JPH0666248B2 - Beam scanning drawing device - Google Patents

Beam scanning drawing device

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JPH0666248B2
JPH0666248B2 JP15082186A JP15082186A JPH0666248B2 JP H0666248 B2 JPH0666248 B2 JP H0666248B2 JP 15082186 A JP15082186 A JP 15082186A JP 15082186 A JP15082186 A JP 15082186A JP H0666248 B2 JPH0666248 B2 JP H0666248B2
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JP
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data
work
cpu
beam scanning
control unit
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JP15082186A
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勝爾 田中
康伸 河内
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Shibaura Machine Co Ltd
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Toshiba Machine Co Ltd
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Publication date
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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ビームを走査して描画対象物上に所定パター
ンを描画等するビーム走査型描画装置に係り、特にデー
タフォーマット変換作業と変換されたフォーマットデー
タに基づく描画作業等を並行して処理できるようにした
ものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a beam scanning type drawing apparatus for scanning a beam to draw a predetermined pattern on an object to be drawn, and particularly to a data format conversion operation and conversion. The drawing work based on the format data can be processed in parallel.

〔背景技術とその問題点〕[Background technology and its problems]

近年、PCB(Print Circuit Board)等の試料に直接的に
パターンを描画するものとして、レーザビームや電子ビ
ーム等を利用したビーム走査型描画装置が開発されてい
る。この装置は、試料を一方向(Y走査方向)に連続移
動しながら、この移動方向と直交する方向(X走査方
向)にレーザビーム等を走査し、ビームのON−OFFを制
御するいわゆるブランキングすることにより、所定パタ
ーンを描画するものである。そして、大面積の試料であ
っても比較的短時間で描画できるという特徴を有してい
る。
2. Description of the Related Art In recent years, as a device for directly drawing a pattern on a sample such as a PCB (Print Circuit Board), a beam scanning drawing device using a laser beam or an electron beam has been developed. This device scans a laser beam or the like in a direction (X scanning direction) orthogonal to this moving direction while continuously moving the sample in one direction (Y scanning direction), and controls so-called blanking of the beam. By doing so, a predetermined pattern is drawn. Further, it has a feature that even a large-area sample can be drawn in a relatively short time.

ここに、従来のビーム走査型描画装置の一例を第5図を
参照して説明する。ビーム走査型描画装置は装置本体80
と制御部100とから構成されている。すなわち、装置本
体80はArレーザ等のレーザビームを放射するレーザ光源
たるレーザ発振器81、ビームの光路を変える反射鏡82a,
82b、ビームをブランキングする音響光学変調器(以下A
OMと略記する)83、ビームを反射して試料90上でX方向
に操作するポリゴンミラー84、Fθレンズ85、シリンド
リカルレンズ86、対物ミラー87および試料90を載置する
試料ステージ91等から構成されている。
Here, an example of a conventional beam scanning drawing apparatus will be described with reference to FIG. Beam scanning type drawing device is the device body 80
And a control unit 100. That is, the device body 80 is a laser oscillator 81 that is a laser light source that emits a laser beam such as an Ar laser, a reflecting mirror 82a that changes the optical path of the beam,
82b, acousto-optic modulator for blanking the beam (hereinafter A
OM) 83, a polygon mirror 84 that reflects a beam and operates on the sample 90 in the X direction, an Fθ lens 85, a cylindrical lens 86, an objective mirror 87, and a sample stage 91 on which the sample 90 is mounted. ing.

ポリゴンミラー84は、第1モータ96により回転駆動され
るが、ポリゴンミラー84の回転軸には該ミラー84の回転
量を検出するロータリーエンコーダ99が設けられてい
る。試料90上にレーザビームを集束させるための対物ミ
ラー87は、X軸方向に傾斜固定化されている。試料ステ
ージ91は、第2のモータ98によりY走査方向に連続移動
されるものであり、試料ステージ91の下面側には、該ス
テージ91のY走査方向位置を検出する磁気スケール88お
よびこのスケール88と協働するセンサ89が設けられてい
る。また、Y走査方向に移動可能な試料ステージ91上に
は、PCB等の試料90が設置されている。
The polygon mirror 84 is rotationally driven by the first motor 96, and the rotary shaft of the polygon mirror 84 is provided with a rotary encoder 99 for detecting the amount of rotation of the mirror 84. The objective mirror 87 for focusing the laser beam on the sample 90 is tilted and fixed in the X-axis direction. The sample stage 91 is continuously moved in the Y scanning direction by the second motor 98, and on the lower surface side of the sample stage 91, a magnetic scale 88 for detecting the position of the stage 91 in the Y scanning direction and this scale 88. There is provided a sensor 89 cooperating with. A sample 90 such as a PCB is placed on a sample stage 91 that can move in the Y scanning direction.

