JPS62268177A - Semiconductor laser device - Google Patents

Semiconductor laser device

Info

Publication number
JPS62268177A
JPS62268177A JP11205686A JP11205686A JPS62268177A JP S62268177 A JPS62268177 A JP S62268177A JP 11205686 A JP11205686 A JP 11205686A JP 11205686 A JP11205686 A JP 11205686A JP S62268177 A JPS62268177 A JP S62268177A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
lasers
semiconductor
degrees
semiconductor lasers
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11205686A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seiichi Miyazawa
宮沢 誠一
Toshitami Hara
利民 原
Hideaki Nojiri
英章 野尻
Yoshinobu Sekiguchi
芳信 関口
Mitsutoshi Hasegawa
光利 長谷川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP11205686A priority Critical patent/JPS62268177A/en
Publication of JPS62268177A publication Critical patent/JPS62268177A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To miniaturize a semiconductor laser device, and to lower the dielectric loss of a wiring by forming a plurality of semiconductor lasers emitting beams in the mutually different directions and a driver circuit driving these semiconductor lasers in a monolithic manner. CONSTITUTION:Sn is diffused to a semi-insulating GaAs substrate 101 as a contact layer, and N-GaAs regions 103 and 106 are shaped, and a thin-film is prepared onto the regions 103, 106 to a shape corresponding to laser structure. Array lasers 102 are prepared and photodetector sections 104 are formed, epitaxial layers are all removed in an FET, a resistor, a capacitor, etc., and a region 105 is shaped through the implantation of S<+> ions, the implantation of Be ions, etc. The photodetectors 104 also control outputs from the lasers as monitors to respective laser and the driver circuit 105 also do so in response to the lasers and the photodetectors at 1:1. Accordingly, a device is miniaturized and the dielectric loss, etc. of a wiring are lowered, and operation at high speed can be realized.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は複数個の半導体レーザがモノリシックに形成さ
れた半導体レーザ装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field] The present invention relates to a semiconductor laser device in which a plurality of semiconductor lasers are monolithically formed.

〔従来技術〕[Prior art]

従来、例えば特開昭59−126に開示されているよう
に、半導体レーザまたは発光ダイオード(LED)を複
数個用いて光走査装置を設計する場合、第3図に示すよ
うに発光体からの光の出射方向が一点P。
Conventionally, when designing an optical scanning device using a plurality of semiconductor lasers or light emitting diodes (LEDs), as disclosed in JP-A-59-126, for example, the light emitted from the light emitting body is The emission direction is one point P.

で交わるように光源を配置し、複数の走査スポットを良
好な結像状態を保ちながら被走査面(不図示)に対して
走査できるよう工夫されていた。
The light sources are arranged so that they intersect at the same point, and the scanning spot (not shown) can be scanned with a plurality of scanning spots while maintaining a good image formation state.

第3図はその典型的な従来例を示したものであり、光源
と偏向器の間の光学系を偏向走査面と垂直な方向から見
た図である。31a、31bは半導体レーザであり、各
レーザはマウント32の上にその光束発生面がマウント
32の端面と平行になるように配されている。半導体レ
ーザ31a、31bが設けられているマウント32の端
面32a、32bは、各レーザ31a。
FIG. 3 shows a typical conventional example, and is a diagram of the optical system between the light source and the deflector, viewed from a direction perpendicular to the deflection scanning plane. 31a and 31b are semiconductor lasers, and each laser is arranged on the mount 32 so that its light beam generating surface is parallel to the end surface of the mount 32. The end faces 32a and 32b of the mount 32 on which the semiconductor lasers 31a and 31b are provided are the respective lasers 31a.

31bからの発散光束の中心光線ha、hbが同一の点
Poを通過して来たかの如く設定される。換言すれば、
半導体レーザ(31a、31b)が設けられる位置で、
端面32aと32bに各々法線をたてると、各々の法線
がP。を通過するように、端面32aと32bは設定さ
れている。更に、偏向走査面と平行な方向から見れば、
各々の半導体レーザの中心光線ha。
The center rays ha and hb of the diverging light beam from 31b are set as if they had passed through the same point Po. In other words,
At the position where the semiconductor lasers (31a, 31b) are provided,
When normal lines are drawn to the end faces 32a and 32b, each normal line is P. The end faces 32a and 32b are set such that the end faces 32a and 32b pass through. Furthermore, when viewed from a direction parallel to the deflection scanning plane,
The central ray ha of each semiconductor laser.

hbのP。点を通過する位置が、偏向走査面と直交する
方向にわずかに変位するように、マウント32上に設け
られる半導体レーザの位置は設定される。
P of hb. The position of the semiconductor laser provided on the mount 32 is set so that the position passing through the point is slightly displaced in a direction perpendicular to the deflection scanning plane.

