JPS62246058A - Photographic processing device - Google Patents

Photographic processing device

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Publication number
JPS62246058A
JPS62246058A JP9037586A JP9037586A JPS62246058A JP S62246058 A JPS62246058 A JP S62246058A JP 9037586 A JP9037586 A JP 9037586A JP 9037586 A JP9037586 A JP 9037586A JP S62246058 A JPS62246058 A JP S62246058A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
temperature
heater
processing liquid
developer
processing
Prior art date
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Pending
Application number
JP9037586A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshio Kurokawa
俊夫 黒川
Tsutomu Kimura
勤 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP9037586A priority Critical patent/JPS62246058A/en
Publication of JPS62246058A publication Critical patent/JPS62246058A/en
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  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)

Abstract

PURPOSE:To perform temperature control over processing liquid by providing a control means which judges an abrupt rise in the output of a temperature sensor arranged nearby a heater for the processing liquid to detect the temperature of the processing liquid and then powers down the heater. CONSTITUTION:Two temperature sensors 38 and 40 are embedded in a heater body 34. The temperature sensors consist of resistance bulbs 38A and 40B as part of a bridge circuit and are arranged at both axial ends of the heater body 34 to detect the temperature of the developer 18 before and after the developer passes through the heater body 34 as unbalanced voltages. The signal lines 38B and 40B of the sensors 38 and 40 are wired to a microcomputer 42 and a solid-state relay which supplies and cuts off a current to a heater wire 36 is controlled by this microcomputer 42, thereby controlling the temperature of the developer 18 to set temperature. Thus, the temperature and the quantity of circulation are compensated, so the temperature of the processing liquid is held invariably proper, so that no defect in development is caused.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、感光材料を処理する写真処理装置に用いられ
、特に処理液を循環することが可能な写真処理装置に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention is used in a photographic processing apparatus for processing light-sensitive materials, and particularly relates to a photographic processing apparatus capable of circulating a processing liquid.

[従来技術及び発明が解決しようとする問題点]写真処
理装置では,例えば印画紙の現像処理に応じて現像液槽
内の現像液は処理能力が低下するため、定期的に補充液
を補充する必要がある。
[Prior Art and Problems to be Solved by the Invention] In photographic processing equipment, the processing capacity of the developer in the developer tank decreases depending on the processing of photographic paper, so replenisher must be periodically replenished. There is a need.

ところで、一般に写真処理装置では、現像液槽内の現像
液を循環させることにより現像液を攪拌し、疲労液が印
画紙口りに滞留することを防止し現像不良をなくすと共
に補充液を節約するようにしている。
By the way, in general, in a photographic processing apparatus, the developer is stirred by circulating the developer in the developer tank to prevent the fatigue solution from staying at the edge of the photographic paper, thereby eliminating developing defects and saving replenisher fluid. That's what I do.

この場合,現像液が循環されると循環時にその温度が低
くなるため循環路の途中にヒータを設は加温して,適温
を保持するようにしている。
In this case, as the developer is circulated, its temperature drops, so a heater is installed in the middle of the circulation path to keep it at an appropriate temperature.

しかしながら、従来のヒータは循環路とは別体として配
設することが通例で、写真処理装置全体の配置スペース
が制限されることになる。
However, conventional heaters are usually disposed separately from the circulation path, which limits the space for the entire photoprocessing apparatus.

また、現像液の適温は例えば38℃であり、この温度を
保持するためには循環路を流動する現像液の温度を検出
してヒータによる加温を制御するのが好ましく、このた
め配線が複雑となり、補償をする必要がある。
In addition, the appropriate temperature of the developer is, for example, 38°C, and in order to maintain this temperature, it is preferable to detect the temperature of the developer flowing through the circulation path and control the heating by the heater, which requires complicated wiring. Therefore, it is necessary to provide compensation.

本発明は上記at実を考慮し、処理液の温度制御ができ
循環液を均一に加温することができる写真処理装置を得
ることが目的である。
In view of the above-mentioned problems, the present invention aims to provide a photographic processing apparatus capable of controlling the temperature of the processing liquid and uniformly heating the circulating liquid.