一方、制御部100は、基本的にはCPU101、磁気テープ装
置102、磁気ディスク装置103、描画パターン処理回路10
4、走査制御回路108、駆動制御回路109および各種ドラ
イバ(以下DRVと略記する)111a,111bから構成されてい
る。描画パターン処理回路104は、ダイレクトメモリア
クセス回路(DMA)105、ビット変換回路106およびブラ
ンキング信号発生回路107からなるもので、CPU101から
の中間フォーマットデータであるパターンデータや走査
制御回路108から与えられるシフトクロック等に基づい
てマシン信号であるブランキング信号を発生する。そし
て描画パターン処理回路104で作られたブランキング信
号に基づいてDRV111aにより前記AOM83が駆動される。走
査制御回路108はエンコーダ99からのパルス信号に基づ
いてシフトクロックを発生するとともに、描画パターン
処理回路104に所定の制御指令を送出する。
On the other hand, the control unit 100 basically includes a CPU 101, a magnetic tape device 102, a magnetic disk device 103, and a drawing pattern processing circuit 10.
4, scan control circuit 108, drive control circuit 109, and various drivers (hereinafter abbreviated as DRV) 111a, 111b. The drawing pattern processing circuit 104 is composed of a direct memory access circuit (DMA) 105, a bit conversion circuit 106 and a blanking signal generation circuit 107, and is given from the pattern data which is intermediate format data from the CPU 101 and the scanning control circuit 108. A blanking signal, which is a machine signal, is generated based on a shift clock or the like. Then, the AOM 83 is driven by the DRV 111a based on the blanking signal generated by the drawing pattern processing circuit 104. The scanning control circuit 108 generates a shift clock based on the pulse signal from the encoder 99 and sends a predetermined control command to the drawing pattern processing circuit 104.

また、駆動制御回路109は各種モータを駆動制御するも
のであり、この回路109を入力したDRV111bにより前記モ
ータ96,98が駆動されるものとなっている。
Further, the drive control circuit 109 controls the drive of various motors, and the DRV 111b to which the circuit 109 is input drives the motors 96 and 98.

このように構成された従来のビーム走査型描画装置で
は、レーザ発振器81から放射されたレーザビームは、反
射ミラー82aで反射された後ビームブランキングのため
のAOM83に照射される。ポリゴンミラー84で反射された
レーザビームは、Fθレンズ85およびシリンドリカルレ
ンズ86を通り、さらに対物ミラー87で反射されて前記試
料90の上面に照射結合されるものとなっている。
In the conventional beam scanning type drawing apparatus configured as described above, the laser beam emitted from the laser oscillator 81 is reflected by the reflection mirror 82a and then radiated to the AOM 83 for beam blanking. The laser beam reflected by the polygon mirror 84 passes through the Fθ lens 85 and the cylindrical lens 86, is further reflected by the objective mirror 87, and is irradiated and coupled to the upper surface of the sample 90.

ところで、磁気テープ装置102に記憶されたソースデー
タであるところのCADデータがCPU101で中間フォーマッ
トデータに変換され磁気ディスク装置103に描画待ちデ
ータとして格納される。そして描画パターン処理回路10
4には、一旦CPU101のメモリーに読み込まれ、その後DMA
バス110を介してPCBの中間フォーマットデータであるパ
ターンデータがCPU101から与えられ、かつポリゴンミラ
ー84に直結されたロータリエンコーダ99の回転に基づい
たシフトクロックが走査制御回路108から与えられてい
る。
By the way, the CAD data, which is the source data stored in the magnetic tape device 102, is converted into intermediate format data by the CPU 101 and stored in the magnetic disk device 103 as drawing waiting data. And the drawing pattern processing circuit 10
4, once loaded into the memory of CPU 101, then DMA
Pattern data, which is intermediate format data of the PCB, is given from the CPU 101 via the bus 110, and a shift clock based on the rotation of the rotary encoder 99 directly connected to the polygon mirror 84 is given from the scan control circuit 108.

従って、描画パターン処理回路104のブランキング信号
発生回路107から発生されたマシンデータに基づくブラ
ンキング信号によってAOM83はレーザ発振器81からのレ
ーザビームをブランキングすることができる。一方、試
料90を載置するステージ91はモータ98、駆動制御回路10
9を介し走査制御回路108からの出力信号に基づいてポリ
ゴンミラー84の回転と同調されつつY走査方向に移動制
御させる。
Therefore, the AOM 83 can blank the laser beam from the laser oscillator 81 by the blanking signal based on the machine data generated from the blanking signal generation circuit 107 of the drawing pattern processing circuit 104. On the other hand, the stage 91 on which the sample 90 is placed is a motor 98, a drive control circuit 10
Based on the output signal from the scanning control circuit 108 via 9, the movement of the polygon mirror 84 is controlled in the Y scanning direction while being synchronized with the rotation of the polygon mirror 84.

このようにして、前記試料90上に照射されるレーザビー
ムは、試料ステージ91の移動方向(Y走査方向)および
直交するX軸方向に一定角傾斜されたX走査方向に走査
されるものてなっている。
In this way, the laser beam emitted onto the sample 90 is scanned in the X scanning direction which is inclined at a constant angle in the X axis direction orthogonal to the moving direction (Y scanning direction) of the sample stage 91. ing.

かくして、試料90上には、ラスタスキャン方式で前記パ
ターンデータに基づく所定のパターンが描かれる。ここ
にCAD等により作成されたソースデータから中間フォー
マットデータであるパターンデータを用意することによ
って準備すべきデータ量を大幅に削減しつつ高精度な描
画を短時間で行い生産性を高めることができた。なお、
描画された所定のパターンを検査する検査装置の場合に
ついても同様にして行われるが描画の場合と重複するの
で説明は省略する。
Thus, a predetermined pattern based on the pattern data is drawn on the sample 90 by the raster scan method. By preparing pattern data that is intermediate format data from source data created by CAD etc. here, it is possible to significantly reduce the amount of data to be prepared and to perform highly accurate drawing in a short time to improve productivity. It was In addition,
The same applies to the case of the inspection device that inspects the drawn predetermined pattern, but since it overlaps with the case of the drawing, the description is omitted.

