JPS62279910A - Molding method of plastic board - Google Patents

Molding method of plastic board

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JPS62279910A
JPS62279910A JP12396886A JP12396886A JPS62279910A JP S62279910 A JPS62279910 A JP S62279910A JP 12396886 A JP12396886 A JP 12396886A JP 12396886 A JP12396886 A JP 12396886A JP S62279910 A JPS62279910 A JP S62279910A
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mold
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Mitsutoshi Aritomi
有富 充利
Tadao Takeyama
武山 忠夫
Takao Inoue
孝夫 井上
Takahiro Matsuo
隆広 松尾
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Mitsubishi Petrochemical Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To improve characteristics of an optical disk base by preventing a deterioration in life of a recording film by lowering a water absorbtion of the board, by heating the plastic board obtained through radical polymerization of multifunctional acrylate in specific expression at a temperature of at least 150 deg.C or more as a post cure temperature. CONSTITUTION:This board is released from a mold at the time when the glass transistion temperature (Tg) of a plastic board obtained through application of radical polymercation to a multifunctional acrylate compound to be expressed by a general formula (I) has arrived at 10-100 deg.C. As cure is insufficient at the temperature of less than 10 deg.C, a deformation is generated on the plastic transperent board and when the temperature exceeds 100 deg.C, it follows that mold release is hard and that a crack and break are apt to be generated on the board. The plastic board which has been released from the mold is placed on a flat place and postcure is applied to the plastic board until the Tg becomes 110 deg.. It is desirable that the temperature and a quantity of irradiation are performed stepwise for the postcure and that heating is performed at a temperature of at least 150 deg.C or more as the postcure temperature. It is desirable further that the plastic transparent board is obtained by curing within a vacuous or inactive gaseous atmosphere under the temperature of 200 deg.C or more.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はプラスチック透明基板の成形方法に関するもの
であり、例えば光で記録再生を行う方式のディスク(光
ディスク、光磁気ディスク等)のディスク基板などに利
用されるプラスチック透明基板の成形方法に関する。
[Detailed Description of the Invention] Industrial Application Field The present invention relates to a method for molding a plastic transparent substrate, and is used, for example, as a disk substrate for a disk that performs recording and reproduction using light (optical disk, magneto-optical disk, etc.). The present invention relates to a method for molding a plastic transparent substrate.

従来の技術 プラスチック透明基板は、光学的性質の基本的性能とも
いえる低複屈折率に優れた特徴を有することから近年、
注目をあびている。
Conventional technology Plastic transparent substrates have been gaining popularity in recent years due to their excellent low birefringence, which can be said to be a fundamental optical property.
It is attracting attention.

一般に、このプラスチック透明基板は、ポリアリルカー
ボネート、ポリオールポリ(メタ)アクリレート、エポ
キシアクリレート等の重合性液状材料を型のキャビティ
内に注入し、これを型内でラジカル重合させて透明基板
を得る注型成形法が用いられている(特開昭58−13
0450号公報、同58−137150号公報)。
Generally, this plastic transparent substrate is made by injecting a polymerizable liquid material such as polyallyl carbonate, polyol poly(meth)acrylate, or epoxy acrylate into the cavity of a mold, and then radically polymerizing it within the mold to obtain a transparent substrate. A molding method is used (Japanese Patent Application Laid-Open No. 1983-13
No. 0450, No. 58-137150).

又、両面ガラス型内で光重合させる方法(特開昭60−
202557号公報)や、真空注型や注液完了後、加圧
を加えて液状樹脂を熱重合させる方法(特開昭60−2
03414号公報)などがある。
In addition, a method of photopolymerization in a double-sided glass mold (Japanese Patent Application Laid-open No. 1983-
202557), and a method in which the liquid resin is thermally polymerized by applying pressure after vacuum casting or liquid injection is completed (Japanese Patent Laid-Open No. 60-2
03414).