[問題点を解決するための手段及び作用]本発明に係る
写真処理装置では、感光材料を処理する処理液が収容さ
れた処理液槽と、この処理液槽かも処理液を再度処理液
槽へとポンプで案内する循環路を備えた循環装置と、前
記循環路に配置され、処理液を加温するヒータと、この
ヒータに近接配置され処理液の温度を検出する温度セン
サと、ヒータ通電中に前記温度センサ出力が急激に上昇
したか否かを判断してヒータへの給電を中止させる制御
手段と、を有することを特徴としている。
[Means and effects for solving the problems] The photographic processing apparatus according to the present invention includes a processing liquid tank containing a processing liquid for processing a photosensitive material, and a processing liquid tank that also supplies the processing liquid to the processing liquid tank again. a circulation device having a circulation path guided by a pump; a heater placed in the circulation path to heat the processing liquid; a temperature sensor placed close to the heater to detect the temperature of the processing liquid; The present invention is characterized by comprising a control means for determining whether or not the output of the temperature sensor has suddenly increased, and for stopping power supply to the heater.

従って、空炊検出手段ではヒータ後流の温度センサの温
度が急激に上昇された場合に循環路に処理液が流れ込ん
でいないと判断できる。
Therefore, the dry cooking detection means can determine that the processing liquid is not flowing into the circulation path when the temperature of the temperature sensor downstream of the heater rises rapidly.

このように、温度及び循環量が補償されているので処理
液の温度は常に適温に保たれ、現像不良等は生じない。
Since the temperature and circulation amount are compensated in this way, the temperature of the processing liquid is always kept at an appropriate temperature, and development defects do not occur.

[実施例コ 第1図には本実施例に係る写真処理装置toが示されて
いる。
Embodiment FIG. 1 shows a photographic processing apparatus to according to this embodiment.

この写真処理装置toで処理される感光材料12は図示
しないラックに案内されて第1図矢印A方向へ搬送され
るようになっている。
The photosensitive material 12 to be processed in this photoprocessing apparatus TO is guided by a rack (not shown) and transported in the direction of arrow A in FIG.

写真処理装置1iloは現像液槽14と定着液槽16を
備えており、感光材料12は前工程で露光処理が終了し
た後、現像液槽14へ搬送され、さらに定着液槽16へ
と搬送されるようになっている。なお、この搬送は前記
ラックの案内により第1図に示される如く、各槽内で蛇
行させている。
The photographic processing apparatus 1ilo is equipped with a developer tank 14 and a fixer tank 16, and after the exposure process is completed in the previous step, the photosensitive material 12 is transported to the developer tank 14 and then further transported to the fixer tank 16. It has become so. Note that this transportation is carried out in a meandering manner within each tank as shown in FIG. 1 by the guidance of the rack.

現像液槽14及び定着液槽16にはそれぞれ現像液18
及び定2液20がそれぞれ充填されている。また、この
現像液槽14、定着液4@16には、現像液18、定着
液20を循環する循環装置22が設置されている。この
循環量a!22はヒータ部分を除いて現像液槽14側と
定着液槽tegsとにそれぞれ同一の装置が設置されて
おり、以下現像液槽14側の循環装置22について説明
する。
The developer tank 14 and the fixer tank 16 each contain a developer 18.
and constant 2 liquid 20 are respectively filled. Further, a circulation device 22 for circulating the developer 18 and the fixer 20 is installed in the developer tank 14 and the fixer 4@16. This circulation amount a! The same device 22 is installed on the developer tank 14 side and the fixer tank tegs, except for the heater portion, and the circulation device 22 on the developer tank 14 side will be described below.

現像液槽14の側壁24には給水パイプ26と排水パイ
プ28が取り付けられており、ポンプ30により現像液
18を現像液槽14内から吸い出し、フィルタ32を介
して再度現像液槽14内へ送るようになっている。これ
により、現像液槽14内の現像液18は常時流動され、
攪拌されることになる。
A water supply pipe 26 and a drainage pipe 28 are attached to the side wall 24 of the developer tank 14, and a pump 30 sucks out the developer 18 from the developer tank 14 and sends it back into the developer tank 14 via a filter 32. It looks like this. As a result, the developer 18 in the developer tank 14 is constantly kept flowing.
It will be stirred.

