JPS62272379A - Wiring pattern inspecting device - Google Patents

Wiring pattern inspecting device

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JPS62272379A
JPS62272379A JP61114545A JP11454586A JPS62272379A JP S62272379 A JPS62272379 A JP S62272379A JP 61114545 A JP61114545 A JP 61114545A JP 11454586 A JP11454586 A JP 11454586A JP S62272379 A JPS62272379 A JP S62272379A
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JP
Japan
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pattern
signal
circuit
reduced
defect
Prior art date
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Pending
Application number
JP61114545A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hirotani Saitou
啓谷 斉藤
Yasuhiko Hara
靖彦 原
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPS62272379A publication Critical patent/JPS62272379A/en
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Abstract

PURPOSE:To detect a linear disaccord part, which has a narrow width but is long between boundaries, as a defect by expanding and reducing one pattern and using its contour line to detect whether the other pattern has a pattern part and a base material part or not. CONSTITUTION:Illuminating light from an extra-high pressure mercury lamps 3 and 3' is projected to the same positions of a reference printed board 1 and a printed board 1' to be examined through half mirrors 4 and 4'. Reflected light is focused on CCD linear sensors 6 and 6' and passes a binarizing circuit 8, and a binary signal 9 of the reference pattern is inputted to an expanding circuit 10 and a reducing circuit 12. Boundaries of the pattern part are expanded and reduced by one picture element, and an expanded picture signal 11 and a reduced picture signal 13 are inputted to contour line extracting circuits 14 and 16. A coincidence circuit 18 outputs a defect detection signal 19 to a defect indicator 22 if an expanded contour line signal 15 is '1' (contour line part) and a binary signal 9' of the pattern to be examined is '1' (pattern part), and a coincidence circuit 20 outputs a defect detection signal 21 if a reduced contour line signal 17 is '1' and the signal 9' is '0' (base material part).

Description

【発明の詳細な説明】 i)発明の詳細な説明 一′〔産業上の利用分野〕・ 本発明は、配線パターンにおける欠け、突起等の欠陥の
自動検出装置に係り、特に2つの配線パターンの同一箇
所の不一致部分を欠陥とする比較検査方式に好適な配線
パターン検査装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] i) Detailed Description of the Invention 1' [Industrial Application Field] The present invention relates to an automatic detection device for defects such as chips and protrusions in wiring patterns, and in particular, a device for automatically detecting defects such as chips and protrusions in wiring patterns. The present invention relates to a wiring pattern inspection device suitable for a comparative inspection method in which non-conforming portions at the same location are determined as defects.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

配線パターンとしては、LSI、プリント基板。 The wiring pattern is LSI, printed circuit board.

フォトマスク等があるが、ここではプリント基板を対象
として記述する。
There are photomasks, etc., but here we will focus on printed circuit boards.

プリント基板の配線パターンの欠け、突起等の欠陥を検
出する方法として、比較検査方式がある。
A comparative inspection method is available as a method for detecting defects such as chips and protrusions in wiring patterns of printed circuit boards.

これは同一配線パターンからなる2つのプリント基板の
同一箇所を光学的に検出し、検出像を光電変換素子によ
って映像信号に変換し、映像信号を2値化し、メモリに
2次元パターンとして記憶し、2つの記憶した配線パタ
ーンの各画素の不一致部分を欠陥として検出する。もの
である。なおこの糧の装置として関連するものには例え
ば特開昭部−127574が挙げられる。
This optically detects the same location on two printed circuit boards with the same wiring pattern, converts the detected image into a video signal using a photoelectric conversion element, binarizes the video signal, and stores it in memory as a two-dimensional pattern. A mismatched portion of each pixel of the two stored wiring patterns is detected as a defect. It is something. A related device for this purpose includes, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 127574.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

上記従来技術は、基準となるプリント基板のパターンと
検査対象となるプリント基板のパターンの同一箇所を比
較して検査する際、両者の不一致部分があらかじめ決め
られた大きさの画素外をもつ4角形状の不一致エリアP
において、全画素、不一致となった場合のみ欠陥として
検出する。
In the above-mentioned conventional technology, when comparing and inspecting the same portion of a printed circuit board pattern serving as a reference and a pattern of a printed circuit board to be inspected, the mismatched portion between the two is a square with a predetermined size outside the pixel. Shape mismatch area P
In this case, a defect is detected only when all pixels do not match.