上記P。点と偏向器の偏向反射面33の所定の近傍の点
Pとは、結像レンズ34により光学的共役な関係に保た
れている。
Above P. The point P in a predetermined vicinity of the deflection reflection surface 33 of the deflector is maintained in an optically conjugate relationship by the imaging lens 34.

このように、複数個の半導体発光素子(例えば半導体レ
ーザ)をそれぞれの光の出射方向が異なるように配置す
るためには、上記例に示したようにマウント上に位置合
せをしてハイブリッドに構成する必要があワた。以下便
宜上、複数個の半導体発光素子としてアレーレーザとい
う言葉を使用するが、原理的にはLEDアレーのような
発光体にも当てはまる。
In this way, in order to arrange multiple semiconductor light emitting devices (for example, semiconductor lasers) so that their respective light emission directions are different, they must be aligned on the mount and configured into a hybrid structure, as shown in the example above. I felt the need to. For convenience, the term "array laser" will be used below to refer to a plurality of semiconductor light emitting elements, but in principle it also applies to light emitters such as LED arrays.

また、モノリシックに形成されたアレーレーザを使用す
る場合には、アレーレーザの前面に何らかの光学系を設
置する必要がある。特開昭58−211735に開示さ
れている例としては、プリズムがアレーレーザの前面に
配置されている。これを第4図に示す。
Furthermore, when using a monolithically formed array laser, it is necessary to install some kind of optical system in front of the array laser. In an example disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 58-211735, a prism is placed in front of an array laser. This is shown in FIG.

第4図は半導体アレーレーザが5つの発光部を有する場
合のプリズムの断面を示すものである。41は5つの発
光部(41a、41b、41c、41d、41e)を有
する半導体アレーレーザであり、42はプリズムである
。発光部41aからの光束の中心光線haは傾斜面42
aにより屈折されあたかもP。を通過して来たかのよう
に曲げられる。同じ< 41bからの中心光線hbは傾
斜面42bにより、41dからの中心光線hdは傾斜面
42dにより、41eからの中心光線heは傾斜面42
eにより、それぞれあたかもP。
FIG. 4 shows a cross section of a prism when a semiconductor array laser has five light emitting parts. 41 is a semiconductor array laser having five light emitting parts (41a, 41b, 41c, 41d, 41e), and 42 is a prism. The central ray ha of the luminous flux from the light emitting part 41a is on the inclined surface 42.
It is as if P is refracted by a. It is bent as if it had passed through. Same < The central ray hb from 41b passes through the inclined surface 42b, the central ray hd from 41d passes through the inclined surface 42d, and the central ray he from 41e passes through the inclined surface 42.
e, respectively, as if P.

を通過して来たかのように曲げられる。なお41cから
の中心光線hcは平面42cを垂直に通過して行き、こ
の中心光線hcの延長線上にP。が存在する。
It is bent as if it had passed through. Note that the central ray hc from 41c passes through the plane 42c perpendicularly, and P is on the extension line of this central ray hc. exists.

このように各発光部に対応して傾斜角を定めた傾斜平面
が設けられ、プリズム42を出射後の各光束の中心光線
は、あたかもP。から出射したかのようにその方向を制
御されている。このP。は前述したように偏向反射面の
近傍の所望の位置P(不図示)と光学系を介して共役に
保たれる。
In this way, an inclined plane with a defined inclination angle is provided corresponding to each light emitting section, and the center ray of each luminous flux after exiting the prism 42 is as if P. Its direction is controlled as if it were emitted from a source. This P. As described above, is maintained conjugate to a desired position P (not shown) near the deflection/reflection surface via the optical system.

この場合の問題点はプリズム42の微細加工精度および
方法、プリズム42とアレーレーザ41との位置合せお
よび接合方法などであり、アレーレーザのピッチが小さ
くなる程難しくなる。実際、100μm以下ではほぼ不
可能である。
Problems in this case include the precision and method of microfabrication of the prism 42, the alignment and bonding method between the prism 42 and the array laser 41, and the smaller the pitch of the array laser, the more difficult it becomes. In fact, it is almost impossible if the thickness is less than 100 μm.

