイクロプロセッサ８２に入力される。

記憶装置８６に記憶された命令に従い動作するマイクロ
プロセッサ８２は、入出力ポート８４を介してマルチプ
レクサ７４とサンプルホールド回路７６とアナログ−デ
ィジタル変換器８０との動作を公知のやり方で制御する
。

動作について説明すると、マイクロプロセッサ８２はマ
ルチプレクサ７４を動作可能化して、温度信号Ｔ１又は
Ｔ２の一つをサンプルホールド回路７６に渡すようにさ
せる。サンプルホールド回路７６は該アナログ値を十分
な期間保持して該アナログ値をディジタル値に変換する
。該ディジタル値はマイクロプロセッサ８２に読み込ま
れる。

そこでマイクロプロセッサ８２は該過程を繰り返して、
もう一つの温度測定値を表わす値を入力する。

圧力が当該期間の間一定に保たれる実施例においては、
信号線５４の圧力読取値Ｐは、第３図に図示されている
ような滅菌循環過程を遂行するために用いられ、過酸化
水素の蒸気の濃度を決めるためには必要としない。前述
の式（４）から分るように、マイクロプロセッサ８２は
、温度Ｔ１．Ｔ２に対応する値を読み終った後に、二つ
の温度を減算し温度の差分値を発生する。該温度の差分
値は、記憶装置８６に記憶された温度の差分垣と、それ
に対応する過酸化水素濃度との検索表と比較される。合
致する所が捜し当たると、該温度の差分値に対応する過
酸化水素の濃度がマイクロプロセッサ８２により選択さ
れる。この時、マイクロプロセッサ８２は信号を信号線
６６に出力することにより、選択された過酸化水素濃度
を表示計６８に表示する。

又、過酸化水素の濃度の選択値はマイクロプロセッサ８
２により設定値と比較され、瞬時濃度が設定値より上で
あるか、下であるかが決定される。

もし下であれば、マイクロプロセッサ８２は信号を信号
線５６に出力して弁３６を開け、それによりタンク３２
から滅菌室３０に追加の過酸化水素を流入させる。過酸
化水素の瞬時値が設定値より上であれば、マイクロプロ
セッサ８２は信号を信号線６０に出力して弁４２を開く
と共に信号を信号線６４にも出力して真空ポンプ３８を
始動させ、過酸化水素を滅菌室から取り去る。代りに信
号が信号線６２に出力されて弁４６を開け、過酸化水素
を滅菌室３０から通気管路４４を介して流出させる。こ
のようにして、マイクロプロセッサ８２はセンサ１０に
より発生した未加工のデータを用い、滅菌室３０の中の
過酸化水素の濃度を制御する。

滅菌室３０内の圧力が当該期間中に一定に保たれない場
合には、式（３）に必要とされる情報に対応する検索表
が記憶装置８６に記憶される。マイクロプロセッサ８２
は、圧力Ｐを表わす未加工の圧力データと共に＠度Ｔ１
．Ｔ２を表わす未加工の温度データを取り込み、それら
の読取値を記憶装置８６に記憶された情報と比較する。

測定温度Ｔ１．Ｔ２と測定圧力Ｐとが温度Ｔ１．Ｔ２と
圧力Ｐとの記憶された値と合致すると、マイクロプロセ
ッサ８２は対応する過酸化水素濃度を選択する。この選
択された濃度は表示計６８により表示され、又前述した
ように装置を制御するために設定値と比較される。測定
データを検索表のデータと比較すること及び適切な対応
する濃度を選択することは当該技術分野における通常の
技術であり、更に述べる必要はない。加えて、過酸化水
素の濃度は所望の頻度で決めることができる。

