JPS622590A - Laser drawing apparatus - Google Patents

Laser drawing apparatus

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Publication number
JPS622590A
JPS622590A JP60141208A JP14120885A JPS622590A JP S622590 A JPS622590 A JP S622590A JP 60141208 A JP60141208 A JP 60141208A JP 14120885 A JP14120885 A JP 14120885A JP S622590 A JPS622590 A JP S622590A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
data
laser
blanking
stage
Prior art date
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Pending
Application number
JP60141208A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
田中 勝爾
章 鈴木
河内 康伸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shibaura Machine Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Machine Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Machine Co Ltd filed Critical Toshiba Machine Co Ltd
Priority to JP60141208A priority Critical patent/JPS622590A/en
Publication of JPS622590A publication Critical patent/JPS622590A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、レーザビームを用いて試料上にパターンを描
画するレーザ描画装置に係わり、特にPCB基板等の直
接描画に適したレーザ描画装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a laser drawing apparatus for drawing a pattern on a sample using a laser beam, and particularly to a laser drawing apparatus suitable for direct drawing on a PCB substrate or the like.

〔発明の技術的背景とその問題点〕 近年、P CB (P rint  C1rcuit 
 3 oard)等の試料に直接的にパターンを描画す
るものとして、レーザビームを利用したレーザ描画装置
が開発されている。この装置は、試料を一方向に連続移
動しながら、この移動方向と直交する方向にレーザビー
ムを走査し、ビームの0N−OFFを制御することによ
り、所謂ラスクスキャン方式でパターンを描画するもの
である。そして、大面積の試料であっても比較的短時間
で描画できると云う特徴を有している。
[Technical background of the invention and its problems] In recent years, P CB (Print C1rcuit
A laser drawing device using a laser beam has been developed to directly draw a pattern on a sample such as 3 oard). This device draws a pattern using the so-called rusk scan method by continuously moving the sample in one direction, scanning the laser beam in a direction perpendicular to the direction of movement, and controlling the ON/OFF state of the beam. be. Another feature is that even a large-area sample can be drawn in a relatively short time.

しかしながら、この種の装置にあっては次のような問題
があった。即ち、現在のレーザ描画装置では、CADシ
ステム及びCADシステムで得られた幾何学的な圧縮デ
ータである中間データ(以下パターンデータと略記する
)を処理して、ブランキングデータ(以下ビットデータ
と略記する)を予め形成しておき、そのビットデータを
MT(磁気テープ)に記録しておく。そして、描画すべ
きPCBの種類に応じてMTを選択し、上記描画装置を
駆動する方式となっている。このため、1枚のPCBに
関してもビットデータの量が膨大であり、通常は1面の
PCBを描くのにMTI巻が使用されるようになってい
る。従って、多くの異なったPCBを順次描画しようと
する場合、MTの本数を予め多数用意しなければならず
、またその都度MTを取替える必要があり、面倒であっ
た。また、1枚或いは同一パターンのPCBの描画動作
に関してはMT−+DISKを介して直接ビットデータ
が与えられるものの、異なった描画パターンを順次描画
しようとするときは、異なったパターン毎のMTのマウ
ントが必要であり、その作業が非常に繁雑であった。
However, this type of device has the following problems. That is, current laser drawing devices process CAD systems and intermediate data (hereinafter abbreviated as pattern data) that is geometrically compressed data obtained by the CAD systems, and process blanking data (hereinafter abbreviated as bit data). ) is formed in advance, and its bit data is recorded on MT (magnetic tape). Then, the MT is selected according to the type of PCB to be drawn, and the above-mentioned drawing device is driven. For this reason, the amount of bit data for one PCB is enormous, and MTI winding is usually used to draw one side of the PCB. Therefore, when drawing many different PCBs in sequence, a large number of MTs must be prepared in advance, and the MTs must be replaced each time, which is troublesome. In addition, bit data is directly given through the MT-+DISK for drawing operations on one PCB or the same pattern, but when trying to draw different drawing patterns sequentially, mounting of the MT for each different pattern is required. This was necessary and the work was extremely complicated.

なお、ビットデータを予め形成しておきMTに記録して
おくのは、描画中にビットデータをリアルタイムに供給
する必要があるからである。つまり、描画装置で予め前
記パターンデータを処理してビットデータを形成するの
では、描画装置にビットデータを格納する膨大なメモリ
が必要となり、実質的に不可能である。また、ビットデ
ータの形成に時間がかかり、その結果描画速度が低下す
るからである。
Note that the reason why the bit data is formed in advance and recorded on the MT is that it is necessary to supply the bit data in real time during drawing. In other words, if the pattern data is processed in advance in a drawing device to form bit data, the drawing device would require a huge amount of memory to store the bit data, which is practically impossible. Another reason is that it takes time to form bit data, resulting in a decrease in drawing speed.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は上記事情を考慮してなされたもので、その目的
とするところは、リアルタイムでブランキングに必要な
ビットデータを発生させる新たなレーザ描画装置を提供
することにある。つまり、描画速度の低下を招くことな
く、描画に必要な予め用意すべきデータをパターンデー
タの形とすることができ、予め必要なデータ量を大幅に
少なくすることができ、作業効率の向上及びMT等の記
憶装置の縮小化をはかり得る実用性の高いレーザ描画装
置を提供することにある。
The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and its purpose is to provide a new laser drawing device that generates bit data necessary for blanking in real time. In other words, the data that must be prepared in advance for drawing can be made into pattern data without reducing the drawing speed, and the amount of data required in advance can be significantly reduced, improving work efficiency and It is an object of the present invention to provide a highly practical laser drawing device that can reduce the size of a storage device such as an MT.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明の骨子は、描画装置自体にパターンデータをビッ
トデータに変換する機能を持たせることにより、予め用
意すべきデータの量を低減することにある。
The gist of the present invention is to reduce the amount of data that must be prepared in advance by providing the drawing device itself with a function of converting pattern data into bit data.

即ち本発明は、試料ステージ上に配置された試料にレー
ザビームを照射して該試料上に所望のパターンを描画す
るレーザ描画装置において、前記ステージを一方向(Y
方向)に連続移動すると共にこれと直交する方向(Y方
向)にステップ移動する手段と、レーザ発振器からのレ
ーザビームを反射し該反射ビームを前記試料上に照射す
るポリゴンミラーと、このポリゴンミラーを回転せしめ
上記反射ビームを前記ステージの移動方向と略直交する
方向に走査する手段と、前記試料上に描画すべき図形の
幾何学的なパターンデータを(1,0)のブランキング
データに変換するデータ変換部と、この変換されたブラ
ンキングデータを格納する複数のバッファメモリと、こ
れらのメモリのいずれかを選択し該メモリに格納された
ブランキングデータに基づいて前記試料上に照射さ、 
れるビームをブランキングする手段とを設け、前記試料
の描画すべき領域を該試料上でのレーザビームの走査幅
で決まる短冊状の複数のストライプに分割し、前記試料
ステージのY方向連続移動により試料の描画すべき1ス
トライプを描画したのち、ステージをX方向にステップ
移動し、再びステージを−Y方向に連続移動して次のス
トライプを描画し、これを繰返して残りのストライプを
順次描画するようにしたものである。
That is, the present invention provides a laser drawing apparatus that irradiates a sample placed on a sample stage with a laser beam to draw a desired pattern on the sample.
a polygon mirror that reflects a laser beam from a laser oscillator and irradiates the reflected beam onto the sample; means for rotating and scanning the reflected beam in a direction substantially perpendicular to the moving direction of the stage; and converting geometric pattern data of a figure to be drawn on the sample into (1,0) blanking data. a data conversion unit, a plurality of buffer memories for storing the converted blanking data, and selecting one of these memories to irradiate the sample on the basis of the blanking data stored in the memory;
The area to be drawn on the sample is divided into a plurality of rectangular stripes determined by the scanning width of the laser beam on the sample, and the sample stage is continuously moved in the Y direction. After drawing one stripe on the sample, step the stage in the X direction, move the stage again in the -Y direction to draw the next stripe, and repeat this to draw the remaining stripes in sequence. This is how it was done.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下、゛本発明の詳細を図示の実施例によって説明する
Hereinafter, details of the present invention will be explained with reference to illustrated embodiments.