このような検査方式に対し、第2図に示すような基準と
なるパターンが破線で示すようなライン4とパッド4で
できていて、被検査パターンと比較して斜線で示すよう
な不一致部分が検出された場合について考える。不一致
部分としては、突起状の不一致部分(al)〜(”4)
%欠は状の不一致部分(bl)〜(b4)がある。突起
状の不一致部分は微小な突起(al)、配線の太り(α
2)、大きな突起(A3)、細長い突起又は短絡(,4
)、欠は状の不一致部分は微小な欠け(bl)、配線の
細り(h2)、大きな欠け(h3)、細長い欠は又は断
線(h4)である。
For such an inspection method, if a reference pattern as shown in Fig. 2 is made up of lines 4 and pads 4 as shown by broken lines, and compared to the pattern to be inspected, there are mismatched areas as shown by diagonal lines. Consider the case where it is detected. The mismatched parts include protruding mismatched parts (al) to ("4)
There are mismatched parts (bl) to (b4) in the shape of % missing. The mismatched protrusions are minute protrusions (al) and wiring thickening (α).
2), large protrusion (A3), elongated protrusion or short circuit (,4
), the chip-shaped mismatched portion is a minute chip (bl), a narrowed wiring (h2), a large chip (h3), a long and narrow chip or a disconnection (h4).

これらの欠陥に対し、従来の検査技術では、(α3)や
(b3)は4角形状の不一致エリアPの全画素において
基準パターンと複検査パターンが不一致となっているた
め、欠陥として検出するが、他の(al) 、 (A2
) 、 (A4) 、 (bl) 、 (A2) 、 
(b4)は4角形状の不一致エリアPの全画素において
、基準パターンと被検査パターンが不一致とはなってい
ないため、欠陥として検出しない。
Regarding these defects, in conventional inspection technology, (α3) and (b3) are detected as defects because the reference pattern and the multi-inspection pattern do not match in all pixels of the square-shaped mismatch area P. , other (al) , (A2
), (A4), (bl), (A2),
(b4) is not detected as a defect because the reference pattern and the pattern to be inspected do not match in all pixels in the square-shaped mismatch area P.

しかし、配線パターンの回路の機能を考慮すると細長い
短絡(α4)や細長い増線(b4)は欠陥として検出す
る必要がある。
However, considering the function of the circuit of the wiring pattern, it is necessary to detect the elongated short circuit (α4) and the elongated wire extension (b4) as defects.

このように従来の技術では細長い短絡(114)や細長
い断線(h4)のように配線パターンの境界からの長さ
が大きいが幅の小さい線状の不一致部分を欠陥として検
出することが困難であるという問題がある。
In this way, with conventional technology, it is difficult to detect as defects linear mismatched parts that are long from the wiring pattern boundary but have a small width, such as elongated short circuits (114) and elongated breaks (h4). There is a problem.

本発明の目的は、プリント基板の配線パターンの欠陥検
出を比較検査方式によって行う場合、不一致部分の配線
パターンの境界からの長さが小さい場合は欠陥とせず、
不一致部分の幅は小さいが配線パターンの境界からの長
さが大きい突起や短絡、不一致部分の幅は小さいが配線
パターンの境界からの長さが大きい欠けや断線を欠陥と
する検査できるようにした配線パターン検査装置を提供
することにある。
An object of the present invention is to detect defects in printed circuit board wiring patterns using a comparative inspection method, and to detect defects if the length of the mismatched portion from the boundary of the wiring pattern is small, and to
It is now possible to inspect as defects protrusions and short circuits where the width of the mismatched part is small but the length from the boundary of the wiring pattern is large, and chips and disconnections where the width of the mismatched part is small but the length from the border of the wiring pattern is large. An object of the present invention is to provide a wiring pattern inspection device.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

上記目的は、従来、比較手段で行なった2つのプリント
基板の同一箇所の配線パターンを用いて不一致部分を抽
出する処理を一方の2次元配線パターンを拡大・縮小し
て、この拡大された配線パターン及び縮小された配線パ
ターンの輪郭線を抽出し、これら拡大パターン及び縮小
パターンの輪郭線と他方の配線パターンの一致部分を検
出して判定するように構成することにより達成される。
The above purpose is to enlarge or reduce one two-dimensional wiring pattern to extract the mismatched part using wiring patterns at the same location of two printed circuit boards, which was conventionally performed by comparison means, This is achieved by extracting the outlines of the reduced wiring patterns and detecting and determining matching portions between the outlines of the enlarged and reduced patterns and the other wiring pattern.

〔作用〕[Effect]

2値化信号で得られる2つのプリント基板の同一箇所の
配線パターンA、Bに対し、一方の配線パターンAを拡
大回路1輪郭線抽出回路によって配線パターンAの外側
に、また配線パターンAを縮小回路1輪郭線抽出回路に
よって配線パターンAの内側に、それぞれパターン部分
の境界よりN画素の距離をもりた拡大輪郭線パターンA
l、縮小輪郭線パターンA2を作成する。
For wiring patterns A and B at the same location on two printed circuit boards obtained from the binary signal, one wiring pattern A is enlarged to the outside of wiring pattern A by the outline extraction circuit of circuit 1, and wiring pattern A is reduced. Circuit 1 The outline extraction circuit creates an enlarged outline pattern A inside the wiring pattern A with a distance of N pixels from the boundary of each pattern part.
l. Create a reduced outline pattern A2.

