JPS6228493U - - Google Patents

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JPS6228493U
JPS6228493U JP12065785U JP12065785U JPS6228493U JP S6228493 U JPS6228493 U JP S6228493U JP 12065785 U JP12065785 U JP 12065785U JP 12065785 U JP12065785 U JP 12065785U JP S6228493 U JPS6228493 U JP S6228493U
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JP
Japan
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metal film
frequency
case structure
attached
soldering
Prior art date
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Application number
JP12065785U
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Publication date
Application filed filed Critical
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  • Casings For Electric Apparatus (AREA)
  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図a,bは本考案の一実施例の一部破断正
面図及びその縦断面図、第2図は第1図のAA線
拡大断面図、第3図はケース本体表面の銅膜のパ
ターン図、第4図a,bは従来構造の正面図とそ
の縦断面図である。 1……ケース本体、2,2a,2b,2c……
銅膜、3,4……ネジ孔、5……高周波プリント
板、6……アイソレータ、7……高周波FET、
8……ネジ、9……カバー、10……ネジ、11
……入力用同軸コネクタ、12……出力用同軸コ
ネクタ、21……ケース本体、22……カバー、
23……ネジ、24……高周波プリント板、25
……アイソレータ、26……高周波FET、27
……ネジ、28……入力用同軸コネクタ、29…
…出力用同軸コネクタ。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 1 高周波プリント板、アイソレータ或いは高周
    波FET等の高周波デバイスをシールド状態に内
    装するためのケース構造において、板状に構成し
    たケース本体のデバイス取り付け面の周囲及び内
    部の選択された箇所に、夫々が互いに絶縁分離さ
    れたパターン形状の金属膜を形成し、前記内部の
    選択された金属膜には所定の部品を半田付けによ
    り取着するとともに、前記周囲金属膜にはこれに
    接触した状態で浅皿状のカバーを取着したことを
    特徴とする高周波デバイスのケース構造。 2 金属膜には凹凸痕跡を形成してなる実用新案
    登録請求の範囲第1項記載の高周波デバイスのケ
    ース構造。
JP12065785U 1985-08-05 1985-08-05 Pending JPS6228493U (ja)

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JP12065785U JPS6228493U (ja) 1985-08-05 1985-08-05

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JP12065785U JPS6228493U (ja) 1985-08-05 1985-08-05

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Publication Number Publication Date
JPS6228493U true JPS6228493U (ja) 1987-02-20

Family

ID=31009180

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12065785U Pending JPS6228493U (ja) 1985-08-05 1985-08-05

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JP (1) JPS6228493U (ja)

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