第1図は本発明の第1の実施例に係わるレーザ描画装置
の基本構成を示す図であり、この装置は基本的にはレー
ザ描画装置本体IQ−とその制−系1史とから構成され
る。描画装置本体1更は、試料12を載置した試料ステ
ージ11、このステージ11を一方向に移動するステー
ジドライバ16゜レーザ発振器21からのレーザビーム
をブランキングするAO素子(音響光学素子)22.こ
のAO素子22を駆動するブランキングドライバ43、
レーザビームを反射してその反射ビームを試料12上に
照射°するポリゴンミラー26及びポリゴンミラー26
を回転駆動し該ミラー26からの反射ビームを試料12
上で走査するモータ(図示せず)等から構成される。ま
た、制御系50では、CPLI51のもとに、パターン
データ変換部61によりMT52等からの幾何学フォー
マットのパターンデータがビットデータ(ブランキング
データ)に変換される。そして、このとットデータを前
記ブランキングドライバ43に送出して、前記AO素子
22によりビームのブランキングを行うものとなってい
る。
FIG. 1 is a diagram showing the basic configuration of a laser drawing device according to a first embodiment of the present invention, and this device basically consists of a laser drawing device main body IQ- and its control system 1. Ru. The drawing apparatus main body 1 further includes a sample stage 11 on which a sample 12 is placed, a stage driver 16 that moves the stage 11 in one direction, and an AO element (acousto-optic element) 22 that blanks a laser beam from a laser oscillator 21. A blanking driver 43 that drives this AO element 22,
A polygon mirror 26 and a polygon mirror 26 that reflect the laser beam and irradiate the reflected beam onto the sample 12.
is rotated and the reflected beam from the mirror 26 is directed to the sample 12.
It consists of a motor (not shown) that scans the top of the screen. In addition, in the control system 50, the pattern data conversion unit 61 converts pattern data in a geometric format from the MT 52 or the like into bit data (blanking data) under the control of the CPLI 51. Then, this dot data is sent to the blanking driver 43, and the beam is blanked by the AO element 22.

以下、レーザ描画装置本体IL及び制御系1史の具体的
な構造について、第2図乃至第6図を参照して説明する
Hereinafter, the specific structure of the laser drawing apparatus body IL and the control system 1 will be described with reference to FIGS. 2 to 6.

第2図はレーザ描画装置本体の概略構成を示す斜視図で
ある。X方向及びY方向に移動可能な試料ステージ11
上には、PCB等の試料12が載置されている。試料ス
テージ11は、第3図に側断面図を第4図に平面図を示
す如く、矩形状の板体に試料12より小径の窓11aを
形成したもので、その上面にガラス板13a、13bで
試料12を挟み込んで試料12を固定保持するものとな
っている。なお、上側のガラス板13aはクランプ14
に固定され、クランプ14と共に回動するものとなって
いる。試料ステージ11は、ボールネジ15.ボールネ
ジ15を回転するモータ(ステージドライバ)16及び
ボールネジ15に螺合するナツト17等からなるステー
ジ駆動系に接続されている。そして、モータ16の回転
により、試料ステージ11は一方向(Y方向)に連続移
動されるものとなっている。また、図には示さないが、
試料ステージ11は、上記と同様なステージ駆動系によ
り上記移動方向と直交する方向(Y方向)に移動される
ものとなっている。なお、18はステージ11とその駆
動系とを接続するためのワイヤ、19はステージ11の
移動方向をY方向に規定する第1のガイド体、19′は
ステージ11の移動方向をX方向に規定する第2のガイ
ド体を示している。
FIG. 2 is a perspective view showing the schematic structure of the main body of the laser drawing apparatus. Sample stage 11 movable in the X direction and Y direction
A sample 12 such as a PCB is placed on top. The sample stage 11 is a rectangular plate with a window 11a smaller in diameter than the sample 12, as shown in FIG. 3 as a side sectional view and FIG. 4 as a plan view. The sample 12 is held fixedly by sandwiching the sample 12 between the two. Note that the upper glass plate 13a is attached to the clamp 14.
It is fixed to and rotates together with the clamp 14. The sample stage 11 includes a ball screw 15. It is connected to a stage drive system that includes a motor (stage driver) 16 that rotates the ball screw 15, a nut 17 that is screwed onto the ball screw 15, and the like. The sample stage 11 is continuously moved in one direction (Y direction) by the rotation of the motor 16. Also, although not shown in the figure,
The sample stage 11 is moved in a direction (Y direction) perpendicular to the movement direction described above by a stage drive system similar to that described above. In addition, 18 is a wire for connecting the stage 11 and its drive system, 19 is a first guide body that defines the moving direction of the stage 11 in the Y direction, and 19' is a wire that defines the moving direction of the stage 11 in the X direction. The second guide body shown in FIG.

一方、レーザ発振器21から放射されたレーザビームは
、ビームブランキングのための第1のAO素子22に照
射される。AO素子22を通過したレーザビームは、拡
散レンズ23により拡大され、ビームを上下に切換える
ための第2のAO素子24に照射される。AO素子24
で、例えば上方向に切換えられたビームは、集束ミラー
25aにより反射され、ポリゴンミラー26aに照射さ
れる。ポリゴンミラー268で反射されたレーザビーム
は、Fθレンズ27aを通り、さらに対物ミラー28a
で反射されて、前記試料12の上面に照射結[有]され
るものとなっている。また、AO素子24にて下側に切
換えられたレーザビームは、上記と同様に集束ミラー2
5b、ポリゴンミラー26b、Fθレンズ27b及び対
物ミラー28bを介して試料12の下面に照射結像され
るものとなっている。
On the other hand, the laser beam emitted from the laser oscillator 21 is irradiated onto the first AO element 22 for beam blanking. The laser beam that has passed through the AO element 22 is expanded by a diffusion lens 23 and irradiated onto a second AO element 24 for switching the beam up and down. AO element 24
For example, the beam switched upward is reflected by the focusing mirror 25a and irradiated onto the polygon mirror 26a. The laser beam reflected by the polygon mirror 268 passes through the Fθ lens 27a, and then passes through the objective mirror 28a.
The light is reflected by the beam and is irradiated onto the upper surface of the sample 12. Further, the laser beam switched downward by the AO element 24 is directed to the focusing mirror 2 in the same manner as above.
5b, a polygon mirror 26b, an Fθ lens 27b, and an objective mirror 28b.

ポリゴンミラー26a、26bは、高精度に鏡面仕上げ
された例えば12面の反射面を有するもので、空気軸受
31により支承された回転軸32の上下にそれぞれ固定
されている。回転軸32はカップリング33を介してモ
ータ34に接続されている。従って、モータ34の回転
により、ポリゴンミラー26a、26bは所定の回転数
で回転する。この回転により、前記′試料12に照射さ
れるレーザビームは、ステージ11の移動方向と直交す
るX方向に走査されるものとなっている。また、モータ
34の下部には、該モータ34の回転角度を検出するロ
ータリーエンコーダ35が設けられている。
The polygon mirrors 26a and 26b have, for example, 12 reflective surfaces that are mirror-finished with high precision, and are respectively fixed above and below a rotating shaft 32 supported by an air bearing 31. The rotating shaft 32 is connected to a motor 34 via a coupling 33. Therefore, the rotation of the motor 34 causes the polygon mirrors 26a and 26b to rotate at a predetermined number of rotations. Due to this rotation, the laser beam irradiated onto the sample 12 is scanned in the X direction perpendicular to the moving direction of the stage 11. Furthermore, a rotary encoder 35 is provided below the motor 34 to detect the rotation angle of the motor 34.

