JPS62268183A - Semiconductor laser device - Google Patents

Semiconductor laser device

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Publication number
JPS62268183A
JPS62268183A JP11220586A JP11220586A JPS62268183A JP S62268183 A JPS62268183 A JP S62268183A JP 11220586 A JP11220586 A JP 11220586A JP 11220586 A JP11220586 A JP 11220586A JP S62268183 A JPS62268183 A JP S62268183A
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JP
Japan
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laser
layer
semiconductor laser
semiconductor
light
Prior art date
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Pending
Application number
JP11220586A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seiichi Miyazawa
宮沢 誠一
Toshitami Hara
利民 原
Hideaki Nojiri
英章 野尻
Yoshinobu Sekiguchi
芳信 関口
Mitsutoshi Hasegawa
光利 長谷川
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
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  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain excellent luminous characteristics by mutually deflecting and coupling beams in each light-emitting region and forming these beams so that frequency and phase substantially coincide with each other. CONSTITUTION:Substrate N-GaAs 101, clad-layer N-Al0.35Ga0.65As 102 and active-layer non-doped Al0.1Ga0.9As 103 are formed in succession, and P-Al0.35 Ga0.65As 104 and contact-layer P-GaAs 105 are shaped. A current constriction layer and electrodes are formed to semiconductor laser structure shaped in this manner. Current injection regions 109 are formed, and Au-Zn/Au 107 is shaped on a P-type and Au-Ge-Ne/Au 108 on an N type in the electrodes, thus forming a laser. When currents are injected to the laser, luminescent points 110 are formed onto the corresponding active layers 103 by currents injected from the sections 109. When current-injection region space 112 is brought to 2mum-25mum at that time, beams by the spreading of beams emitted from the luminescent points are mutually deflected and coupled, thus conforming phase.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は複数個の半導体レーザがモノリシックに形成さ
れた半導体レーザ装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field] The present invention relates to a semiconductor laser device in which a plurality of semiconductor lasers are monolithically formed.

〔従来技術J 従来、例えば特開昭59−126に開示されているよう
に、半導体レーザまたは発光ダイオード(LED)を複
数個用いて光走査装置を設計する場合、第3図に示すよ
うに発光体から光の出射方向が一点P。
[Prior Art J] Conventionally, when designing an optical scanning device using a plurality of semiconductor lasers or light emitting diodes (LEDs), as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-126, light emitting is performed as shown in FIG. The direction of light emitted from the body is one point P.

で交わるように光源を配慮し、複数の走査スポットを良
好な結像状態を保ちながら被走査面(不図示)に対して
走査できるよう工夫されていた。
The light sources were designed such that the light sources intersected at the same angle, and the scanning spot (not shown) could be scanned with a plurality of scanning spots while maintaining a good image formation state.

第3図はその典型的な従来例を示したものであり、光源
と偏向器の間の光学系を偏向走査面と垂直な方向から見
た図である。31a、31bは半導体レーザであり、各
レーザはマウント32の上にその光束発生面がマウント
32の端面と平行になるように配されている。半導体レ
ーザ31a、  31bが設けられているマウント32
の端面32a、  32bは各レーザ31a、 31b
からの発散光束の中心光線ha、hbが同一の点P。を
通過して来たかの如く設定される。
FIG. 3 shows a typical conventional example, and is a diagram of the optical system between the light source and the deflector, viewed from a direction perpendicular to the deflection scanning plane. 31a and 31b are semiconductor lasers, and each laser is arranged on the mount 32 so that its light beam generating surface is parallel to the end surface of the mount 32. Mount 32 provided with semiconductor lasers 31a and 31b
The end faces 32a, 32b of each laser 31a, 31b
A point P where the central rays ha and hb of the divergent luminous flux from are the same. It is set as if it had passed through.

