JPS62246057A - Photographic processing device - Google Patents
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- JPS62246057A JPS62246057A JP9037486A JP9037486A JPS62246057A JP S62246057 A JPS62246057 A JP S62246057A JP 9037486 A JP9037486 A JP 9037486A JP 9037486 A JP9037486 A JP 9037486A JP S62246057 A JPS62246057 A JP S62246057A
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Landscapes
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、感光材料を処理する写真処理装置に用いられ
、特に処理液を循環することが可能な写真処理装置に関
する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention is used in a photographic processing apparatus for processing light-sensitive materials, and particularly relates to a photographic processing apparatus capable of circulating a processing liquid.
〔従来技術及び発明が解決しようとする問題点〕写真処
理装置では、例えば印画紙の現像処理に応じて現像液槽
内の現像液は処理能力が低下するため、定期的に補充液
を補充する必要がある。[Prior Art and Problems to be Solved by the Invention] In a photographic processing apparatus, the processing capacity of the developer in the developer tank decreases depending on the development process of photographic paper, so the replenisher must be periodically replenished. There is a need.
ところで、一般に写真処理装置では、現像液槽内の現像
液を循環させることにより現像液を攪拌し、疲労液が印
画根回りに滞留することを防止し現像不良をなくすと共
に補充液を節約するようにしている。By the way, in general, in photo processing equipment, the developer is stirred by circulating the developer in the developer tank to prevent the fatigue solution from accumulating around the base of the print, thereby eliminating development defects and saving replenisher fluid. ing.
この場合、現像液が循環されると循環時にその温度が低
くなるためWi環路の途中にヒータを設は加温して、適
温に保持するようにしている。In this case, when the developer is circulated, its temperature becomes low during circulation, so a heater is installed in the middle of the Wi loop path to heat it and maintain it at an appropriate temperature.
しかしながら、従来のヒータは循環路とは別体として配
設することが通例で、写真処理装置全体の配置スペース
が制限されることになる。However, conventional heaters are usually disposed separately from the circulation path, which limits the space for the entire photoprocessing apparatus.
本発明は上記事実を考慮し、形状がコンパクトで循環処
理液を均一に加温することができる写真処理装置を得る
ことが目的である。The present invention has been made in consideration of the above facts, and an object of the present invention is to provide a photographic processing apparatus which is compact in shape and is capable of uniformly heating a circulating processing liquid.
〔問題点を解決するための手段及び作用3本出願の第1
の発明に係る写真処理装置では、感光材料を処理する処
理液が収容された処理液槽と、この処理液槽からの処理
液を再度処理液槽へと案内する循環路と、前記循環路の
一部に介在された筒状の本体及びこの本体へ埋設された
21を備えこの本体の管路を流動する処理液を加温する
ヒータと、を有することを特徴としている。[Means and effects for solving the problem 3 No. 1 of this application]
The photographic processing apparatus according to the invention includes a processing liquid tank containing a processing liquid for processing a photosensitive material, a circulation path for guiding the processing liquid from the processing liquid tank to the processing liquid tank again, and a circulation path for guiding the processing liquid from the processing liquid tank to the processing liquid tank again. It is characterized by having a cylindrical body interposed in a part thereof, a heater 21 embedded in the body, and a heater for heating the processing liquid flowing through the conduit of the body.
従って、熱源が処理液循環路の一部を構成する本体へ埋
設されているので、形状がコンパクトとなり、均一に加
温できる。Therefore, since the heat source is embedded in the main body constituting a part of the processing liquid circulation path, the shape is compact and uniform heating is possible.
一方、本出順の第2の発明では。前記第1の発明に加え
、前記本体の外周にチャンバを設けているので、このチ
ャンバを通過する処理液を前記熱源で加温することがで
きる。On the other hand, in the second invention in the order of appearance. In addition to the first invention, since a chamber is provided on the outer periphery of the main body, the processing liquid passing through this chamber can be heated by the heat source.
第1図には本実施例に係る写真処理装置10が示されて
いる。FIG. 1 shows a photographic processing apparatus 10 according to this embodiment.
この写真処理装置10で処理される感光材料12は図示
しないラックに案内されて第1図矢印へ方向へ搬送され
るようになっている。The photosensitive material 12 to be processed by this photoprocessing apparatus 10 is guided by a rack (not shown) and transported in the direction of the arrow in FIG.
写真処理装置10は現像液槽14と定着液槽16を備え
ており、感光材料12は前工程で露光処理が終了した後
、現像液槽14へ搬送され、さらに定着液$1516へ
と搬送されるようになっている。The photographic processing apparatus 10 is equipped with a developer tank 14 and a fixer tank 16, and after the exposure processing of the photosensitive material 12 is completed in the previous step, it is transported to the developer tank 14, and then further transported to the fixer tank 1516. It has become so.
なお、この搬送は前記ラックの案内により第1図に示さ
れる如く、各槽内で蛇行させている。Note that this transportation is carried out in a meandering manner within each tank as shown in FIG. 1 by the guidance of the rack.