第5図は描画装置本体IcL内に設けられた制御部に関
する部分を抽出して示す模式図である。X方向及びY方
向のステージドライバ16には後述する制−系1止から
の駆動信号DRVが与えられ、またエンコーダ35の回
転角度検出信号ENCは制御系1更に送出される。41
は、前記試料ステージ11の移動位置を測定するレーザ
測長系であり、その測定信号PO8は制御系ILk−送
出される。42は、前記AO素子24を駆動する切換え
ドライバであり、このドライバ42には制御系50から
切換え信号AOが与えられる。43は、前記AO素子2
2を駆動するブランキングドライバであり、このドライ
バ43には制御系1止からブランキング信号BLKが与
えられる。44a。
FIG. 5 is a schematic diagram showing extracted portions related to the control section provided in the main body IcL of the drawing apparatus. A drive signal DRV from a control system 1, which will be described later, is applied to the stage driver 16 in the X direction and the Y direction, and a rotation angle detection signal ENC of the encoder 35 is further sent to the control system 1. 41
is a laser length measurement system that measures the moving position of the sample stage 11, and its measurement signal PO8 is sent to the control system ILk. 42 is a switching driver that drives the AO element 24, and a switching signal AO is applied to this driver 42 from a control system 50. 43 is the AO element 2
A blanking signal BLK is applied to this driver 43 from the control system 1 stop. 44a.

44°b ハ、前記ポリゴンミラー26a、26bが所
定の位置にきたときにスタート信号MS1゜MS2を発
生するスタート信号発生部であり、このスタート信号M
S1.MS2は制−系1止に送出される。45は、前記
クランプ14を駆動するクランプトライバであり、この
ドライバ45には制御系11からクラン°プ信号CLM
Pが与えられる。
44°b c. A start signal generating section that generates start signals MS1 and MS2 when the polygon mirrors 26a and 26b come to predetermined positions, and this start signal M
S1. MS2 is sent to the control system 1. 45 is a clamp driver that drives the clamp 14, and this driver 45 receives a clamp signal CLM from the control system 11.
P is given.

ここで、ロータリーエンコーダ35は、ポリゴンミラー
26a、26bの各ミラーが現在どの位置にあるかを知
るための手段として用いられる。
Here, the rotary encoder 35 is used as a means for knowing the current position of each of the polygon mirrors 26a and 26b.

ミラー位置を検出できるものであれば別の検出器で代替
できるのは、勿論のことである。また、ロータリーエン
コーダ35は、1つのミラー面上でのビーム走査中のブ
ランキングデータを読出すクロック信号発生手段として
も用いられる。ここで、モータ34の回転ムラが少なけ
れば(ワウフラッタ−104以下)、発振器のクロック
パルスを利用することにより上記エンコーダ35を除去
することも可能である。
Of course, it is possible to replace the detector with another detector as long as it can detect the mirror position. The rotary encoder 35 is also used as a clock signal generating means for reading blanking data during beam scanning on one mirror surface. Here, if the rotation unevenness of the motor 34 is small (wow and flutter -104 or less), the encoder 35 can be removed by using the clock pulse of the oscillator.

スタート信号発生部44a、44bは、ポリゴンミラー
26a、26bのある1つのミラー面がレーザビームの
走査エリアに到達したことを知らせるスタート信号を出
すもので、例えばポリゴンミラーの各ミラー面にスリッ
トを形成しておき、ポリゴンミラーに入射するレーザビ
ームが上記スリットに照射されるときスタート信号を発
生するようにすればよい。このスリット照射のタイミン
グは、受光素子を適当な位置に設けておき、スリットに
入射した光が該受光素子に入射するようにすればよい。
The start signal generators 44a and 44b generate a start signal to notify that one mirror surface of the polygon mirrors 26a and 26b has reached the laser beam scanning area, and for example, a slit is formed on each mirror surface of the polygon mirrors. Then, a start signal may be generated when the laser beam incident on the polygon mirror is irradiated onto the slit. The timing of this slit irradiation can be determined by setting the light receiving element at an appropriate position so that the light incident on the slit is incident on the light receiving element.

なお、前記のエンコーダ35を設ける場合、エンコーダ
パルスからスタート信号を得ることも可能である。
Note that when the encoder 35 described above is provided, it is also possible to obtain the start signal from the encoder pulse.

第6図は制御系11の回路構成を示すブロック図である
。図中51は各種の制御指令を出すCPUである。図示
しないCAD等により作成された幾何学的な中間データ
である圧縮されたパターンデータは、MT (11気テ
ープ)52に記録されている。このMT52に記録され
たパターンデータは、CPU51からの指令により、デ
ィスクユニット53に供給され該ユニット53に格納さ
れる。ディスクユニット53に格納されたパターンデー
タはDMAユニット54により高速で読出され、主メモ
リ55に格納されるものとなっている。
FIG. 6 is a block diagram showing the circuit configuration of the control system 11. In the figure, 51 is a CPU that issues various control commands. Compressed pattern data, which is geometric intermediate data created by CAD (not shown) or the like, is recorded on an MT (11 tape) 52. The pattern data recorded on the MT 52 is supplied to the disk unit 53 and stored in the disk unit 53 according to a command from the CPU 51. The pattern data stored in the disk unit 53 is read out at high speed by the DMA unit 54 and stored in the main memory 55.

一方、CPU51には、ステージシーケンスユニット5
6及びAOシーケンスユニット57が接続されている。
On the other hand, the CPU 51 includes a stage sequence unit 5.
6 and an AO sequence unit 57 are connected.

ステージシーケンスユニット56には、前記レーザ測長
系41からのステージ位置情報PO8が供給される。そ
して、この位置情報に応じてステージ駆動信号DRVを
前記ステージドライバ16に送出すると共に、クランプ
信号CLMPを前記クランプトライバ45に送出するも
のとなっている。AOシーケンスユニット57は、前記
AO素子24によるビームの上下切換えを制御するもの
で、AO切換え信号AOを前記切換えドライバ42に送
出するものとなっている。
The stage sequence unit 56 is supplied with stage position information PO8 from the laser length measurement system 41. Then, in accordance with this position information, a stage drive signal DRV is sent to the stage driver 16, and a clamp signal CLMP is sent to the clamp driver 45. The AO sequence unit 57 controls the vertical switching of the beam by the AO element 24, and sends an AO switching signal AO to the switching driver 42.