従来のプラスチック透明基板の注形成形法は、使用する
型が反応性液状材料の注入時よりプラスチック透明基板
成形完了まで約24時間位必要とするため、型の利用効
率が極めて悪く、溝の信号などを転写させるスタンパ−
数を多くし、プラスチック透明基板の生産性に大きな障
害となっている。
Conventional casting molding methods for plastic transparent substrates require about 24 hours for the mold used to complete molding of the plastic transparent substrate from the time of injecting the reactive liquid material, resulting in extremely poor utilization efficiency of the mold and poor signal generation in the grooves. Stamper to transfer etc.
This increases the number of plastic transparent substrates and poses a major obstacle to the productivity of plastic transparent substrates.

さらに、型内で光エネルギーによるラジカル重合を完了
させてしまうと、硬化反応収縮率が大きいため、基板が
割れ、成形品として得られないという問題も生じた。
Furthermore, if the radical polymerization by light energy is completed in the mold, the shrinkage rate of the curing reaction is large, resulting in the problem that the substrate cracks and a molded product cannot be obtained.

これを解決するために本発明者らは、多官能性(メタ)
アクリレート化合物を注型成形法にてラジカル重合して
プラスチック透明基板を得る方法において、型内でラジ
カル重合して得た・プラスチック基板のガラス転移温度
(Tg)が10〜100℃に達した時点で、この基板を
離型した後、更に、この基板を後硬化させてTgが11
0℃以上の基板を得ることを特徴とするプラスチック基
板の成形方法を開発し、これにより、型の利用効率が高
く、得られる基板の破損が起υにくい、極めて生産性の
高い成形方法を提案した(特願昭60=156494号
)。
In order to solve this problem, the present inventors developed polyfunctional (meta)
In a method of obtaining a plastic transparent substrate by radically polymerizing an acrylate compound using a cast molding method, when the glass transition temperature (Tg) of the plastic substrate obtained by radical polymerization in a mold reaches 10 to 100°C. After releasing this substrate, the substrate is further post-cured to have a Tg of 11.
We have developed a method for molding plastic substrates that is characterized by the ability to obtain substrates with a temperature of 0°C or higher, and have proposed an extremely productive molding method that uses molds with high efficiency and is less prone to damage to the resulting substrates. (Patent Application No. 156494, Showa 60).

発明が解決しようとする問題点 しかしながら、本発明者らの提案(特願昭60−156
494号公報)では、割れのないプラスチック基板の生
産性の点では改善できたものの、ディスク基板として見
た場合、残存2重結合量が多く、基板の吸水率を上げた
り、耐熱性を低下させるという問題があった。この問題
は、特に吸水率が大きい場合、記録膜寿命を低下させた
Problems to be Solved by the Invention However, the present inventors' proposal (Japanese Patent Application No. 60-156)
494), although it was possible to improve the productivity of crack-free plastic substrates, when viewed as a disk substrate, the amount of residual double bonds was large, increasing the water absorption rate of the substrate and reducing heat resistance. There was a problem. This problem reduced the lifetime of the recording film, especially when the water absorption rate was high.

本発明は、ラジカル重合から得られるプラスチック透明
基板が、吸水率が大きく、その結果光ディスクの記録膜
寿命を°低下させているという問題を解決する成形方法
を提供するものである。
The present invention provides a molding method that solves the problem that a plastic transparent substrate obtained by radical polymerization has a high water absorption rate, which reduces the life of the recording film of an optical disk.

問題点を解決するだめの手段 本発明は、多官能性(メタ)アクリレート化合物を注型
成形法にて、型内でラジカル重合して得だプラスチック
基板のガラス転移温度CTg)が10〜100℃に達し
た時点で、この基板を離型しだ後、更に、この基板を後
硬化させてTgが110℃以上の基板を得るプラスチッ
ク基板の成形方法において、最終硬化温度を150℃以
上のIIIk4< 温度で硬化し、残存2重結合量が少なく、÷←←率を低
くして記録膜寿命の低下の少ない優れたプラスチック基
板を得る成形方法を提供するものである。
Means to Solve the Problems The present invention uses a cast molding method to radically polymerize a polyfunctional (meth)acrylate compound in a mold. When this temperature is reached, the substrate is released from the mold, and then the substrate is further post-cured to obtain a substrate with a Tg of 110°C or higher.In the plastic substrate molding method, the final curing temperature is set to 150°C or higher, IIIk4< The object of the present invention is to provide a molding method for obtaining an excellent plastic substrate that is cured at high temperature, has a small amount of residual double bonds, and has a low ratio of ÷←←, so that the life of the recording film is less reduced.