現像液槽14及び定着液槽16にはそれぞれ現像液18
及び定着液20がそれぞれ充填されている。また、この
現像液槽14、定着液槽16には、現像液18、定着液
20を循環する循環装置22が配置されている。この循
環装置22はヒータ部分を除いて現像液槽14側と定着
液槽16側とにそれぞれ同一の装置が設置されており、
以下現像液槽14側の循′R装置22について説明する
。The developer tank 14 and the fixer tank 16 each contain a developer 18.
and a fixer 20 are respectively filled. Further, a circulation device 22 for circulating the developer 18 and the fixer 20 is disposed in the developer tank 14 and the fixer tank 16. This circulation device 22 has the same device installed on the developer tank 14 side and the fixer tank 16 side, respectively, except for the heater part.
The circulation device 22 on the side of the developer tank 14 will be explained below.
現像液W!14の側壁24には給水パイプ26と排水パ
イプ28が取り付けられており、ポンプ30により現像
液18を現像液槽14内から吸い出し、フィルタ32を
介して再度現像液槽14内へ送るようになっている。こ
れにより、現像液槽14内の現像液18は常時流動され
、攪拌されることになる。Developer W! A water supply pipe 26 and a drainage pipe 28 are attached to the side wall 24 of 14, and a pump 30 sucks out the developer 18 from the developer tank 14 and sends it back into the developer tank 14 via a filter 32. ing. As a result, the developer 18 in the developer tank 14 is constantly fluidized and stirred.
フィルタ32と現像液槽14との間の給水パイプ26に
は筒状のヒータ本体34が介在されている。A cylindrical heater body 34 is interposed in the water supply pipe 26 between the filter 32 and the developer tank 14 .
第2図(A)及び(B)に示される如く、ヒータ本体3
4はその軸線が給水バイ126の軸線と同軸とされるよ
うにフランジ31及びガスケット33を介して取り付け
られており、その管路34Aは給水路26Aと連通して
、循環される現像液18はこの管路34Aを通過するよ
うになってぃヒータ本体34には、熱源であるヒータ線
36が埋設され、このヒータ線36に電流を流すことに
より、ヒータ本体34が加熱され、管路34A内を流れ
る現像液18を加温することができるようになっている
。As shown in FIGS. 2(A) and (B), the heater body 3
4 is attached via a flange 31 and a gasket 33 so that its axis is coaxial with the axis of the water supply pipe 126, and its pipe line 34A communicates with the water supply channel 26A, so that the developer 18 to be circulated is A heater wire 36, which is a heat source, is embedded in the heater body 34 that passes through the pipe line 34A, and by passing a current through the heater wire 36, the heater body 34 is heated, and the inside of the pipe line 34A is heated. The developing solution 18 flowing through can be heated.
このヒータ本体34には2個の温度センサ38゜40も
埋設されている。温度センサはそれぞれ測温抵抗体38
A、40Aで構成され、ブリッジ回路の一部とされてお
り、ヒータ本体34の両軸端へ配設されて、現像液18
のヒータ本体34の通過前と通過後の温度を不平衡電圧
として検出することができるようになっている。Two temperature sensors 38 and 40 are also embedded in the heater body 34. Each temperature sensor is a resistance temperature detector 38
A, 40A, which is part of the bridge circuit, is arranged at both shaft ends of the heater body 34, and is connected to the developer 18.
The temperature before and after passing through the heater main body 34 can be detected as an unbalanced voltage.
この温度センサ38.40の信号線38B、40Bはマ
イクロコンピュータ42へ配線されており、これにより
ヒータ線36への電流の導通及び遮断をするソリッドス
テートリレー37 (第4図参照)は、このマイクロコ
ンピュータ42で制御するようになっている。すなわち
、現像液18の温度を設定した温度に保つように制御し
ている。Signal lines 38B and 40B of the temperature sensors 38 and 40 are wired to a microcomputer 42, and a solid state relay 37 (see FIG. 4) that conducts and interrupts current to the heater wire 36 is connected to the microcomputer 42. It is controlled by a computer 42. That is, the temperature of the developer 18 is controlled to be maintained at a set temperature.
なお、このマイクロコンピュータ42の制御については
、後述する。Note that the control of this microcomputer 42 will be described later.
ヒータ本体34はセラミック等の熱伝導率の良い材料で
形成されており、これにより、ヒータ本体34の全体が
均一に加熱されると共に成型時にヒータ線36を容易に
埋設させることができるようになっている。The heater body 34 is made of a material with good thermal conductivity such as ceramic, so that the entire heater body 34 can be heated uniformly and the heater wire 36 can be easily buried during molding. ing.
ヒータ線36は低電力と高電力の2本の電熱線36A、
36Bで構成されており、必要に応じて両方又はどちら
か一方に電流を流すことも可能となっている。The heater wire 36 includes two heating wires 36A, one for low power and one for high power.
36B, and current can be passed through either or both of them as required.
このヒータ本体34の外周にはヒータ本体34を収容す
る円筒体44が配設されている。円筒体44の両端面の
軸心部からは前記給水バイブ26が貫通されており、他
は閉止されている0円筒体44の周面には2本のバイブ
46,48の一端が取り付けられ、前記定着液槽16に
おける循環装置の給水及び排水バイブとされている。A cylindrical body 44 that accommodates the heater body 34 is disposed on the outer periphery of the heater body 34 . The water supply vibrator 26 passes through the axial center of both end surfaces of the cylindrical body 44, and one ends of two vibrators 46 and 48 are attached to the circumferential surface of the cylindrical body 44, which is otherwise closed. It serves as a water supply and drainage vibe for the circulation device in the fixer tank 16.
