JPS62281486A - Rare-gas halide excimer laser device - Google Patents

Rare-gas halide excimer laser device

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JPS62281486A
JPS62281486A JP12546286A JP12546286A JPS62281486A JP S62281486 A JPS62281486 A JP S62281486A JP 12546286 A JP12546286 A JP 12546286A JP 12546286 A JP12546286 A JP 12546286A JP S62281486 A JPS62281486 A JP S62281486A
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laser
gas
container
rare
rare gas
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Shinji Ito
紳二 伊藤
Kazuaki Hotta
和明 堀田
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/036Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube

Abstract

PURPOSE:To obtain a device capable of restoring an excimer laser in a short time after the inside of a laser vessel is exposed to air and having excellent operation efficiency by mounting a rare-gas supply section supplying the laser vessel with a rare gas and a control section conducting specific operation. CONSTITUTION:A rare-gas supply section 8 supplying a laser vessel 1 with a rare gas and a control section 9 restoring the inside of the laser vessel 1 to the state proper to laser oscillations after the laser vessel 1 is exposed to air are installed. The control section 9 performs a first process in which the rare-gas supply section 8 is controlled after the laser vessel 1 is exposed to air and the laser vessel 1 is supplied with the rare gas, a second process in which an excitation power circuit 7 is controlled and discharge is generated, a third process in which the rare-gas supply section 8 or laser-gas supply and evacuation sections 4, 6 are controlled and the rare gas in the laser vessel 1 is evacuated, and a fourth process, in which the laser-gas supply and evacuation sections 4, 6 are controlled and a laser gas is sealed into the laser vessel 1, in succession.

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の詳細な説明 (産業上の利用分野) 本発明はレーザの発振を得るための放電用電極、励起電
源回路、レーザ発振用反射鏡、レーザ発振を可能とする
レーザガス供給排気部およびレーザガスを封入している
レーザ容器を少なくとも具備する希ガスハライドエキシ
マレーザ装置(以下、単にエキシマレーザ装置)に関す
るものである。
[Detailed Description of the Invention] 3. Detailed Description of the Invention (Field of Industrial Application) The present invention provides a discharge electrode for obtaining laser oscillation, an excitation power supply circuit, a reflector for laser oscillation, and a device that enables laser oscillation. The present invention relates to a rare gas halide excimer laser device (hereinafter simply referred to as an excimer laser device) that includes at least a laser gas supply/exhaust section and a laser container enclosing laser gas.

(従来の技術) エキシマレーザにおいては、長時間の動作の後には、レ
ーザ発振用反射鏡あるいはレーザ光取り出し窓(以下、
まとめて光学窓と称する〕にレーザ光吸収物質が付着し
、レーザ出力の低下を招く。
(Prior Art) In an excimer laser, after long-time operation, the laser oscillation reflector or laser light extraction window (hereinafter referred to as
Laser light absorbing substances adhere to the optical windows (collectively referred to as optical windows), resulting in a decrease in laser output.

このため、光学窓の交換あるいは清掃が必要になり、レ
ーザ容器の内部を空気に晒さねばならなくなる。レーザ
を励起する為の放電に用いられる放電電極(以下、単に
電極)に空気が触れると、電極表面に空気中の水分、酸
素等の不純物が付着する。そこで、レーザ発振を可能に
するレーザガス(以下、単にレーザガス)を封入し放電
した場合、電極表面の不純物が叩き出されレーザガス中
に混入するから短時間でレーザ出力が得られなくなる。
Therefore, the optical window must be replaced or cleaned, and the inside of the laser container must be exposed to air. When air comes into contact with a discharge electrode (hereinafter simply referred to as an electrode) used for discharge to excite a laser, impurities such as moisture and oxygen in the air adhere to the electrode surface. Therefore, when a laser gas that enables laser oscillation (hereinafter simply referred to as laser gas) is sealed and discharged, impurities on the electrode surface are knocked out and mixed into the laser gas, making it impossible to obtain laser output in a short time.

さらに、レーザガスの成分であるハロゲンガスと電極表
面との化学反応によりハロゲンガスが減少したり、ある
いは不純物が発生したりしてレーザ出力の低下が加速さ
れる。
Furthermore, a chemical reaction between the halogen gas, which is a component of the laser gas, and the electrode surface reduces the amount of halogen gas or generates impurities, accelerating the decrease in laser output.