以上述べてきた機能に加えて、マイクロプロセッサ８２
は第２図に示された滅菌循環過程を遂行させる。例えば
、マイクロプロセッサ８２は温度Ｔ１を基準温度と周期
的に比較する。温度Ｔ１が基準温度より低くなると、マ
イクロプロセッサ８２は信号を信号線５８に出力して加
熱器５９に電圧を印加し、それにより所望の滅菌循環過
程に応じて滅菌室３０内の温度を制御する。その上、マ
イクロプロセッサ８２は滅菌室３０内の圧力を表わす信
号を用いて圧力を制御する。これは、圧力信号Ｐを種々
の基準圧力と比較し、それに続いて、所望の滅菌循環過
程に応じて圧力を制御するように、真空ポンプ３８と共
に弁３６．４６又は４２を操作することにより達成され
る。第３図に示されるように滅菌循環過程を制御するた
めに温度信号Ｔ１と圧力信号Ｐとを用いることは、当該
技術分野に属する通常の技術であると考えられるので、
更に述べる必要はない。

本発明を例示的な実施例と関連づけて述べてきたが、多
（の変形と修正は当該技術の分野の通常の知識を有する
者にとってただちに明らかである。

例えば、白金以外の材料から構成される素子を有するセ
ンサは別の滅菌剤の検知との組み合わせで用いられる。

又、当該技術分野の通常の知識を有する者には、未加工
のデータをマイクロプロセッサに入力することについて
、第４図に図示された方法以外の多くの方法があること
が分る筈である。