一方、前記主メモリ55に格納されたパターンデータは
、前処理部(以下PPLIと略記する)611、関数発
生部(以下FG略記する)612及び書込み制一部(以
下WCUと略記する)613等からなるデータ変換部6
1°に供給され、このデータ変換部61でrl、OJの
ビットデータ(ブランキングデータ)に変換される。こ
の変換されたビットデータはバッファメモリ (以下B
UFと略記する)62t 、622からなるバッファメ
モリ部62に格納される。BUF621゜622はそれ
ぞれデータ変換部61でデータ変換された侵述する1セ
ルの領域に相当するビットデータを格納するもので、変
換データが交互に格納されるものとなっている。メモリ
部62に格納されたビットデータは、シフトレジスタ6
3に送出される。実際には、クロック回路64のりOツ
クにより動作する読出し制御部(以下RCLIと略記す
る)65により、BuF62t 、622のデータがシ
フトレジスト63に選択的に送出されるものとなってい
る。
On the other hand, the pattern data stored in the main memory 55 includes a preprocessing unit (hereinafter abbreviated as PPLI) 611, a function generation unit (hereinafter abbreviated as FG) 612, a write control unit (hereinafter abbreviated as WCU) 613, etc. A data conversion unit 6 consisting of
1°, and is converted into rl and OJ bit data (blanking data) by this data converter 61. This converted bit data is stored in the buffer memory (hereinafter referred to as B
(abbreviated as UF) 62t, 622 is stored in the buffer memory section 62. The BUFs 621 and 622 each store bit data corresponding to an area of one cell that is data-converted by the data converter 61, and the converted data are stored alternately. The bit data stored in the memory section 62 is transferred to the shift register 6
Sent on 3rd. In reality, the data in the BuFs 62t and 622 is selectively sent to the shift register 63 by a read control unit (hereinafter abbreviated as RCLI) 65 operated by the clock circuit 64.

ここで、データ変換部61及びバッファメモリ8j62
の作用は次の通りである。前述した。
Here, the data converter 61 and the buffer memory 8j62
The action of is as follows. As mentioned above.

MT52には、セルと称する描画の基本的な領域内に属
する基本図形毎の圧縮したデータが格納されている。第
7図はこの基本図形の例であって、台形を示している。
The MT 52 stores compressed data for each basic figure belonging to a basic drawing area called a cell. FIG. 7 shows an example of this basic figure, which is a trapezoid.

台形を表わすパラメータを定めた場合、長方形はΔX1
=O,ΔX2−0、三角形はΔα−ΔX1+ΔX2の如
く台形を表わすパラメータの値 PXr 、PY、 ΔXt 、ΔX2.Δg、 Δhが
特定の値を取ることによって、即ち台形の特殊な場合と
して扱うことができる。データ変換部61では、まずP
PU611により1組の基本図形に関する圧縮したパタ
ーンデータDA (PXt 。
When the parameters representing a trapezoid are determined, the rectangle is ΔX1
=O, ΔX2-0, and the triangle has the values of parameters PXr, PY, ΔXt, ΔX2 . By taking specific values for Δg and Δh, it can be treated as a special case of a trapezoid. In the data conversion section 61, first, P
The PU 611 compresses pattern data DA (PXt) regarding a set of basic figures.

PY、ΔXr、ΔX2.Δ℃、Δh)を前記主メモリ5
5からデータバスを介して取入れ、FG612での演算
に適するようにデータ変換する。FG612では、6個
のデータから前述の圧縮データで代表される基本図形を
描画する場合のビーム走査におけるブランキング指令デ
ータ、即ちビームの0N−OFF指令と、そのブランキ
ング指令のアドレスとを作るためのデータ群をその基本
図形全部に厘っで形成する。WCU613では、FG6
12から与えられるブランキング指令データとアドレス
データとから、1つのセル領域に対応するブランキング
データをメモリに書込む。
PY, ΔXr, ΔX2. Δ℃, Δh) in the main memory 5
5 via the data bus, and converts the data so that it is suitable for calculation in the FG 612. In the FG612, in order to create blanking command data for beam scanning when drawing a basic figure represented by the above-mentioned compressed data from six pieces of data, that is, a beam 0N-OFF command and the address of the blanking command. A data group is formed by covering all of its basic shapes. In WCU613, FG6
From the blanking command data and address data given from 12, blanking data corresponding to one cell area is written into the memory.

そして、データ変換部61では、試料12の描画すべき
領域を例えば第8図に示す如°くセル単位Cに分°割し
てデータ変換を行い、且つY方向に1セルづづデータ変
換を行う。ここで、セルのX方向幅は、試料12の描画
すべき領域を短冊状に分割したフレーム幅と等しくした
。メモリ部62のBLIF62t 、622としては、
上記セル1個に相当するメモリを用意しておく。これに
より、セル領域C0□のデータ変換されたビットデータ
が、例えばBUF62sに格納されることになる。この
BUF62rに格納されたビットデータが読出されて描
画が行われる。そして、BUF621のデータを読出し
ている間に、データ変換部61で次のセル領域CLIの
パターンデータの変換を行い、その変換データを他方の
BUF622に格納する。
Then, the data converter 61 divides the area to be drawn on the sample 12 into cell units C as shown in FIG. 8, and converts the data one cell at a time in the Y direction. . Here, the width of the cell in the X direction was equal to the width of a frame obtained by dividing the area of the sample 12 to be drawn into strips. As the BLIF 62t, 622 of the memory section 62,
A memory equivalent to one of the above cells is prepared in advance. As a result, the converted bit data of the cell area C0□ is stored in, for example, the BUF 62s. The bit data stored in this BUF 62r is read out and drawing is performed. While the data in the BUF 621 is being read, the data converter 61 converts the pattern data of the next cell area CLI, and stores the converted data in the other BUF 622.

また、BUF621のビットデータに基づく描画が終了
したら、BUF2に格納されたビットデータを読出して
描画を行うと共に、BLIF62tに次のセル領tii
ICI8のビットデータを格納する。さらに、CtS→
C1rl 、 Csn→Cz1. Cat→Csn、 
C+n→C41の順にデータの格納及び読出しを行う。
When drawing based on the bit data of BUF 621 is completed, the bit data stored in BUF 2 is read out and drawing is performed, and the next cell area tii is written to BLIF 62t.
Stores bit data of ICI8. Furthermore, CtS→
C1rl, Csn→Cz1. Cat→Csn,
Data is stored and read in the order of C+n→C41.

このように、BUF621.622にはビットデータが
交互に格納されると共に、格納されたデータが交互に読
出されるものとなっている。
In this way, bit data is alternately stored in the BUFs 621 and 622, and the stored data is alternately read out.

なお、上記の説明ではセル幅をストライプ幅と等しくし
たが、セル幅がストライプ幅より小さい□場合、1スト
ライプ幅に相当する最少単位の複数のセル毎にデータ変
換を行い、1つのストライプ幅に相当するデータをBU
F621.622に順次格納するようにしてもよい。
Note that in the above explanation, the cell width is equal to the stripe width, but if the cell width is smaller than the stripe width, data conversion is performed for each of the minimum units of cells corresponding to one stripe width, and the data is converted to one stripe width. BU the corresponding data
The information may be stored sequentially in F621 and F622.

また、RCU65には各種補正量制御ユニット66から
補正信号が供給されている。補正量制御ユニット66に
は、CPU51から補正情報が供給されると共に、前記
スタート信号発生部44a。
Further, correction signals are supplied to the RCU 65 from various correction amount control units 66. The correction amount control unit 66 is supplied with correction information from the CPU 51 and is also supplied with the start signal generating section 44a.

44bからのスタート信号MSr 、MS2及び回転信
号ENC信号が供給されている。ここで、補正量の種類
としては、Fθレンズの収差、ポリゴンミラーの製作誤
差等の再現性のある誤差である。
Start signals MSr, MS2 and rotation signal ENC signal from 44b are supplied. Here, the types of correction amounts include reproducible errors such as aberrations of the Fθ lens and manufacturing errors of the polygon mirror.

これらの誤差を予めメモリに格納しておき、レーザビー
ムの試料12上への照射位置を、メモリからの補正量を
加味してコントロールする。コントロールの方法は、R
CU65への指令として与える場合と、AO素子24を
微細に補正すると云う2つの方法があり、これらのいず
れかを適宜選択すればよい。
These errors are stored in memory in advance, and the irradiation position of the laser beam onto the sample 12 is controlled by taking into account the amount of correction from the memory. The control method is R
There are two methods, one is to give it as a command to the CU 65, and the other is to finely correct the AO element 24, and one of these methods can be selected as appropriate.