従って、この2本のバイブ4.6.48の他方の端部は
定着液槽16の側壁へ取り付けられ、このパイプ46.
48の管路46A、48Aがそれぞれ定着1良槽16内
と円筒体44とヒータ本体34との間に設けられるチャ
ンバ50とを連通している。Therefore, the other ends of the two vibrators 4.6.48 are attached to the side wall of the fixer bath 16, and the pipes 46.
48 pipes 46A and 48A communicate with the inside of the fixing tank 16 and a chamber 50 provided between the cylindrical body 44 and the heater main body 34, respectively.
これにより、定着液20が循環された場合に、この定着
液20を1個のヒータ本体34により現像液1Bと同時
に加温することができるようになヮている。Thereby, when the fixer 20 is circulated, the fixer 20 can be heated simultaneously with the developer 1B by the single heater main body 34.
第1図に示される如く、パイプ30を作動させるモータ
52にはインバータ回路54が介在され、これの信号線
53はマイクロコンピュータ42へ接続されている。As shown in FIG. 1, an inverter circuit 54 is interposed in the motor 52 for operating the pipe 30, and a signal line 53 of the inverter circuit 54 is connected to the microcomputer 42.
これにより、モータ52はインバータ回路54の周波数
変喚に対応して回転数が無段階に変更できるようになっ
ている。従って、感光材料12の処理数に対応する現像
液18の劣化度や硬質又は通常画質処理に応じて変更周
波数(Fl)を設定しモータ52の回転を変更して給水
路26A及び排水路28A内を流れる現像液18の循環
量を容易に調整できるようになっている。Thereby, the rotation speed of the motor 52 can be changed steplessly in response to the frequency change of the inverter circuit 54. Therefore, the change frequency (Fl) is set according to the degree of deterioration of the developer 18 corresponding to the number of processing of the photosensitive material 12, hardness or normal image quality processing, the rotation of the motor 52 is changed, and the rotation of the motor 52 is changed. The circulating amount of the developer 18 flowing through can be easily adjusted.
なお、硬調画質となるものを軟調画質になるように処理
する場合、通常の画質を処理する循環量よりも少ない循
環量として現像液槽14内の循環速度(現像液18の流
動状態)を静止に近い状態とするようになっている。こ
れとは逆に硬調画質になるように処理する場合は多い循
環量とするようになっている。Note that when processing a high-tone image quality to a soft-tone image quality, the circulation speed in the developer tank 14 (the flow state of the developer 18) is set to a static state, with a circulation amount smaller than the circulation amount for processing normal image quality. It is designed to be in a state close to . On the other hand, when processing to obtain high-contrast image quality, a large amount of circulation is used.
現像液槽14の近傍には、補充タンク64が配設されて
おり、感光材料12の処理量に応じた現像液1Bの減少
又は現像能力の低下に応じて現像主薬が配合された補充
液62を補充できるようになっている。A replenishment tank 64 is disposed near the developer tank 14, and a replenisher 62 containing a developing agent is provided in response to a decrease in the developer 1B depending on the amount of processing of the photosensitive material 12 or a decrease in developing ability. can be replenished.
すなわち、この補充タンク64の側壁66には補充バイ
ブロ8が取り付けられ、この補充バイ16日の中間部に
はフィルタ70及びポンプ72が介在されており、ポン
プ72に取り付けられたモータ74の駆動力で補充液6
2をフィルタ70で濾過した後に現像液槽14へ供給す
るようになっている。That is, a replenishment vibro 8 is attached to the side wall 66 of this replenishment tank 64, and a filter 70 and a pump 72 are interposed in the middle of the replenishment vibro 16, and the driving force of a motor 74 attached to the pump 72 is Refill fluid 6
2 is filtered through a filter 70 and then supplied to the developer tank 14.
なお、モータ74の駆動電源はソリッドステートリレー
73(第4図参照)を介してマイクロコンピュータ42
へ接続され、感光材料12の所定の処理面積に達した場
合にポンプ72を一定時間(TS )作動させる制御を
行なうようになっている。The driving power for the motor 74 is supplied to the microcomputer 42 via a solid state relay 73 (see FIG. 4).
When a predetermined processing area of the photosensitive material 12 has been reached, the pump 72 is controlled to operate for a certain period of time (TS).
さらに、このマイクロコンピュータ42には感光材料1
2の幅寸法及び処理枚数を検出する処理量構出センサ7
8の信号i80が接読されている。Furthermore, this microcomputer 42 has a photosensitive material 1.
Processing amount sensor 7 that detects the width dimension and number of sheets processed in 2
8 signal i80 is read directly.
第3図に示される如く、この処理量検出センサ78はそ
のベース81が、現像液槽14における感光材料12の
搬入口へ配設されている。As shown in FIG. 3, the base 81 of the processing amount detection sensor 78 is disposed at the entrance of the photosensitive material 12 in the developer tank 14.
ベース81の中間部には矩形孔82が設けられており、
感光材料12はこの矩形82を通過して現像液槽14へ
と至るようになっている。矩形孔B2の上面及び下面に
はそれぞれ感光材料を感光させない波長域の光を用いる
光電スイッチの投光部84A及び受光部84Bが取り付
けられている。A rectangular hole 82 is provided in the middle part of the base 81.