一方、第5図は光学系即ちリレー光学系53て同様の効
果を持たせようとしたもので、アレーレーザ51a、5
1bから出射した光を平行化して結像させるコリメータ
レンズ52とシリンドリカルレンズ55との間にリレー
光学系53を介在させてポリゴン面54に結像した例で
あり、良好な結像状態で被走査面(不図示)上に結像さ
れる。 この場合の問題点は光路長であり、リレー系自
体で約20cm長(なってしまう。
On the other hand, FIG. 5 shows an optical system, that is, a relay optical system 53, which is intended to have a similar effect.
This is an example in which a relay optical system 53 is interposed between a collimator lens 52 and a cylindrical lens 55 that collimate and image the light emitted from 1b, and an image is formed on a polygon surface 54, and the image is scanned in a good image formation state. The image is formed on a surface (not shown). The problem in this case is the optical path length, and the relay system itself is approximately 20 cm long.

一方、上記の如き問題点を解決するため、本出願人は特
願昭59−240418号、特願昭60−424号等で
、複数個の半導体レーザがモノリシックに形成され、か
つ、各々の半導体レーザの出射方向が異なっている半導
体装置を既に提案している。
On the other hand, in order to solve the above-mentioned problems, the present applicant has proposed a method in which a plurality of semiconductor lasers are monolithically formed, and each semiconductor laser is formed monolithically. A semiconductor device has already been proposed in which the laser beams are emitted in different directions.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は、簡単に製造でき、レンズ等と組み合せて光路
長の短い光学系を構成出来る半導体レーザ装置を提供す
ることを目的とし、更に実際の使用状態に対応して、上
記既提案の装置の性能をより向上させるものである。
The object of the present invention is to provide a semiconductor laser device that can be easily manufactured and that can be combined with a lens etc. to form an optical system with a short optical path length. This will further improve performance.

本発明の上記目的は、互いに異なる方向に光を出射する
複数の半導体レーザと、これら各々の半導体レーザを駆
動するドライバー回路とがモノリシックに形成された半
導体レーザ装置によって達成される。
The above object of the present invention is achieved by a semiconductor laser device in which a plurality of semiconductor lasers that emit light in mutually different directions and a driver circuit that drives each of these semiconductor lasers are monolithically formed.

なお、以下の記載において用いられる「それぞれのレー
ザからの光の出射方向が異なる」という表現は同一方向
に出射するものが1組もないという意味ではなく、広義
には出射方向の異なるものが1組以上存在するという意
味である。
Note that the expression "the directions of light emitted from each laser are different" used in the following description does not mean that there are no sets of lasers that emit light in the same direction, but in a broad sense, there is one set of lasers that emit light in different directions. This means that there are more than one set.

半導体レーザは、それを使用する際、パワーのコントロ
ール、波長コントロール等が重要となって来る。これら
コントロール回路は装置の多機能化に伴なって、装置内
で占有面積が大きくなって来ている。
When using a semiconductor laser, power control, wavelength control, etc. are important. As devices become more multifunctional, these control circuits occupy a larger area within the device.

本発明の特徴は、先の述べた斜め出射はアレーレーザに
おいてトランジスター、フォトディテクター等を、同一
基板上に集積化することにより上記パワーコントロール
等を実現させ、同時にドライバ装置の小型化、および配
線の誘電損失の低下〔実施例〕 以下、図を持って本発明例を示す。
The features of the present invention are that the above-mentioned oblique emission is realized by integrating transistors, photodetectors, etc. on the same substrate in the array laser, thereby realizing the above-mentioned power control, etc., and at the same time miniaturizing the driver device and reducing the Reduction of Loss [Example] Examples of the present invention will be shown below with the help of figures.

第2図(b)、(c)は本発明を示したものである。FIGS. 2(b) and 2(c) illustrate the present invention.

第2図(a)に示す様なpower  contora
lを含めた回路を、斜め出射レーザと同一基板上に形成
したが第2図(b)、(c)である。
A power controller as shown in Figure 2(a)
2(b) and 2(c) show that the circuit including 1 was formed on the same substrate as the oblique emitting laser.

第2図(b)の実施例を示す。101は基板であるとこ
ろの、半絶縁性GaAs基板であるこの上にレーザ構造
およびPD構造を形成すべく、まず、101の基板にコ
ンタクト層として、Snを拡散し、103゜106に示
す様なn−GaAs領域を形成する。この上に、薄膜を
レーザ構造に対応した形で作成する。
The embodiment of FIG. 2(b) is shown. The substrate 101 is a semi-insulating GaAs substrate. In order to form a laser structure and a PD structure on this substrate, Sn is first diffused into the substrate 101 as a contact layer, as shown in 103 and 106. Form an n-GaAs region. On top of this, a thin film is formed in a shape corresponding to the laser structure.