次に、上記構成された本装置の作用について説明する。Next, the operation of the apparatus configured as described above will be explained.

この実施例では、第9図に示す如く試料12の描画すべ
き領域を、ポリゴンミラー26によるビーム走査幅に等
しい幅の短冊状の複数のストライプ91.〜,94に分
割し、ストライプ毎に描画を行う。さらに、試料12の
上面側を先に描画したのち、下面側を描画するものとし
た。
In this embodiment, as shown in FIG. 9, the region to be drawn on the sample 12 is divided into a plurality of stripes 91. . . , 94, and drawing is performed for each stripe. Furthermore, the upper surface side of the sample 12 was drawn first, and then the lower surface side was drawn.

まず、描画すべきPCBのパターンデータが記録されて
いるMT52から、該データをディスクユニット53に
格納しておく。試料12を試料ステージ11上にセット
し、前記クランプ14により該試料12を固定保持する
。その後、ステージをY方向に連続移動しながら、レー
ザビームをX方向に走査して所望のパターンを描画する
。ここで、AO素子24にてレーザビームを上側に切換
えておく。そして、IIJIII系50により前述した
パターンデータのビットデータへの変換を行うと共に、
ステージ移動と同期してポリゴンミラー268を一転さ
せ、AO素子22にブランキングデータを供給すること
によって、第9図に示す如く、所謂ハイブリッドラスク
スキャン方式で試料上面の第1ストライプ91を描画す
る。つまり、試料12上に塗布されたフォトレジスト等
を描画すべきPCBの回路パターンに応じて露光する。
First, the data is stored in the disk unit 53 from the MT 52 in which the pattern data of the PCB to be drawn is recorded. A sample 12 is set on the sample stage 11, and the sample 12 is fixedly held by the clamp 14. Thereafter, while the stage is continuously moved in the Y direction, the laser beam is scanned in the X direction to draw a desired pattern. Here, the laser beam is switched upward using the AO element 24. Then, the IIJIII system 50 converts the pattern data described above into bit data, and
By rotating the polygon mirror 268 in synchronization with the movement of the stage and supplying blanking data to the AO element 22, a first stripe 91 on the upper surface of the sample is drawn using a so-called hybrid rask scan method, as shown in FIG. That is, the photoresist or the like coated on the sample 12 is exposed to light in accordance with the circuit pattern of the PCB to be drawn.

試料12の第1ストライプ91の描画が終了したら、試
料ステージ11をX方向にステップ移動し、次いでステ
ージ11を−Y方向に移動すると共に、AO素子22に
ブランキングデータを印加することにより、上記と同様
にして試料12の第2ストライプ92の描画を行う。こ
の操作を繰返して、第3.第4のストライプ93.94
を順次描画して試料12の上面全面の描画を行う。
When the drawing of the first stripe 91 on the sample 12 is completed, the sample stage 11 is moved stepwise in the X direction, and then the stage 11 is moved in the -Y direction, and the blanking data is applied to the AO element 22. The second stripe 92 of the sample 12 is drawn in the same manner as described above. Repeat this operation until the third step. 4th stripe 93.94
are sequentially drawn to draw the entire upper surface of the sample 12.

試料12の上面の描画が終了したら、前記AO素子24
によりレーザビームを下側に切換える。
When the drawing of the upper surface of the sample 12 is completed, the AO element 24
Switch the laser beam downwards.

そして、ステージ11のY (−Y方向)連続移動。Then, the stage 11 is continuously moved in the Y (-Y direction).

X方向ステップ移動及びレーザビームの走査により、上
記と同様にして試料12の下面の描画を行う。
By step movement in the X direction and scanning of the laser beam, the lower surface of the sample 12 is drawn in the same manner as described above.

かくして本実施例によれば、レーザビームにより試料1
2の上面及び下面に所望のパターンを描画することがで
きる。そしてこの場合、予め用意すべきデータとしてC
AD等により作成された幾何学的な圧縮データであるパ
ターンデータを用意するのみでよいので、予め用意すべ
きデータ量を大幅に削減することができる。ここで、デ
ータ変換部61におけるパターンデータのビットデータ
への変換にはある時間がかかるが、本装置では2つのバ
ッフ7メモリ621.622を用意し、一方のメモリに
格納されたビットデータを読出して描画を行っている間
に、次のデータ変換を行いそのビットデータを他方のメ
モリに格納しているので、データ変換に要する時間が描
画速度を低下させる等の不都合はない。さらに、ビット
データを格納するバッファメモリとしては、レーザビー
ムの走査幅に相当する1個或いは複数個のセルの領域に
対するビットデータを記憶できる容量を持つメモリが2
11ii1あればよいので、メモリ容量は十分小さくて
済む。
Thus, according to this embodiment, the sample 1 is
A desired pattern can be drawn on the upper and lower surfaces of 2. In this case, the data to be prepared in advance is C.
Since it is only necessary to prepare pattern data, which is geometric compressed data created by AD or the like, the amount of data to be prepared in advance can be significantly reduced. Here, although it takes a certain amount of time to convert the pattern data into bit data in the data converter 61, in this device, two buffer 7 memories 621 and 622 are prepared, and the bit data stored in one memory is read out. Since the next data conversion is performed and the bit data is stored in the other memory while drawing is being performed, there is no inconvenience such as the time required for data conversion reducing the drawing speed. Furthermore, as a buffer memory for storing bit data, there are two types of memory that have a capacity that can store bit data for one or more cell areas corresponding to the scanning width of the laser beam.
11ii1 is sufficient, so the memory capacity can be sufficiently small.

また、予め用意すべきデータがパターンデータでよいこ
とから、次のような利点もある。即ち、描画の精度を上
げるためビクセルサイズが0.11it  (0,00
01インチ)の細かいもので比較的大きな面積を持つ1
枚のPCBを描画しようとする場合には、現状の装置で
はそのためのビットデータを記録するMTを何本も使用
しなければならないが、本実施例の場合こうした不都合
は生じ、ない。これは、通常CADシステムから得られ
るパターンデータは、それから得られるビットデータに
対し数100分の1に圧縮されたものであり、このよう
なパターンデータをMTに記録してお(ならば、数枚〜
数10枚分のPCB用のデータを記録することができる
からである。
Furthermore, since the data to be prepared in advance may be pattern data, there are the following advantages. In other words, in order to improve the drawing accuracy, the pixel size is set to 0.11it (0,00
01 inch) with a relatively large area 1
In the case of drawing a PCB, many MTs must be used to record the bit data in the current apparatus, but this inconvenience does not occur in this embodiment. This is because the pattern data obtained from a CAD system is usually compressed to one-hundredth of the bit data obtained from it, and such pattern data must be recorded on the MT (if so, it will be compressed to several hundredths). Sheet~
This is because data for several dozen PCBs can be recorded.

また、試料12の描画すべき領域を複数のストライプに
分割し、所謂ハイブリッドラスクスキャン方式で描画を
行っているので、ステージをY方向のみに移動して描画
する方式に比べ、ポリゴンミラー26によるビーム走査
幅を短くすることができる。このため、描画精度の向上
をはかり得る。
In addition, since the area to be drawn on the sample 12 is divided into a plurality of stripes and the drawing is performed using a so-called hybrid rask scan method, the beam by the polygon mirror 26 is The scanning width can be shortened. Therefore, it is possible to improve drawing accuracy.

ざらに、ポリゴンミラー26による走査幅を同じとすれ
ば、より大きな(ストライプ数倍)試料の直接描画が可
能となる。
Roughly speaking, if the scanning width of the polygon mirror 26 is kept the same, it becomes possible to directly write a larger sample (multiple the number of stripes).