フィルタ32と現像液槽14との間の給水パイプ26に
は筒状のヒータ本体34が介在されている。
A cylindrical heater body 34 is interposed in the water supply pipe 26 between the filter 32 and the developer tank 14 .

第2図(A)及び(B)に示される如く、ヒータ本体3
4はその軸線が給水パイプ26の軸線と同軸とされるよ
うにフランジ31及びガスケット33を介して取り付け
られており、その管路34Aは給水路26Aと連通して
、循環される現像液18はこの管路34Aを通過するよ
うになっている。
As shown in FIGS. 2(A) and (B), the heater body 3
4 is attached via a flange 31 and a gasket 33 so that its axis is coaxial with the axis of the water supply pipe 26, and its pipe line 34A communicates with the water supply channel 26A, so that the developer 18 to be circulated is It passes through this conduit 34A.

ヒータ本体34には、熱源であるヒータ線36が埋設さ
れ、とのヒータ線36に電流を流すことにより、ヒータ
本体34が加熱され、管路34A内を流れる現像液1B
を加温することができるようになっている。
A heater wire 36 serving as a heat source is embedded in the heater body 34, and by passing a current through the heater wire 36, the heater body 34 is heated, and the developer 1B flowing in the pipe 34A is heated.
can be heated.

このヒータ本体34には2個の温度センサ38.40も
埋設されている。温度センサはそれぞれ測温抵抗体38
A、40Bで構成され、ブリッジ回路の一部とされてお
り、ヒータ本体34の両輪端へ配設されて、現像液18
のヒータ本体34の通過前と通過後の温度を不平衡電圧
として検出することができるようになっている。
Two temperature sensors 38, 40 are also embedded in this heater body 34. Each temperature sensor is a resistance temperature detector 38
A and 40B, which are part of a bridge circuit, are arranged at both wheel ends of the heater body 34, and are connected to the developer 18.
The temperature before and after passing through the heater main body 34 can be detected as an unbalanced voltage.

この温度センサ3B、40の信号線38B、40Bはマ
イクロコンピュータ42へ配線されており、これにより
ヒータ線36への電流の導通及び遮断をするソリッドス
テートリレー37(第4図参照)は、このマイクロコン
ピュータ42で制御するようになっている。すなわち、
現像液18の温度を設定した温度に保つように制御して
いる。
Signal lines 38B and 40B of the temperature sensors 3B and 40 are wired to a microcomputer 42, and a solid state relay 37 (see FIG. 4) that conducts and interrupts current to the heater wire 36 is connected to the microcomputer 42. It is controlled by a computer 42. That is,
The temperature of the developer 18 is controlled to be maintained at a set temperature.

なお、このマイクロコンピュータ42の制御については
、後述する。
Note that the control of this microcomputer 42 will be described later.

ヒータ本体34はセラミック等の熱電伝導の良い材料で
形成されており、これにより、ヒータ本体34の全体が
均一に加熱されると共に成型時にヒータ線36を容易に
埋設させることができるようになっている。
The heater body 34 is made of a material with good thermoelectric conductivity such as ceramic, so that the entire heater body 34 can be heated uniformly and the heater wire 36 can be easily buried during molding. There is.

ヒータ線36は低電力と高電力の2木の電熱線36A、
36Bで構成されており、必要に応じて両方又はどちら
か一方に電流を流すことも可箋となっている。
The heater wire 36 has two heating wires 36A, one for low power and one for high power.
36B, and current can be passed through either or both of them as necessary.

このヒータ本体34の外周にはヒータ本体34を収容す
る円筒体44が配設されている0円筒体44の両端面の
軸心部からは前記給水パイプ26が貫通されており、他
は閉止されている0円筒体44の周面には2本のパイプ
46.48の一端が取り付けられ、前記定着液槽16に
おける循環装置の給水及び排水パイプとされている。
A cylindrical body 44 that accommodates the heater body 34 is disposed on the outer periphery of the heater body 34. The water supply pipe 26 passes through the axial center of both end faces of the cylindrical body 44, and the other parts are closed. One ends of two pipes 46 and 48 are attached to the circumferential surface of the cylindrical body 44, which serves as water supply and drainage pipes for the circulation system in the fixer tank 16.