従来のエキシマレーザ装置では、短時間でレーザ出力が
得られなくなることを防ぐため、すなわちエキシマレー
ザをレーザ容器の内部を空気に晒す前の状態に復旧させ
るため(以下、単に°エキシマレーザを復旧させる“と
する)、レーザガスの成分となる希ガス希釈のハロゲン
ガスを12時間位にわたる長時間封入し、エキシマレー
ザを復旧させていた。このことについてはカナダのルモ
ニクス社の発行するエキシマレーザの取り扱い説明書(
PRIILIM工NARYrN8’rRUCT工ONM
AN[TAIJ  LσMoN工C8HYPI!lR]
1nX−400i9ERよりf3  EXCXMERL
AB”1.R75QQQHK4F)のP、3−13に示
されている。
In conventional excimer laser equipment, in order to prevent the laser output from being lost in a short time, that is, to restore the excimer laser to the state before exposing the inside of the laser container to air (hereinafter simply "recovering the excimer laser"). "), the excimer laser was recovered by filling it with halogen gas diluted with a rare gas, which is a component of the laser gas, for a long period of about 12 hours. Regarding this, please refer to the instruction manual for excimer lasers published by Lumonics of Canada. book(
PRIILIM Engineering NARYrN8'rRUCT Engineering ONM
AN[TAIJ LσMoN 工C8HYPI! lR]
f3 EXCXMERL from 1nX-400i9ER
AB"1.R75QQQHK4F), P, 3-13.

第4図は従来のエキシマレーザ装置の構成図で、本願に
関係する部分のみが示しである。エキシマレーザ装置を
長時間動作すると、光学窓3にレーザ光を吸収する物質
が付着しレーザ出力の低下を招く。このため、光学窓3
の交換あるいは清掃が必要になり、レーザ容器1の内部
を空気に晒さねばならなくなる。電極2に空気が触れる
と、電極2の表面に空気中の水分、酸素などの不純物が
付着する。そこで、空気を排気ポンプ6を用い排気し、
その後、レーザ励起に必要なレーザガス供給部4から得
られるレーザガスを封入し、励起電源回路部7を用いて
レーザガスを放電しても、電極2の表面から不純物が叩
き出されレーザガス中に混入するから、短時間でレーザ
出力が得られなくなる。さらに、レーザガスの成分であ
るノ10ゲン1jlj■hxp−^^=をオニ==l^
ILA−心ピ?r争晴+a−レに一−−AJ、−ガスが
減少したり、あるいは不純物が発生したりしてレーザ出
力の低下が加速される。
FIG. 4 is a configuration diagram of a conventional excimer laser device, and only the parts related to the present application are shown. When the excimer laser device is operated for a long time, substances that absorb laser light adhere to the optical window 3, resulting in a decrease in laser output. For this reason, the optical window 3
It becomes necessary to replace or clean the laser container 1, and the inside of the laser container 1 must be exposed to air. When air comes into contact with the electrode 2, impurities such as moisture and oxygen in the air adhere to the surface of the electrode 2. Therefore, the air is exhausted using the exhaust pump 6,
After that, even if the laser gas obtained from the laser gas supply section 4 necessary for laser excitation is sealed and the laser gas is discharged using the excitation power supply circuit section 7, impurities will be knocked out from the surface of the electrode 2 and mixed into the laser gas. , it becomes impossible to obtain laser output in a short time. Furthermore, the component of the laser gas, ノ10gen1jlj■hxp-^^=, is added to the oni==l^
ILA-Shinpi? The decrease in laser output is accelerated due to a decrease in gas or the generation of impurities.

(発明が解決しようとする′問題点) 従来のエキシマレーザ装置ではエキシマレーザを復旧さ
せるため、12時間という長い復旧時間を必要とする。
(Problems to be Solved by the Invention) Conventional excimer laser devices require a long recovery time of 12 hours to recover the excimer laser.

これは、装置の稼働効率の点で大きな問題である。This is a big problem in terms of operating efficiency of the device.

本発明の目的は、レーザ容器の内部を空気に晒さした後
、短時間でエキシマレーザを復旧させることが可能な稼
働効率に優れるエキシマレーザ装置を提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an excimer laser device that has excellent operating efficiency and can restore the excimer laser in a short time after exposing the inside of a laser container to air.

