JPS6228507A - 電歪体駆動のアクチユエ−タ - Google Patents
電歪体駆動のアクチユエ−タInfo
- Publication number
- JPS6228507A JPS6228507A JP16623885A JP16623885A JPS6228507A JP S6228507 A JPS6228507 A JP S6228507A JP 16623885 A JP16623885 A JP 16623885A JP 16623885 A JP16623885 A JP 16623885A JP S6228507 A JPS6228507 A JP S6228507A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- output rod
- fluid
- check valve
- reservoir chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Actuator (AREA)
- Supply Devices, Intensifiers, Converters, And Telemotors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電圧の印加に応じて伸縮する電歪体を利用し
て出力ロンドを駆動する電歪体駆動のアクチュエータと
して用いて有効である。
て出力ロンドを駆動する電歪体駆動のアクチュエータと
して用いて有効である。
従来から、電歪効果を有する電歪素子が、電気的制御に
対して極めて応答速度が速いということで、様々の用途
のアクチュエータとして検討されている。ところが、電
歪素子を複数積層してその全体の変位量を増大するよう
にしたものにおいて、数百ボルトの高電圧を印加しても
、その伸び量(変位量)は数十ミクロンと非常に少ない
という欠点をもつ。この欠点の改善案として、電歪素子
の変位を大面積のピストンから、密封空間に封入された
非圧縮性流体を媒体として、小面積のロンドに伝達する
、いわゆるパスカルの原理を応用した変位量拡大機構を
用いるものが考案されている。
対して極めて応答速度が速いということで、様々の用途
のアクチュエータとして検討されている。ところが、電
歪素子を複数積層してその全体の変位量を増大するよう
にしたものにおいて、数百ボルトの高電圧を印加しても
、その伸び量(変位量)は数十ミクロンと非常に少ない
という欠点をもつ。この欠点の改善案として、電歪素子
の変位を大面積のピストンから、密封空間に封入された
非圧縮性流体を媒体として、小面積のロンドに伝達する
、いわゆるパスカルの原理を応用した変位量拡大機構を
用いるものが考案されている。
ところが、上記変位量拡大機構は、封入される流体及び
他の構成部材が温度変化によって熱膨張するだめに、温
度変化に対して影響をまぬがれることができない。ある
いはその拡大率が上記ピストンとロッドの面積比に依存
するためにせいぜい数十倍であるといった問題点を有し
ている。
他の構成部材が温度変化によって熱膨張するだめに、温
度変化に対して影響をまぬがれることができない。ある
いはその拡大率が上記ピストンとロッドの面積比に依存
するためにせいぜい数十倍であるといった問題点を有し
ている。
そこで、本発明は上記の点に鑑みてなされるもので、そ
の目的は、応答速度の極めて速い電歪素子を利用し、か
つその電歪素子の微少変位量を拡大し、しかも温度変化
に対して影響を受けることのない電歪体駆動のアクチュ
エータを提供することにある。
の目的は、応答速度の極めて速い電歪素子を利用し、か
つその電歪素子の微少変位量を拡大し、しかも温度変化
に対して影響を受けることのない電歪体駆動のアクチュ
エータを提供することにある。
上記問題点を解決するための手段として、ケーシングに
摺動自在に設けられる出力ロッドと、ケーシング内に配
設されてパルス電圧の印加に応じて伸縮する電歪体と、
ケーシング内に形成されて非圧縮流体の満たされるリザ
ーバ室と、前記電歪体の伸縮によって前記リザーバ室か
ら逆上弁を介して流体が流入するのみを許容する、もし
くは逆止弁を介して前記リザーバ室へ流体が流出するの
みを許容することによって流体量が変化するとともに、
前記出力ロッドの一端面を室壁とする作動室と、前記作
動室と前記リザーバ室とを連通ずる流路途中に設けられ
る制御弁とを有することを特徴とする。
摺動自在に設けられる出力ロッドと、ケーシング内に配