従って、この2本のパイプ46.48の他方の端部は定
着液槽16の側壁へ取り付けられ、このパイプ46.4
8の管路46A、48Aがそれぞれ定着液槽16内と円
筒体44とヒータ本体34との間に設けられるチャン八
50とを連通している。
The other ends of these two pipes 46.48 are therefore attached to the side wall of the fixer tank 16, and the pipes 46.4
Eight pipe lines 46A and 48A communicate with the inside of the fixing liquid tank 16 and a channel 50 provided between the cylindrical body 44 and the heater main body 34, respectively.

これにより、定着液20が循環された場合に。This allows the fixer 20 to be circulated.

この定着液20を1個のヒータ本体34により現像液1
8と同時に加温することができるようになっている。
This fixer 20 is converted into a developer 1 using one heater main body 34.
8 and can be heated at the same time.

第1図に示される如く、ポンプ30を作動させるモータ
52にはインバータ回路54が介在され、これの信号線
53はマイクロコンピュータ42へ接続されている。
As shown in FIG. 1, an inverter circuit 54 is interposed in the motor 52 that operates the pump 30, and a signal line 53 of the inverter circuit 54 is connected to the microcomputer 42.

これにより、モータ52はインバータ回路54の周波数
変換に対応して回転数が無段階に変更できるようになっ
ている。従って、感光材料12の処理数に対応する現像
液18の劣化度や硬質又は通常画質処理に応じて変更周
波数(Fl)を設定しモータ52の回転を変更して給水
路26A及び排水路28A内を流れる現像液18の循環
量を容易に調整できるようになっている。
Thereby, the rotation speed of the motor 52 can be changed steplessly in accordance with the frequency conversion of the inverter circuit 54. Therefore, the change frequency (Fl) is set according to the degree of deterioration of the developer 18 corresponding to the number of processing of the photosensitive material 12, hardness or normal image quality processing, the rotation of the motor 52 is changed, and the rotation of the motor 52 is changed. The circulating amount of the developer 18 flowing through can be easily adjusted.

なお、硬調画質となるものを軟調画質になるように処理
する場合、通常の画質を処理する循環量よりも少ない循
環量として現像液槽14内の循環速度(現像液18の流
動状態)を静止に近い状態とするようになっている。こ
れとは逆に硬調画質になるように処理する場合は多い循
環量とするようになっている。
Note that when processing a high-tone image quality to a soft-tone image quality, the circulation speed in the developer tank 14 (the flow state of the developer 18) is set to a static state, with a circulation amount smaller than the circulation amount for processing normal image quality. It is designed to be in a state close to . On the other hand, when processing to obtain high-contrast image quality, a large amount of circulation is used.

現像液槽14の近傍には、補充タンク64が配設されて
おり、感光材料12の処理量に応じた現像液18の減少
又は現像能力の低下に応じて現像主薬が配合された補充
液62を補充できるようになっている。
A replenishment tank 64 is disposed near the developer tank 14, and a replenishment tank 64 is provided with a replenisher 62 containing a developing agent in response to a decrease in the developer 18 depending on the processing amount of the photosensitive material 12 or a decrease in developing ability. can be replenished.

すなわち、この補充タンク64の側壁66には補充バイ
ブロ8が取り付けられ、この補充バイブロ8の中間部に
はフィルタ70及びポンプ72が介在されており、ポン
プ72に取り付けられたモータ74の駆動力で補充液6
2をフィルタ70で癌過した後に現像液槽14へ供給す
るようになっている。
That is, a replenishment vibro 8 is attached to the side wall 66 of the replenishment tank 64, and a filter 70 and a pump 72 are interposed in the middle of the replenishment vibro 8. Refill fluid 6
2 is passed through a filter 70 and then supplied to the developer tank 14.