換言すれば、半導体レーザ(31a、  31b)が設
けられる位置で、端面32aと32bに各々法線をたて
ると、各々の法線がP。を通過するように、端面32a
と32bは設定されている。更に、偏向走査面と平iテ
な方向から見れば、各々の半導体レーザC)中心光線h
a、hbのP。点を通過する位置が、偏向走査面と直交
する方向にわずかに変位するように、マウント32上に
設けられる半導体レーザの位置は設定される。上記P。
In other words, if normal lines are drawn to the end faces 32a and 32b at the positions where the semiconductor lasers (31a, 31b) are provided, each normal line is P. The end face 32a
and 32b are set. Furthermore, when viewed from a direction parallel to the deflection scanning plane, each semiconductor laser C) center ray h
a, hb P. The position of the semiconductor laser provided on the mount 32 is set so that the position passing through the point is slightly displaced in a direction perpendicular to the deflection scanning plane. Above P.

点と偏向器の偏向反射面33の所定の近傍の点Pとは、
結像レンズ34により光学的共役な関係に保たれている
The point P in the predetermined vicinity of the deflection reflection surface 33 of the deflector is
An optically conjugate relationship is maintained by the imaging lens 34.

このように、複数個の半導体発光素子(例えば半導体レ
ーザ)をそれぞれの光の出射方向が異なるように配置す
るためには、上記例に示したようにマウント」二に位置
合せをしてハイブリッドに構成する必要があった。以下
便宜上、複数個の半導体発光素子としてアレーレーザと
いう言葉を使用するが、原理的にはL E Dアレーの
ような発光体にも当てはまる。
In this way, in order to arrange multiple semiconductor light emitting devices (for example, semiconductor lasers) so that their respective light emission directions are different, it is necessary to align the mounts as shown in the example above and create a hybrid. needed to be configured. For convenience, the term "array laser" will be used below to refer to a plurality of semiconductor light emitting elements, but in principle it also applies to light emitters such as LED arrays.

また、モノリンツクに形成されたアレーレーザを使用す
る場合には、アレーレーザの前面に何らかの光学系を設
置する必要がある。特開昭58−211735に開示さ
れている例としては、プリズムがアレーレーザの前面に
配置されている。これを第71図に示す。
Furthermore, when using an array laser formed as a monolink, it is necessary to install some kind of optical system in front of the array laser. In an example disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 58-211735, a prism is placed in front of an array laser. This is shown in FIG.

第4図は半導体アレーレーザが5つの発光部を有する場
合のプリズムの断面を示すものである。41は5つの発
光部(41a、 41b、 41c、 41d、 41
e)を有する半導体アレーレーザであり、42はプリズ
ムである。発光部41aからの光束の中心光線haは傾
斜面42aにより屈折されあたかもP。を通過して来た
かのように曲げられる。同じく41bからの中心光線h
bは傾斜面42bにより、41dから中心光線hdは傾
斜面42dにより、41eからの中心光線heは傾斜面
42eにより、それぞれあたかもP。
FIG. 4 shows a cross section of a prism when a semiconductor array laser has five light emitting parts. 41 is five light emitting parts (41a, 41b, 41c, 41d, 41
42 is a prism. The central ray ha of the luminous flux from the light emitting part 41a is refracted by the inclined surface 42a, and the central ray ha of the luminous flux is refracted as if by P. It is bent as if it had passed through. Similarly, the central ray h from 41b
b is caused by the inclined surface 42b, the central ray hd from 41d is caused by the inclined surface 42d, and the central ray he from 41e is caused by the inclined surface 42e, as if P.

を通過して来たかのように曲げられる。なお41cから
の中心光線hcは平面42cを垂直に通過して行き、こ
の中心光線hcの延長線上にP。が存在する。
It is bent as if it had passed through. Note that the central ray hc from 41c passes through the plane 42c perpendicularly, and P is on the extension line of this central ray hc. exists.