しかしながら、所定のパターンを描画および/または描
画された所定のパターンを検査する上記従来のビーム走
査型描画装置では上記従来例に示したように一旦ソース
データを中間フォーマットデータに変換するか否かに拘
らずソースデータからマシンデータに変換するためのい
わゆるデータ準備作業が複雑かつ膨大となり時間的負担
増大はもとより設備経済、運用経済さらには設置スペー
スが過大となりその普及が妨げられるという問題があっ
た。この問題は、高密度描画等が要請される現今におい
て重大な技術的問題とクローグアップされてきた。
However, in the above-mentioned conventional beam scanning type drawing apparatus which draws a predetermined pattern and / or inspects the drawn predetermined pattern, whether the source data is once converted into the intermediate format data as shown in the above-mentioned conventional example. Regardless, the so-called data preparation work for converting the source data into the machine data is complicated and enormous, and there is a problem that not only the time burden increases, but also the facility economy, the operating economy, and the installation space become excessive, which hinders its spread. This problem has been clogged up as a serious technical problem at present when high-density drawing is required.

すなわち、描画装置が直接利用することのできるいわゆ
るマシンデータは当該描画装置等の固有的データである
からその機種によってまちまちである。上記従来例の場
合いはビットパターンデータであるがその機種によって
はビデオイメージデータ等の如く変化する。しかもマシ
ンデータとしては装置の運転シーケンスに合致した配列
となっていなければならない。したがって、一般的にCA
Dデータとして供給されるソースデータは多角形の論郭
を有する図形表現形式であったり、特定形状のアパーチ
ャの指定とそのアパーチャの移動軌跡を示すベクタ表現
形式であったりするから、所定パターンのイメージ化さ
れたマシンデータに変換すると、そのデータ量が数十倍
から数百倍に増大することになる。したがって、上記第
5図に示す従来装置において第6図(A)に見られるよ
うに5種類のデータ準備作業を終了してから連続的に描
画するいわゆるバッチシステムを採用すると長大なデー
タ準備作業時間T中だけ描画することができず全体と
して極めて生産能率の悪いものとなる。これは第6図
(B)に示す並行処理システムとした場合にも多少の進
歩はみられるもののプログラム等を複雑化する割りには
実効が低い。データ準備作業時間(TR1〜TR5)には上
記Tと基本的にと変わらないからである。これに対し
て、データ準備作業のみすなわちデータフォーマット変
換、レイアウト、データ検証等のみを一台の計算機に集
約させこれに複数台の描画装置等を接続させるシステム
(第7図参照)が考えられるが、これとて接続された描
画装置等を連続的に稼動させるためには計算機が大型と
なるばかりで根本的対策といえない。また生産計画の変
動により特に低い稼動率の場合には却って設備経済、運
用経済を一層不利とする事態を生じじさせた。もとよ
り、各描画装置等ごとに準備作業を専用に行う計算機を
備えることは上記設備や設置スペースの問題を劣悪化す
るだけで実用的ではない。
That is, the so-called machine data that can be directly used by the drawing device is unique data of the drawing device and the like, and therefore varies depending on the model. In the case of the above-mentioned conventional example, it is bit pattern data, but it changes like video image data depending on the model. Moreover, the machine data must have an arrangement that matches the operation sequence of the device. Therefore, generally CA
The source data supplied as D data may be in a graphic representation format that has a polygonal contour, or in a vector representation format that specifies the aperture of a specific shape and the movement locus of the aperture. When converted to computerized machine data, the amount of data increases from several tens of times to several hundreds of times. Therefore, as shown in FIG. 6 (A) in the conventional apparatus shown in FIG. 5, if a so-called batch system in which five kinds of data preparation work are completed and then continuously drawn is adopted, a long data preparation work time is required. T in R only becomes a bad thing extremely production efficiency as a whole can not be drawn. Even if the parallel processing system shown in FIG. 6 (B) is used, this is somewhat effective, but it is not so effective in complicating the program. Data preparation time (T R1 ~T R5) is because no different to the T R basically. On the other hand, a system (see FIG. 7) is conceivable in which only data preparation work, that is, data format conversion, layout, data verification, and the like are integrated into one computer and a plurality of drawing devices are connected to the computer. However, in order to continuously operate the drawing device and the like connected to it, the computer only becomes large in size and cannot be said to be a fundamental measure. In addition, due to fluctuations in the production plan, it caused a situation in which the facility economy and the operating economy were rather disadvantageous especially when the operating rate was low. Of course, it is not practical to equip each drawing device or the like with a computer dedicated to the preparatory work, since it only worsens the problems of the above equipment and installation space.

なお、以上の問題は、ソースデータから直接的にマシン
データに変換する場合、ソースデータから1または複数
段階の中間フォーマットデータに変換した後に改めてマ
シンデータとする場合にも生ずる共通的欠点である。
The above problem is a common defect that occurs when the source data is directly converted into the machine data, and when the source data is converted into the intermediate format data of one or a plurality of stages and then again converted into the machine data.

〔発明の目的〕[Object of the Invention]

本発明は、データ準備作業と描画等作業とを並行処理す
ることによって設備経済、運用経済等を飛躍的に向上さ
せることのできるビーム走査型描画装置を提供すること
にある。
It is an object of the present invention to provide a beam scanning type drawing apparatus capable of dramatically improving equipment economy, operation economy and the like by processing data preparation work and drawing work in parallel.