The photosensitive material 12 passes through this rectangle 82 and reaches the developer tank 14. A light emitting section 84A and a light receiving section 84B of a photoelectric switch that use light in a wavelength range that does not sensitize photosensitive materials are attached to the upper and lower surfaces of the rectangular hole B2, respectively.
光電スイッチの投光部84A及び受光部84Bは、それ
ぞれ感光材料12の幅方向に沿って、複数配設されてお
り、感光材料12の幅寸法に応じて、一部の投光部84
Aからの光信号を遮断し、それぞれの充電スイッチの導
通状態をマイクロコンピュータ42で演算して感光材料
12の幅寸法を得ることができるようになっている。A plurality of light emitting parts 84A and light receiving parts 84B of the photoelectric switch are arranged along the width direction of the photosensitive material 12, and depending on the width dimension of the photosensitive material 12, some of the light emitting parts 84A and a plurality of light receiving parts 84B are arranged along the width direction of the photosensitive material 12.
The width dimension of the photosensitive material 12 can be obtained by cutting off the optical signal from A and calculating the conduction state of each charging switch by the microcomputer 42.
なお、この処理量検出センナ78は、レバータイプのリ
ミットスイッチを複数個用いて、感光材料12の先端部
の搬送時に導通し、後端部が通過した場合にその導通が
遮断させる機械的な検出手段を通用してもよい。The processing amount detection sensor 78 uses a plurality of lever-type limit switches to perform mechanical detection that conducts the leading end of the photosensitive material 12 when it is transported and breaks the conduction when the rear end passes. You may use other means.
マイクロコンピュータ42では感光材料12の搬送速度
も記憶されるようになっており、これにより、感光材料
12の処理量が面積として計算され、必要な補充液62
の補充量を算出するようになっている。The microcomputer 42 also stores the conveyance speed of the photosensitive material 12, so that the processing amount of the photosensitive material 12 is calculated as an area, and the necessary replenisher 62 is calculated.
The amount of replenishment is calculated.
以下にマイクロコンピュータ42による制御について詳
細に説明する。Control by the microcomputer 42 will be explained in detail below.
マイクロコンピュータ42は、空炊検出手段、循環不良
検出手段及び段線検出手段を備えており、別個に説明す
る。The microcomputer 42 includes an empty cooking detection means, a poor circulation detection means, and a dashed line detection means, which will be explained separately.
まず、第4図に従い空炊検出手段について説明する。First, the dry cooking detection means will be explained according to FIG.
温度センサ40.すなわち下流温度(T[l ) はA
/D変換回路8Bでデジタル信号に変換された後、イン
タフェース90を介してマイクロコンピュータ42のC
PUへ入力されている。Temperature sensor 40. That is, the downstream temperature (T[l) is A
After being converted into a digital signal by the /D conversion circuit 8B, the C of the microcomputer 42 is sent via the interface 90.
It is input to PU.
マイクロコンピュータ42には温度設定器92により予
め設定温度(TC)が人力されており、この設定温度(
TC)下流温度(TO)は比較されるようになっている
。The microcomputer 42 has a set temperature (TC) manually set in advance by a temperature setting device 92, and this set temperature (TC)
TC) downstream temperatures (TO) are to be compared.
これが比較された後は、インタフェース90を介してヒ
ータ線用ソリッドステートリレー37及び警告ブザー1
00の作動用ソリッドステートリレー104へ接続され
ている。After this is compared, the heater wire solid state relay 37 and the warning buzzer 1 are connected via the interface 90.
00 is connected to the operating solid state relay 104.
次に、循環不良検出手段は、給水バイブ26及び排水バ
イブ28内を流れる現像液14の流速がおちた場合に、
これをヒータ本体34の前後の現像液18の温度の差で
判別して、制御する構成となっている。Next, the poor circulation detection means detects when the flow rate of the developer 14 flowing through the water supply vibrator 26 and the drainage vibrator 28 has decreased.
This is determined based on the difference in temperature between the developer 18 before and after the heater main body 34, and is controlled.
温度センサ38,40により測定された下流温度(TD
)及び上流温度(TU )はA/D変換回路87.8
8でデジタル変換した後、これらの差温(TIJ −T
I) )が算出される。The downstream temperature (TD) measured by the temperature sensors 38, 40
) and upstream temperature (TU) are A/D conversion circuit 87.8
After digital conversion in step 8, these temperature differences (TIJ -T
I) ) is calculated.
マイクロコンピュータ42には適正循環時での温度差(
TO)が入力されており、これらを比較して適正周波数
(FO)を決めインタフェース90を介してインバータ
回路54を作動させて循環量を調整するようになってい
る。The microcomputer 42 records the temperature difference (
TO) is input, these are compared to determine an appropriate frequency (FO), and the inverter circuit 54 is operated via the interface 90 to adjust the circulation amount.
また、断線検出手段は、上流温度(Tll )から下流
温度(TO)への一定時間の上昇率をヒータ線36への
給電中に逐次測定して温度センサ38゜40の導通状態
を判別し、温度上昇がない場合に警告ブザー100等で
警告する構成となっている。Further, the disconnection detection means sequentially measures the rate of increase from the upstream temperature (Tll) to the downstream temperature (TO) over a certain period of time while power is being supplied to the heater wire 36, and determines the conduction state of the temperature sensors 38 and 40. It is configured to issue a warning with a warning buzzer 100 or the like if there is no temperature rise.