なお、モータ74の駆動電源はソリッドステートリレー
73(第4図参照)を介してマイクロコンピュータ42
へ接続され、感光材料12の所定の処理面積に達した場
合にポンプ72を一定時間(TS )作動させる制御を
行なうようになっている。
The driving power for the motor 74 is supplied to the microcomputer 42 via a solid state relay 73 (see FIG. 4).
When a predetermined processing area of the photosensitive material 12 has been reached, the pump 72 is controlled to operate for a certain period of time (TS).

さらに、このマイクロコンピュータ42には感光材料1
2の幅寸法及び処理枚数を検出する処理機検出センサ7
8の信号MA80が接続されている。
Furthermore, this microcomputer 42 has a photosensitive material 1.
Processing machine detection sensor 7 that detects the width dimension and number of sheets processed in 2
8 signal MA80 is connected.

第3図に示される如く、この処理量検出センサ78はそ
のベース81が、現像液槽14における感光材料12の
搬入口へ配設されている。
As shown in FIG. 3, the base 81 of the processing amount detection sensor 78 is disposed at the entrance of the photosensitive material 12 in the developer tank 14.

ベース81の中間部には矩形孔82が設けられており、
感光材料12はこの矩形孔82を通過して現像液槽14
へと至るようになっている。矩形孔82の上面及びf而
にはそれぞれ感光材料を感光させない波長域の光を用い
る光電スイッチの投光部84A及び受光部84Bが取り
付けられている。
A rectangular hole 82 is provided in the middle part of the base 81.
The photosensitive material 12 passes through this rectangular hole 82 and enters the developer tank 14.
It is designed to lead to. A light emitting section 84A and a light receiving section 84B of a photoelectric switch, which use light in a wavelength range that does not sensitize photosensitive materials, are attached to the upper surface and f of the rectangular hole 82, respectively.

光電スイッチの投光部84A及び受光部84Bは、それ
ぞれ感光材料12の幅方向に沿って、複数配設されてお
り、感光材料12の幅寸法に応じて、一部の投光aB8
4Aからの光信号を遮断し、それぞれの光電スイッチの
導通状態をマイクロコンピュータ42で演算して感光材
料12の幅寸法を得ることができるようになっている。
A plurality of light emitting portions 84A and light receiving portions 84B of the photoelectric switch are arranged along the width direction of the photosensitive material 12, and depending on the width dimension of the photosensitive material 12, some of the light emitting portions aB8
The width dimension of the photosensitive material 12 can be obtained by cutting off the optical signal from the photosensitive material 4A and calculating the conduction state of each photoelectric switch using the microcomputer 42.

なお、この処理量検出センサ78は、レバータイプのリ
ミットスイッチを複数個用いて、感光材料12の先端部
の搬送時に導通し、後端部が通過した場合にその導通が
遮断させる機械的な検出手段を適用してもよい。
The processing amount detection sensor 78 uses a plurality of lever-type limit switches to perform mechanical detection that conducts the leading end of the photosensitive material 12 when it is transported and breaks the conduction when the rear end passes. Measures may be applied.

マイクロコンピュータ42では感光材料12の搬送速度
も記憶されるようになっており、これにより、感光材料
12の処理量が面積として計算され、必要な補充液62
の補充量を算出するようになっている。
The microcomputer 42 also stores the conveyance speed of the photosensitive material 12, so that the processing amount of the photosensitive material 12 is calculated as an area, and the necessary replenisher 62 is calculated.
The amount of replenishment is calculated.

以下にマイクロコンピュータ42による制御について詳
細に説明する。
Control by the microcomputer 42 will be explained in detail below.

マイクロコンピュータ42は、空炊検出手段、循環不良
検出手段及び段線検出手段を備えており、別個に説明す
る。
The microcomputer 42 includes an empty cooking detection means, a poor circulation detection means, and a dashed line detection means, which will be explained separately.

まず、第4図に従い空炊検出手段について説明する。First, the dry cooking detection means will be explained according to FIG.

温度センサ40、すなわち下流温度(1口)はA/D変
換回路88でデジタル信号に変換された後、インタフェ
ース90を介してマイクロコンピュータ42のCPUへ
入力されている。
The temperature sensor 40, that is, the downstream temperature (one port) is converted into a digital signal by an A/D conversion circuit 88, and then input to the CPU of the microcomputer 42 via an interface 90.