〔問題点を解決するための手段および作用〕[Means and Actions for Solving Problems]

本発明は上記従来問題点を除去すべく鑑みなされたもの
でビームを走査して描画対象物上に所定パターンを描画
および/または描画された所定パターンを検査する装置
本体と、ソースデータおよび制御プログラム等を記憶す
る外部記憶手段と、前記外部記憶手段に記憶された2以
上のプログラムを同時にロードできる主記憶装置と、こ
の主記憶装置を共有する複数のCPUと、これらのCPUの負
荷を均等化するためのシステム制御部と、いずれかの前
記CPUの指示により前記装置本体を制御するとともに各C
PUの負荷軽減を行うための分散プロセッサと、前記シス
テム制御部と前記主記憶装置と前記各CPUと前記分散プ
ロセッサとの間をそれぞれ接続する高速バスとを含み形
成されたマルチブロセッサと、を備え前記ソースデータ
を前記装置本体の固有的フォーマットデータに変換する
データフォーマット変換作業と前記装置本体の描画作業
および/または検査作業とを並行処理できるよう構成し
前記目的を達成したのである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in consideration of the above conventional problems, and an apparatus main body for scanning a beam to draw a predetermined pattern on an object to be drawn and / or inspecting the drawn predetermined pattern, source data, and a control program. And the like, a main storage device capable of simultaneously loading two or more programs stored in the external storage device, a plurality of CPUs sharing this main storage device, and loads of these CPUs are equalized. And a system control unit for controlling each of the C
A distributed processor for reducing the load on the PU, and a multiprocessor formed including the system control unit, the main storage device, a high-speed bus connecting the CPU and the distributed processor, respectively. The object is achieved by being configured so that the data format conversion work for converting the source data into the unique format data of the device body and the drawing work and / or the inspection work of the device body can be processed in parallel.

したがって、マルチプロセッサに外部記憶手段と装置本
体とを接続した構成であるので、外部記憶手段に記憶さ
れたプログラムが主記憶装置にロードされ、このプログ
ラムに基づいてシステム制御部で負担均等化された複数
のCPUを作動させるとともに分散プロセッサを介し装置
本体を運転できるからデータ準備作業と描画作業とを同
時に並列処理できる。したがって、長大なデータ準備作
業時間を必要とする場合であっても描画作業を連続して
実行することができるので生産性を高めることができ
る。
Therefore, since the external storage means and the apparatus main body are connected to the multiprocessor, the program stored in the external storage means is loaded into the main storage device, and the load is equalized by the system control unit based on the program. Since multiple CPUs can be operated and the main body of the device can be operated via a distributed processor, data preparation work and drawing work can be processed in parallel at the same time. Therefore, even when a long data preparation work time is required, the drawing work can be continuously executed, so that the productivity can be improved.

〔実施例〕〔Example〕

本発明に係るビーム走査型描画装置の実施例について図
面を参照しながら説明する。
An embodiment of a beam scanning drawing apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings.

実施例は第1図〜第4図に示され、ビーム走査型描画装
置は、マルチプロセッサ10、外部記憶手段20、操作監視
手段30、インターフェイス40および装置本体80から構成
されている。
The embodiment is shown in FIGS. 1 to 4, and the beam scanning drawing apparatus comprises a multiprocessor 10, an external storage means 20, an operation monitoring means 30, an interface 40 and an apparatus main body 80.

ここに、マルチプロセッサ10は、同時に2つ以上にプロ
グラムをロードできる主記憶装置11と、オペレーティン
グシステムの核部分をファームウェア化して応答時間の
高速化を図るシステム制御部12と、高速バス110,システ
ム制御部12を介して主記憶装置11を共有する4つのCPU1
01(101a,101b,101c,101d)の負荷は、システム制御部1
2の待行列制御やタスク切換制御によって均等化され、C
PU101は全体として能率良く機能されるよう構成されて
いる。
Here, the multiprocessor 10 includes a main storage device 11 that can load two or more programs at the same time, a system control unit 12 that speeds up response time by converting the core of the operating system into firmware, a high-speed bus 110, and a system. Four CPUs 1 that share the main storage device 11 via the control unit 12
The load of 01 (101a, 101b, 101c, 101d) is the system control unit 1
Equalized by queuing control and task switching control of 2, C
The PU 101 is configured to function efficiently as a whole.

外部記憶手段20は、前記従来例の場合と同様な磁気テー
プ装置102と、プログラムエリアに制御プログラムのほ
か複数のデータ準備プログラムを常駐できる磁気ディス
ク装置103とから形成され、ソースデータ、このソース
データからマルチプロセッサ10を介し変換された中間フ
ォーマットデータを、描画待データとして記憶するもの
である。
The external storage means 20 is composed of a magnetic tape device 102 similar to the case of the conventional example, and a magnetic disk device 103 capable of resident a plurality of data preparation programs in addition to a control program in the program area. The intermediate format data converted through the multiprocessor 10 is stored as drawing waiting data.

また、操作監視手段30は、分散プロセッサ17bを介して
そのマルチプロセッサ10にオペレータが指令等をなすた
めのものでコンソール31とグラフィックディスプレイ32
とから形成されている。
The operation monitoring means 30 is used by the operator to issue commands to the multiprocessor 10 via the distributed processor 17b, and the console 31 and the graphic display 32 are provided.
It is formed from and.