上記多官能性アクリレート化合物としては下記一般式(
1) %式%(1) 〔式中、R1は炭素数2〜50のアルコール残基であり
、RはHまたばCH3であり、nは2〜6の数である。
The above polyfunctional acrylate compound has the following general formula (
1) % Formula % (1) [In the formula, R1 is an alcohol residue having 2 to 50 carbon atoms, R is H or CH3, and n is a number from 2 to 6.

〕 で表わされる化合物で、これをラジカル重合して得られ
る硬化物のガラス転移温度が100℃以上を有する化合
物が使用される。
] A compound represented by the following is used, and the cured product obtained by radical polymerization thereof has a glass transition temperature of 100° C. or higher.

かかる多官能性アクリレート化合物の具体例としては、
2.2’−ビス〔4−(β−メタクハイルオキシ)シク
ロヘキシルウプロパン、2.2’−ビス〔4−(β−メ
タクロイルオキシジェトキシ)シクロヘキシルウプロパ
ン、ビス(オキシメチル)トリシクロ[5,2,1,0
2・5〕デカンジメタクリレート、1.4−ビス(メタ
クロイルオキシメチル)シクロヘキサン、トリメチロー
ルプロパントリ(メタ)アクリレート、ネオベンチルグ
リコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンシ
オールジ(メタ)アクリレート、1.3−ブタンジオー
ルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(
メタ)アクリレート、2.2′−ヒスC4−(メタアク
ロイルジェトキシ)フェニルプロパン等メタクリル酸エ
ステル及びアクリル酸エステル化合物単独及びそれらの
混合物等があげられるが光学的性質上、特に好ましくは
2,2′−ビス[:4−(β−メタクロイルオキシエト
キシ)シクロヘキシル〕フロパン、ビス(オキシメチル
)トリシクロC5,2,1,02“5〕デカンジメタク
リレート、1.4−ビス(メタクロイルオキシメチル)
シクロヘキサンが利用できる。ここで(メタ)アクリレ
ートとはアクリレートとメタクリレートの両者を総称し
て示す。
Specific examples of such polyfunctional acrylate compounds include:
2.2'-bis[4-(β-methachyyloxy)cyclohexylupropane, 2.2'-bis[4-(β-methacryloyloxyjetoxy)cyclohexylupropane, bis(oxymethyl)tricyclo[ 5, 2, 1, 0
2.5] Decane dimethacrylate, 1,4-bis(methacloyloxymethyl)cyclohexane, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, neobentyl glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanethiol di(meth) Acrylate, 1,3-butanediol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(
Examples include methacrylic esters such as meth)acrylate, 2,2'-hisC4-(methacryloyljethoxy)phenylpropane, and acrylic ester compounds alone and mixtures thereof, but from the viewpoint of optical properties, 2, 2'-bis[:4-(β-methacroyloxyethoxy)cyclohexyl]furopane, bis(oxymethyl)tricycloC5,2,1,02"5]decane dimethacrylate, 1,4-bis(methacroyloxymethyl) )
Cyclohexane is available. Here, (meth)acrylate refers to both acrylate and methacrylate.

更に、上記の如き一般式(■)化合物に加えて、一般的
に粘度調整剤として用いられるラジカル重合性モノマー
を10重量%以下の範囲で使用することが可能である。
Furthermore, in addition to the compound of general formula (■) as described above, it is possible to use a radically polymerizable monomer generally used as a viscosity modifier in an amount of 10% by weight or less.