また、ポリゴンミラー26a、26b、Fθレンズ27
a、27b及び対物ミラー288゜28b等の光学系を
上下に2組設けているので、試料12の再セット等を要
することなく、試料12の両面を描画することができる
。このため、PCBの制作が極めて容易となり、スルー
プットの向上をはかり得る。このように実用的な利点が
大であり、PCB等の直接描画に絶大なる効果を発揮す
る。
Also, polygon mirrors 26a, 26b, Fθ lens 27
Since two sets of optical systems such as a, 27b and an objective mirror 288° 28b are provided on the upper and lower sides, it is possible to draw images on both sides of the sample 12 without having to reset the sample 12 or the like. Therefore, production of the PCB becomes extremely easy, and throughput can be improved. As described above, it has great practical advantages and is extremely effective for direct writing on PCBs and the like.

第10図は本発明の第2の実施例に係わるレーザ描画装
置の本体構成を示す斜視図である。なお、第2図と同一
部分には同一符号を付して、その詳しい説明は省略する
。この実施例が先に説明した第1の実施例と異なる点は
、試料の上下両面を同時に描画するため、ミラー、レン
ズはもとよりブランキング素子を含む光学系を試料の上
下両方に設けたことにある。即ち、試料12の上方側に
は、前記21.〜,28と同様なレーザ発振器21a。
FIG. 10 is a perspective view showing the main body structure of a laser drawing apparatus according to a second embodiment of the present invention. Note that the same parts as in FIG. 2 are given the same reference numerals, and detailed explanation thereof will be omitted. This embodiment differs from the first embodiment described above in that optical systems including mirrors, lenses, and blanking elements are provided on both the upper and lower sides of the sample in order to draw images on both the upper and lower surfaces of the sample at the same time. be. That is, on the upper side of the sample 12, the above-mentioned 21. .about., a laser oscillator 21a similar to 28.

AO素子22a、拡散レンズ23a、集束ミラー25a
、ポリゴンミラー26a、Fθレンズ27a、対物ミラ
ー28aが設けられている。そして、レーザ発振器21
aから放射されたレーザビームはAO素子22aにより
ブランキングされると共に、ポリゴンミラー268によ
り試料12の上面で走査されるものとなっている。
AO element 22a, diffusion lens 23a, focusing mirror 25a
, a polygon mirror 26a, an Fθ lens 27a, and an objective mirror 28a. And the laser oscillator 21
The laser beam emitted from a is blanked by the AO element 22a, and is scanned on the upper surface of the sample 12 by a polygon mirror 268.

一方、試料12の下方側には、上記の218゜〜、28
aと同様なレーザ発振器21b、AO素子22b、拡散
レンズ23b、集束ミラー25b。
On the other hand, the lower side of the sample 12 has the above-mentioned angles of 218° to 28°.
A laser oscillator 21b, an AO element 22b, a diffusion lens 23b, and a focusing mirror 25b similar to that in a.

ポリゴンミラー26b、Fθレンズ27b、ミラー28
bがそれぞれ上記と同様な関係で配設されている。そし
て、レーザ発振器21bから放射されたレーザビームは
AO素子22bによりブランキングされ、ポリゴンミラ
ー28bにより試料12の下面側で走査されるものとな
っている。
Polygon mirror 26b, Fθ lens 27b, mirror 28
b are arranged in the same relationship as above. The laser beam emitted from the laser oscillator 21b is blanked by the AO element 22b, and is scanned on the lower surface side of the sample 12 by the polygon mirror 28b.

第11図は描画装置本体に設けられたl1Il 611
部を示す模式図である。この構造が前記第5図に示すも
のと異なる点は、切換えドライバ42を省略し、ブラン
キングドライバ43a、43bを上記AO素子22a、
22bに対応して2組設けたことにあり、その他は全く
同様である。
Figure 11 shows l1Il 611 provided in the main body of the drawing device.
FIG. This structure is different from the one shown in FIG.
22b, and the rest is exactly the same.

第12図は第2の実施例の制御系の回路構成を示すブロ
ック図である。なお、第6図と同一部分には、同一符号
を付して、その詳しい説明は省略する。この回路が前記
第6図のものと異なる点は、試料の上下面の同時描画を
行うために、前記ごットデータを作成する回路を2組設
けたことにあり、基本的には第6図のものと同様である
。即ち、上側のAO素子22aに対応して前記61.〜
65と同様なデータ変換部61a、バッファメモリ部6
2a、シフトレジスタ63a、クロック回路64及びR
CU65aがそれぞれ設けられている。
FIG. 12 is a block diagram showing the circuit configuration of the control system of the second embodiment. Note that the same parts as in FIG. 6 are given the same reference numerals, and detailed explanation thereof will be omitted. The difference between this circuit and the one shown in Fig. 6 is that two sets of circuits are provided to create the above-mentioned image data in order to simultaneously draw the upper and lower surfaces of the sample. It is similar to that. That is, the above 61. corresponds to the upper AO element 22a. ~
65, a data conversion section 61a and a buffer memory section 6
2a, shift register 63a, clock circuit 64 and R
A CU 65a is provided respectively.

そして、シフトレジスタ63aからのブランキング情I
BLKsは前記AO素子22aのブランキングドライバ
43aに送出されるものとなっている。さらに、下側の
AO素子22bに対応して、上記61a、〜、65aと
同様なデータ変換部61b、バッファメモリ部62b、
シフトレジスタ63b及びRCU65bがそれぞれ設け
られている。そして、シフトレジスタ63bからのブラ
ンキング情報BLK2は前記AO素子22bのブランキ
ングドライバ42bに送出されるものとなっている。
Then, blanking information I from the shift register 63a
BLKs are sent to the blanking driver 43a of the AO element 22a. Furthermore, corresponding to the lower AO element 22b, a data conversion section 61b similar to the above-mentioned 61a to 65a, a buffer memory section 62b,
A shift register 63b and an RCU 65b are provided, respectively. Blanking information BLK2 from the shift register 63b is sent to the blanking driver 42b of the AO element 22b.

このような構成であれば、試料12の上下の両面でレー
ザビームを走査することができ、さらに上下のAO素子
22a、22bに独立してブランキングデータを与える
ことができる。従って、試料12の上下両面を同時に描
画することが可能となり、描画スループットの向上をは
かり得る。また、試料12の一主面にしかパターンを描
画する必要がない場合であっても、本実施例では2枚の
試料を重ねて配置することにより、2枚の試料を同時に
描画することができる等の利点がある。
With such a configuration, it is possible to scan both the upper and lower surfaces of the sample 12 with the laser beam, and furthermore, blanking data can be independently given to the upper and lower AO elements 22a and 22b. Therefore, it is possible to simultaneously draw on both the upper and lower surfaces of the sample 12, and it is possible to improve the drawing throughput. Furthermore, even if it is necessary to draw a pattern on only one main surface of the sample 12, in this example, by arranging the two samples one on top of the other, it is possible to draw the two samples at the same time. There are advantages such as

第13図は本発明の第3の実施例を説明するためのシス
テムブロックである。この実施例は、複数のレーザ描画
装置本体を搬送ライン上に設置し、生産性の向上をはか
ったものである。前述したレーザ描画装置本体10と同
様な描画装置本体101、〜,1ONが搬送ライン74
上に設置されている。そして、これらの描画装置本体1
01゜〜、1ONは前記制御系L1をより大形化した制
御系nにより制御されるものとなっている。なお、回申
71はPCB搬送制御装置、72は未描画PCBストッ
クエリア、73はPCB完成品ストックエリアをそれぞ
れ示している。
FIG. 13 is a system block for explaining the third embodiment of the present invention. In this embodiment, a plurality of laser drawing apparatus main bodies are installed on a conveyance line to improve productivity. A drawing device main body 101, ~, 1ON similar to the laser drawing device main body 10 described above is connected to the conveyance line 74
is installed on top. And these drawing device main bodies 1
01° to 1ON are controlled by a control system n that is larger than the control system L1. Note that reference numeral 71 indicates a PCB transport control device, 72 indicates an undrawn PCB stock area, and 73 indicates a PCB finished product stock area.