装置本体80は前出第5図に示した従来の装置本体と同一
のものであるから構成の説明は省略する。なお、前出第
5図に示した従来の制御部100に含まれる描画パターン
処理回路104、操作制御回路108、駆動制御回路109およ
びドライバ111a,111b等はこの実施例では装置構成上の
便宜からインターフェース40に設けられ、またインター
フェース40にはその他のデジタル回路、アナログ回路等
が備えられている。
Since the device body 80 is the same as the conventional device body shown in FIG. 5, the description of the configuration is omitted. It should be noted that the drawing pattern processing circuit 104, the operation control circuit 108, the drive control circuit 109, the drivers 111a and 111b, etc. included in the conventional control unit 100 shown in FIG. The interface 40 is provided, and the interface 40 is provided with other digital circuits, analog circuits, and the like.

次に、このように構成されたビーム走査型装置1の作用
を説明する。
Next, the operation of the beam scanning type device 1 configured as described above will be described.

まず、操作監視手段30のコンソール31等を操作して外部
記憶手段20の磁気ディスク装置103からオペレーティン
グシステムプログラムをマルチプロセッサ10の主記憶装
置11にロードし、同様にして装置制御プログラム、デー
タ準備プログラム等をもロードさせる。なお、磁気ディ
スク装置103にはプログラムエリアの他にデータエリア
が設けられ、当該プログラムにより中間フォーマットデ
ータがロードされ、また適時にこれが読み出される。
First, the operating system program is loaded from the magnetic disk device 103 of the external storage means 20 into the main storage device 11 of the multiprocessor 10 by operating the console 31 or the like of the operation monitoring means 30, and similarly, the device control program and the data preparation program. Etc. are also loaded. Incidentally, the magnetic disk device 103 is provided with a data area in addition to the program area, and the intermediate format data is loaded by the program and read out at appropriate times.

さて、上記制御プログラムは、描画作業の全シーケンス
を統括制御するものであるが、大別して駆動機能とデー
タ転送機能とを有する。駆動機能は本体装置80の第1モ
ータ96等を駆動するもので、具体的にはインターフェー
ス40にCPU101からマクロ命令として指令される。また、
データ転送機能とは描画作業の進行に合わせて、必要な
データを磁気ディスク装置103から主記憶装置11に読取
り、かつ読取りデータをインターフェース40に転送する
機能である。なお、CPU101内でソフト的あるいはインタ
ーフェース40内でハード的なデータ変換をリアルタイム
で処理する機能をも含むものである。
The control program, which controls the entire drawing work sequence, has roughly a drive function and a data transfer function. The drive function is to drive the first motor 96 and the like of the main body device 80, and specifically, the interface 40 is instructed by the CPU 101 as a macro command. Also,
The data transfer function is a function of reading necessary data from the magnetic disk device 103 to the main storage device 11 and transferring the read data to the interface 40 as the drawing work progresses. The CPU 101 also has a function of processing data conversion in software in the CPU 101 or hardware in the interface 40 in real time.

さて、本発明の特徴的技術事項の一つであるデータ準備
作業は次のように実行される。この実施例では、前記従
来装置と同様に描画パターン処理回路104のブランキン
グ信号発生回路107(インターフェース40に収容)から
出力されるブランキング信号(1,0)で装置本体80のAOM
83を制御して描画するものとされ、ブランキング信号は
第2図(D)に示すように上辺と下辺が平行な台形の図
形表現形式のマシンデータからビット変換回路106を介
し形成される。
Now, the data preparation work, which is one of the characteristic technical matters of the present invention, is executed as follows. In this embodiment, the blanking signal (1,0) output from the blanking signal generation circuit 107 (accommodated in the interface 40) of the drawing pattern processing circuit 104 is used in the AOM of the apparatus main body 80 as in the conventional apparatus.
The blanking signal is formed from the machine data in the trapezoidal graphic representation format in which the upper side and the lower side are parallel to each other through the bit conversion circuit 106 as shown in FIG. 2D.

しかし、第2図(A)または(B)に示したような幾何
学的フォーマットデータであるソースデータから本装置
の固有のマシンデータに一気に変換することは至難であ
り設備容量等からしても現実性に欠ける。そこで、第2
図(A)または(B)に示すフォーマットのソースデー
タを磁気テープ装置102から読取りCPU101において第2
図(C)に見られるような中間フォーマットデータに変
換している。すなわち、ソースデータの1つ1つを正方
形のエリア(セル)で仕切ってブロック化し、こうして
仕切られた各切断片を該当するセル番地Cijに分配する
ことによって中間フォーマットデータに変換している。
続いて、この中間フォーマットデータを第2図(D)に
示す図形表現形式の台形状のマシンデータに変換する。
たとえば、同(C)に示す中間フォーマットデータの1
つであるセル(Cmn)は、X1=0,X2=0と指定すること
によってマシンデータ(X=l1,Y=h)に変換される。
したがって、セルによってはさらに分割してマシンデー
タに変換する必要がある場合もあるが基本的には上記場
合と同じである。なお、第2図(A)のソースデータで
は、矩形を(X,Y),θ,h,lと規定し、(B)の場合
は、同一の矩形をP1(X1,Y1),P2(X2,Y2),P3(X3,
Y3),P4(X4,Y4)で規定されているものとした。
However, it is extremely difficult to convert the source data, which is the geometric format data as shown in FIG. 2 (A) or (B), into the machine data specific to the apparatus at once, and even from the viewpoint of the equipment capacity and the like. It lacks in reality. Therefore, the second
The source data having the format shown in FIG.
It is converted into intermediate format data as shown in FIG. That is, each of the source data is divided into square areas (cells) to be divided into blocks, and the cut pieces thus divided are distributed to the corresponding cell addresses C ij to be converted into intermediate format data.
Subsequently, the intermediate format data is converted into trapezoidal machine data in the graphic representation format shown in FIG.
For example, 1 of the intermediate format data shown in (C)
The cell (C mn ) which is one is converted into machine data (X = 11 , Y = h) by designating X 1 = 0 and X 2 = 0.
Therefore, depending on the cell, it may be necessary to further divide and convert into machine data, but basically it is the same as the above case. In the source data of FIG. 2 (A), the rectangle is defined as (X, Y), θ, h, l, and in the case of (B), the same rectangle is P 1 (X 1 , Y 1 ). , P 2 (X 2 , Y 2 ), P 3 (X 3 ,
Y 3 ), P 4 (X 4 , Y 4 ).