このように各発光部に対応して傾斜角を定めた傾斜平面
が設けられ、プリズム42を出射後の各光束の中心光線
は、あたかもP。から出射したかのようにその方向を制
御されている。このP。は前述したように偏向反射面の
近傍の所望の位置P(不図示)と光学系卆介して共役に
保たれる。 この場合の問題点はプリズム42の微細加
工精度及び方法、プリズム42とアレーレーザ41との
位置合せ及び接合方法などであり、アレーレーザのピッ
チが小さくなる程難しくなる。実際、100μm以下で
はほぼ不可能である。
In this way, an inclined plane with a defined inclination angle is provided corresponding to each light emitting section, and the center ray of each luminous flux after exiting the prism 42 is as if P. Its direction is controlled as if it were emitted from a source. This P. As described above, is maintained conjugate with a desired position P (not shown) near the deflection/reflection surface through the optical system. Problems in this case include the precision and method of microfabrication of the prism 42, the alignment and bonding method between the prism 42 and the array laser 41, and the smaller the pitch of the array laser, the more difficult it becomes. In fact, it is almost impossible if the thickness is less than 100 μm.

一方、第5図は光学系即ちリレー光学系53で同様の効
果を持たせようとしたもので、アレーレーザ51a、5
1bから出射した光を平行化して結像させるコリメーク
レンズ52とシリンドリカルレンズ55との間にリレー
光学系53を介在させてポリゴン面54に結像した例で
あり、良好な結像状態で被走査面(不図示)上に結像さ
れる。
On the other hand, FIG. 5 shows an attempt to have a similar effect with an optical system, that is, a relay optical system 53, with array lasers 51a, 5
This is an example in which a relay optical system 53 is interposed between a collimating lens 52 and a cylindrical lens 55, which collimate the light emitted from 1b and form an image, and an image is formed on a polygon surface 54. An image is formed on a scanning plane (not shown).

この場合の問題点は光路長であり、リレー系自体で約2
0 c m長くなってしまう。
The problem in this case is the optical path length, and the relay system itself is approximately 2
It becomes 0 cm longer.

一方、上記の如き問題点を解決するため、本出願人は特
願昭59・−240418号、特願昭60−424号等
で、複数個の半導体レーザがモノリソツクに形成され、
かつ各々の半導体レーザの出射方向が異なっている半導
体装置を既に提案している。
On the other hand, in order to solve the above-mentioned problems, the present applicant has published Japanese Patent Application No. 59-240418, Japanese Patent Application No. 60-424, etc., in which a plurality of semiconductor lasers are formed in a monolith.
Furthermore, a semiconductor device in which each semiconductor laser has a different emission direction has already been proposed.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は簡単に製造でき、レンズ等と組み合せて光路長
の短い光学系を構成出来る半導体レーザ装置を提供する
ことを目的とし、更に実際の使用状態に対応して、上記
既提案の装置の性能をより向上させるものである。
An object of the present invention is to provide a semiconductor laser device that can be easily manufactured and that can be combined with lenses etc. to construct an optical system with a short optical path length. This will further improve the

本発明による半導体レーザ装置は複数間の半導体レーザ
がモノリシックに形成されている半導体装置において、
上述の半導体レーザのそれぞれの共振面から射出される
時点でそれぞの光出射方向が異なっていることを特徴と
する。
A semiconductor laser device according to the present invention is a semiconductor device in which a plurality of semiconductor lasers are monolithically formed.
A feature of the above-described semiconductor laser is that the respective directions of light emission are different when the light is emitted from the respective resonant surfaces of the semiconductor laser.

なお、以下の記載において用いられる「それぞれのレー
ザからの光の出射方向が異なる」という表現は同一方向
に出射するものが1組もないという意味ではなく、広義
には出射方向の異なるものが1組以上存在するという意
味である。
Note that the expression "the directions of light emitted from each laser are different" used in the following description does not mean that there are no sets of lasers that emit light in the same direction, but in a broad sense, there is one set of lasers that emit light in different directions. This means that there are more than one set.