例えば5idopesd  GaAsを0.5 μm1
さらにクラッド層となるS i  d o p e d
  A l O,3G a O,7A sをさらに1.
5 μm  active  Layerであるund
opedGaAsを0.1μm1その上にクラッド層で
あるBe  doped  Alo3Gao7Asを1
.5 μm、つづいてBe−doped  GaAsを
0.5 μm形成する。これを、通常のフォトリゾによ
るレーザパターン形成およびRIBE法等により102
に示した、アレーレーザの作成および104に示したフ
ォトディテクタ部の形成を行なう。この様にしてレーザ
部を形成する。
For example, 0.5 μm1 of 5idoped GaAs
Furthermore, S i d o p e d which becomes a cladding layer
A l O, 3G a O, 7A s is further 1.
5 μm active layer and
0.1 μm of oped GaAs and 1 layer of Be doped Alo3Gao7As as a cladding layer on top of it.
.. 5 .mu.m thick, and then Be-doped GaAs is formed to 0.5 .mu.m thick. This is formed by laser pattern formation using normal photoresolution and RIBE method.
The array laser shown in 104 is fabricated, and the photodetector portion shown in 104 is formed. In this way, the laser section is formed.

さらにFETおよび抵抗、コンデンサ等は、先に述べた
エビ層をすべて除去した後にジのイオン打ち込みBeの
イオン打ち込み等により形成する。この領域を105に
示す。
Furthermore, FETs, resistors, capacitors, etc. are formed by ion implantation of Di, Be ion implantation, etc. after removing all the above-mentioned layers. This area is shown at 105.

本例は、3本のレーザアレーであるが104のフォトデ
ィテクタも個々のレーザに対するモニターをしてドライ
バ回路である105もレーザおよびフォトディテクター
と1対lで対応して、レーザの出力コントロールをして
いる。
In this example, there are three laser arrays, but the photodetector 104 also monitors each laser, and the driver circuit 105 also controls the laser output in one-to-one correspondence with the laser and photodetector. .

第2図(c)は、第2図(a)を縦長に形成した例であ
る。半絶縁性GaAsである110上に111のレーザ
および113のフォトディテクタを、先に述べた様な方
法で形成する。112,115は、Snを拡散して、n
領域を作った跡である。さらに114も第2図(b)と
同様な方法により形成する。ただし、ドライバーの形成
方法により、縦長に形成される。
FIG. 2(c) is an example of FIG. 2(a) formed vertically. A laser 111 and a photodetector 113 are formed on semi-insulating GaAs 110 by the method described above. 112 and 115 are n by diffusing Sn.
This is the mark of creating an area. Further, 114 is also formed by the same method as in FIG. 2(b). However, depending on the method of forming the driver, it is formed vertically.

本例においては、図2(b)のサイズは1.5 m m
 X l m m 。
In this example, the size of Figure 2(b) is 1.5 mm
Xlmm.

第2図(C)は1mmX1.5mmであった。The size of FIG. 2(C) was 1 mm x 1.5 mm.

尚、本発明において、Snを拡散することによりn影領
域を形成してレーザを作成したが、これがZnによって
形成し、P影領域となっても良い。ただし、−この時は
成長膜のP、nは反転すべきである。最後に、An蒸着
等配線を行い、集積回路を形成する。
In the present invention, a laser is created by forming an n shadow region by diffusing Sn, but this may also be formed by Zn and becoming a p shadow region. However, in this case, P and n of the grown film should be reversed. Finally, wiring such as An evaporation is performed to form an integrated circuit.

ここで、斜め出射部の構成の例を第1図に示す。Here, an example of the configuration of the oblique emission section is shown in FIG.

図中、11−15は個々の半導体レーザを示し、lla
〜15aは各半導体レーザ11〜15における電流の注
入域、即ち発光域に対応する。そして、この注入域11
 a−15aの延長線(以下、共振方向と称する。)l
lb〜15bと共振面16および17に立てた法線18
とのなす角がそれぞれφa、φb、φC2φd。
In the figure, 11-15 indicate individual semiconductor lasers, lla
15a corresponds to a current injection region, ie, a light emitting region, in each of the semiconductor lasers 11 to 15. And this injection area 11
Extension line of a-15a (hereinafter referred to as resonance direction) l
Normal line 18 erected to lb~15b and resonance surfaces 16 and 17
The angles formed with are φa, φb, and φC2φd, respectively.