かかる他の重合性モノマーとしては、例えばスチレン、
クロルスチレン、ジクロルスチレン、ビニルトルエン、
ジビニルベンゼン、酢酸ビニル、塩化ビニル等のビニル
化合物、メチルメタアクリレート、フェニル(メタ)ア
クリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2−フェ
ノキシエチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(
メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート
、エポキシ(メタ)アジリレート、ウレタン(メタ)ア
クリレ−ト等の(メタ)アクリル化合物、ジエチレング
リコールビスアリルカーボネート、ジアリルフタレート
等アリル化合物が挙げられる。
Examples of such other polymerizable monomers include styrene,
Chlorstyrene, dichlorostyrene, vinyltoluene,
Vinyl compounds such as divinylbenzene, vinyl acetate, vinyl chloride, methyl methacrylate, phenyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, 2-phenoxyethyl (meth)acrylate, cyclohexyl (
Examples include (meth)acrylic compounds such as meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, epoxy (meth)azilylate, and urethane (meth)acrylate, and allyl compounds such as diethylene glycol bisallyl carbonate and diallyl phthalate.

これらの七ツマ−の重合の際に使用されるラジカル開始
剤は特に限定されず、例えば過酸化ベンゾイル、ジイソ
プロピルパーオキシカーボネート、ラウロイルパーオキ
サイド、ターシャリ−ブチルパーオキシビバレート等の
過酸化物、アゾイソブチロニトリル等アゾ化合物、ベン
ゾフェノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジル、ア
セトフェノン、アントラキノン等光増感剤、ジフェニル
スフイツト、チオカーバーメート等硫黄化合物など公知
のラジカル開始剤である。
The radical initiators used in the polymerization of these seven polymers are not particularly limited, and include peroxides such as benzoyl peroxide, diisopropyl peroxycarbonate, lauroyl peroxide, and tert-butyl peroxybivalate; Known radical initiators include azo compounds such as isobutyronitrile, photosensitizers such as benzophenone, benzoin ethyl ether, benzyl, acetophenone, and anthraquinone, and sulfur compounds such as diphenyl sulfite and thiocarbamates.

又、上記型内におけるラジカル重合条件は、一般的なラ
ジカル重合条件(加熱、光照射、電子線照射等)で行な
うことが可能である。ラジカル開始剤の添加量は多官能
性アクリレート化合物100重量部に対し、0・01〜
10重量部であり、重合温度は10〜2oo℃で、好ま
しくは30〜160℃である。そしてそれらの重合雰囲
気は、空気中モシクは不活性ガス中で行なうことができ
る。
Further, the radical polymerization conditions in the mold can be general radical polymerization conditions (heating, light irradiation, electron beam irradiation, etc.). The amount of radical initiator added is 0.01 to 100 parts by weight of the polyfunctional acrylate compound.
10 parts by weight, and the polymerization temperature is 10 to 20°C, preferably 30 to 160°C. The polymerization atmosphere can be in air or in an inert gas.

上記多官能性アクリレートを注型成形法にてラジカル重
合して得られるプラスチック透明基板の離型時のガラス
転移温度は10〜100℃である。
The glass transition temperature of the plastic transparent substrate obtained by radical polymerization of the above polyfunctional acrylate by a cast molding method is 10 to 100°C when released from the mold.

10℃未満では硬化が不十分であるため、プラスチック
透明基板に変形が生じ、又、100℃を越えては離型が
困難になり、基板に割れ、欠けが生じ易くなるので不適
当であり、離型時の基板樹脂のTg範囲としては10〜
10Q℃であり、好ましくは20〜80℃である。かか
ることにょシ、型内での多官能アクリレートのラジカル
重合時間を2時間以下、好ましくは1時間以下とするこ
とができる。
If the temperature is less than 10°C, curing will be insufficient, causing deformation of the plastic transparent substrate, and if it exceeds 100°C, it will be difficult to release from the mold, making the substrate more likely to crack or chip, which is unsuitable. The Tg range of the substrate resin during mold release is 10~
The temperature is 10Q°C, preferably 20 to 80°C. In this case, the radical polymerization time of the polyfunctional acrylate in the mold can be set to 2 hours or less, preferably 1 hour or less.

離型されたプラスチック基板は、平な場所に置かれ、T
gが11C)C以上となるまで後硬化される。
The released plastic substrate is placed on a flat surface and T
Post-curing is performed until g becomes 11C)C or more.

型内硬化および後硬化の手段としては、加熱、紫外線照
射、電子線照射等がある。
Means for in-mold curing and post-curing include heating, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, and the like.