すなわち、上流温度(TO)及び下流温度(TD)がそ
れぞれA/D変換回路87.88でデジタル信号に変換
した後、インタフェース90を介してマイクロコンピュ
ータ42のCPUへ入力されている。That is, the upstream temperature (TO) and downstream temperature (TD) are each converted into digital signals by A/D conversion circuits 87 and 88, and then input to the CPU of the microcomputer 42 via the interface 90.
マイクロコンピュータ42では、上流から下流への温度
上昇を算出し、変化がない場合に出力するようになって
おり、出力時にはインタフェース90を介してヒータ線
36への給電を遮断する信号をソリッドステートリレー
37へ送信し、警告ブザー100の作動用ソリッドステ
ートリレー104も信号を送るようになっている。The microcomputer 42 calculates the temperature rise from upstream to downstream, and outputs it if there is no change. When outputting, a signal is sent to the solid state relay to cut off the power supply to the heater wire 36 via the interface 90. 37, and the solid state relay 104 for operating the warning buzzer 100 also sends the signal.
以下に本実施例の作用を説明する。The operation of this embodiment will be explained below.
感光材料12が処理液槽14内搬送され処理されると、
これに応じて処理能力が低下する。When the photosensitive material 12 is transported into the processing liquid tank 14 and processed,
Processing capacity decreases accordingly.
これは、感光材料12回りに疲労液が滞留したり、感光
材料12の処理に応じて現像液18に含まれる現像主薬
が減少するためであり、これを防止するために現像液槽
14内の現像液18を循環装置22で循環して、常に攪
拌している状態としている。This is because the fatigue solution accumulates around the photosensitive material 12 and the developing agent contained in the developer 18 decreases as the photosensitive material 12 is processed. The developer 18 is circulated by a circulation device 22 and constantly stirred.
これにより、現像ムラが防止でき、現像液18をムダな
く使用できる。Thereby, uneven development can be prevented, and the developer 18 can be used without waste.
現像液18は、ポンプ30により、排水路28Aへと吸
い出され、フィルタ32を介して給水路26Aへと至り
、再び現像液槽14へと流入される。ここで、給水路2
6Aの中間部には、筒状のヒータ本体34が介在されて
おり、現像液18はここで加温され、適温である38℃
とされた後、現像液槽14へと至るので、循環による温
度低下はない。The developer 18 is sucked out by the pump 30 to the drainage channel 28A, passes through the filter 32 to the water supply channel 26A, and flows into the developer tank 14 again. Here, water supply channel 2
A cylindrical heater main body 34 is interposed in the middle of 6A, and the developer 18 is heated here to an appropriate temperature of 38°C.
After that, the developer reaches the developer tank 14, so there is no temperature drop due to circulation.
また、このヒータ本体34は、低電力と高電力の2個の
電熱!36A、36Bが埋設されているので、必要に応
じて加熱電力を変更することもできる。In addition, this heater body 34 has two electric heaters, one low power and one high power! Since 36A and 36B are buried, the heating power can be changed as necessary.
さらに、ヒータ本体34はセラミック製であるので、成
型時にヒータ線を容易に埋設させることができ、ヒータ
本体34内を通過する現像液18を均一に加温すること
ができるので温度ムラはない。Further, since the heater body 34 is made of ceramic, the heater wire can be easily embedded during molding, and the developer 18 passing through the heater body 34 can be heated uniformly, so there is no temperature unevenness.
ヒータ本体34の外周には円筒体44が配設され、定着
液20に−n環する際にこの円筒体44により設けられ
たチャンバ50を通過させているので、現像液1日と共
に定着液20も加温することができる。A cylindrical body 44 is disposed on the outer periphery of the heater body 34, and when the fixer 20 is mixed with the cylindrical body 44, the cylindrical body 44 passes through a chamber 50 provided by the cylindrical body 44. can also be heated.
以下に、第5図(A)乃至(G)の制御フローチャート
に従い説明する。The following description will be made according to the control flowcharts shown in FIGS. 5(A) to 5(G).
まず、第5図(A)で示される如く、ステップ200で
温度設定器92で設定した温度(TC)値を取り込む。First, as shown in FIG. 5(A), in step 200, the temperature (TC) value set by the temperature setting device 92 is taken in.
次にステップ201で処理開始と判断されるとステップ
202で適正循環時での温度差(TO)を読み込み、循
環ポンプ30を作動させ、ヒータ線36へ給電(以下ヒ
ータをオンという)する(ステップ204. 206)
。Next, when it is determined in step 201 that the process has started, the temperature difference (TO) during proper circulation is read in step 202, the circulation pump 30 is activated, and power is supplied to the heater wire 36 (hereinafter referred to as turning on the heater) (step 202). 204.206)
.
ヒータをオンした後、ステップ208で空炊検出制御を
実行し、次いで循環不良検出制御及び断線不良検出制御
を実行する(ステップ210.212)。After turning on the heater, empty cooking detection control is executed in step 208, and then poor circulation detection control and disconnection defect detection control are executed (steps 210 and 212).
ステップ214では現像液の循環量制御を実行し、ステ
ップ216.218ではそれぞれ温度制御及び補充量の
制御をする。In step 214, the circulating amount of developer is controlled, and in steps 216 and 218, temperature control and replenishment amount are controlled, respectively.