設されてパルス電圧の印加に応じて伸縮する電歪体と、
ケーシング内に形成されて非圧縮流体の満たされるリザ
ーバ室と、前記電歪体の伸縮によって前記リザーバ室か
ら逆上弁を介して流体が流入するのみを許容する、もし
くは逆止弁を介して前記リザーバ室へ流体が流出するの
みを許容することによって流体量が変化するとともに、
前記出力ロッドの一端面を室壁とする作動室と、前記作
動室と前記リザーバ室とを連通ずる流路途中に設けられ
る制御弁とを有することを特徴とする。
以下、本発明の第1実施例を図面に基づいて説明する。
図中符号1は、ケーシング2から一端が突出するととも
に、ケーシング2内に摺動自在に設けられる出力ロッド
である。出力ロッド1はケーシング上板2aに一端が支
持されるスプリング3によって図中下方に付勢されてい
る。出力ロッド1の他端は、ケーシング2内の作動室4
の室壁を形成している。尚、14はシール用0リングで
ある。
に、ケーシング2内に摺動自在に設けられる出力ロッド
である。出力ロッド1はケーシング上板2aに一端が支
持されるスプリング3によって図中下方に付勢されてい
る。出力ロッド1の他端は、ケーシング2内の作動室4
の室壁を形成している。尚、14はシール用0リングで
ある。
出力ロッド1の外周のケーシング2には、i状の空間が
形成されて、その空間内に非圧縮性作動流体、例えば作
動油、シリコンオイル等が充填されてリザーバ室5を形
成している。リザーバ室5はその上方に設けられる大気
開孔5aを介して大気に連通している。
形成されて、その空間内に非圧縮性作動流体、例えば作
動油、シリコンオイル等が充填されてリザーバ室5を形
成している。リザーバ室5はその上方に設けられる大気
開孔5aを介して大気に連通している。
6は、電歪素子積層体8によって容積変動するポンプ室
である。電歪素子積層体8は円柱上のケーシング2内に
穿設された円筒状の穴2b内に配設されており、その下
端面は円盤状の取付下板8aに同心円上に固定され、そ
の上端面には取付上板8bを介してピストン7が設けら
れている。ピストン7は、ハウジング2内の円筒状の穴
2aの軸方向に摺動自在で、かつ油密的に設けられて、
電歪素子積層体8によって図中上下方向に摺動変位され
る。また、電歪素子積層体8は、薄い(約0.5+n)
円盤状の電歪素子を数十枚積層して円柱状にしたもので
ある。電歪素子ばPZTと呼ばれるセラミックであり、
チタン酸−ジルコン酸鉛を主成分としており、その厚み
方向に数百Vの電圧を印加すると数μm伸びる。この電
歪素子を数十枚積層して、各々の素子の厚み方向に上記
電圧を印加すると、全体として数十μmの伸長が得られ
る。この電圧を解除するか又は若干の負電圧を印加すれ
ば縮小して元の長さに戻る。
である。電歪素子積層体8は円柱上のケーシング2内に
穿設された円筒状の穴2b内に配設されており、その下
端面は円盤状の取付下板8aに同心円上に固定され、そ
の上端面には取付上板8bを介してピストン7が設けら
れている。ピストン7は、ハウジング2内の円筒状の穴
2aの軸方向に摺動自在で、かつ油密的に設けられて、
電歪素子積層体8によって図中上下方向に摺動変位され
る。また、電歪素子積層体8は、薄い(約0.5+n)
円盤状の電歪素子を数十枚積層して円柱状にしたもので
ある。電歪素子ばPZTと呼ばれるセラミックであり、
チタン酸−ジルコン酸鉛を主成分としており、その厚み
方向に数百Vの電圧を印加すると数μm伸びる。この電
歪素子を数十枚積層して、各々の素子の厚み方向に上記
電圧を印加すると、全体として数十μmの伸長が得られ
る。この電圧を解除するか又は若干の負電圧を印加すれ
ば縮小して元の長さに戻る。
またピストン7の上面の外周に沿っては、0リング9が
設けられており、0リング9はピストン7の上下変位を
吸収して変形する。尚、電歪素子積層体8は、図中下方
向より約100〜200 kg重程度の荷重を加えた状
態で、固定用ケーシング下板2c及び固定せぬボルト等
の固定手段によってケーシング2に固定されている。ま
た、取付上板3a、下板8aには、積層体8と固定され
る側端面に、環状の溝8c、8dが形成されて、積層体
1の上下端面の外周部分が直接的に取付上板8b、下板
8aと接触しない構造である。またケーシング2の円筒
状の穴2bは、連通路2cを介して外部と連通しており
、電歪素子積層体8はこの連通路2dを介して図示せぬ
リード線によってパルス電圧が印加される。
設けられており、0リング9はピストン7の上下変位を