(問題点を解決するための手段) 前述の問題点を解決するために本発明が提供する手段は
、レーザガスが封入されるレーザ容器と、このレーザ容
器内において放電する電極と、この放電電也に放電を起
こさせる高電圧をその放電電極に供給する励起電源回路
と、前記放電により前記レーザ容器内に発生したレーザ
光を反射してレーザ発振を起こさせるレーザ発振用反射
鏡と、前記レーザ容器にレーザガスを償拾1−七のレー
ザ容器からそのレーザガスを排気するレーザガス供給排
気部とを備える希ガスノ・ライドエキシマレーザ装置で
あって:前記レーザ容器に希ガスを供給する希ガス供給
部と、前記レーザ容器が空気に晒された後にそのレーザ
容器の内部をレーザ発振に適した状態に復旧させるコン
トロール部とを有し;このコントロール部は、前記レー
ザ容器が空気に晒された後に前記希ガス供給部を制御し
て前記レーザ容器に前記希ガスを供給する第1の工程と
、前記励起電源回路を制御して前記放電を起こさせる第
2の工程と、前記希ガス供給部または前記レーザガス供
給排気部を制御して前記レーザ容器内の前記希ガスを排
気する第3の工程と、前記レーザガス供給排気部を制御
して前記レーザ容器に前記レーザガスを封入する第4の
工程とを順次に行うことを特徴とする。
(Means for Solving the Problems) Means provided by the present invention to solve the above-mentioned problems includes: a laser container in which a laser gas is sealed; an electrode that discharges within the laser container; an excitation power supply circuit that supplies a high voltage to the discharge electrode to cause a discharge; a laser oscillation reflector that reflects laser light generated in the laser container by the discharge to cause laser oscillation; and the laser container. A rare gas/ride excimer laser device comprising: a laser gas supply/exhaust section for discharging the laser gas from the laser containers 1-7; a rare gas supply section for supplying rare gas to the laser container; a control section that restores the interior of the laser container to a state suitable for laser oscillation after the laser container has been exposed to air; a first step of controlling the supply section to supply the rare gas to the laser container; a second step of controlling the excitation power supply circuit to cause the discharge; and the rare gas supply section or the laser gas supply. A third step of controlling the exhaust section to exhaust the rare gas in the laser container, and a fourth step of controlling the laser gas supply and exhaust section to fill the laser gas in the laser container are sequentially performed. It is characterized by

(作用) 本発明の装置においては、具備するコントロール部によ
り第1から第4までの工程からなるシーケンス制御を行
い、He等の希ガスを封入し、適当な時間(約10分)
放電を行い、排気し、そのちとレーザガスを封入するよ
うになっている。希ガス中の放電により、電極表面に付
着した水分、酸素等不純物が希ガス中に叩き出されるの
で、放電のあとの排気により電極表面の不純物は除去で
きる。次に、レーザガスを封入すれば、短時間でのレー
ザ出力の低下はなくなる。従って、本発明装置において
は、エキシマレーザを復旧させるのに短時間しか必要と
しない。
(Function) In the apparatus of the present invention, sequence control consisting of the first to fourth steps is performed by the control unit provided, a rare gas such as He is sealed, and a suitable time (approximately 10 minutes) is performed.
The system generates a discharge, evacuates it, and then fills it with laser gas. Due to the discharge in the rare gas, impurities such as moisture and oxygen adhering to the electrode surface are driven out into the rare gas, so that the impurities on the electrode surface can be removed by exhausting after the discharge. Next, if laser gas is sealed, the laser output will not decrease in a short period of time. Therefore, in the apparatus of the present invention, only a short time is required to restore the excimer laser.