多数の半導体レーザを高密度に集積する場合の問題点と
して、発振のだめのキャリヤ注入にともなう発熱と、温
度上昇によって発光効率が低下し、一定の注入電流によ
って、もはや一定の光出力が得られなくなる。これは半
導体レーザを光記録装置の光源として使用する場合は1
朶刻であり、記録のエラーや記録品位の低下を招く。
The problem with integrating a large number of semiconductor lasers at high density is that the emission efficiency decreases due to heat generation due to carrier injection during oscillation and temperature rise, and it is no longer possible to obtain a constant optical output with a constant injection current. . This is 1 when using a semiconductor laser as a light source for an optical recording device.
This causes recording errors and deterioration of recording quality.

本発明において提示する具体的な解決法は上記の様な発
光効率の低下を防ぐために、各々の半導体レーザを、各
々の半導体レーザが、実質的に周波数及び位相が一致し
た光を発するように形成した複数の発光領域を有するよ
うに構成し、発光特性を改善するものである。即ち、以
下の実施例で述べるように上記構造を採用する事により
、(1)発光に要する注入電流が減少し、同程度の光出
力を得る為の発熱量が少なくなり動作温度が低くなる。
The specific solution presented in the present invention is to form each semiconductor laser so that each semiconductor laser emits light with substantially the same frequency and phase in order to prevent the above-mentioned reduction in luminous efficiency. The device is configured to have a plurality of light emitting regions, and improves light emitting characteristics. That is, by adopting the above structure as described in the following embodiments, (1) the injection current required for light emission is reduced, the amount of heat generated to obtain the same level of light output is reduced, and the operating temperature is lowered.

(2)温度特性が良好で、高温動作でも光の出力変動が
少ない。
(2) Good temperature characteristics, with little fluctuation in light output even during high-temperature operation.

(3)近接素子間の性能のバラツキが小さく、複数の出
力端から均質な出力が得られる。
(3) There is little variation in performance between adjacent elements, and homogeneous output can be obtained from a plurality of output ends.

(4)発光面積を大きく出来、高出力が得られた。(4) The light emitting area could be increased and high output could be obtained.

以上の複合効果により、本発明のように高密度に集積化
された斜め出射アレーレーザにおいて、発光履歴によら
ず良好な発光特性が得られるものである。
Due to the above-mentioned combined effects, good light emission characteristics can be obtained regardless of the light emission history in the obliquely emitting array laser that is highly integrated as in the present invention.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図に本発明の一実施例を示す。図中、11〜15は
個々の半導体レーザを示し、lla〜15aは各半導体
レーザ11〜15における電流の注入域、即ち発光域に
対応する。そして、この注入域11a〜15aの延長線
(以下、共振方向と称する。)11b〜15bと共振面
16および17に立てた法線18とのなす角がそれぞれ
φa、φb2  φC2φd、φeとなるように形成さ
れている。
FIG. 1 shows an embodiment of the present invention. In the figure, 11 to 15 indicate individual semiconductor lasers, and 11 to 15a correspond to current injection regions, that is, light emission regions in each of the semiconductor lasers 11 to 15. Then, the angles formed by extension lines (hereinafter referred to as resonance directions) 11b to 15b of the injection regions 11a to 15a and the normal line 18 to the resonance surfaces 16 and 17 are φa, φb2, φC2φd, and φe, respectively. is formed.

なお、共振面16および17は、通常基板として用いら
れる結晶(例えばGaAs)のへき開面が利用されるの
で平行であるが、ドライエツチングのように平行度が若
干異なる可能性のあるような場合には、レーザ出射前面
側の共振面16を基準に考える。
Note that the resonance planes 16 and 17 are usually parallel because the cleavage planes of a crystal (e.g., GaAs) used as the substrate are used, but in cases such as dry etching where the degree of parallelism may be slightly different, Consider the resonant surface 16 on the laser emission front side as a reference.

共振面16および17で共振した光はレーザ光として共
振面16より出射する時、はぼスネルの法則に従って曲
げられる。図中、llc〜15cは光出射方向を示す。
When the light resonated at the resonant surfaces 16 and 17 is emitted from the resonant surface 16 as a laser beam, it is bent according to Snell's law. In the figure, llc to 15c indicate the light emission direction.