吸収して変形する。尚、電歪素子積層体8は、図中下方
向より約100〜200 kg重程度の荷重を加えた状
態で、固定用ケーシング下板2c及び固定せぬボルト等
の固定手段によってケーシング2に固定されている。ま
た、取付上板3a、下板8aには、積層体8と固定され
る側端面に、環状の溝8c、8dが形成されて、積層体
1の上下端面の外周部分が直接的に取付上板8b、下板
8aと接触しない構造である。またケーシング2の円筒
状の穴2bは、連通路2cを介して外部と連通しており
、電歪素子積層体8はこの連通路2dを介して図示せぬ
リード線によってパルス電圧が印加される。
ポンプ室6は、ケーシング2に固定され、かつ作動室4
への流体の吐出のみを許容する応答性の良い吐出用逆止
弁10を介して作動室4と連通ずるとともに、リザーバ
室5と吸入用逆止弁11を介して連通している。吸入用
逆止弁11は、リザーバ室5と連通ずる多数の流路5b
を開閉する環状バルブllaと、バルブllaを支持す
るスプリングllbから構成される。
への流体の吐出のみを許容する応答性の良い吐出用逆止
弁10を介して作動室4と連通ずるとともに、リザーバ
室5と吸入用逆止弁11を介して連通している。吸入用
逆止弁11は、リザーバ室5と連通ずる多数の流路5b
を開閉する環状バルブllaと、バルブllaを支持す
るスプリングllbから構成される。
また作動室4は、流路12を介してリザーバ室5と連通
し、この流路12の途中には制御弁として開閉ニードル
弁13が設けられている。
し、この流路12の途中には制御弁として開閉ニードル
弁13が設けられている。
次に、上述の構成に基づいてその作動を説明する。
電歪素子積層体8に800V程度のパルス電圧を印加す
る。尚、このパルス電圧は、図示せぬ制御回路によって
制御されて、周波数が数百ヘルツ、1回のパルス毎の電
圧印加時間が、積層体1の応答時間(電圧を印加してか
ら積層体1が完全に伸びるまでの時間)よりも長いもの
である。すると積層体1は上下方向に伸縮し、ピストン
7を上下に駆動する。このピストン7は、ゴム等の弾性
体から成るOリング9の変形、復元によって容易に上下
方向に移動して、ポンプ室6の容積を増減変化させる。
る。尚、このパルス電圧は、図示せぬ制御回路によって
制御されて、周波数が数百ヘルツ、1回のパルス毎の電
圧印加時間が、積層体1の応答時間(電圧を印加してか
ら積層体1が完全に伸びるまでの時間)よりも長いもの
である。すると積層体1は上下方向に伸縮し、ピストン
7を上下に駆動する。このピストン7は、ゴム等の弾性
体から成るOリング9の変形、復元によって容易に上下
方向に移動して、ポンプ室6の容積を増減変化させる。
ポンプ室6の容積が増加する、すなわちピストン7が下
へ移動する時、吸入用逆止弁11が開き、リザーバ室5
の流体が流路5aからポンプ室6内に流入して、ポンプ
室6内の流体量が増加する。
へ移動する時、吸入用逆止弁11が開き、リザーバ室5
の流体が流路5aからポンプ室6内に流入して、ポンプ
室6内の流体量が増加する。
次に、ピストン7が上方へ移動してポンプ室6の容積が
減少する時、吸入用逆止弁11は閉塞され、ポンプ室6
内の流体は吐出用逆止弁10を介して作動室4へ供給さ
れる。すると、作動室4内の流体は、スプリング3の付
勢力に抗して出力ロッド1を上方へ移動させることとな
る。ここで1図のパルス電圧印加による出力ロッド1の
移動距離は、ピストン7、電歪素子積層体8の変位置。
減少する時、吸入用逆止弁11は閉塞され、ポンプ室6
内の流体は吐出用逆止弁10を介して作動室4へ供給さ
れる。すると、作動室4内の流体は、スプリング3の付
勢力に抗して出力ロッド1を上方へ移動させることとな
る。ここで1図のパルス電圧印加による出力ロッド1の
移動距離は、ピストン7、電歪素子積層体8の変位置。
及びピストン7と出力ロッド1との径の比等によってほ
ぼ決まる。そして第1図(a)の様にパルス電圧■、■
、■・・・を電歪素子積層体8に繰り返して印加すると
、1図のパルス電圧毎に作動室4内の流体量が増加して
、出力ロッド1が上方へ移動する。尚、この時ニードル
弁13は閉塞されている。
ぼ決まる。そして第1図(a)の様にパルス電圧■、■
、■・・・を電歪素子積層体8に繰り返して印加すると
、1図のパルス電圧毎に作動室4内の流体量が増加して
、出力ロッド1が上方へ移動する。尚、この時ニードル
弁13は閉塞されている。
ここでパルス電圧の印加を停止してニードル弁13を開