(実施例) 第1図は本発明の第一の実施例を示す構成図である。従
来の装置との違いはHθ供給部8とコントロール部9を
具備することにある。この実施例においては、エキシマ
レーザを復旧させるため、コノトロール部9からのシー
ケンスな制御により、H8供給部8からレーザ容器1に
Hsを封入し、励起電源回路部7を用い適当な時間(約
10分)放電を行い、排気ポンプ6を用い排気し、その
あとレーザガス供給部4からのレーザガスを封入するよ
うになっている。Heを放電により、電極2の表面に付
着した水分、酸素等不純物がHeガス中に叩き出される
ので、放電のあとの排気により電極2の表面の不純物は
除去できる。そのあと、レーザガスがレーザ容器に封入
されるから、短時間でレーザ出力が得られなくなるとい
うことはない。
(Embodiment) FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of the present invention. The difference from the conventional device is that it is equipped with an Hθ supply section 8 and a control section 9. In this embodiment, in order to restore the excimer laser, Hs is sealed into the laser container 1 from the H8 supply section 8 under sequential control from the controller section 9, and then the excitation power supply circuit section 7 is used to fill the laser container 1 with Hs for an appropriate period of time (approximately 10 2) discharge, exhaust the gas using the exhaust pump 6, and then fill it with laser gas from the laser gas supply section 4. By discharging He, impurities such as moisture and oxygen adhering to the surface of the electrode 2 are thrown out into the He gas, so that the impurities on the surface of the electrode 2 can be removed by exhausting after the discharge. After that, the laser gas is sealed in the laser container, so there is no possibility that the laser output will not be obtained in a short period of time.

エキシマレーザを復旧させるために要する時間は放電の
だめの10分の他わずかで、従って、本実施例のエキシ
マレーザ装置においては、エキシマレーザの復旧が短時
間でできる。
The time required to restore the excimer laser is only 10 minutes for the discharge, and therefore, in the excimer laser device of this embodiment, the excimer laser can be restored in a short time.

第2図は本発明の第二の実施例を示す構成図である。従
来の装置との違いは第一図の実施例と同じ(He供給部
8とコントロール部10を具備することにある。この実
施例においては、エキシマレーザを復旧させるため、コ
ントロール部10からのシーケンスな制御により、先ず
He供給部8からレーザ容器1にHeを封入し、励起電
源回路部7を用い適当な時間(約10分)放電を行い、
排気ポンプ6を用い排気し、次にレーザガスの成分とな
る希ガス希釈のハロゲンガスをレーザガス供給部4内の
希ガス希釈のノ・ロゲンガス供給器5から封入し、適当
な時間(同・しく約10分)励起電源回路部7を用い放
電し、排気ポンプ6を用い排気して、そのあとレーザガ
スを封入するようになっている。Heを放電により、電
極2の表面に付着した水分、酸素等不純物がHeガス中
に叩き出されるので、放電のあとの排気により電極2の
表面の不純物は除去でき、さらに希ガス希釈のノ・ロゲ
ンガスの放電によって電極2の表面をレーザガスの成分
となるハロゲンガスで覆うことができ、それ以降、電極
2の表面とハロゲンガスとの化学反応を抑えることがで
きる。そのあと、レーザガスがレーザ容器に封入される
から、短時間でレーザ出力が得られなくなるということ
は全くない。
FIG. 2 is a block diagram showing a second embodiment of the present invention. The difference from the conventional device is the same as the embodiment shown in FIG. Under proper control, He is first sealed into the laser container 1 from the He supply section 8, and discharged for an appropriate time (approximately 10 minutes) using the excitation power supply circuit section 7.
The exhaust pump 6 is used to exhaust the air, and then the rare gas diluted halogen gas, which is a component of the laser gas, is filled in from the rare gas diluted halogen gas supply device 5 in the laser gas supply unit 4, and the halogen gas is evacuated for an appropriate period of time (about (10 minutes) Discharge is performed using the excitation power supply circuit section 7, exhaust is performed using the exhaust pump 6, and then laser gas is filled. By discharging He, impurities such as moisture and oxygen attached to the surface of the electrode 2 are thrown out into the He gas, so the impurities on the surface of the electrode 2 can be removed by exhausting after the discharge, and furthermore, the impurities on the surface of the electrode 2 can be removed. By discharging the halogen gas, the surface of the electrode 2 can be covered with halogen gas, which is a component of the laser gas, and thereafter, a chemical reaction between the surface of the electrode 2 and the halogen gas can be suppressed. After that, the laser gas is sealed in the laser container, so there is no possibility that the laser output will not be obtained in a short period of time.

エキシマレーザを復旧させるために要する時間は二回の
放電のための20分の他わずかで、従って、第二の実施
例の装置においては、エキシマレーザを復旧させるため
短時間しか必要としない。
The time required to restore the excimer laser is only 20 minutes for two discharges, and therefore, in the apparatus of the second embodiment, only a short time is required to restore the excimer laser.