ここで、任意の光出射方向と法線18とのなす角、すな
わち出射角をθとすれば、n / n O= S l 
nθ/sinφの関係が成り立つ。例えばGaAs結晶
から出射する場合を考えると、n(結晶の屈折率)は約
3.5、no(空気の屈折率)は約1であるので、φを
1度に進べば、レーザ光は法vA18に対して約3゜5
度1¥Jいて出射する。
Here, if the angle between an arbitrary light emission direction and the normal line 18, that is, the emission angle, is θ, then n / n O= S l
The relationship nθ/sinφ holds true. For example, considering the case where the laser beam is emitted from a GaAs crystal, n (the refractive index of the crystal) is approximately 3.5 and no (the refractive index of the air) is approximately 1, so if φ is advanced by 1 degree, the laser beam Approximately 3゜5 for law vA18
It emits at a rate of 1 yen.

第1図に示す実施例では、φa、φb、φC9φd、φ
eをそれぞれ+1.0度、+0.6度、0.0度。
In the embodiment shown in FIG. 1, φa, φb, φC9φd, φ
e is +1.0 degree, +0.6 degree, and 0.0 degree, respectively.

−0,5度、  −1,0度に設定することにより、出
射角θa、θb、θC1θd、θeがそれぞれ+3,5
度、+!、75度、0.0度、  −1,75度、  
−3,5度となるようなアレーレーザを作成することが
できた。
By setting -0.5 degrees and -1.0 degrees, the output angles θa, θb, θC1θd, and θe are +3 and 5 degrees, respectively.
Degree, +! , 75 degrees, 0.0 degrees, -1,75 degrees,
We were able to create an array laser with an angle of -3.5 degrees.

第6図は第1図のA−A’ 線からみた断面図である。FIG. 6 is a sectional view taken along line A-A' in FIG. 1.

以下、この図を用いて製造プロセスを詳しく述べる。The manufacturing process will be described in detail below using this diagram.

第6図は不発明の実施例i1である。第6図(a)にお
いて101は、基板であるn −G a A sである
。102はクラッド層であるn  Af o、35 G
a o、65 As1.5μmであり、103は活性層
であるノンドープAlO,I Ga O,g As 0
.1 μmである。さらに104は、p−AA Q、3
5 Ga 0.6 s As 1−” u ”である。
FIG. 6 shows an uninvented embodiment i1. In FIG. 6(a), 101 is a substrate n-GaAs. 102 is a cladding layer n Af o, 35 G
a o, 65 As 1.5 μm, 103 is the active layer non-doped AlO, I Ga O, g As 0
.. It is 1 μm. Furthermore, 104 is p-AA Q, 3
5 Ga 0.6 s As 1-"u".

さらに105は、コンタクト層であるp −Ga As
 0.5μmである。この様に形成した半導体レーザ構
造に電流狭窄および、電極の形成をしなければならない
。106は、電流狭窄を行っている絶縁層である510
2膜である厚さは、03μmである。この膜を通常のフ
ォトリソにより部分的にストライプ状に分離して、電流
注入領域109を形成するこの後に電極を、107のp
型の場合は、へu−Z n / A u 。
Furthermore, 105 is a p-GaAs contact layer.
It is 0.5 μm. Current confinement and electrode formation must be performed on the semiconductor laser structure thus formed. 106 is an insulating layer 510 that performs current confinement.
The thickness of two films is 0.3 μm. This film is partially separated into stripes by ordinary photolithography to form a current injection region 109. After this, an electrode is formed on the p
For the type, u-Zn/Au.

108のn型の場合A u −G e −N i / 
A uを形成し、レーザが形成出来る。
In the case of 108 n-type, A u −G e −N i /
A laser can be formed by forming Au.