次にステップ220で現像処理が継続される場合はステ
ップ208へ移行する。Next, if the development process is to be continued in step 220, the process moves to step 208.
第5図(B)に示される如く、ステップ208のサブル
ーチンでは、ステップ222において下流温度(TO)
が適正温度差(TO)に所定温度を加算した温度(TL
)よりも高い場合は空炊と判断され、ステップ224
でヒータ線36への給電を遮断(以下ヒータをオフとい
う)し、次いでステップ226で警告ブザー100を鳴
らすので、作業員はこれを未然に知ることができる。As shown in FIG. 5(B), in the subroutine of step 208, the downstream temperature (TO) is determined in step 222.
is the temperature (TL
), it is determined that empty cooking is occurring, and step 224
In step 226, the power supply to the heater wire 36 is cut off (hereinafter referred to as "heater off"), and the warning buzzer 100 is sounded in step 226, so that the worker can know this in advance.
ステップ22Bで警告ブザー100の作動を停止させる
と、ステップ200へ移行する。When the warning buzzer 100 is deactivated in step 22B, the process moves to step 200.
ステップ222において下流温度(TO)が温度(TL
)よりも低い場合はメインルーチンへリターンする。In step 222, the downstream temperature (TO) is changed to the temperature (TL
), return to the main routine.
次に第5図(C)のフローチャートに従い、循環不良検
出制御のサブルーチンを説明する。Next, a subroutine for poor circulation detection control will be explained according to the flowchart of FIG. 5(C).
ステップ230では下流温度(TO)と上流温度(TU
)の温度差を設定温度(TO)と比較する。ここで、
前記温度差が設定温度(TO)よりも高い場合は現像液
1Bの循環量が低下していると判断し、この補正周波数
(FO)を読み込む(ステップ232)。In step 230, the downstream temperature (TO) and the upstream temperature (TU
) is compared with the set temperature (TO). here,
If the temperature difference is higher than the set temperature (TO), it is determined that the circulation amount of the developer 1B is decreasing, and this correction frequency (FO) is read (step 232).
次にステップ234で現在の周波数を補正周波数(FO
)とを比較し、現在の周波数が低い場合はステップ23
6でインバータ回路54の周波数を上げる。これを繰り
返しステップ234で現在の周波数と補正周波数(FO
)が等しくなった場合はステップ238へ移行し、周波
数を固定しメインルーチンへ移行する。Next, in step 234, the current frequency is converted to a correction frequency (FO
), and if the current frequency is low, step 23
6, the frequency of the inverter circuit 54 is increased. This is repeated in step 234 where the current frequency and correction frequency (FO
) become equal, the process moves to step 238, the frequency is fixed, and the process moves to the main routine.
これにより、ポンプ30が正常に作動しているにも拘ら
ず、フィルタ32の目づまり等で現像液18の循環量が
低下した場合でも循環量を自動調整することができる。Thereby, even if the pump 30 is operating normally but the circulating amount of the developer 18 is reduced due to clogging of the filter 32, etc., the circulating amount can be automatically adjusted.
なお、ステップ230で前記温度差が設定温度(To
)よりも低い場合はここでメインルーチンへリターンす
る。Note that in step 230, the temperature difference is determined as a set temperature (To
), return to the main routine here.
ステップ238でメインルーチンへ移行した後は第5図
(D)に示す断線不良検出制御のサブルーチンへ移行す
る。After moving to the main routine in step 238, the process moves to a subroutine for wire breakage detection control shown in FIG. 5(D).
まず、ステップ240でヒータがオン状態であるか否か
を判断し、ヒータがオンと判断されると、ステップ24
2で一定時間毎の下流温度(TD)と上流温度(Tυ)
との間の上昇温度を比較する。First, in step 240, it is determined whether the heater is on, and if it is determined that the heater is on, step 24
2: downstream temperature (TD) and upstream temperature (Tυ) at fixed time intervals
Compare the temperature rise between
ここで、一定時間内で温度上昇が無い場合、温度センサ
3B、40(測温抵抗体38A、40B又は信号線38
B、40B)自身の断線と判断し、ステップ244へ移
行してヒータをオフとし、次いでステップ246で警告
ブザー100を鳴らす。Here, if there is no temperature rise within a certain period of time, the temperature sensors 3B, 40 (thermal resistance sensors 38A, 40B or signal line
B, 40B) It is determined that the wire itself is disconnected, the process proceeds to step 244 and the heater is turned off, and then the warning buzzer 100 is sounded in step 246.
ステップ248で警告ブザー100の作動が停止される
とステップ200へ移行する。When the warning buzzer 100 is deactivated in step 248, the process moves to step 200.
なお、ステップ240でヒータがオンされていない場合
、及びステップ242で温度差が生じている場合は正常
と判断し、メインルーチンへ移行する。Note that if the heater is not turned on in step 240 and if there is a temperature difference in step 242, it is determined that the condition is normal, and the process moves to the main routine.
次に、第5図(E)のフローチャートに従い、循環量制
御を説明する。Next, circulation amount control will be explained according to the flowchart of FIG. 5(E).
ステップ250で循環量を変更する必要があると判断さ
れるとステップ252へ移行し、これに対応した周波数
(Fl )を読み込む。If it is determined in step 250 that it is necessary to change the circulation amount, the process moves to step 252, and the corresponding frequency (Fl) is read.