φeとなるように形成されている。It is formed so that it becomes φe.

なお、共振面16および17は、通常基板として用いら
れる結晶(例えば(に a As )のへき開面が利用
されるので平行であるが、ドライエツチングのように平
行度が若干具なる可能性のあるような場合には、レーザ
出射前面側の共振面16を基準に考える。
Note that the resonance planes 16 and 17 are parallel because the cleavage planes of a crystal (for example, (AAs)) used as a substrate are usually used, but the parallelism may be slightly different due to dry etching. In such a case, consider the resonance surface 16 on the laser emission front side as a reference.

共振面16および17で共振した光はレーザ光として共
振面16より出射する時、はぼスネルの法則に従って曲
げられる。図中、11c=15cは光出射方向を示す。
When the light resonated at the resonant surfaces 16 and 17 is emitted from the resonant surface 16 as a laser beam, it is bent according to Snell's law. In the figure, 11c=15c indicates the light emission direction.

ここで、任意の光出射方向と法線18とのなす角、すな
わち出射角をθとすれば、n/n0=sinθ/sin
φの関係が成り立つ。例えばGaAs結晶から出射する
場合を考えると、n(結晶の屈折率)は約3.5、no
(空気の屈折率)は約1であるので、φを1度に選べば
、レーザ光は法線18に対して約3,5度傾いて出射す
る。
Here, if the angle between an arbitrary light emission direction and the normal line 18, that is, the emission angle is θ, then n/n0=sinθ/sin
The relationship φ holds true. For example, considering the case where the light is emitted from a GaAs crystal, n (the refractive index of the crystal) is approximately 3.5, no.
(The refractive index of air) is about 1, so if φ is chosen to be 1 degree, the laser beam will be emitted at an angle of about 3.5 degrees with respect to the normal 18.

第1図に示す実施例では、φa、φb2φC2φd。In the embodiment shown in FIG. 1, φa, φb2φC2φd.

φeを夫々+1.0度、  +0.5度、0.0度、 
 −0,5度、  −1,0度に設定することにより、
出射角θa。
φe +1.0 degrees, +0.5 degrees, 0.0 degrees, respectively.
By setting -0.5 degrees and -1.0 degrees,
Output angle θa.

θb、θC1θd、θeが夫々+3.5度、+1.75
度。
θb, θC1θd, θe are +3.5 degrees and +1.75 respectively
Every time.

0.0度、  −1,75度、  −3,5度となるよ
うなアレーレーザを作成することができた。
We were able to create array lasers with angles of 0.0 degrees, -1.75 degrees, and -3.5 degrees.

第2図(b)、(C)における出射角は、+1.75度
The exit angle in FIGS. 2(b) and (C) is +1.75 degrees.

00度、−1,75度としである。ただし、角度φにつ
いては、あまりきくとると共振面への入射角が大きくな
って反射率が低下するので、φとしては±15度以内が
適当である。特に、φが±3度(らいまでは発振しきい
値電流の上昇も10〜20%程度で、駆動上容易である
。しかも、光出射角θを±10°程度まで変更すること
が可能である。
00 degrees and -1.75 degrees. However, if the angle φ is too large, the angle of incidence on the resonant surface will increase and the reflectance will decrease, so it is appropriate that the angle φ be within ±15 degrees. In particular, when φ is ±3 degrees (the rise in the oscillation threshold current is only about 10 to 20% up to approximately 10%), it is easy to drive.Moreover, it is possible to change the light emission angle θ to about ±10 degrees. be.

また、レーザ間の間隔や光出射方向のずれθは一般的に
は一定値を用いるのが装置設計上便利である。しかしな
がら、必ずしも一定値をとる必要はない。
Furthermore, it is generally convenient for device design to use constant values for the distance between lasers and the deviation θ in the light emission direction. However, it is not necessarily necessary to take a constant value.

加えて、半導体レーザの材料はGaAs−Aj2GaA
s系の他、InP ・InGaAs系、AfGalnP
系等の材料に対しても同様にあてはまるのは言うまでも
ない。
In addition, the material of the semiconductor laser is GaAs-Aj2GaA
In addition to s-based, InP/InGaAs-based, AfGalnP
Needless to say, the same applies to materials such as systems.