後硬化は、温度、照射量などを段階的に行なうのが好し
く、少なくとも後硬化温度として160℃以上で加熱す
るのが好しく、さらに、200℃以上の温度では、真空
又は窒素や不活性ガス雰囲気中で硬化させてプラスチッ
ク透明基板を得ることが好しい。
It is preferable to carry out post-curing in stages by adjusting the temperature, irradiation amount, etc. It is preferable to heat at least at a post-curing temperature of 160°C or higher, and furthermore, at a temperature of 200°C or higher, vacuum or nitrogen or inert It is preferable to obtain a plastic transparent substrate by curing in a gas atmosphere.

作  用 本発明は、型内でのラジカル重合でガラス転移温度が1
0℃〜100℃という最終硬化プラスチック基板のガラ
ス転移温度以下の不完全ラジカル重合状態で脱型するこ
とにより、反応硬化収縮による力学的歪、光学的歪を最
低限におさえ、後硬化を脱型後に行うことにより、プラ
スチック基板外周表面の拘束による、表面と内部の力学
的歪の差を無くす作用があった。この後硬化は、型内重
合によって得られたプラスチック基板のガラス転移温度
が1Q℃〜100℃であり、形状保持のため急激に15
0℃まで昇温することができない。
Function The present invention achieves a glass transition temperature of 1 through radical polymerization within a mold.
By demolding in an incomplete radical polymerization state below the glass transition temperature of the final cured plastic substrate (0°C to 100°C), mechanical distortion and optical distortion caused by reaction curing shrinkage can be minimized, and post-curing can be demolded. By performing this later, there was an effect of eliminating the difference in mechanical strain between the surface and the inside due to the restraint of the outer peripheral surface of the plastic substrate. This post-curing is performed because the glass transition temperature of the plastic substrate obtained by in-mold polymerization is 1Q℃ to 100℃, and the temperature is rapidly increased to 15℃ to maintain the shape.
The temperature cannot be raised to 0°C.

さらに後硬化温度が低いことは、残存2重結合を多くし
ていたが、150℃以上の温度による後硬化によって残
存2重結合部分のラジカル重合が進行し、2重結合が減
少する作用を得た。
Furthermore, a low post-curing temperature increases the number of residual double bonds, but post-curing at a temperature of 150°C or higher promotes radical polymerization of the remaining double bonds, reducing the number of double bonds. Ta.

以下実施例を示す。なお、実施例中の部は重量部を、チ
は重量%を示す。
Examples are shown below. In the examples, "part" means part by weight, and "chi" means % by weight.

又実施例において得られるガラス転移温度(TCI)及
び残存2重結合量(チ)と基板に記録膜を形成させ記録
膜への影響を調べる方法は下記の試験法により測定した
Further, the glass transition temperature (TCI) and residual double bond content (x) obtained in the examples and the method of forming a recording film on a substrate and examining the influence on the recording film were measured by the following test method.

Oガラス転移温度(Tcy)  :示差走査熱量計(D
SC)にて測定。
O Glass transition temperature (Tcy): Differential scanning calorimeter (D
Measured at SC).

0残存2重結合量(%)  :IR分析法にて測定16
60〜1660cm  及び2600−86ω(7)−
1ピークにベースラインを記入し、それぞれのピーク面
積を31,32とすると n=51/S2 とし、液状樹脂のnを100%とし、 51=oの時を○チとして検量線とし、各サンプルのn
を求め、検量線からチを算出した。
0Residual double bond amount (%): Measured by IR analysis16
60-1660cm and 2600-86ω(7)-
Fill in the baseline for one peak, set the respective peak areas as 31 and 32, then n = 51/S2, set n of liquid resin as 100%, set ○ when 51 = o as a calibration curve, and calculate each sample. n of
was determined, and Chi was calculated from the calibration curve.

0記録膜への影響   :水中浸漬後の形態観察図面に
示した様に、得られた基板1に記録膜2をスパッタリン
クシ、テフロンスペーサ4とパラフィンワックス5を介
して石英板3で密閉し、クランプ6で封止する。
0 Effect on the recording film: Observation of morphology after immersion in water As shown in the drawing, the recording film 2 was sputter-linked onto the obtained substrate 1 and sealed with a quartz plate 3 via a Teflon spacer 4 and paraffin wax 5. , and are sealed with clamps 6.