これは、具体的には感光材料が送られない場合に、これ
を処理量検出センサ78で検出して循環量を通常の約半
分(41/min、)に制御して現像?&、1Bの酸化
等を防止したり、通常画質から軟調画質になる処理へ変
更する場合には循環量を少な(し現像液18を静止に近
い状態で処理するのが好ましく、また、硬調画質になる
処理へ変更する場合には循環を多くするのが好ましい。Specifically, when the photosensitive material is not fed, the throughput detection sensor 78 detects this and controls the circulation rate to about half the normal rate (41/min) to perform development. &, To prevent oxidation of 1B, or to change from normal image quality to soft-tone image quality, it is preferable to reduce the amount of circulation (and to process the developer 18 in a nearly stationary state. When changing to a process in which
そしてこれらの目的に応じてに応じて周波数(Fl )
が算出される。and the frequency (Fl) depending on these purposes
is calculated.
ステップ254では現在の周波数と前記周波数(Fl
)とが比較され、現在の周波数の方が高い場合はステッ
プ256でインバータ回路54の周波数を低くし、逆に
低い場合はステップ25日へ移行してインバータ回路5
4の周波数を高くする。In step 254, the current frequency and the frequency (Fl
), and if the current frequency is higher, the frequency of the inverter circuit 54 is lowered in step 256, and if it is lower, the process moves to step 25 and the frequency of the inverter circuit 54 is lowered.
Increase the frequency of 4.
これを操り返し、周波数が等しくなるとステップ254
からステップ260へ移行しインパーク回路54の周波
数を固定した後、メインルーチンへ移行する。This is manipulated again, and when the frequencies become equal, step 254
After the process moves to step 260 and the frequency of the impark circuit 54 is fixed, the process moves to the main routine.
第5図(F)に示される如く、温度制御サブルーチンで
は、ステップ262で下流温度(TD )と設定温度(
TC)とを比較し、下流温度(TD)が設定温度(TC
)よりも高い又は等しい場合はヒータをオフした後リタ
ーンしくステップ264)、下流温度(TD )の方が
低い場合は、ステップ265でヒータをオンさせてリタ
ーンする。As shown in FIG. 5(F), in the temperature control subroutine, in step 262, the downstream temperature (TD) and the set temperature (
The downstream temperature (TD) is compared with the set temperature (TC).
), the heater is turned off and the process returns (step 264); if the downstream temperature (TD) is lower, the heater is turned on in step 265 and the process returns.
これを操り返すことにより、現像液18の温度を設定温
度に近づけると共に温度を均一に保つことができる。By controlling this, the temperature of the developer 18 can be brought close to the set temperature and the temperature can be kept uniform.
第5図(G)には補充量制御のサブルーチンが示されて
いる。FIG. 5(G) shows a subroutine for controlling the replenishment amount.
ステップ266では感光材料12の処理数をその面積と
処理速度で積算し、所定処理数(面積)に達したか否か
を判別する。感光材料12が所定処理@(面積)に達し
ていない場合はリターンする。In step 266, the number of processing times of the photosensitive material 12 is integrated by its area and processing speed, and it is determined whether a predetermined number of processing steps (area) has been reached. If the photosensitive material 12 has not reached the predetermined processing@(area), the process returns.
また、感光材料12が所定処理数(面積)に達した場合
には、適正補充時間(TS )を読み込んだ後、補充液
62を現像液槽14へ搬送するポンプ72を作動させる
(ステップ267、ステップ268)。Further, when the photosensitive material 12 reaches a predetermined number of processing times (area), after reading the appropriate replenishment time (TS), the pump 72 that transports the replenisher 62 to the developer tank 14 is activated (step 267, step 268).
補充時間が終了すると、ポンプ72を停止させリターン
する(ステップ270.ステップ272)。When the replenishment time ends, the pump 72 is stopped and the process returns (steps 270 and 272).
このように、本実施例に適用された循環装置22では、
温度制御、循環量制御及び補充量制御をマイクロコンピ
ュータ42で行なうと共に、現像液18の循環不良、空
炊及び信号線の断線を補償しているので、現像液18が
最適な状態に保たれ、現像不良をおこすことがない。In this way, in the circulation device 22 applied to this embodiment,
The microcomputer 42 performs temperature control, circulation amount control, and replenishment amount control, and also compensates for poor circulation of the developer 18, dry cooking, and disconnection of the signal line, so the developer 18 is maintained in an optimal state. No developing defects will occur.
なお、本実施例では現像液槽14に設置された循環装置
22について説明したが、この循環装置22を定着液槽
16等の他の処理液槽の循環装置に用いてもよい。In this embodiment, the circulation device 22 installed in the developer tank 14 has been described, but the circulation device 22 may be used as a circulation device for other processing liquid tanks such as the fixer tank 16.