このレーザに、電流を注入すると、109の部分より注
入された電流により109の部分に対応した103の活
性層上に110の発光点が形成される。この時112の
電流注入領域間隔を2 It m〜25μmにすると発
光的より発光した光の広がりによる相互の光が偏向、結
合されるこれにより位相が一致する。この結果(1)遠
視野光学干渉縞パターンでのビームの広がり度合がポン
ピング電流の広い範囲にわたって小さいものとなる良好
なコヒーレンスを与え、また(2)スポット間隔がせま
いため遠視野光学パターンを見るとあたかも1つのスポ
ットの様にふるまいさらに発光面積が大きいため高出力
化が図れる。
When a current is injected into this laser, the current injected from the portion 109 forms 110 light emitting points on the active layer 103 corresponding to the portion 109. At this time, when the interval between the current injection regions 112 is set to 2 It m to 25 μm, the emitted light spreads and the mutual light is deflected and combined, thereby matching the phases. This results in (1) good coherence in which the degree of beam divergence in the far-field optical fringe pattern is small over a wide range of pumping currents, and (2) a narrow spot spacing that provides good coherence when viewing the far-field optical pattern. Since it behaves as if it were a single spot and has a large light emitting area, high output can be achieved.

という特徴を有する。この電流注入間隔の狭いレーザア
レーを第6図(c)に示す様に先に述べた斜め出射レー
ザの1本のレーザ部113として使用する。
It has the following characteristics. This laser array with narrow current injection intervals is used as one laser section 113 of the oblique emitting laser described above, as shown in FIG. 6(c).

尚、本発明においてn−GaAs基板を用いているがこ
れはn−GaAs基板でも良い。ただしその時の各半導
体層の極性は本発明の反対でなければならない。つまり
n型はp型にp型はn型にしなければならない。ただし
活性層は不純物無しで良い。
Note that although an n-GaAs substrate is used in the present invention, an n-GaAs substrate may also be used. However, the polarity of each semiconductor layer at that time must be opposite to that of the present invention. In other words, n-type must be changed to p-type, and p-type must be changed to n-type. However, the active layer may be free of impurities.

尚、本例においては電極ストライプによりレーザへの電
流注入を行っているが、その注入方法たとえば、リツン
による方法、成長膜中に電流狭窄層を形成する方法等容
々の方法をとってもよい。ここで重要なことは隣接する
レーザ間の間隔が小さく、光の結合を生じるということ
である。
In this example, current is injected into the laser using electrode stripes, but various methods may be used for the injection, such as a method using litun, a method of forming a current confinement layer in the grown film, etc. What is important here is that the spacing between adjacent lasers is small, resulting in light coupling.

本発明による半導体装置では、へき開面を用いて光出射
方向の異なるアレーレーザを作成しているが、本発明が
へき開面を用いたアレーレーザに限定される訳ではない
。実装上の都合により、例えば片面、あるいは両面にウ
ェットプロセスまたはドライプロセス等で作成された共
振面を採用する事も可能である。その例を第2−1図及
び第2−2図に示した。
In the semiconductor device according to the present invention, array lasers with different light emission directions are created using cleavage planes, but the present invention is not limited to array lasers using cleavage planes. Depending on mounting considerations, it is also possible to employ, for example, a resonant surface formed by a wet process or a dry process on one side or both sides. Examples are shown in Figures 2-1 and 2-2.

各々の図において213a〜213e、 223a 〜
223cが注入域であり、それぞれ独立した注入電極を
有している。214a 〜214e、2]、5a 〜2
]5e (b。
In each figure, 213a to 213e, 223a to
223c is an injection region, each having an independent injection electrode. 214a to 214e, 2], 5a to 2
]5e (b.

c、  dは表示してない)がエツチングで形成された
共振器面である。また、第2−2図においては224a
(c, d not shown) are the resonator surfaces formed by etching. Also, in Figure 2-2, 224a
.

2211、 b 、  224 c 、 225 a 
、  225 b 、  225 cがエツチングで形
成された共振器面である。
2211, b, 224 c, 225 a
, 225 b and 225 c are the resonator surfaces formed by etching.