弁すると、作動室4内の流体が流路12を介してリザー
バ室5へ流出するので、出力ロッド1はスプリング3の
付勢力によって最初の位置に戻る。
弁すると、作動室4内の流体が流路12を介してリザー
バ室5へ流出するので、出力ロッド1はスプリング3の
付勢力によって最初の位置に戻る。
尚、上述の実施例において吸入用逆止弁11を設けずに
、第2図に示す様に吐出用逆止弁10のみを設ける構成
であっても同様の作動をする。ただし、このとき1回の
パルス電圧印加毎の出力ロッド1の移動距離は減少する
ので、パルス電圧の周波数を高くすると良い。
、第2図に示す様に吐出用逆止弁10のみを設ける構成
であっても同様の作動をする。ただし、このとき1回の
パルス電圧印加毎の出力ロッド1の移動距離は減少する
ので、パルス電圧の周波数を高くすると良い。
更に第3図に示す様に吸入用逆止弁11のみを設ける構
成であっても同様に作動する。
成であっても同様に作動する。
次に第2実施例について第4図に基づいて説明する。
上述第1実施例との相違点は、出力ロッド1がスプリン
グ3によって上方へ付勢されている点、また逆止弁10
,11が、作動室4の流体をポンプ室6を介してリザー
バ室5へ流出する方向にのみの流れを許容するように設
けられている。他の構成は、はぼ同一であるので、同一
符号を付して説明は省略する。
グ3によって上方へ付勢されている点、また逆止弁10
,11が、作動室4の流体をポンプ室6を介してリザー
バ室5へ流出する方向にのみの流れを許容するように設
けられている。他の構成は、はぼ同一であるので、同一
符号を付して説明は省略する。
上述構成に基づいて電歪素子積層体8が伸縮すると、作
動室4内の流体が、逆止弁10を介してポンプ室6に吸
入され、ポンプ室6から逆止弁11を介してリザーバ室
5に吐出される。よって作動室4内の流体量が減少する
ので、出力ロッド1はスプリング3に抗して図中下方へ
移動する。このとき、ニードル弁13は閉塞されている
が、ニードル弁14を開弁すると、出力ロッドは最初の
位置に戻る。尚、第1実施例と同様に、逆止弁11のい
ずれか一方のみを設けた構成であっても、上述と同様に
作動することは言うまでもない。
動室4内の流体が、逆止弁10を介してポンプ室6に吸
入され、ポンプ室6から逆止弁11を介してリザーバ室
5に吐出される。よって作動室4内の流体量が減少する
ので、出力ロッド1はスプリング3に抗して図中下方へ
移動する。このとき、ニードル弁13は閉塞されている
が、ニードル弁14を開弁すると、出力ロッドは最初の
位置に戻る。尚、第1実施例と同様に、逆止弁11のい
ずれか一方のみを設けた構成であっても、上述と同様に
作動することは言うまでもない。
また、上述の実施例において制御弁として示したニード
ル弁を電磁弁としても良いことは言うまでもない。
ル弁を電磁弁としても良いことは言うまでもない。
次に、第3実施例を第5図に基づいて説明する。
この実施例においては、2つの電歪素子積層体8(1)
、 8(21を用いて、一方を出力ロッド1の伸長用
に、他方を出力ロッド1の復元用に利用する。
、 8(21を用いて、一方を出力ロッド1の伸長用
に、他方を出力ロッド1の復元用に利用する。
作動室4は、第1の電歪素子積層体8(1)によってポ
ンプ作用をする第1ポンプ室6(1)と、吐出用逆止弁
10(1)を介して連通し、第1ポンプ室6(1)は吸
入用逆止弁11(11を介してリザーバ室5と連通して
いる。よって、第1の電歪素子積層体8(1)を駆動す
ると、リザーバ室5内の流体は、逆止弁11(1)、第
1ポンプ室6(1)、逆止弁10(1)を介して作動室
4へ送出され、出力口7ド1は図中上方へ移動する。
ンプ作用をする第1ポンプ室6(1)と、吐出用逆止弁
10(1)を介して連通し、第1ポンプ室6(1)は吸
入用逆止弁11(11を介してリザーバ室5と連通して
いる。よって、第1の電歪素子積層体8(1)を駆動す
ると、リザーバ室5内の流体は、逆止弁11(1)、第
1ポンプ室6(1)、逆止弁10(1)を介して作動室
4へ送出され、出力口7ド1は図中上方へ移動する。
また作動室4は、第2の電歪素子積層体8(2)によっ
てポンプ作用をする第2ポンプ室6(2)と吸入用逆止
弁10(2)を介して連通し、第2ポンプ室6(2)は
吐出用逆止弁11(2)を介してリザーバ室5と連通し
ている。よって、第2の電歪素子積層体8(2)を駆動
すると、作動室4内の流体は、逆止弁1O(2)、第2