このような構成であれば、試料12のレーザ描画を各描
画装置本体10s、〜、1ONで並列的に行うことがで
きる。そしてこの場合、制御系IcLとしては、個々の
描画装置本体101.〜。
With such a configuration, the laser drawing of the sample 12 can be performed in parallel by each drawing apparatus main body 10s to 1ON. In this case, the control system IcL includes each drawing apparatus main body 101. ~.

1ONに対応して制御系50と同様のものを設ける場合
に比較して、MT、ディスクユニット。
MT and disk unit compared to the case where the same control system as the control system 50 is provided corresponding to 1ON.

DMAユニット及び主メモリ等を共用できるので、全体
として構成の簡略化をはかり得る。また、1つの描画装
置本体が故障したときは、他の描画装置でそれをカバー
する等のことが可能である。
Since the DMA unit, main memory, etc. can be shared, the overall configuration can be simplified. Furthermore, if one drawing device main body breaks down, it is possible to cover it up with another drawing device.

なお、本発明は上述した各実施例に限定されるものでは
ない。例えば、前記ポリゴンミラーやレンズ等の光学系
は必ずしも2組設ける必要はなく、一方向からのみレー
ザビーム照射による描画を行う場合1組であってもよい
のは、勿論のことである。また、第1の実施例では試料
の上面を先に描画した後下面の描画を行ったが、ステー
ジのY方向連続移動時に上面側のストライプを描画し、
ステージの−Y方向連続移動時に下面側のストライブの
描画を行うようにしてもよい。また、前記バッファメモ
リ部としては、21[!!のメモリを有するものに限ら
ず、第14図(a)に示す如く3個或いはそれ以上のメ
モリを有するものであってもよい。この場合、1つのメ
モリにパターンデータを変換してビットデータとして格
納するまでの時間が、1つのメモリ内のビットデータを
読出して所定数のラインを描画する時間より長い場合で
あっても描画速度の低下を招くことはない。逆に、1つ
のメモリのビットデータを読出して描画する時間が、1
つのメモリにパターンデータを変換してビットデータと
して格納する時間より大幅に長い場合、第14図(b)
に示す如く第2の実施例におけるデータ変換部を1組に
して、これを上下用のAO素子に対応する2組のバッフ
ツメモリ部に対応させることが可能である。また、ポリ
ゴンミラーの反射面は12而に何等限定されるものでは
なく、仕様に応じて適宜変更可能である。さらに、ポリ
ゴンミラーは、第15図に示す如くモータ軸の一部を直
接ダイヤモンドカッタ等で鏡面加工して形成することも
可能である。
Note that the present invention is not limited to the embodiments described above. For example, it is not necessarily necessary to provide two sets of optical systems such as the polygon mirrors and lenses, and it is of course possible to use only one set when drawing is performed by laser beam irradiation from only one direction. In addition, in the first embodiment, the upper surface of the sample was drawn first and then the lower surface was drawn, but stripes on the upper surface side were drawn when the stage was continuously moved in the Y direction.
The stripes on the lower surface side may be drawn when the stage is continuously moved in the −Y direction. Moreover, as the buffer memory section, 21 [! ! The present invention is not limited to one having three memories, but may have three or more memories as shown in FIG. 14(a). In this case, even if the time it takes to convert the pattern data into one memory and store it as bit data is longer than the time it takes to read the bit data in one memory and draw a predetermined number of lines, the drawing speed This will not cause a decrease in Conversely, the time it takes to read and draw bit data from one memory is 1
If the time is significantly longer than the time required to convert the pattern data into one memory and store it as bit data, as shown in Figure 14(b).
As shown in FIG. 2, it is possible to combine the data conversion sections in the second embodiment into one set and make this correspond to two sets of buffer memory sections corresponding to the upper and lower AO elements. Further, the number of reflective surfaces of the polygon mirror is not limited to 12, and can be changed as appropriate according to specifications. Furthermore, the polygon mirror can also be formed by directly mirror-finishing a part of the motor shaft with a diamond cutter or the like, as shown in FIG.

また、描画すべき試料はPCBに限るものではなく、デ
ィスプレイ装置のパネル、その他比較的大きな面に直接
パターンを描画する必要のあるものに適用することが可
能である。また、パターンデータのフォーマットは台形
フォーマットに何等限定されるものではなく、仕様に応
じて適宜変更可能である。さらに、試料に照射するため
の光ビームとしては、レーザ光が最適であるが、レジス
トを感光する光であれば用いることが可能である。
Furthermore, the sample to be drawn is not limited to PCBs, but can be applied to panels of display devices and other devices that require direct drawing of patterns on relatively large surfaces. Further, the format of the pattern data is not limited to the trapezoidal format in any way, and can be changed as appropriate according to specifications. Furthermore, although laser light is optimal as the light beam for irradiating the sample, any light that sensitizes the resist can be used.