尚、特許請求の範囲に示した活性層である第1の°半導
体層とこれをはさんだ第2.第3の半導体層構成におい
て、第2.第3の領域に活性層ではない超格子構造およ
ぼ連続的に組成を変化させた半導体層を含むこと、また
、発生層とはキャリアの再結合が主に生ずる領域および
キャリア再結合の領域に隣接して形成された数1000
Å以下の薄い層をも含んでいる。例えば単一1子井戸(
および多重1子井戸、および通常の0.1μm程度の層
)の両側に形成した数人〜数1000人のバリア層とか
光の閉じ込めを生じさせる0、1μm以下の薄い層を含
んだものである。
It should be noted that the first semiconductor layer which is the active layer shown in the claims and the second semiconductor layer sandwiching this are the active layers. In the third semiconductor layer structure, the second. The third region includes a superlattice structure that is not an active layer and a semiconductor layer whose composition is continuously changed, and the generation layer is a region where carrier recombination mainly occurs and a region of carrier recombination. Number 1000 formed adjacent to each other
It also contains a thin layer of less than Å. For example, a single child well (
A thin layer of 0.1 μm or less that causes light confinement, such as a barrier layer of several to several thousand layers formed on both sides of a multiple single well, and a normal layer of about 0.1 μm. .

〔発明の効果1 以上説明したように本発明は、従来の半導体レーザ装置
において、発光効率が高く、均質な出力を各々の出射方
向が異なる様に再現性よく取出す事を可能にした。更に
、各々のレーザからの光出射方向が異なるので、多数の
点からのレーザ光を走査光学系を用いて媒体上に良好に
結像させることができ、レーザビームプリンタ等の光学
装置の光源として極めて有利である。
[Effect of the Invention 1] As explained above, the present invention has made it possible to extract homogeneous output with high luminous efficiency and high reproducibility from different emission directions in a conventional semiconductor laser device. Furthermore, since the light emitting direction from each laser is different, laser beams from multiple points can be imaged well on the medium using a scanning optical system, making it suitable as a light source for optical devices such as laser beam printers. Extremely advantageous.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明による半導体装置の一実施例を示す平面
図、第2−1図及び第2−2図は本発明の変形例を示す
平面図、第3図はレーザがハイブリッドに配置された従
来例を示す図、第4図は出射方向一定のアレーレーザと
プリズムを合体して出射方向を異ならせた従来例を示す
図、第5図は出射方向一定のアレーレーザを光学系で補
正しようとした場合の従来例を示す図、 第6図(a)、  (b)、  (c)は夫々半導体レ
ーザの構成例を示す略断面図である。 11〜15・・・半導体レーザ、 16、 17・・・共振面。
FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of a semiconductor device according to the present invention, FIGS. 2-1 and 2-2 are plan views showing modified examples of the present invention, and FIG. 3 is a plan view showing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. Figure 4 shows a conventional example in which an array laser with a constant output direction and a prism are combined to have different output directions, and Figure 5 shows an attempt to correct an array laser with a constant output direction using an optical system. FIGS. 6(a), 6(b), and 6(c) are schematic cross-sectional views each showing an example of the configuration of a semiconductor laser. 11-15... Semiconductor laser, 16, 17... Resonance surface.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)複数個の半導体レーザがモノリシックに形成され
た半導体レーザ装置において、前記装置は、各々の半導
体レーザの活性層の発光領域がストライプ状に制限され
、このストライプの方向が共振面と成す角度を半導体レ
ーザによって異ならせ、複数の光を異なる方向に出射す
るように構成され、かつ、前記各々の発光領域を、相互
に光が偏向・結合し、これらの光が実質上、周波数、位
相が一致するように形成したことを特徴とする半導体レ
ーザ装置。
(1) In a semiconductor laser device in which a plurality of semiconductor lasers are monolithically formed, the light emitting region of the active layer of each semiconductor laser is restricted in the form of a stripe, and the direction of the stripe is at an angle with the resonant plane. The semiconductor laser has different wavelengths and is configured to emit a plurality of lights in different directions, and the lights are mutually deflected and combined in each of the light emitting regions, and these lights are substantially different in frequency and phase. A semiconductor laser device characterized in that the semiconductor laser device is formed to match.
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