第3図には第一および第二の実施例のエキシマレーザ装
置における動作ショツト数によるレーザ出力の変化をそ
れぞれ表わす曲線11.12が示されている。エキシマ
レーザが復旧できている場合、第3図の動作ショツト数
によるレーザ出力の減少の割合が小さくなる。第3図に
は比較のため、第4図に示す従来のエキシマレーザ装置
において復旧のための方法を何ら講じなかった場合、す
なわちレーザ容器の内部が空気に晒されたあと、空気の
排気を行っただけで、レーザガスの封入した場合の動作
ショツト数によるレーザ出力の減少を表わす曲線13と
、同じく第4図に示す従来のエキシマレーザ装置におい
て、レーザガス供給部4内の希ガス希釈のハロゲンガス
供給器5から供給されるレーザガスの成分である希ガス
希釈のハロゲンガスを12時間という長時間にわたり封
入し、その後排気し、レーザガスを封入した場合の動作
ショツト数によるレーザ出力の減少を表わす曲線14と
が示されている。曲線11と曲線13および曲線14と
を比較すると、本発明の第一の実施例のエキシマレーザ
装置では、従来のエキシマレーザ装置において12時間
という長時間をかけてエキシマレーザを復旧させたのと
遜色なくしエキシマレーザが復旧していることが判る。
FIG. 3 shows curves 11 and 12 representing changes in laser output depending on the number of operating shots in the excimer laser devices of the first and second embodiments, respectively. If the excimer laser has been restored, the rate of decrease in laser output due to the number of operating shots shown in FIG. 3 will be small. For comparison, Fig. 3 shows a case in which no recovery method is taken in the conventional excimer laser device shown in Fig. 4, that is, when the inside of the laser container is exposed to air and then the air is exhausted. In the conventional excimer laser device shown in FIG. A curve 14 represents the decrease in laser output due to the number of operating shots when a halogen gas diluted with a rare gas, which is a component of the laser gas supplied from the chamber 5, is sealed for a long period of 12 hours, then exhausted, and the laser gas is filled. It is shown. Comparing curve 11, curve 13, and curve 14, the excimer laser device of the first embodiment of the present invention is inferior to the conventional excimer laser device, which takes a long time of 12 hours to restore the excimer laser. It can be seen that the lost excimer laser has been restored.

また、曲線12と曲線13および曲線14とを比較する
と本発明の第二の実施例のエキシマレーザ装置では、従
来のエキシマレーザ装置において12時間という長時間
をかけてエキシマレーザを復旧させた場合より、動作シ
ョツト数によるレーザ出力の減少が少ないことが判る。
Comparing curve 12, curve 13, and curve 14, the excimer laser device according to the second embodiment of the present invention has a longer recovery time than the conventional excimer laser device, which takes a long time of 12 hours to recover. It can be seen that the decrease in laser output due to the number of operating shots is small.

このように第二の実施例においては、具備するコントロ
ール部10からのシーケンス制御により、先ずHaをレ
ーザ容器1に封入し、放電(約10分)を行い、排気し
たあと、レーザガスの成分となる希ガス希釈のハロゲン
ガスを封入し適当な時間(同じく約10分)放電をすれ
ば、電極表面の不純物が除去でき、加えて電極表面をレ
ーザガスの成分となる・・ロゲンガスで覆うことができ
、それ以降、電極表面とハロゲンガスとの化学反応を抑
えることができる。そしてこの次に、レーザガスを封入
するので、短時間にレーザ出力が低下することはなくな
る。従って、第二の実施例においては、エキシマレーザ
を復旧させるため短時間しか必要としない。
In this way, in the second embodiment, under the sequence control from the control unit 10 provided, Ha is first sealed in the laser container 1, discharged (for about 10 minutes), and exhausted, and then becomes a component of the laser gas. By filling in halogen gas diluted with rare gas and discharging for an appropriate time (about 10 minutes), impurities on the electrode surface can be removed, and in addition, the electrode surface can be covered with halogen gas, which is a component of the laser gas. After that, the chemical reaction between the electrode surface and the halogen gas can be suppressed. Then, since the laser gas is sealed, the laser output does not decrease in a short period of time. Therefore, in the second embodiment, only a short time is required to restore the excimer laser.