これを純水8を満たした恒温槽7に浸漬し、飽和吸水率
に到達した時間に取出し、顕微鏡にて形態変化を観察し
た。
This was immersed in a constant temperature bath 7 filled with pure water 8, and taken out when the saturated water absorption rate was reached, and changes in morphology were observed using a microscope.

実施例 比較例1: 2.2′−ビス(4−(β−メタクロイルオキシエトキ
シ)シクロヘキシル〕プロパン1Q○部ニ対して、光増
感剤(イルガキュア651(チバ・ガイギー社製) )
 O,S部とベンゾイルパーオキサイドO,S部加えて
、60℃に加熱して均一に攪拌。
Comparative Example 1: 2.2'-bis(4-(β-methacroyloxyethoxy)cyclohexyl)propane 1Q○ part of photosensitizer (Irgacure 651 (manufactured by Ciba Geigy))
Add parts O and S and parts O and S of benzoyl peroxide, heat to 60°C and stir uniformly.

混合した後、脱泡し、この液を直径120団のガラス板
とシリコーンゴムと金属スタンバ−で構成された型のキ
ャピテイ中に注入し、80W/CrnUVランプを20
ロパスして紫外線を照射後脱型して、割れ、欠けのない
プラスチックディスク基板を得たO この基板80℃で2時間後硬化させた基板のTgは、1
48℃、残存2重結合は38%であった。
After mixing, defoaming, the liquid was injected into a molded cavity consisting of a glass plate with a diameter of 120, silicone rubber, and a metal stambar, and an 80W/Crn UV lamp was heated at 200W.
After irradiation with ultraviolet rays and demolding, a plastic disk substrate with no cracks or chips was obtained.The Tg of this substrate was cured at 80°C for 2 hours, and the Tg was 1.
At 48°C, residual double bonds were 38%.

実施例1: 比較例1で得られた後硬化前の基板を、150℃で2時
間後硬化させた基板の残存2重結合は32チであり、こ
の基板の飽和吸水率は、1.6チであった。
Example 1: The unpost-cured substrate obtained in Comparative Example 1 was post-cured at 150° C. for 2 hours. The remaining double bonds of the substrate were 32, and the saturated water absorption rate of this substrate was 1.6. It was Chi.

比較例2: 実施例1において2,2′−ビス〔4−(β−メタクロ
イルオキシエトキシ)シクロヘキシル〕フロパンの代り
にビス(オキシメチル)トリシクロ(5,2,1,02
・5〕テカンジメタクリレートを用い割れや欠けのない
プラスチックディスク基板を得た。
Comparative Example 2: In Example 1, bis(oxymethyl)tricyclo(5,2,1,02
・5] A plastic disk substrate free from cracks and chips was obtained using tecan dimethacrylate.

そのプラスチックディスク基板のTgを測定したところ
38℃であった。
The Tg of the plastic disk substrate was measured and found to be 38°C.

その後、この基板を平板上に置き、更にioo℃で後硬
化を行なって、最終のTgが261℃でスタンバ−信号
の転写性も良好なプラスチックディスク基板を得た。
Thereafter, this substrate was placed on a flat plate and further post-cured at IOOO DEG C. to obtain a plastic disk substrate with a final Tg of 261 DEG C. and good transferability of standby signals.

実施例2: この基板を、150℃で2時間後硬化したプラスチツク
基板0残存2重結合量は、28チであった。
Example 2: This plastic substrate was post-cured at 150° C. for 2 hours, and the amount of residual double bonds was 28.

実施例3: この基板を、200℃で2時間後硬化したプラスチツク
基板0残存2重結合量は、17チであった。
Example 3: This plastic substrate was post-cured at 200° C. for 2 hours, and the amount of residual double bonds was 17.

実施例4: この基板を、N2中で30002時間後硬化させたプラ
スチック基板。残存2重結合量は、8%であった。
Example 4: A plastic substrate where the substrate was post-cured in N2 for 30,002 hours. The amount of remaining double bonds was 8%.