以上の開示と特許請求の範囲記載の事項はこれらの変形
と修正を含むものである。

【図面の簡単な説明】

本発明を明瞭に理解し、容易に実施し５るために、好ま
しい実施例が車なる例示として以下の添付図面を参照し
て記述される。 第１図は、本発明の教示により構成されたセンサを図示
する。 第２図は、本発明のセンサを用いて、室の中の濃縮物の
瞬時的な童を制御するための装置を図示する。 第３図は、包装された顕微手術器具のための典型的な公
知の過酸化水素滅菌の循環過程を図示したグラフである
。 第４図は、第２図で図示した制御回路の構成要素を図示
したブロックダイヤグラムである。 １０：センサ、　　　　　１２：第１の抵抗性素子、１
８：第２の抵抗性素子、２５：筒、 ２７：支持体、　　　　　３０：滅１室、３２：過酸化
水素タンク、３５：気化器、３６．４２，４６：弁、　
　３８：真空ポンプ、４８：制御回路、　　　　　５２
：圧力センサ、５９：加熱器、　　　　　　６８：表示
計、？０．７２：電流源、　　　７４：マルチプレクサ
、７６：サンプルホールド回路、 ７８：増幅器、 ８０：アナログ−ディジタル変換器、 ８２：マイクロプロセッサ、 ８４：入出力ポート、　　８６：記憶装置。 （外５名） Ｆｉｇ、Ｉ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、環境の中の濃縮物の瞬時的な量を表わす信号を発生
   するためのセンサにおいて、 環境の温度を表わす第１の信号を発生するための第１の
   手段と、 前記第１の手段を濃縮物から隔離するための遮蔽手段と
   、 濃縮物と相互作用をして検知温度を変更することができ
   る材料を含む第２の手段であつて、前記の変更された温
   度を表わす第２の信号を、前記第１の信号及び該第２の
   信号が環境の中の瞬時的な量を表わすように発生するた
   めの前記第２の手段と、 を有するセンサ。 ２、前記遮蔽手段が熱透過性の遮蔽手段を含む特許請求
   の範囲第１項記載のセンサ。 ３、濃縮物が存在しない場合に、前記第１の手段と第２
   の手段とが実質上同じ温度を検知するように前記第１の
   手段と第２の手段とを支える支持体を更に有する特許請
   求の範囲第１項記載のセンサ。 ４、前記第１の手段が第１の抵抗性温度検出器を、前記
   第２の手段が第２の抵抗性温度検出器をそれぞれ含む特
   許請求の範囲第１項記載のセンサ。 ５、前記第２の手段が過酸化水素の濃縮物と相互作用を
   することができる白金の抵抗性素子を含む特許請求の範
   囲第１項記載のセンサ。 ６、前記第１の手段により測定される周囲温度が前記白
   金と過酸化水素との相互作用による影響を受けない程度
   に白金の量を少なくした特許請求の範囲第５項記載のセ
   ンサ。 ７、環境の中の濃縮物の瞬時的な童を表示するための装
   置において、 環境の温度を表わす第１の信号を発生するために濃縮物
   から隔離された第１の抵抗性素子と、濃縮物にさらされ
   、濃縮物と相互作用をして検知温度を変更することがで
   きる材料から構成され、前記の変更された温度を表わす
   第２の信号を発生する第２の抵抗性素子と、 前記第１の信号と第２の信号とに応答して環境の中の濃
   縮物の瞬時的な量を表わす出力信号を発生するための手
   段と、 前記出力信号に応答する出力手段と、 を有する表示装置。 ８、前記第１の抵抗性素子に電力を供給するための第１
   の電流源と第２の抵抗性素子に電力を供給するための第
   ２の電流源とを更に有する特許請求の範囲第７項記載の
   装置。 ９、出力信号を発生するための前記手段が制御回路を含
   む特許請求の範囲第７項記載の装置であつて、更に前記
   第１の信号と第２の信号とを前記制御回路に入力するた
   めの手段を有する装置。 １０、入力するための前記手段が、全て直列に接続され
   かつ前記制御回路により制御される時間マルチプレクサ
   とサンプルホールド回路とアナログ−ディジタル変換器
   とを含む特許請求の範囲第９項記載の装置。 １１、前記制御回路が、差分の温度信号を発生するため
   に前記第１の信号と第２の信号とを減算するための手段
   と、差分の温度の値と、濃縮物の量を表わす対応値とを
   含む検索表を記憶するための記憶手段と、前記差分の温
   度信号を前記の記憶された差分の温度の値と比較するた
   めの手段とを含む特許請求の範囲第９項記載の装置。 １２、環境の圧力を表わす圧力信号を発生するためのセ
   ンサを有し、かつ前記制御回路が前記第１の信号と前記
   第２の信号と前記圧力信号とに応答して前記出力信号を
   発生する特許請求の範囲第９項記載の装置。 １３、前記制御回路が、前記第１の信号と前記第２の信
   号と前記圧力信号とに対する値と濃縮物の量を表わす対
   応値とを含む検索表を記憶するための記憶手段と、前記
   第１の信号と前記第２の信号と前記圧力信号とを前記の
   記憶された値と比較するための手段とを含む特許請求の
   範囲第１２項記載の装置。 １４、室の中の濃縮物の瞬時的な量を制御する装置にお
   いて、 室の中の温度を表わす第１の信号を発生するために室の
   中に設置され、かつ濃縮物から隔離された第１の抵抗性
   素子と、 濃縮物にさらされ、濃縮物と相互作用をして検知温度を
   変更することができる材料から構成され、前記の変更さ
   れた温度を表わす第２の信号とを発生するための第２の
   抵抗性素子であつて、前記第１の信号と前記第２の信号
   とが室の中の濃縮物の瞬時的な量を表わすようにした第
   ２の抵抗性素子と、 室の中の濃縮物の量を増加させるための手段と、室の中
   の濃縮物の量を減少させるための手段と、前記第１の信
   号と第２の信号とに応答して出力信号を発生し、室の中
   の濃縮物の瞬時的な量を制御するように前記増加させる
   ための手段と前記減少させるための手段とを制御するた
   めの制御手段と、 を有する制御装置。 １５、室は滅菌室を含み、濃縮物が過酸化水素の蒸気を
   含む特許請求の範囲第１４項記載の装置。 １６、前記増加させるための手段が、前記制御手段によ
   り制御される弁を介して室に接続された過酸化水素蒸気
   供給源を有する特許請求の範囲第１５項記載の装置。 １７、前記減少させるための手段が、弁を介して室に接
   続された真空ポンプを含み、前記弁と前記真空ポンプと
   が前記制御手段により制御される特許請求の範囲第１６
   項記載の装置。 １８、前記減少させるための手段が、前記制御手段によ
   り制御される弁を介して室に接続された通気管を含む特
   許請求の範囲第１７項記載の装置。