次に一致回路によ′りて、検査すべき配線パターンBに
対し、拡大輪郭線パターンA1を用い、拡大輪郭線パタ
ーンAl上に配線パターンBのパターン部分があるか否
かの検出を行ない、パターン部分があるとき、その部分
を突起状の欠陥とする。
Next, using the matching circuit, the enlarged contour pattern A1 is used for the wiring pattern B to be inspected, and it is detected whether or not there is a pattern portion of the wiring pattern B on the enlarged contour pattern Al. If there is a patterned portion, that portion is treated as a protruding defect.

同様に一致回路によって、検査すべき配線パターンEl
ζ対し、縮小輪郭線パターンA2を用い、縮小輪郭線パ
ターンA2上に配線パターンBの基材部分があるか否か
の検出を行ない、基材部分があるとき、その部分を欠は
状の欠陥とする。
Similarly, the wiring pattern El to be inspected is determined by the matching circuit.
ζ, using the reduced outline pattern A2, it is detected whether or not there is a base material part of the wiring pattern B on the reduced outline pattern A2, and if there is a base material part, that part is treated as a chip-like defect. shall be.

こうすることによって、配線パターンBの境界からの長
さがN画素より小さい突起状の不一致部分及び、欠は状
の不一致部分は無視し、境界からの長さがN画素より大
きく、4角形状の不一致エリアでは検出できないような
欠陥を検出可能にする。
By doing this, the protrusion-like mismatched parts whose length from the boundary of wiring pattern B is smaller than N pixels and the chip-like mismatched parts are ignored, and the length from the border is larger than N pixels and the square shape is ignored. This makes it possible to detect defects that cannot be detected in non-conforming areas.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.

第1図におけるプリント基板検査装置は、プリント基板
のパターンを検出する光学系と、パターンの検出信号を
処理して欠陥を検出する処理回路とからなる。光学系は
プリント基板1.S/、プリント基板1,1′を全面走
査するためのXYテープ゛ル2.パターンを照明する超
高圧水銀燈3.3’。
The printed circuit board inspection apparatus shown in FIG. 1 includes an optical system that detects a pattern on a printed circuit board, and a processing circuit that processes a detection signal of the pattern to detect defects. The optical system is a printed circuit board 1. S/, XY tape 2 for scanning the entire printed circuit board 1, 1'. Ultra-high pressure mercury lamp 3.3' to illuminate the pattern.

照明光の光路変更するためのハーフミラ−4,4’。Half mirrors 4, 4' for changing the optical path of illumination light.

結像レンズ5.5’、検出像を光電変換するCCDリニ
アセンサ6.6′とからなる。
It consists of an imaging lens 5.5' and a CCD linear sensor 6.6' that photoelectrically converts a detected image.

一方、処理回路はCCDリニアセンサ6.6′で得られ
る映像信号を2値化する2値化回路8.8’。
On the other hand, the processing circuit is a binarization circuit 8.8' that binarizes the video signal obtained by the CCD linear sensor 6.6'.

z値化信号で形成される2次元パターンを拡大する拡大
回路10.同じく2次元パターンを縮小する縮小回Ws
12.拡大パターン、縮小パターンの輪郭線を抽出する
輪郭線抽出回路14,16.輪郭線上のパターンを検出
する一致回路、 18.20.欠陥検出結果を表示する
欠陥表示器nとからなる。
Enlargement circuit 10 for enlarging the two-dimensional pattern formed by the z-valued signal. Similarly, reduction time Ws to reduce the two-dimensional pattern
12. Contour line extraction circuits 14, 16 for extracting contour lines of enlarged patterns and reduced patterns. Matching circuit for detecting patterns on contour lines, 18.20. and a defect indicator n for displaying defect detection results.