第二の実施例に於いては、第一の実施例に比べ復旧はよ
り完全になる。すなわち、第二の実施例のほうが長時間
動作でのレーザ出力の減少の割合が少なくなる。しかし
、第一の実施例には、第二の実施例に比べ短時間にでき
るという優位点がある。
In the second embodiment, the recovery is more complete than in the first embodiment. That is, in the second embodiment, the rate of decrease in laser output during long-term operation is smaller. However, the first embodiment has the advantage that it can be done in a shorter time than the second embodiment.

なお、第二の実施例の変形として、Hsガスの封入、放
電、排気、次にレーザガスの成分となる希ガス希釈のハ
ロゲンガスの封入、放電、排気、を2回以上繰り返すよ
うにコントロール部10からのシーケンス制御を行うこ
とにより、エキシマレーザの復旧はより完壁になる。
In addition, as a modification of the second embodiment, the control unit 10 is configured to repeat the filling, discharging, and exhausting of Hs gas, and then the filling, discharging, and exhausting of halogen gas diluted with rare gas, which is a component of the laser gas, two or more times. Eximer laser recovery will be more complete by performing sequence control from

なお、上述の第一および第二の実施例でけUsを用いて
いるが、本発明では他の希ガス(例えば、Ar)の使用
も可能である。
Note that although Us is used in the first and second embodiments described above, other rare gases (eg, Ar) can also be used in the present invention.

(発明の効果) 本願発明を用いれば、レーザ容器の内部を空気に晒さし
た後の復旧が短時間に行えるエキシマレーザ装置が得ら
れる。
(Effects of the Invention) By using the present invention, an excimer laser device can be obtained in which the inside of the laser container can be restored in a short time after being exposed to air.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の第一の実施例のエキシマレーザ装置の
構成図、第2図は本発明の第二の実施例のエキシマレー
ザ装置の構成図、第3図はこれら本発明の二つの実施例
においてエキシマレーザが復旧しているかどうかを、従
来のエキシマレーザ装置でエキシマレーザの復旧のため
何ら講じなかった場合および従来の装置で12時間とい
う長時間をかけてエキシマレーザを復旧させた場合と比
較して示したグラフ、第4図は従来のエキシマレーザ装
置の構成図である。 l・・・レーザ容器、2・・・電極、3・・・光学窓、
4・・・レーザガス供給部、5・・・レーザガス供給部
4内の希ガス希釈のハロゲンガス供給器、6・・・排気
ポンプ、7・・・励起電源回路、8・・・H8供給部、
9,10・・・コントロール部、11・・・第一の実施
例においてエキシマレーザを復旧させた場合の動作ショ
ツト数によるレーザ出力の減少を示す曲線、12・・・
第二の実施例においてエキシマレーザを復旧させた場合
の動作ショツト数によるレーザ出力の減少を示す曲線、
13・・・従来のエキシマレーザ装置においてエキシマ
レーザを復旧させるための方法を何ら講じなかった場合
のショツト数によるレーザ出力の減少を示す曲線、14
・・・従来のエキシマレーザ装置において12時間をか
けてエキシマレーザを復旧させた場合の動作ショツト数
によるレーザ出力の減少を示す曲線。 代理人  弁理士  本 庄 伸 弁 箱1図 第2図 第4図
1 is a block diagram of an excimer laser device according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a block diagram of an excimer laser device according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a block diagram of an excimer laser device according to a second embodiment of the present invention. In the example, whether or not the excimer laser has been restored was determined when no measures were taken to restore the excimer laser using a conventional excimer laser device, and when it took a long time of 12 hours to restore the excimer laser using a conventional device. The graph shown in comparison with FIG. 4 is a block diagram of a conventional excimer laser device. l...laser container, 2...electrode, 3...optical window,
4... Laser gas supply section, 5... Halogen gas supply device for rare gas dilution in the laser gas supply section 4, 6... Exhaust pump, 7... Excitation power supply circuit, 8... H8 supply section,
9, 10...Control unit, 11...Curve showing the decrease in laser output due to the number of operating shots when the excimer laser is restored in the first embodiment, 12...
A curve showing the decrease in laser output due to the number of operating shots when the excimer laser is restored in the second embodiment,
13...Curve showing the decrease in laser output due to the number of shots when no method is taken to restore the excimer laser in a conventional excimer laser device, 14
. . . A curve showing the decrease in laser output due to the number of operating shots when the excimer laser is restored over 12 hours in a conventional excimer laser device. Agent Patent Attorney Nobu Honjo Bento Box Figure 1 Figure 2 Figure 4