ポンプ室6(2+、逆止弁11(21を介してリザーバ
室5へ流出されるので、出力ロッド1は図中下方へ移動
する。
てポンプ作用をする第2ポンプ室6(2)と吸入用逆止
弁10(2)を介して連通し、第2ポンプ室6(2)は
吐出用逆止弁11(2)を介してリザーバ室5と連通し
ている。よって、第2の電歪素子積層体8(2)を駆動
すると、作動室4内の流体は、逆止弁1O(2)、第2
ポンプ室6(2+、逆止弁11(21を介してリザーバ
室5へ流出されるので、出力ロッド1は図中下方へ移動
する。
従って、第1の電歪素子積層体8(1)にのみパルス電
圧を印加すると、出力ロッド1は図中上方へ伸長し、又
第2電歪素子積層体8(2)にのみパルス電圧を印加す
ると、出力ロッド1は図中下方へ、つまり復元する方向
へ移動する。また、同時に第1、第2の電歪素子積層体
8 (1)、 8 (21にパルス電圧を印加すると
、出力ロッド1は一定の位置に保持される。
圧を印加すると、出力ロッド1は図中上方へ伸長し、又
第2電歪素子積層体8(2)にのみパルス電圧を印加す
ると、出力ロッド1は図中下方へ、つまり復元する方向
へ移動する。また、同時に第1、第2の電歪素子積層体
8 (1)、 8 (21にパルス電圧を印加すると
、出力ロッド1は一定の位置に保持される。
以上述べた様に、出力口・ノドは非圧縮性流体を介して
、応答速度の極めて速い電歪体(応答速度は数十マイク
ロ秒)によって駆動されるため、従来のソレノイドを用
いたアクチュエータと比較して、高速駆動される。また
、多数回のパルス電圧の印加によって電歪体を伸縮する
と、作動室内へ流体が流入、もしくは作動室から流出す
るポンプ作用によって作動室内を満たす流体量を大きく
変化するため、電歪体の微少変位置がその流体量によっ
て拡大されて出力ロッドを駆動することになる。さらに
上述作動室は、ポンプ作用によって流体量が変化するた
め、密封空間とは異なり温度変化の影響をうけにくいと
ともに、厳密な密封空間を形成するシール部材が不要に
なるという効果も有する。
、応答速度の極めて速い電歪体(応答速度は数十マイク
ロ秒)によって駆動されるため、従来のソレノイドを用
いたアクチュエータと比較して、高速駆動される。また
、多数回のパルス電圧の印加によって電歪体を伸縮する
と、作動室内へ流体が流入、もしくは作動室から流出す
るポンプ作用によって作動室内を満たす流体量を大きく
変化するため、電歪体の微少変位置がその流体量によっ
て拡大されて出力ロッドを駆動することになる。さらに
上述作動室は、ポンプ作用によって流体量が変化するた
め、密封空間とは異なり温度変化の影響をうけにくいと
ともに、厳密な密封空間を形成するシール部材が不要に
なるという効果も有する。
第1図は本発明の電歪体駆動のアクチュエータの第1実
施例を示し、第1図(a)はその断面図、第1図(b)
はその電歪素子積層体へのパルス電圧印加回数を出力ロ
ッドの変位との関係を示す図、第2図、第3図は第1実
施例の他の例を示し、第2図(a)、第3図(a)はそ
の断面図、第2図(b)、第3図(b)は→その電歪素
子積層体へのパルス電圧印加回数を出力ロッドの変位と
の関係を示す図である。第4図は第2実施例を示し、第
4図(a)はその断面図、第4図(b)はその電歪素子
積層体へのパルス電圧印加回数を出力ロッドの変位との
関係を示す図、第5図は第3実施例を示し、第5図(a
)はその断面図、第5図(b)はその電歪素子積層体へ
のパルス電圧印加回数を出力ロッドの変位との関係を示
す図である。 1・・・出力ロッド、2・・・ケーシング、3・・・ス
プリング、4・・・作動室、5・・・リザーバ、6・・
・ポンプ室。 7・・・ピストン、8・・・電歪素子積層体、10.1
1・・・逆止弁、12・・・流路、13・・・ニードル
弁。
施例を示し、第1図(a)はその断面図、第1図(b)
はその電歪素子積層体へのパルス電圧印加回数を出力ロ
ッドの変位との関係を示す図、第2図、第3図は第1実
施例の他の例を示し、第2図(a)、第3図(a)はそ
の断面図、第2図(b)、第3図(b)は→その電歪素
子積層体へのパルス電圧印加回数を出力ロッドの変位と
の関係を示す図である。第4図は第2実施例を示し、第
4図(a)はその断面図、第4図(b)はその電歪素子
積層体へのパルス電圧印加回数を出力ロッドの変位との
関係を示す図、第5図は第3実施例を示し、第5図(a
)はその断面図、第5図(b)はその電歪素子積層体へ
のパルス電圧印加回数を出力ロッドの変位との関係を示