欠番ζその動作を説明する。始めに光学系について述べ
る。プリント基板1.プリント基板1′は同一パターン
からなるもので、欠陥のない基準パターンとなるものを
プリント基板1.被検査パターシとなるものをプリント
基板1′として、XYテーブル2,2′にそれぞれ設置
する。次にプリント基板の両端にある位置合わせ用マー
クを用いて、両者のプリント基板1,1′が同一箇所が
検出できるように、XYテーブル2,2′を独立に移動
して位置合わせを行なう。位置合わせ終了後、図には示
されていないが、XYテーブル2.2′はXYテーブル
2,2′が同一平面にのった1つの大型XYテーブルに
よって同一方向、同一速度で走査される。
The operation of missing number ζ will be explained. First, let's talk about the optical system. Printed circuit board 1. The printed circuit boards 1' are made of the same pattern, and a defect-free reference pattern is used as the printed circuit board 1. A printed circuit board 1' to be a pattern to be inspected is placed on XY tables 2 and 2', respectively. Next, the XY tables 2 and 2' are independently moved and aligned using the alignment marks on both ends of the printed circuit boards so that the same location on both printed circuit boards 1 and 1' can be detected. After the alignment is completed, although not shown in the figure, the XY tables 2.2' are scanned in the same direction and at the same speed by one large XY table on which the XY tables 2, 2' are placed on the same plane.

照明は超高圧水銀燈3,3′を用い、照明光はノ1−フ
ミラーを介して光路を90′曲げプリント基板1゜1′
上に照射する。プリント基板1.1′は銅でできたパタ
ーン部分は反射率が高く、ポリイミド等でできた基材部
分は反射率が低い。そのため、プリント基板1.1′の
反射光を結像レンズ5,5′を用いてCOD IJlニ
アセンサ66′上に結像した像は、パターン部分が明、
基材部分が暗となる。検出像は、CCDリニアセンサ6
.6′で映像信号7.7′に変換される。映像信号7.
7′はパターン部分が高レベル、基材部分が低レベルで
ある。
For illumination, ultra-high pressure mercury lamps 3 and 3' are used, and the illumination light passes through a nozzle mirror and bends the optical path by 90' to a printed circuit board 1°1'.
Irradiate on top. In the printed circuit board 1.1', the pattern portion made of copper has a high reflectance, and the base material portion made of polyimide or the like has a low reflectance. Therefore, in the image formed by reflecting light from the printed circuit board 1.1' onto the COD IJl near sensor 66' using the imaging lenses 5, 5', the pattern part is bright;
The base material part becomes dark. The detected image is the CCD linear sensor 6
.. 6', it is converted into a video signal 7.7'. Video signal 7.
7', the pattern portion is at a high level and the base material portion is at a low level.

次に処理回路について述べる。映像信号7、フ′は2値
化回路8.8′によってCCDリニアセンサ6.6′の
駆動信号に同期した同期信号にもとづいてサンプリング
され、画素単位で基材部分を1゜パターン部分を0とす
る1連の2値化信−49,9’に変換される。変換され
た2値化信号9.9′のうち、基準、パターンの2値化
信号9を拡大回路10に入力する。
Next, the processing circuit will be described. The video signal 7, F' is sampled by a binarization circuit 8.8' based on a synchronization signal synchronized with the drive signal of the CCD linear sensor 6.6', and the base material part is 1 degree and the pattern part is 0 degree in pixel units. It is converted into a series of binary signals -49,9'. Of the converted binary signals 9.9', the standard and pattern binary signals 9 are input to the enlarging circuit 10.

拡大回路lOは、第3図(、)に示すように、シフトレ
ジスタお、メモリス、論理和回路部とからなる。
As shown in FIG. 3(,), the enlarged circuit 1O consists of a shift register, a memory, and an OR circuit section.

シフトレジスタおはCCDリニアセンサ6の一走査分の
同期信号の数と同数の記憶素子からなるものを3列並列
に設置したもので、CCD IJlニアセンサ6駆動信
号と同期して2値化信号9を1画素分づつ順次シフトし
ていく。各シフトレジスタの右端から出力されるz値化
信号は、その段のメモリ及び次の段のシフトレジスタの
左端に入力される。メモIJ 24は3×3画素の2次
元パターンを記憶、読み出しするもので、シフトレジス
タからの画素毎の2値化信号を前記同期信号と同期して
左から右に順次シフトしていく。これにより、メモリ2
4盛ζはCCD lニアセンサ6で検出された2次元パ
ターンが383画素の大きさでCCD IJlニアセン
サ6走査方向に従って順次格納されていく。論理和回路
5は第3図(alに示すように、3×3画素のメモリn
の全画素の論理和をとり、全パターンが0(基材部分)
となるときのみO(基材部分)を出力し、1つでもl(
パターン部分)があるとき1(パターン部分)を出力す
ることによりて、2次元パターンのパターン部分の境界
を1画素づつ拡大する処理を行なう。こうして、拡大回
路10によって、パターン部分が1.基材部分がOの拡
大画像信号11が出力される。
A shift register is a system in which three rows of memory elements, the same number as the number of synchronizing signals for one scan of the CCD linear sensor 6, are installed in parallel. are sequentially shifted one pixel at a time. The z-valued signal output from the right end of each shift register is input to the memory of that stage and the left end of the shift register of the next stage. The memo IJ 24 stores and reads out a two-dimensional pattern of 3×3 pixels, and sequentially shifts the binarized signal for each pixel from the shift register from left to right in synchronization with the synchronization signal. This allows memory 2
In the four arrays ζ, a two-dimensional pattern detected by the CCD near sensor 6 has a size of 383 pixels and is sequentially stored in accordance with the scanning direction of the CCD near sensor 6. The OR circuit 5 has a 3×3 pixel memory n as shown in FIG.
Take the logical sum of all pixels, and all patterns are 0 (base material part)
O (base material part) is output only when
By outputting 1 (pattern part) when there is a pattern part), the boundary of the pattern part of the two-dimensional pattern is expanded pixel by pixel. In this way, the enlargement circuit 10 enlarges the pattern portion to 1. An enlarged image signal 11 whose base material portion is O is output.