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)レーザガスが封入されるレーザ容器と、このレー
ザ容器内において放電する電極と、この放電電極に放電
を起こさせる高電圧をその放電電極に供給する励起電源
回路と、前記放電により前記レーザ容器内に発生したレ
ーザ光を反射してレーザ発振を起こさせるレーザ発振用
反射鏡と、前記レーザ容器にレーザガスを供給しそのレ
ーザ容器からそのレーザガスを排気するレーザガス供給
排気部とを備える希ガスハライドエキシマレーザ装置に
おいて;前記レーザ容器に希ガスを供給する希ガス供給
部と、前記レーザ容器が空気に晒された後にそのレーザ
容器の内部をレーザ発振に適した状態に復旧させるコン
トロール部とを有し;このコントロール部は、前記レー
ザ容器が空気に晒された後に前記希ガス供給部を制御し
て前記レーザ容器に前記希ガスを供給する第1の工程と
、前記励起電源回路を制御して前記放電を起こさせる第
2の工程と、前記希ガス供給部または前記レーザガス供
給排気部を制御して前記レーザ容器内の前記希ガスを排
気する第3の工程と、前記レーザガス供給排気部を制御
して前記レーザ容器に前記レーザガスを封入する第4の
工程とを順次に行うことを特徴とする希ガスハライドエ
キシマレーザ装置。
(1) A laser container in which a laser gas is sealed, an electrode that discharges within the laser container, an excitation power supply circuit that supplies the discharge electrode with a high voltage that causes the discharge electrode to generate a discharge, and the laser container that causes the discharge to occur. A rare gas halide excimer comprising: a laser oscillation reflector that reflects laser light generated within to cause laser oscillation; and a laser gas supply/exhaust section that supplies laser gas to the laser container and exhausts the laser gas from the laser container. In the laser device, the laser device includes a rare gas supply unit that supplies a rare gas to the laser container, and a control unit that restores the inside of the laser container to a state suitable for laser oscillation after the laser container is exposed to air. ; this control section controls the first step of supplying the rare gas to the laser container by controlling the rare gas supply section after the laser container is exposed to air; and the first step of controlling the excitation power supply circuit to supply the rare gas to the laser container. a second step of causing electric discharge; a third step of controlling the rare gas supply section or the laser gas supply/exhaust section to exhaust the rare gas in the laser container; and controlling the laser gas supply/exhaust section. and a fourth step of filling the laser gas into the laser container.
(2)前記コントロール部は前記第3の工程の次に、前
記レーザガス供給排気部を制御して前記レーザガスの成
分の一つである希ガス希釈のハロゲンガスを前記レーザ
容器に封入する第3Aの工程と、前記励起電源回路を制
御して前記放電を起こさせる第3Bの工程と、前記レー
ザガス供給排気部を制御して前記レーザ容器内の前記希
ガス希釈ハロゲンガスを排気する第3Cの工程とを順次
に行つた後に前記第4の工程を行うことを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の希ガスハライドエキシマレー
ザ装置。
(2) After the third step, the control section controls the laser gas supply/exhaust section to fill the laser container with halogen gas diluted with a rare gas, which is one of the components of the laser gas. a 3B step of controlling the excitation power supply circuit to cause the discharge; and a 3C step of controlling the laser gas supply and exhaust section to exhaust the rare gas diluted halogen gas in the laser container. 2. The rare gas halide excimer laser device according to claim 1, wherein the fourth step is performed after performing the above steps sequentially.
(3)前記希ガスがHeガスであることを特徴とする特
許請求の範囲第1項又は第2項記載の希ガスハライドエ
キシマレーザ装置。
(3) The rare gas halide excimer laser device according to claim 1 or 2, wherein the rare gas is He gas.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1991016745A1 (en) * 1990-04-16 1991-10-31 Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. Laser device

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WO1991016745A1 (en) * 1990-04-16 1991-10-31 Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. Laser device

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