また、第6図、第7図に示す様に出射端面をドライエツ
チングにより注入領域と垂直に形成することも可能であ
る。第2図(b)、(C)に示したレーザ部を第6図或
いは第7図示の装置に置き換えることは、容易である。
Furthermore, as shown in FIGS. 6 and 7, it is also possible to form the output end face perpendicular to the implantation region by dry etching. It is easy to replace the laser section shown in FIGS. 2(b) and 2(C) with the device shown in FIG. 6 or 7.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明は、各々の構成要素として、
ドライバーを集積化することにより、レーザドライバー
等の装置の小型化、および配線の誘電損失等の低下を実
現し高速動作の実現を可能としたものである。
As explained above, each component of the present invention includes:
By integrating the driver, devices such as laser drivers can be made smaller, and the dielectric loss of wiring can be reduced, making it possible to achieve high-speed operation.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明に用いる半導体レーザの平面図、第2図
(a)、第2図(b)及び第2図(C)は本発明の詳細
な説明する概略図、第3図はレーザがハイブリッドに配
置された従来例を示す図、第4図は出射方向一定のアレ
ーレーザとプリズムを剛体して出射方向を異ならせた従
来例を示す図、第5図は出射方向一定のアレーレーザを
光学系で補正しようとした場合の従来例を示す図、第6
図及び第7図は本発明の変形例を示す平面図である。 11〜15・・・・・・半導体レーザ、16.17・・
・・・・共振面。
FIG. 1 is a plan view of a semiconductor laser used in the present invention, FIGS. 2(a), 2(b), and 2(C) are schematic diagrams explaining the present invention in detail, and FIG. Fig. 4 shows a conventional example in which an array laser with a constant emission direction and a prism are made into rigid bodies and have different emission directions. Fig. 5 shows an array laser with a fixed emission direction in an optical configuration. Figure 6 shows a conventional example when attempting to correct using a system.
7 and 7 are plan views showing a modification of the present invention. 11-15... Semiconductor laser, 16.17...
...Resonance surface.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)互いに異なる方向に光を出射する複数の半導体レ
ーザと、これら各々の半導体レーザを駆動するドライバ
ー回路とがモノリシックに形成された半導体レーザ装置
(1) A semiconductor laser device in which a plurality of semiconductor lasers that emit light in different directions and a driver circuit that drives each of these semiconductor lasers are monolithically formed.
JP11205686A 1986-05-16 1986-05-16 Semiconductor laser device Pending JPS62268177A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11205686A JPS62268177A (en) 1986-05-16 1986-05-16 Semiconductor laser device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11205686A JPS62268177A (en) 1986-05-16 1986-05-16 Semiconductor laser device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62268177A true JPS62268177A (en) 1987-11-20

Family

ID=14576929

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11205686A Pending JPS62268177A (en) 1986-05-16 1986-05-16 Semiconductor laser device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62268177A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6744800B1 (en) * 1998-12-30 2004-06-01 Xerox Corporation Method and structure for nitride based laser diode arrays on an insulating substrate

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6744800B1 (en) * 1998-12-30 2004-06-01 Xerox Corporation Method and structure for nitride based laser diode arrays on an insulating substrate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5357536A (en) Method and apparatus for the positioning of laser diodes
CA2036957C (en) Semiconductor laser diode arrangement
US7444046B2 (en) Diode laser array coupling optic and system
US4971415A (en) Multibeam emitting device
EP0498169A1 (en) Opto-electronic device for coupling and uncoupling of radiation
GB2181892A (en) A semi-conductor laser
JPS62268177A (en) Semiconductor laser device
JPH0339706A (en) Optical module
JPH0666511B2 (en) Semiconductor device
JP4121329B2 (en) Light source module and light source device
JPH04199133A (en) Optical amplifier and optical integrated circuit
JPS61127190A (en) Semiconductor device
JPS62268179A (en) Semiconductor laser device
JPS61290788A (en) Semiconductor laser device and manufacture thereof
JPS61159783A (en) Semiconductor device
JPS62269381A (en) Manufacture of semiconductor laser device
JPH0552679B2 (en)
JPS61120486A (en) Semiconductor device
JPS62269385A (en) Semiconductor laser device
JPH06101609B2 (en) Method for manufacturing semiconductor laser device
JPS62268187A (en) Semiconductor laser device
JPS62268183A (en) Semiconductor laser device
JPS62268182A (en) Semiconductor laser device
JPS62269377A (en) Semiconductor laser device
JPS62269375A (en) Semiconductor device