ところで、2値化信号9は、拡大回路10と並列して、
縮小回路11に入力される。縮小回% 11は、第3図
(b)&ζ示すように、シフトレジスタ冗、メモリn、
論理積回路四とからなる。シフトレジスタ26は拡大回
路10のシフトレジスタnウメモリnは拡大回路10の
メモリスと同一で、メモIJ 27には拡大回路lOの
メモリ24 (l!−同様、CCD IJlニアセンサ
6検出された2次元パターンが3X3画素の大キサでC
OD IJニアセンサ6の走査方向に従って順次格納さ
れていく。論理積回路具は第3図(b)に示すよう尋こ
、3×3画素のメモII 27の全画素の論理積をとり
、全パターンが1(パターン部分)となるときのみ1(
パターン部分)を出力し、1つでも0(基材部分)があ
るときO(基材部分)を出力することによって、2次元
パターンのパターン部分の境界を1画素づつ縮小する処
理を行なう。
By the way, the binarized signal 9 is connected in parallel with the expansion circuit 10,
The signal is input to the reduction circuit 11. As shown in FIG. 3(b) &
It consists of four AND circuits. The shift register 26 is the same as the memory n of the enlargement circuit 10, and the memo IJ 27 contains the memory 24 of the enlargement circuit IO (l!-Similarly, the CCD IJI near sensor 6 detects the two-dimensional pattern is a large scale of 3x3 pixels and C
The data are sequentially stored in accordance with the scanning direction of the OD IJ near sensor 6. The AND circuit device is shown in Figure 3(b). It calculates the AND of all the pixels of Memo II 27 of 3 x 3 pixels, and only when the whole pattern becomes 1 (pattern part), it becomes 1 (
By outputting O (base material part) when there is even one 0 (pattern part), the boundary of the pattern part of the two-dimensional pattern is reduced pixel by pixel.

こうして、縮小画1812によって、パターン部分が1
、基材部分がOの縮小画像信号13が出力される。
In this way, the pattern portion is reduced to 1 by the reduced image 1812.
, a reduced image signal 13 whose base material portion is O is output.

今述べた拡大回路10.縮小回路12では一2次元パタ
ーンのパターン部分の境界をそれぞれ1画素づつ、拡大
、縮小する処理を行なう。従ってN画素(N>t)拡大
、縮小する場合、今述べた拡大回路、縮小回路をN段つ
なげ、最終段の出力をそれぞれ、拡大画像信号11.縮
小画像信号13とする。
Expansion circuit 10 just mentioned. The reduction circuit 12 performs a process of enlarging or reducing the boundaries of pattern portions of a 12-dimensional pattern one pixel at a time. Therefore, when enlarging or reducing N pixels (N>t), the enlarging circuit and reducing circuit just described are connected in N stages, and the output of the final stage is used as the enlarged image signal 11. It is assumed that the reduced image signal 13 is used.

拡大回路10.縮小回路12で出力された拡大画像信号
11.縮小画像信号13は、輪郭線抽出回路14゜16
に入力される。輪郭線抽出回路14.16は同一のもの
で第4図に示すように、シフトレジスタ29゜メモ1J
30.否定論理積回路31と論理積回路32とからなる
。シフトレジスタ四、メモリ30は、拡大画M 10の
シフトレジスタn、メモリ24.縮小回路12のシフト
レジスタ26.メモリ27と同一である。否定論理積回
路31は、メモリ(9)の十字形の4画素の論理積の否
定をとるもので、4画素のうち1つでも0(基材部分)
があるとき1を出力し、4画素すべてパターン部分のと
き0を出力する。論理積口j832は、メモリ(9)の
中心画素と否定論理積回路31の論理積をとるもので、
中心画素が1(パターン部分)で、周辺の十字形の4画
素のうち1つでもO(基材部分)があるときのみ1を出
力する。
Enlargement circuit 10. The enlarged image signal 11 outputted from the reduction circuit 12. The reduced image signal 13 is sent to the contour extraction circuit 14゜16.
is input. The contour extraction circuits 14 and 16 are the same, and as shown in FIG.
30. It consists of a NAND circuit 31 and an AND circuit 32. Shift register 4, memory 30 is the enlarged image M10's shift register n, memory 24. Shift register 26 of reduction circuit 12. It is the same as the memory 27. The NAND circuit 31 is for negating the AND of four cross-shaped pixels of the memory (9), and even one of the four pixels is 0 (base material part).
When there is, it outputs 1, and when all four pixels are in the pattern part, it outputs 0. The AND gate j832 is for taking the AND of the center pixel of the memory (9) and the NAND circuit 31.
1 is output only when the center pixel is 1 (pattern part) and at least one of the four surrounding cross-shaped pixels is O (base material part).