このようにしてデータフォーマット変換が行われる。In this way, the data format conversion is performed.

続いて、レイアウトとデータ検証が行われる。レイアウ
トは上記フォーマットに変換されたマシンデータを読出
して所定の配列をし、装置の運転シーケンスに合致させ
た順序でビット変換回路106に出力できるよう行列配置
するもので第3図に示すよう行われる。すなわち、中間
フォーマットから変換された第3図(A)のマシンデー
タA,B,…Fを第3図(B)に示す如く配列し、運転シー
ケンスに合わせた順序で読み出すようにする。さらに、
レイアウトされたマシンデータはレイアウト作業等の正
否を含みソースデータに適合するかどうか所定のプログ
ラムによって自動検証される。なお、この実施例ではグ
ラアフィックディスプレイ32に表示して目視判断するこ
ともできるよう形成されている。
Subsequently, layout and data verification are performed. The layout is such that the machine data converted into the above-mentioned format is read out, arranged in a predetermined manner, and arranged in a matrix so that the data can be output to the bit conversion circuit 106 in an order matched with the operation sequence of the apparatus, and is performed as shown in FIG. . That is, the machine data A, B, ... F of FIG. 3 (A) converted from the intermediate format are arranged as shown in FIG. 3 (B) and are read out in the order according to the operation sequence. further,
The laid-out machine data is automatically verified by a predetermined program whether it includes the correctness of the layout work or the like and conforms to the source data. In this embodiment, it is formed so that it can be displayed on the graphic display 32 and visually judged.

以上のソースデータから中間フォーマットデータに変換
するフォーマット変換、データレイアウトおよびデータ
検証を含みデータ準備作業がなされる。
Data preparation work including format conversion for converting the above source data into intermediate format data, data layout and data verification is performed.

また、描画作業はマルチプロセッサ10からの指令に基づ
きインターフェース40を介し装置本体80によって行われ
る。但し、前記の通りシステム構成上描画パターン処理
回路104、走査制御回路108、駆動制御回路109等がイン
ターフェース40に収容されているが描画作業そのものは
前出第5図に示した従来のビーム走査型装置1の場合と
同じなのでその詳細説明は省略する。
The drawing work is performed by the apparatus main body 80 via the interface 40 based on a command from the multiprocessor 10. However, although the drawing pattern processing circuit 104, the scanning control circuit 108, the drive control circuit 109 and the like are accommodated in the interface 40 in the system configuration as described above, the drawing operation itself is the conventional beam scanning type shown in FIG. Since it is the same as the case of the device 1, detailed description thereof is omitted.

ここに、本実施例では、外部記憶手段20からロードされ
あるいは読取った制御プログラムや諸データに基づきシ
ステム制御部12で4つのCPU101の各負担を均等化しつつ
分散プロセッサ17a,17bを介しデータ準備作業と描画作
業とが効率良く並行処理される。
Here, in this embodiment, the system control unit 12 equalizes the loads of the four CPUs 101 based on the control programs and various data loaded or read from the external storage means 20, and the data preparation work is performed via the distributed processors 17a and 17b. And drawing work are efficiently processed in parallel.