マイクロコンピュータ42には温度設定器92により予
め設定温度(TC: )が入力されており。
A set temperature (TC: ) is input into the microcomputer 42 in advance by a temperature setting device 92.

この設定温度(TC)と下流温度(1口)は比較される
ようになっている。
This set temperature (TC) and the downstream temperature (1 mouth) are compared.

これが比較された後は、インタフェース90を介してヒ
ータ線用ソリッドステートリレー37及び警告ブザー1
00の作動用ソリッドステートリレー104へ接続され
ている。
After this is compared, the heater wire solid state relay 37 and the warning buzzer 1 are connected via the interface 90.
00 is connected to the operating solid state relay 104.

次に1wJ環不良不良検出は、給水パイプ26及び排水
パイプ28内を流れる現像液14の流速がおちた場合に
、これをヒータ本体34の前後の現像液1日の温度の差
で判別して、制御する構成となっている。
Next, 1wJ ring failure is detected by determining this by the difference in temperature of the developer before and after the heater main body 34 in one day when the flow velocity of the developer 14 flowing in the water supply pipe 26 and the drain pipe 28 drops. , it is configured to control.

温度センサ38.40により測定された下流温度(TO
)及び上流温度(TO)はA/I)変換回路87.88
でデジタル変換した後、これらの差温(TU−1口)が
算出される。
Downstream temperature measured by temperature sensor 38.40 (TO
) and upstream temperature (TO) is A/I) conversion circuit 87.88
After digital conversion, these temperature differences (TU-1 mouth) are calculated.

マイクロコンピュータ42には適正循環時での温度差(
TO)が入力されており、これらを比較して適正周波数
(FO)を決めインタフェース90を介してインバータ
回路54を作動させて循環量を調整するようになってい
る。
The microcomputer 42 records the temperature difference (
TO) is input, these are compared to determine an appropriate frequency (FO), and the inverter circuit 54 is operated via the interface 90 to adjust the circulation amount.

また1、断線検出手段は、上流温度(Ttl )から下
流温度(TO)への一定時間の上昇率をヒータ線36へ
の給電中に逐次測定して温度センサ38.40の導通状
態を判別し、温度上昇がない場合に警告ブザー100等
で警告する構成となっている。
1. The disconnection detection means sequentially measures the rate of increase from the upstream temperature (Ttl) to the downstream temperature (TO) over a certain period of time while power is being supplied to the heater wire 36, and determines the conduction state of the temperature sensor 38.40. If there is no temperature rise, a warning buzzer 100 or the like is used to issue a warning.

すなわち、と流温度(了り)及び下流温度(1口)がそ
れぞれA/D変挽回路87.88でデジタル信号に変換
された後、インタフェース90を介してマイクロコンピ
ュータ42のCPUへ入力されている。
That is, after the flow temperature (completed) and the downstream temperature (1 port) are each converted into digital signals by A/D conversion circuits 87 and 88, they are inputted to the CPU of the microcomputer 42 via the interface 90. There is.

マイクロコンピュータ42では、上流から下流への温度
上昇を算出し、変化がない場合に出力するようになって
おり、出力時にはインタフェース90を介してヒータ線
36への給電を遮断する信号をソリッドステートリレー
37へ送信し、警告ブザー100の作動用ソリッドステ
ートリレー104も信号を送るようになっている。
The microcomputer 42 calculates the temperature rise from upstream to downstream, and outputs it if there is no change. When outputting, a signal is sent to the solid state relay to cut off the power supply to the heater wire 36 via the interface 90. 37, and the solid state relay 104 for operating the warning buzzer 100 also sends the signal.

以下に本実施例の作用を説明する。The operation of this embodiment will be explained below.

感光材料12が処理液Jl’l14内搬送され処理され
ると、これに応じて処理能力が低下する。
When the photosensitive material 12 is transported and processed within the processing liquid Jl'l 14, the processing capacity decreases accordingly.