これにより2次元パターンのパターン部分の境界を1画
素単位で抽出し、パターンの境界部分を1゜それ以外を
Oとする拡大輪郭線信号15.縮小輪郭線信号17を出
力する。
As a result, the boundary of the pattern portion of the two-dimensional pattern is extracted pixel by pixel, and the enlarged contour signal 15. A reduced contour signal 17 is output.

ところで、拡大口wA10.縮小回路121輪郭線抽出
回路14.16では、対象画素の上下左右の周辺の画素
を用いて処理を行うため、各走査線の1番目及び最終画
素の出力はパターン情報として意味ない。拡大回路10
.縮小回路12の段数をNとした場合、//+1画素の
情報が失われるため、あらかじめ、検出エリアを大きく
しておく必要がある。
By the way, the enlargement port wA10. Since the reduction circuit 121 and the contour extraction circuit 14.16 perform processing using surrounding pixels on the upper, lower, left, and right sides of the target pixel, the output of the first and last pixel of each scanning line is meaningless as pattern information. Expansion circuit 10
.. If the number of stages of the reduction circuit 12 is N, information of //+1 pixel is lost, so it is necessary to enlarge the detection area in advance.

拡大輪郭線信号15は一致回路18に、縮小輪郭線信号
17は一致回路加に入力される。一致回路18は第5図
(α)に示すように論理積回路おからなり、拡大輪郭線
信号15、及び被検査パターンの2値化信号9′が入力
される。このとき2値化信号9/は、被検査パターンが
基準パターンの同一箇所を検出した信号であるように拡
大輪郭線信号15に同期させて入力する。論理積回路あ
は拡大輪郭線信号15が1(輪郭線部分)で、2値化信
号9′が1(パターン部分)のときのみ欠陥ありとして
欠陥検出信号19を1として出力する。これにより、被
検査パターンのパターン部分が、基準パターンの拡大輪
郭線上にあるとき、欠陥部分として検出する。
The enlarged contour signal 15 is input to the matching circuit 18, and the reduced contour signal 17 is input to the matching circuit. As shown in FIG. 5(α), the coincidence circuit 18 is composed of an AND circuit, and receives the enlarged contour signal 15 and the binary signal 9' of the pattern to be inspected. At this time, the binary signal 9/ is inputted in synchronization with the enlarged contour signal 15 so that the pattern to be inspected is a signal that detects the same portion of the reference pattern. The AND circuit outputs the defect detection signal 19 as 1 only when the enlarged contour signal 15 is 1 (outline portion) and the binarized signal 9' is 1 (pattern portion). Thereby, when a pattern portion of the pattern to be inspected is located on the enlarged contour line of the reference pattern, it is detected as a defective portion.

一方、一致回路20は第5図(Alに示すように論理積
回路具からなり、縮小輪郭線信号17、及び被検査パタ
ーンの2値化信号9′を反転したものが入力される。こ
のとき、2値化信号9′は縮小輪郭線信号17に同期さ
せて、プリント基板の同一箇所の検出信号であるように
して入力する。論理積回路あは縮小輪郭線信号17が1
(輪郭線部分)で、2値化信号9′がO(基材部分)の
ときのみ欠陥ありとして欠陥検出信号21を1にして出
力する。これにより、被検査パターンの基材部分が基準
パターンの縮小輪郭線上にあるとき、欠陥部分として検
出する。
On the other hand, the matching circuit 20 is composed of an AND circuit as shown in FIG. , the binary signal 9' is input in synchronization with the reduced contour signal 17 so that it is a detection signal for the same location on the printed circuit board.The AND circuit is inputted when the reduced contour signal 17 is 1
(outline portion), only when the binary signal 9' is O (substrate portion), it is determined that there is a defect and the defect detection signal 21 is set to 1 and output. Thereby, when the base material portion of the pattern to be inspected is on the reduced contour line of the reference pattern, it is detected as a defective portion.