したがって、この第1実施例によれば、高速バス110で
接続された4つのCPU101(101a,101b,101c,101d)を共
有しかつこれらの負担均等化を司るシステム制御部12を
備えたマルチプロセッサ10によりデータ準備作業と描画
作業を同時に並行処理できるから長大なデータ準備作業
時間だけ描画作業を停止させる必要がないので生産能率
を飛躍的に向上させることができる。換言すれば、前出
第5図に示した従来構成のビーム走査型描画装置1の処
理能力に対し約3.2倍の処理能力を有するものとするこ
とができる。このことは、前出第5図のビーム走査型描
画装置1におけるCPU101、磁気テープ装置102および磁
気ディスク装置103等を備えたコンピュータを3台設置
した場合に対してこの実施例の場合には磁気テープ装置
102、磁気ディスク装置103は各1台でよいなどの構成
上、システム価値を1/2以下とすることができ、汎用
コンピュータを例とすれば設置スペースも1/2.5と狭
小化できるばかりか運転コストも1/2.5以下にするこ
とができるという効果を奏するものである。さらに、3
台のコンピュータと1台の装置本体80との組合わせの場
合には各コンピュータ間でのデータ転送やその操作が要
となるが本実施例のマルチプロセッサ10を含み形成した
場合にはその操作はもとよりデータ転送時間が不必要と
なるので、この点からも高速処理が可能となり生産効率
を高めることが理解される。
Therefore, according to the first embodiment, the multiprocessor including the system control unit 12 that shares the four CPUs 101 (101a, 101b, 101c, 101d) connected by the high-speed bus 110 and manages the equalization of the loads of these CPUs. With 10, data preparation work and drawing work can be processed in parallel at the same time, so there is no need to stop the drawing work for a long time of data preparation work, which can dramatically improve the production efficiency. In other words, the beam scanning drawing apparatus 1 having the conventional configuration shown in FIG. 5 can have a processing capacity about 3.2 times as large as that of the conventional beam scanning drawing apparatus 1. This is because in the case of this embodiment, the beam scanning type drawing apparatus 1 shown in FIG. 5 has three computers equipped with the CPU 101, the magnetic tape unit 102, the magnetic disk unit 103, etc. Tape device
The system value can be reduced to 1/2 or less due to the configuration such that each of the 102 and the magnetic disk device 103 can be one unit, and if a general-purpose computer is taken as an example, the installation space can be reduced to 1 / 2.5 and it can be operated. The cost can be reduced to 1 / 2.5 or less. Furthermore, 3
In the case of a combination of one computer and one device main body 80, data transfer between the computers and its operation are required. However, when the multiprocessor 10 of the present embodiment is included and formed, the operation is performed. It is understood that the data transfer time is unnecessary and the high speed processing is possible and the production efficiency is improved from this point.

また、中間データはセル番地により特定するフォーマッ
トとしているから描画待データとして少ないデータ量で
磁気ディスク装置103に記憶できるから磁気ディスク装
置103自体を小型化できるほかその読取時間を短縮化す
ることができる。この点からも高速性と設備簡素化を図
るのに有効である。
Further, since the intermediate data has a format specified by the cell address, it can be stored in the magnetic disk device 103 with a small amount of data as drawing waiting data, so that the magnetic disk device 103 itself can be downsized and its reading time can be shortened. . From this point as well, it is effective in achieving high speed and simplification of equipment.

データ準備作業のレイアウトのもう1つの例を第4図に
示す。第4図(A)に示されたフォーマット変換ずみの
マシンデータC,A,Bを第4図(B)の如くA+C,B+Cと
合併してレイアウトを行う。すなわち、中間フォーマッ
トデータに変換することによってソースデータを少いデ
ータ量でマシンデータとすることができる。一態様を示
すものである。
Another example of the layout of the data preparation work is shown in FIG. The format-converted machine data C, A, B shown in FIG. 4 (A) is merged with A + C, B + C as shown in FIG. 4 (B) to perform layout. That is, the source data can be converted into machine data with a small data amount by converting the data into the intermediate format data. It shows one embodiment.

以上の実施例では、マルチプロセッサを4つのCPU101
(101a,101b,101c,101d)と2つの分散プロセッサ17a,1
7b等から構成したが、要はソースデータからマシンデー
タに変換するデータ準備作業と描画作業とを並列処理で
きればよいから複数であればその台数を限定するもので
はない。これは接続する装置本体80等の台数についても
同様に限定されるものではない。またインターフェース
40は従来例でいう制御部100の描画パターン処理回路10
4、走査制御回路108等を含むものとしたが、それらを別
個の制御部としデジタル回路、アナログ回路等の信号変
換機能を持たせるだけのものとしてもよい。
In the above embodiment, the multiprocessor has four CPUs 101.
(101a, 101b, 101c, 101d) and two distributed processors 17a, 1
Although it is configured from 7b and the like, the point is that the number of units is not limited as long as the data preparation work for converting the source data into the machine data and the drawing work can be processed in parallel. This is not limited to the number of connected device bodies 80 or the like. Also interface
Reference numeral 40 denotes the drawing pattern processing circuit 10 of the control unit 100 in the conventional example.
4, the scanning control circuit 108 and the like are included, but they may be separate control units and only have a signal conversion function such as a digital circuit and an analog circuit.