これは、感光材料12回りに疲労液が滞留したり、感光
材料12の処理に応じて現像液18に含まれる現像主薬
が減少するためであり、これを防止するために現像液槽
14内の現像液18を循環装置22で循環して、常に攪
拌している状態としている。
This is because the fatigue solution accumulates around the photosensitive material 12 and the developing agent contained in the developer 18 decreases as the photosensitive material 12 is processed. The developer 18 is circulated by a circulation device 22 and constantly stirred.

これにより、現像ムラが防IFでき、現像液18をムダ
なく使用できる。
As a result, uneven development can be prevented by IF, and the developer 18 can be used without waste.

現像液18は、ポンプ30により1排水路28Aへと吸
い出され、フィルタ32を介して給水路26Aへと至り
、再び現像液槽14へと流入される。ここで、給水路2
8Aの中間部には、筒状のヒータ本体34が介在されて
おり、現像液18はここで加温され、適温である38℃
とされた後、現像液槽14へと至るので、循環による温
度低下はない。
The developer 18 is sucked out by the pump 30 to the first drainage channel 28A, passes through the filter 32 to the water supply channel 26A, and flows into the developer tank 14 again. Here, water supply channel 2
A cylindrical heater main body 34 is interposed in the middle of 8A, and the developer 18 is heated here to an appropriate temperature of 38°C.
After that, the developer reaches the developer tank 14, so there is no temperature drop due to circulation.

また、このヒータ本体34は、低電力と高電力の2mの
電熱線36A、36Bが埋設されているので、必要に応
じて加8電力を変更することもできる。
Moreover, since the heater main body 34 has 2 m long heating wires 36A and 36B of low power and high power buried therein, the applied power can be changed as needed.

さらに、ヒータ本体34はセラミック製であるので、成
型時にヒータ線を容易に埋設させることができ、ヒータ
本体34内を通過する現像液18を均一に加温すること
ができるので温度ムラはない。
Further, since the heater body 34 is made of ceramic, the heater wire can be easily embedded during molding, and the developer 18 passing through the heater body 34 can be heated uniformly, so there is no temperature unevenness.

ヒータ本体34の外周には円筒体44が配設され、定着
液20をf1g5する際にこの円筒体44により設けら
れたチャンバ50を通過させているので、現像液18と
共に定着液20も加温することができる。
A cylindrical body 44 is disposed on the outer periphery of the heater body 34, and when the fixer 20 is f1g5, it passes through a chamber 50 provided by this cylindrical body 44, so that the fixer 20 is heated together with the developer 18. can do.

以下に、第5図(A)乃至(G)の制御フローチャート
に従い説明する。
The following description will be made according to the control flowcharts shown in FIGS. 5(A) to 5(G).

まず、第5図(A)で示される如く、ステップ200で
温度設定器92で設定した温度(TC)値を取り込む0
次にステップ201で処理開始と判断されるとステップ
202で適正循環時での温度差(TO)を読み込み、循
環ポンプ30を作動させ、ヒータ線36へ給電(以下ヒ
ータをオンという)する(ステップ204,206)。
First, as shown in FIG.
Next, when it is determined in step 201 that the process has started, the temperature difference (TO) during proper circulation is read in step 202, the circulation pump 30 is activated, and power is supplied to the heater wire 36 (hereinafter referred to as turning on the heater) (step 202). 204, 206).

ヒータをオンした後、ステップ208で空炊検出制御を
実行し1次いで′g4環不良不良検出制御断線不良検出
制御を実行する(ステップ21O1212)。
After turning on the heater, empty cooking detection control is executed in step 208, and then 'g4 ring defect detection control and disconnection defect detection control is executed (step 21O1212).

ステップ214では現像液の循環量制御を実行し、ステ
ップ218.218ではそれぞれ温度制御及び補充量の
制御をする。
In step 214, the circulating amount of developer is controlled, and in steps 218 and 218, temperature control and replenishment amount are controlled, respectively.

次にステップ220で現像処理が継続される場合はステ
ップ208へ移行する。
Next, if the development process is to be continued in step 220, the process moves to step 208.