また、ポリゴンミラーを用いる代りに、光ファイバを試
料に対向して試料移動方向と直交する方向に配列し、個
々のファイバに入射する光を0N−OFFIIIIOす
ることも可能である。その他、本発明の要旨を逸脱しな
い範囲で、種々変形して実施することができる。
Further, instead of using a polygon mirror, it is also possible to arrange optical fibers facing the sample in a direction perpendicular to the sample movement direction, and to turn the light incident on each fiber ON-OFF. In addition, various modifications can be made without departing from the gist of the present invention.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、試料を一方向に移動しながらポリゴン
ミラーの回転により試料上でレーザビームを一方向に走
査して所望のパターンを描画するレーザ描画装置におい
て、データ変換部及び複数のバッファメモリを設け、幾
何学的なパターンデータをビットデータに変換して描画
を行うようにしているので、本装置自体に入力するデー
タがパターンデータの形で良くなり、予め容易すべきデ
ータの量を大幅に低減することができる。従って、MT
等の記憶装置の縮小化及び作業効率の向上をはかり得、
実用性の大なるレーザ描画装置を実現することができる
。また、試料上の描画領域を複数のストライブに分割し
て描画することにより、ポリゴンミラーによるビーム走
査幅を短くすることができ、これにより描画精度の向上
をはかり得る。さらに、描画精度を同じとすれば、より
大きな試料の直接描画が可能になる等の効果がある。
According to the present invention, a laser drawing device that draws a desired pattern by scanning a laser beam in one direction on a sample by rotating a polygon mirror while moving the sample in one direction includes a data conversion unit and a plurality of buffer memories. Since the geometric pattern data is converted into bit data for drawing, the data input to the device itself is in the form of pattern data, which greatly reduces the amount of data that needs to be prepared in advance. can be reduced to Therefore, M.T.
It is possible to reduce the size of storage devices such as
A highly practical laser drawing device can be realized. Furthermore, by dividing the drawing area on the sample into a plurality of stripes for drawing, it is possible to shorten the beam scanning width by the polygon mirror, thereby improving drawing accuracy. Furthermore, if the drawing accuracy is kept the same, there is an effect that a larger sample can be directly drawn.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図乃至第8図はそれぞれ本発明の第1の実施例を説
明するためのもので第1図は基本構成を示す図、第2図
は描画装置本体の概略構成を示す斜視図、第3図は試料
ステージの構造を示す側断面図、第4図は試料ステージ
の構造を示す平面図、第5図は描画装置本体内の制御部
の回路構成を示すブロック図、第6図は全体のIIJ 
IIJ系の回路構成を示すブロック図、第7図は幾何学
的パターンデータの一例を示す模式図、第8図はデータ
変換作用を説明するための模式図、第9図は描画状態を
示す模式図、第10図乃至第12図はそれぞれ第2の実
施例を説明するためのもので第10図は描画装置本体の
概略構成を示す斜視図、第11図は描画装置内の制御部
の回路構成を示すプロ′ツク図、第12図は全体の制御
系の回路構成を示すブロック図、第13図は第3の実施
例を説明するためのシステムブロック図、第14図及び
第15図はそれぞれ変形例を説明するための図である。 lCL・−・レーザ描画装置本体、11・・・試料ステ
ージ、12・・・試料、16・・・モータ(ステージド
ライバ)、21・・・レーザ発振器、22・・・第1の
AO素子(ブランキング手段)、23・・・拡散レンズ
、24・・・第2のAO素子(上下切換え手段)、25
・・・集束ミラー、26・・・ポリゴンミラー、27・
・・Fθレンズ、28・・・対物ミラー、50・・・制
御系、51・・・CPU、52・・・MT、53・・・
ディスクユニット、54・・・DMAユニット、55・
・・↓メモリ、56・・・ステージシーケンスユニット
、57・・・AOクシ−ンスユニット、61・・・デー
タ変換部、62・°・バッファメモリ部、63・・・シ
フトレジスタ、67・・・各種補正量制御ユニット。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図 第3図 第5図 第7図 第8図 第9図 第13図 第”15図
1 to 8 are for explaining the first embodiment of the present invention. FIG. 1 is a diagram showing the basic configuration, FIG. 2 is a perspective view showing the schematic configuration of the main body of the drawing device, and FIG. Figure 3 is a side cross-sectional view showing the structure of the sample stage, Figure 4 is a plan view showing the structure of the sample stage, Figure 5 is a block diagram showing the circuit configuration of the control section within the main body of the lithography apparatus, and Figure 6 is the overall diagram. IIJ
A block diagram showing the circuit configuration of the IIJ system, Fig. 7 is a schematic diagram showing an example of geometric pattern data, Fig. 8 is a schematic diagram to explain the data conversion action, and Fig. 9 is a schematic diagram showing the drawing state. 10 to 12 are for explaining the second embodiment, respectively. FIG. 10 is a perspective view showing a schematic configuration of the main body of the drawing device, and FIG. 11 is a circuit of the control section in the drawing device. FIG. 12 is a block diagram showing the circuit configuration of the entire control system, FIG. 13 is a system block diagram for explaining the third embodiment, and FIGS. 14 and 15 are FIG. 6 is a diagram for explaining each modification. lCL -- Laser drawing device main body, 11 -- Sample stage, 12 -- Sample, 16 -- Motor (stage driver), 21 -- Laser oscillator, 22 -- First AO element (block) ranking means), 23... diffusion lens, 24... second AO element (up/down switching means), 25
...Focusing mirror, 26...Polygon mirror, 27.
...Fθ lens, 28...Objective mirror, 50...Control system, 51...CPU, 52...MT, 53...
Disk unit, 54... DMA unit, 55...
...↓Memory, 56...Stage sequence unit, 57...AO sequence unit, 61...Data converter, 62...Buffer memory section, 63...Shift register, 67... Various correction amount control units. Applicant's Representative Patent Attorney Takehiko Suzue Figure 1 Figure 3 Figure 5 Figure 7 Figure 8 Figure 9 Figure 13 Figure 15

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)試料ステージ上に配置された試料にレーザビーム
を照射して該試料上に所望のパターンを描画するレーザ
描画・装置において、前記ステージを一方向に連続移動
すると共にこれと直交する方向にステップ移動する手段
と、レーザ発振器からのレーザビームを反射し該反射ビ
ームを前記試料上に照射するポリゴンミラーと、このポ
リゴンミラーを回転せしめ上記反射ビームを前記ステー
ジの移動方向と略直交する方向に走査する手段と、前記
試料上に描画すべき図形の幾何学的パターンデータを記
憶する記憶手段と、この記憶されたパターンデータを(
1、0)のブランキングデータに変換するデータ変換部
と、この変換されたブランキングデータを格納する複数
のバッファメモリと、これらのメモリのいずれかを選択
し該メモリに格納されたブランキングデータに基づいて
前記試料上に照射されるビームをブランキングする手段
とを具備し、前記試料上の描画領域を該試料上でのレー
ザビームの走査幅で決まる短冊状の複数のストライプに
分割し、これらのストライプ毎に順次描画を行うことを
特徴とするレーザ描画装置。
(1) In a laser drawing device that irradiates a sample placed on a sample stage with a laser beam to draw a desired pattern on the sample, the stage is continuously moved in one direction and in a direction perpendicular to this. means for stepwise movement; a polygon mirror for reflecting a laser beam from a laser oscillator and irradiating the reflected beam onto the sample; and rotating the polygon mirror to direct the reflected beam in a direction substantially perpendicular to the moving direction of the stage. a scanning means, a storage means for storing geometric pattern data of a figure to be drawn on the sample, and a storage means for storing the stored pattern data (
1, 0), a plurality of buffer memories that store the converted blanking data, and blanking data that is selected from one of these memories and stored in the memory. means for blanking the beam irradiated onto the sample based on the method, and dividing the drawing area on the sample into a plurality of rectangular stripes determined by the scanning width of the laser beam on the sample; A laser drawing device characterized by sequentially drawing these stripes.
(2)前記バッファメモリは1つのストライプにおける
前記レーザビームの走査の複数ラインに相当する幅の領
域のパターンデータを前記データ変換部によりデータ変
換したブランキングデータを格納するものであり、所定
のメモリに格納されたブランキングデータを読出して描
画している間に、他のメモリに前記データ変換部で変換
されたブランキングデータを格納することを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載のレーザ描画装置。
(2) The buffer memory stores blanking data obtained by data converting pattern data of an area having a width corresponding to a plurality of lines of scanning of the laser beam in one stripe by the data conversion unit, and 2. The laser according to claim 1, wherein the blanking data converted by the data converter is stored in another memory while the blanking data stored in the laser is being read out and drawn. drawing device.
(3)前記ポリゴンミラーはそれぞれ前記試料の上面及
び下面にレーザビームを照射するものとして2組設けら
れ、いずれかのポリゴンミラーを選択して試料の上面或
いは下面に所望パターンを描画することを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載のレーザ描画装置。
(3) Two sets of polygon mirrors are provided to irradiate the upper and lower surfaces of the sample with laser beams, and one of the polygon mirrors is selected to draw a desired pattern on the upper or lower surface of the sample. A laser drawing apparatus according to claim 1.
(4)前記試料ステージの連続移動の送り時に試料の上
面を描画し、試料ステージの戻り時に試料の下面を描画
することを特徴とする特許請求の範囲第3項記載のレー
ザ描画装置。
(4) The laser drawing apparatus according to claim 3, wherein the upper surface of the sample is drawn during continuous movement of the sample stage, and the lower surface of the sample is drawn when the sample stage returns.
(5)前記ポリゴンミラー及びブランキング手段はそれ
ぞれ前記試料の上面及び下面にレーザビームを照射する
ものとして2組設けられ、さらに前記バッファメモリも
上記ブランキング手段に応じて2組設けられ、前記試料
の上面及び下面に同時に所望パターンを描画することを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載のレーザ描画装置
(5) Two sets of the polygon mirror and the blanking means are provided to irradiate the upper and lower surfaces of the sample with laser beams, and two sets of the buffer memories are also provided according to the blanking means, 2. A laser drawing apparatus according to claim 1, wherein a desired pattern is drawn simultaneously on an upper surface and a lower surface of the laser drawing apparatus.
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