また、装置本体80は描画機能のみを有するものとして説
明したが検査機能を併有しまたは検査機能のみのものを
してもよく、要は、ソースデータから装置固有のマシン
データに変換し、そのマシンデータに基づいてビーム走
査する型のものであれば本発明が適用される。したがっ
て、その産業上の細区分的装置名称を例示すれば、ソー
スデータとしてのパターンデータを入力して直接そのパ
ターンを描画するものとして知られる電子ビームウエハ
描画装置,レーザプリント基板描画装置,転写装置を用
いて大量生産させる原版描画装置に属するものとしての
電子ビームマスク/レチクル描画装置、レーザレチクル
描画装置,レーザフィルム描画装置等が挙げられ、ま
た、上記と同じくCADシステム等からのソースデータあ
るいは描画装置からの出力されるパターンデータを入力
として当該描画装置で置かれた製品や原版の合否を対応
するパターンデータと比較検査するレチクル/マスク検
査装置,ウエハ検査装置,プリント基板検査装置,フィ
ルム検査装置等が挙げられる。なお、かかる検査装置の
場合には前記データ準備作業にはレポート作成出力便宜
のための検査整理や統計処理作業も含まれるものとす
る。
Further, the apparatus main body 80 has been described as having only the drawing function, but it may have an inspection function at the same time or may have only an inspection function. In short, the source data is converted into machine-specific machine data, The present invention can be applied to any type of beam scanning based on machine data. Therefore, to give an example of the industrial subdivided device names, an electron beam wafer drawing device, a laser printed circuit board drawing device, and a transfer device, which are known to input pattern data as source data and draw the pattern directly, An electron beam mask / reticle drawing device, a laser reticle drawing device, a laser film drawing device, and the like, which belong to the original drawing device to be mass-produced by using, are the source data from the CAD system or the like or the drawing device. A reticle / mask inspection device, a wafer inspection device, a printed circuit board inspection device, a film inspection device, etc., which receives the pattern data output from the device as an input and compares and inspects the acceptance / rejection of the product or original placed on the drawing device with the corresponding pattern data. Is mentioned. In the case of such an inspection device, the data preparation work includes inspection arrangement and statistical processing work for convenience of report creation and output.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明は、データ準備作業と描画作業や検査作業とを同
時に並列処理・実行できるからその生産性を飛躍的に向
上させるとともに設備経済、運転経済の軽減と設置スペ
ースの狭小化ができるという優れた効果を有する。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is excellent in that the data preparation work and the drawing work and the inspection work can be concurrently processed / executed at the same time, so that the productivity can be dramatically improved and the facility economy and the operating economy can be reduced and the installation space can be narrowed. Have an effect.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明に係るビーム走査型描画装置の第1実施
例を示す全体構成図、第2図は同じくデータ準備作業の
フォーマットデータ変換の内容説明図、第3図は同じく
データ準備作業のレイアウトの内容説明図、第4図は同
じく第2実施例の場合のレイアウトの内容説明図、第5
図は従来のビーム走査型描画装置の全体構成図、第6図
は従来のビーム走査型描画装置におけるデータ準備作業
と描画作業との関係説明図で(A)はバッチ処理型、
(B)は並行処理型の場合を示すものである。および第
7図はデータ準備作業専用の計算機を採用した場合のビ
ーム走査型描画装置の構成図。 1……ビーム走査型描画装置、10……マルチプロセッ
サ、11……主記憶装置、12……システム制御部、20……
外部記憶手段、30……操作監視手段、31……コンソー
ル、32……グラフィックディスプレイ、40……インター
フェース、80……装置本体、90……試料、100……制御
部、101……CPU、102……磁気テープ装置、103……磁気
ディスク装置、104……描画パターン処理回路、110……
高速バス。
FIG. 1 is an overall configuration diagram showing a first embodiment of a beam scanning type drawing apparatus according to the present invention, FIG. 2 is an explanatory view of the contents of format data conversion of the same data preparation work, and FIG. 3 is the same of the data preparation work. Layout contents explanatory drawing, FIG. 4 is a layout contents explanatory drawing in the case of the second embodiment, and FIG.
FIG. 6 is an overall configuration diagram of a conventional beam scanning type drawing apparatus, and FIG. 6 is an explanatory diagram of a relationship between data preparation work and drawing work in the conventional beam scanning type drawing apparatus, (A) is a batch processing type,
(B) shows a case of a parallel processing type. And FIG. 7 is a block diagram of a beam scanning type drawing apparatus when a computer dedicated to the data preparation work is adopted. 1 ... Beam scanning drawing device, 10 ... Multiprocessor, 11 ... Main memory device, 12 ... System control unit, 20 ...
External storage means, 30 ... Operation monitoring means, 31 ... Console, 32 ... Graphic display, 40 ... Interface, 80 ... Device body, 90 ... Sample, 100 ... Control unit, 101 ... CPU, 102 ...... Magnetic tape device, 103 ...... Magnetic disk device, 104 ...... Drawing pattern processing circuit, 110 ......
Express bus.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ビームを走査して描画対象物上に所定パタ
ーンを描画および/または描画された所定パターンを検
査する装置本体と、 ソースデータおよび制御プログラム等を記憶する外部記
憶手段と、 前記外部記憶手段に記憶された2以上のプログラムを同
時にロードできる主記憶装置と、この主記憶装置を共有
する複数のCPUと、これらのCPUの負荷を均等化するため
のシステム制御部と、いずれかの前記CPUの指示により
前記装置本体を制御するとともに各CPUの負荷軽減を行
うための分散プロセッサと、前記システム制御部と前記
主記憶装置と前記各CPUと前記分散プロセッサとの間を
それぞれ接続する高速バスと、を含み形成されたマルチ
プロセッサと、 を備え前記ソースデータを前記装置本体の固有的フォー
マットデータに変換するデータフォーマット変換作業と
前記装置本体の描画作業および/または検査作業とを並
行処理できるよう構成したことを特徴とするビーム走査
描画装置。
1. A device main body for scanning a beam to draw a predetermined pattern on an object to be drawn and / or inspecting the drawn predetermined pattern, an external storage means for storing source data, a control program, etc. A main storage device capable of simultaneously loading two or more programs stored in the storage means, a plurality of CPUs sharing this main storage device, and a system control unit for equalizing the loads on these CPUs. A distributed processor for controlling the apparatus body according to the instructions of the CPU and reducing the load on each CPU, and a high-speed connection for connecting the system control unit, the main storage device, and each CPU and the distributed processor, respectively. A multiprocessor including a bus; and a data processor for converting the source data into a format data specific to the device body. Beam scanning lithography apparatus, wherein a and Matto conversion work and drawing work and / or inspection work of the apparatus main body and configured to allow parallel processing.
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