以上説明した如く、本出願の第1の発明に係る写真処理
装置では、感光材料を処理する処理液が収容された処理
液槽と、この処理液槽から処理液を再度処理槽へとポン
プで真向する循環路と、前記循環路の一部に介在された
筒状の本体及びこの本体へ埋設された熱源を備えこの本
体の管路を流動する処理液を加温するヒータと、を有す
ることを特徴としているので、形状がコンパクトで循環
処理液を均一に加温することができるという優れた効果
を有する。As explained above, the photographic processing apparatus according to the first invention of the present application includes a processing liquid tank containing a processing liquid for processing a photosensitive material, and a processing liquid that is pumped from this processing liquid tank to the processing tank again. It has a circulation path that faces directly, a cylindrical body interposed in a part of the circulation path, and a heater that includes a heat source embedded in this body and heats the processing liquid flowing through the pipe line of this body. Because of this feature, it has a compact shape and has an excellent effect of being able to uniformly heat the circulating treatment liquid.
また、本出願の第2の発明では、前記発明効果に加え前
記本体の外周にチャンバを設けているので、このチャン
バを通過する処理液を前記熱源で加温することができる
。Further, in the second invention of the present application, in addition to the above-mentioned effects of the invention, a chamber is provided on the outer periphery of the main body, so that the processing liquid passing through this chamber can be heated by the heat source.
第1図は本実施例に係る写真処理装置の配管図、第2図
(A)及び(B)はヒータ部の斜視図、第3図は処理量
検出センサの斜視図、第4図は制御ブロック図、第5図
(A)乃至(G)は制御フローチャートである。
12・・・感光材料、
14・・・現像液槽、
18・・・現像液、
30・・・ポンプ、
34・・・ヒータ本体、
36・・・ヒータ線、
42・・・マイクロコンピュータ、
52・・・モータ、
54・・・インバータ回路。
第2図(A)
第2図(B)
第3図
第4図
第5図(B)
第5図(C)
第5 図(D)
第5図(E)
第5図(F3Figure 1 is a piping diagram of the photo processing apparatus according to this embodiment, Figures 2 (A) and (B) are perspective views of the heater section, Figure 3 is a perspective view of the processing amount detection sensor, and Figure 4 is the control The block diagram and FIGS. 5(A) to 5(G) are control flowcharts. DESCRIPTION OF SYMBOLS 12... Photosensitive material, 14... Developer tank, 18... Developer, 30... Pump, 34... Heater main body, 36... Heater wire, 42... Microcomputer, 52 ...Motor, 54...Inverter circuit. Figure 2 (A) Figure 2 (B) Figure 3 Figure 4 Figure 5 (B) Figure 5 (C) Figure 5 (D) Figure 5 (E) Figure 5 (F3
Claims (5)
と、この処理液槽からの処理液を再度処理液槽へとポン
プで案内する循環路と、前記循環路の一部に介在された
筒状の本体及びこの本体へ埋設された熱源を備えこの本
体の管路を流動する処理液を加温するヒータと、を有す
ることを特徴とした写真処理装置。(1) A processing liquid tank containing a processing liquid for processing a photosensitive material, a circulation path for guiding the processing liquid from this processing liquid tank to the processing liquid tank again by a pump, and a part of the circulation path intervening. 1. A photographic processing apparatus comprising: a cylindrical main body; and a heater having a heat source embedded in the main body and heating a processing liquid flowing through a conduit in the main body.
徴とする前記特許請求の範囲第(1)項に記載の写真処
理装置。(2) The photographic processing apparatus according to claim (1), wherein the main body is made of ceramic.
と、この処理液槽からの処理液を再度処理液槽へとポン
プで案内する循環路と、前記循環路の一部に介在された
筒状の本体及びこの本体へ埋設された熱源を備えこの本
体の管路を流動する処理液を加温するヒータと、を有し
前記本体の外周にはチャンバが設けられこのチャンバを
通過する処理液を前記熱源で加温することを特徴とした
写真処理装置。(3) A processing liquid tank containing a processing liquid for processing a photosensitive material, a circulation path for guiding the processing liquid from this processing liquid tank to the processing liquid tank again by a pump, and a part of the circulation path intervening. a cylindrical main body, a heater having a heat source embedded in the main body and heating a processing liquid flowing through a pipe line of the main body, and a chamber provided on the outer periphery of the main body, through which the A photographic processing apparatus characterized in that a processing liquid to be processed is heated by the heat source.
徴とする前記特許請求の範囲第(3)項に記載の写真処
理装置。(4) The photographic processing apparatus according to claim (3), wherein the main body is made of ceramic.
重管とされていることを特徴とする前記特許請求の範囲
第(3)項に記載の写真処理装置。(5) The chamber is formed on the entire outer periphery of the main body.
The photographic processing apparatus according to claim 3, characterized in that it is a double tube.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9037486A JPS62246057A (en) | 1986-04-18 | 1986-04-18 | Photographic processing device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9037486A JPS62246057A (en) | 1986-04-18 | 1986-04-18 | Photographic processing device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62246057A true JPS62246057A (en) | 1987-10-27 |
Family
ID=13996790
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9037486A Pending JPS62246057A (en) | 1986-04-18 | 1986-04-18 | Photographic processing device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62246057A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0580479A (en) * | 1991-09-19 | 1993-04-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Heater for photosensitive material processor |
US5809362A (en) * | 1996-01-31 | 1998-09-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive material processing device |
-
1986
- 1986-04-18 JP JP9037486A patent/JPS62246057A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0580479A (en) * | 1991-09-19 | 1993-04-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Heater for photosensitive material processor |
US5809362A (en) * | 1996-01-31 | 1998-09-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive material processing device |
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