比較例3: 実施例1において、後硬化を紫外線照射の・みで行なっ
たところ、UVランプ50回パス後においても、191
20℃と最終Tg148℃に達せず、残存2重結合量も
43〜45チ程度であった。
Comparative Example 3: In Example 1, post-curing was carried out only by UV irradiation, and even after 50 passes of the UV lamp, 191
At 20°C, the final Tg of 148°C was not reached, and the amount of remaining double bonds was about 43 to 45.

実施例5: 実施例1において、光増感剤を加えずに紫外、線照射に
、代えて、重合温度80℃で硬化反応を行なった。30
分後、離型してTgss℃の割れ、欠けのないディスク
基板を得た。
Example 5: In Example 1, the curing reaction was carried out at a polymerization temperature of 80° C. instead of using ultraviolet or radiation without adding a photosensitizer. 30
After a few minutes, the mold was released to obtain a disk substrate with no cracks or chips at Tgss°C.

実施例1と同様の後硬化を行なったところ残存2重結合
量は28%まで低下した。
When post-curing was carried out in the same manner as in Example 1, the amount of residual double bonds was reduced to 28%.

以上の実施例と比較例の吸水率と記録膜への影響とを表
−1に示した。
Table 1 shows the water absorption rates and effects on recording films of the above Examples and Comparative Examples.

表−1 発明の効果 本発明により、多官能アクリレートのラジカル重合で得
られたプラスチック基板を、少なくとも後硬化温度とし
て150tl:以上で加熱することによシ、最終プラス
チック基板の残存2重結合量が30%以下に減少し、基
板の吸水率も下がり、記録膜への影響が少なくなり、光
デイスク基板特性を向上させる効果を得た。
Table 1 Effects of the Invention According to the present invention, by heating a plastic substrate obtained by radical polymerization of a polyfunctional acrylate at a post-curing temperature of at least 150 tl or more, the amount of residual double bonds in the final plastic substrate can be reduced. The water absorption rate decreased to 30% or less, the water absorption rate of the substrate also decreased, the influence on the recording film was reduced, and the effect of improving the characteristics of the optical disk substrate was obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

図面は、記録膜とプラスチック基板の吸水との相関を見
るための実験方法を示す説明図である。
The drawing is an explanatory diagram showing an experimental method for examining the correlation between water absorption of a recording film and a plastic substrate.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)多官能性アクリレート化合物を注型成形法にて、
ラジカル重合してプラスチック基板を得る方法において
多官能性アクリレート組成物を型内でラジカル重合して
得たプラスチック基板のガラス転移温度が10〜100
℃に達した時点で、この基板を離型した後に、更に、こ
の基板を後硬化させてTgが110℃以上の基板を得て
この基板を150℃以上の温度で後硬化し、基板を得る
ことを特徴とするプラスチック基板の成形方法。
(1) A polyfunctional acrylate compound is cast using a cast molding method.
In the method of obtaining a plastic substrate by radical polymerization, the glass transition temperature of the plastic substrate obtained by radically polymerizing a polyfunctional acrylate composition in a mold is 10 to 100.
When the temperature reaches ℃, this substrate is released from the mold, and then this substrate is further post-cured to obtain a substrate with a Tg of 110℃ or higher, and this substrate is post-cured at a temperature of 150℃ or higher to obtain a substrate. A method for molding a plastic substrate, characterized by:
(2)多官能性アクリレート化合物が、下記の一般式(
I ) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
( I ) 〔式中、R_1は炭素数2〜50のアルコール残基であ
り、R_2はHまたはCH_3であり、nは2−6の数
である。〕 で表わされる化合物であることを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載のプラスチック基板の成形方法。
(2) The polyfunctional acrylate compound has the following general formula (
I) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼・・・・・・・・・
(I) [In the formula, R_1 is an alcohol residue having 2 to 50 carbon atoms, R_2 is H or CH_3, and n is a number from 2 to 6. ] The method for molding a plastic substrate according to claim 1, wherein the compound is a compound represented by:
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