次に第6図により検出される欠陥の大きさについて述べ
る。複検査パターンの2値化信号9′を2次元化して表
わすと2値パターン(パターン部分あ、基材部分36)
となる。同じく、輪郭線抽出回路14. 16の出力で
ある拡大輪郭線信号15.縮小輪郭線信号17を2次元
化して表わし、先に表わしたz値化パターンに重ね合わ
せると、拡大輪郭線パターン41.43.縮小輪郭線パ
ターン42.44となる。
Next, the size of the defect detected in FIG. 6 will be described. When the binary signal 9' of the double inspection pattern is expressed in two dimensions, it becomes a binary pattern (pattern part A, base material part 36)
becomes. Similarly, the contour line extraction circuit 14. 16 is the enlarged contour signal 15. When the reduced contour signal 17 is expressed in two dimensions and superimposed on the previously expressed z-valued pattern, enlarged contour patterns 41, 43, . This results in reduced contour patterns 42 and 44.

(α)はN1画素拡大、縮小した拡大輪郭線パターン4
1゜縮小輪郭線パターン42. (b)はN1画素(N
t > Nt )拡大、縮小した拡大輪郭線パターン4
3.縮小輪郭線パターン■である。
(α) is N1 pixel enlarged and reduced enlarged contour pattern 4
1° reduced contour pattern 42. (b) is N1 pixel (N
t > Nt) Expanded and contracted enlarged contour pattern 4
3. This is a reduced outline pattern (■).

第6図(α)に示すようにN1画素拡大、縮小した場合
、拡大輪郭線パターン42と2値化パターンのパターン
部分あが突起部訂、38で一致し、突起部37゜゛あが
突起状欠陥、また縮小輪郭線パターン42と2値化パタ
ーンの基材部分あが欠は部39.40で一致し、欠は部
39.40が欠は状欠陥とそれぞれ判定される。同様に
、第6図(A)に示すようにN8画素拡大、縮小した場
合、突起部37のみが突起状欠陥、欠は部40のみが欠
は状欠陥と判定される。
As shown in FIG. 6(α), when enlarged and reduced by N1 pixels, the enlarged contour pattern 42 and the pattern part of the binarized pattern match at 38, and the protrusion 37° is like a protrusion. The defects, and the base material parts of the reduced outline pattern 42 and the binarized pattern match at portions 39 and 40, and the portions 39 and 40 are determined to be chip-like defects, respectively. Similarly, when N8 pixels are enlarged or reduced as shown in FIG. 6(A), only the protrusion 37 is determined to be a protrusion-like defect, and only the chipped portion 40 is determined to be a chipped defect.

このように拡大回路10.縮小回路12での拡大及び縮
小画素数Nを変化することによって、検出すべき欠陥の
大きさを変化させることが可能となる。
In this way, the expansion circuit 10. By changing the number N of pixels for enlargement and reduction in the reduction circuit 12, it is possible to change the size of the defect to be detected.

検出された欠陥は、欠陥検出信号19.21として欠陥
表示器22に入力され、欠陥信号が座標として記憶1表
示される。
The detected defect is input to the defect display 22 as a defect detection signal 19.21, and the defect signal is stored and displayed as coordinates.

ところで、今は被検iパターンのプリント基板が1′で
、基準となるパターンのプリント基板が1であるとして
て説明を進めたが、これを逆に設置した場合、拡大輪郭
線パターン41上に2値化パターンのパターン部分35
がある場合、その部分を欠は状の欠陥とし、縮小輪郭線
パターン42上に2値化パターンの基材部分36がある
とき、その部分を突起状の欠陥として欠陥検出すること
ができる。
By the way, the explanation has been made assuming that the printed circuit board of the i-pattern to be tested is 1' and the printed circuit board of the reference pattern is 1, but if this is installed in reverse, Pattern part 35 of binarization pattern
If so, that portion can be detected as a chip-like defect, and when the base material portion 36 of the binarized pattern is present on the reduced outline pattern 42, that portion can be detected as a protrusion-like defect.