す図である。 1・・・出力ロッド、2・・・ケーシング、3・・・ス
プリング、4・・・作動室、5・・・リザーバ、6・・
・ポンプ室。 7・・・ピストン、8・・・電歪素子積層体、10.1
1・・・逆止弁、12・・・流路、13・・・ニードル
弁。
Claims (1)
- ケーシングに摺動自在に設けられる出力ロッドと、ケー
シング内に配設されてパルス電圧の印加に応じて伸縮す
る電歪体と、ケーシング内に形成されて非圧縮流体の満
たされるリザーバ室と、前記電歪体の伸縮によって前記
リザーバ室から逆止弁を介して流体が流入するのみを許
容する、もしくは逆止弁を介して前記リザーバ室へ流体
が流出するのみを許容することによって流体量が変化す
るとともに、前記出力ロッドの一端面を室壁とする作動
室と、前記作動室と前記リザーバ室とを連通する流路途
中に設けられる制御弁とを有する電歪体駆動のアクチュ
エータ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16623885A JPS6228507A (ja) | 1985-07-26 | 1985-07-26 | 電歪体駆動のアクチユエ−タ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16623885A JPS6228507A (ja) | 1985-07-26 | 1985-07-26 | 電歪体駆動のアクチユエ−タ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6228507A true JPS6228507A (ja) | 1987-02-06 |
Family
ID=15827668
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16623885A Pending JPS6228507A (ja) | 1985-07-26 | 1985-07-26 | 電歪体駆動のアクチユエ−タ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6228507A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63227835A (ja) * | 1987-03-14 | 1988-09-22 | 株式会社豊田自動織機製作所 | 織機におけるアクチユエ−タの駆動装置 |
US4985673A (en) * | 1988-06-03 | 1991-01-15 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd. | Method and system for inspecting plural semiconductor devices |
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WO2014001083A1 (de) * | 2012-06-29 | 2014-01-03 | Siemens Aktiengesellschaft | Aktorvorrichtung und verfahren zum einstellen einer position eines linear beweglichen elements |
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CN111237150A (zh) * | 2020-01-18 | 2020-06-05 | 浙江启尔机电技术有限公司 | 一种柔性联动往复泵 |
-
1985
- 1985-07-26 JP JP16623885A patent/JPS6228507A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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CN111237150A (zh) * | 2020-01-18 | 2020-06-05 | 浙江启尔机电技术有限公司 | 一种柔性联动往复泵 |
CN111237150B (zh) * | 2020-01-18 | 2022-06-14 | 浙江启尔机电技术有限公司 | 一种柔性联动往复泵 |
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