しかし、欠陥の大きさがパターン部分の境界からの長さ
が大きいが、幅が小さい細長の欠陥のときは、拡大・縮
小処理によって欠陥が消滅してしまうため欠陥として検
出できない。従りて前に述べたように、基準となるパタ
ーンを常に1の側に設置するのが望ましい。
However, if the defect is elongated and has a large length from the boundary of the pattern portion but a small width, it cannot be detected as a defect because the defect disappears by the enlarging/reducing process. Therefore, as mentioned above, it is desirable to always set the reference pattern on the 1 side.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明によれば、一方のパターンを
拡大、縮小してその輪郭線を得、これを用いて他方のパ
ターンのパターン部、あるいは基材部の有無を検出する
ことによりパターンの欠陥を検出できる。そのため、線
の太りゃ、細り、微小な突起や、欠けなど、配線パター
ンの境界からの寸法が小さい不一致部分は欠陥としては
検出しない。そして、従来の検査方式では検出不可能な
、不一致部分の権は小さいが境界からの長さが大きい線
状の不一致部分を欠陥として検出できるという効果があ
る。
As explained above, according to the present invention, one pattern is enlarged or reduced to obtain its outline, and this is used to detect the presence or absence of a pattern part or a base material part of the other pattern, thereby forming a pattern. Defects can be detected. Therefore, mismatched portions with small dimensions from the wiring pattern boundary, such as thick or thin lines, minute protrusions, and chips, are not detected as defects. Further, there is an effect that a linear mismatched portion having a small length from the boundary but a long length from the boundary, which cannot be detected by conventional inspection methods, can be detected as a defect.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の実施例のプリント基板検査装置の構成
図、第2図は欠陥の種類の説明図、第3図は実施例のプ
リント基板検査装置の拡大回路、縮小回路の構成図、第
4図は実施例のプリント基板検査装置の輪郭線抽出回路
の構成図、第5図は実施例のプリント基板検査装置の一
致回路の構成図、第6図は検出欠陥の大きさの説明図。 1、1’・・・プリント基板   2.2′・・・xY
テーブル3.3′・・・超高圧水銀灯   4.4′・
・・ハーフミラ−5,5′・・・結像レンズ へ6′・・・CCDリニアセンサ 48′・・・2値化回路    10・・・拡大回路1
2・・・縮小回路      1416・・・輪郭線抽
出回路1a20・・・−数回路     22・・・欠
陥表示器へ2a 29・・・シフトレジスタ 2427、30・・・メモリ    6・・・論理和回
路2え 1λ M   、、、  桧苓明 憎 丘1 
ε窯       り1.、、/E  ζツ 修ヘフ召
 羽t rゴ −9も1図 第3図 αい (b) 劉4図 翳5図
FIG. 1 is a configuration diagram of a printed circuit board inspection apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an explanatory diagram of types of defects, and FIG. 3 is a configuration diagram of an enlarged circuit and a reduced circuit of the printed circuit board inspection apparatus according to an embodiment. Fig. 4 is a block diagram of the outline extraction circuit of the printed circuit board inspection device of the embodiment, Fig. 5 is a block diagram of the matching circuit of the printed circuit board inspection device of the embodiment, and Fig. 6 is an explanatory diagram of the size of detected defects. . 1, 1'...Printed circuit board 2.2'...xY
Table 3.3'...Ultra high pressure mercury lamp 4.4'.
...Half mirror 5, 5'...To imaging lens 6'...CCD linear sensor 48'...Binarization circuit 10...Enlargement circuit 1
2... Reduction circuit 1416... Outline extraction circuit 1a20...-number circuit 22... To defect indicator 2a 29... Shift register 2427, 30... Memory 6... OR circuit 2e 1λ M...
ε kiln 1. ,, /E

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1、2つの同一箇所の配線パターンの実像を得る複数の
光学系と、該光学系の各々で得られた光学的実像を映像
信号に変換する複数の撮像装置と、該撮像装置の各々で
得られた映像信号を2値化する複数の2値化回路と、2
値該各々の2値化回路で得られる信号を比較して欠陥を
検出する比較手段とを有する配線パターン検査装置にお
いて、一方のパターンを拡大及び縮小して各々の輪郭線
を抽出し、該拡大された輪郭線パターン上に他方の配線
パターンのパターン部があるとき、及び上記縮小された
輪郭線パターン上に他方の配線パターンの差材部がある
とき欠陥と判定する判定手段を備え付けたことを特徴と
する配線パターン検査装置。
1. A plurality of optical systems that obtain real images of wiring patterns at two same locations, a plurality of imaging devices that convert the optical real images obtained by each of the optical systems into video signals, and a plurality of imaging devices that convert the real images obtained by each of the optical systems into video signals; a plurality of binarization circuits that binarize the video signals;
In a wiring pattern inspection device having comparison means for detecting defects by comparing the signals obtained by the respective binarization circuits, one of the patterns is enlarged and reduced, the outlines of each are extracted, and the enlarged and determining means for determining a defect when there is a pattern part of the other wiring pattern on the reduced outline pattern and when there is a difference part of the other wiring pattern on the reduced outline pattern. Characteristic wiring pattern inspection equipment.
JP61114545A 1986-05-21 1986-05-21 Wiring pattern inspecting device Pending JPS62272379A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02173873A (en) * 1988-12-26 1990-07-05 Nec Corp Defect discriminating device

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