第5図(B)に示される如く、ステップ208のサブル
ーチンでは、ステップ222において下流温度(TO)
が適正温度差(TO)に所定温度を加算した温度(TL
 )よりも高い場合は空炊と判断され、ステップ224
でヒータ1iA3Bへの給電を遮断(以下ヒータをオフ
という)し、次いでステップ226で警告ブザー100
を鳴らすので1作業員はこれを未然に知ることができる
As shown in FIG. 5(B), in the subroutine of step 208, the downstream temperature (TO) is determined in step 222.
is the temperature (TL
), it is determined that empty cooking is occurring, and step 224
In step 226, the power supply to the heater 1iA3B is cut off (hereinafter referred to as turning off the heater), and then in step 226 the warning buzzer 100 is turned on.
A worker can know this before it happens.

ステップ22Bで警告ブザー100の作動を停止させる
と、ステップ200へ移行する。
When the warning buzzer 100 is deactivated in step 22B, the process moves to step 200.

ステップ222において下流温度(TO)が温度(TL
 )よりも低い場合はメインルーチンへリターンする。
In step 222, the downstream temperature (TO) is changed to the temperature (TL
), return to the main routine.

次に第5図(C)のフローチャートに従い、′Oa環不
良不良検出制御ブルーチンを説明する。
Next, the 'Oa ring defect detection control routine will be explained according to the flowchart of FIG. 5(C).

ステップ230では下流温度(1口)と上流温度(Tυ
)の温度差を設定温度(TO)と比較する。ここで、前
記温度差が設定温度(To )よりも高い場合は現像液
18の循環量が低下していると判断し、この補正周波数
(FO)を読み込む(ステップ232)。
In step 230, the downstream temperature (1 port) and the upstream temperature (Tυ
) is compared with the set temperature (TO). Here, if the temperature difference is higher than the set temperature (To), it is determined that the circulating amount of the developer 18 is decreasing, and this correction frequency (FO) is read (step 232).

次にステップ234で現在の周波数と補正周波数(FO
)とを比較し、現在の周波数が低い場合はステップ23
6でインバータ回路54の周波数を上げる。これを繰り
返しステップ234で現在の周波数と補正周波数(FO
)が等しくなった場合はステップ238へ移行し、周波
数を固定しメインルーチンへ移行する。
Next, in step 234, the current frequency and the correction frequency (FO
), and if the current frequency is low, step 23
6, the frequency of the inverter circuit 54 is increased. This is repeated in step 234 where the current frequency and correction frequency (FO
) become equal, the process moves to step 238, the frequency is fixed, and the process moves to the main routine.

これにより、ポンプ30が正常に作動しているにも拘ら
ず、フィルタ32の目づまり等で現像液18の循環量が
低下した場合でも循環量を自gJW4整することができ
る。
Thereby, even if the pump 30 is operating normally and the circulating amount of the developer 18 is reduced due to clogging of the filter 32, etc., the circulating amount can be adjusted automatically.

なお、ステップ230で前記温度差が設定温度(TO)
よりも低い場合はここでメインルーチンへリターンする
Note that in step 230, the temperature difference is determined as the set temperature (TO).
If it is lower than , return to the main routine here.

ステップ238でメインルーチンへ移行した後は第5図
CD)に示す断線不良検出制御のサブルーチンへ移行す
る。
After moving to the main routine in step 238, the process moves to a subroutine for wire breakage detection control shown in FIG. 5 (CD).

まず、ステップ240でヒータがオン状態であるか否か
を判断し、ヒータがオンと判断されると、ステップ24
2で一定時間毎の下流温度(TD )と上流温度(Tt
l)との間の上昇温度を比較する。ここで、一定時間内
で温度上昇が無い場合、温度センサ38.40(測温抵
抗体38A、4OA又は信号線38B、40B)自身の
断線と判断し、ステップ244へ移行してヒータをオフ
とし、次いでステップ246で警告ブザー100を鳴ら
す。
First, in step 240, it is determined whether the heater is on, and if it is determined that the heater is on, step 24
2, the downstream temperature (TD) and upstream temperature (Tt
Compare the temperature increase between 1) and 1). Here, if the temperature does not rise within a certain period of time, it is determined that the temperature sensor 38, 40 (resistance temperature detector 38A, 4OA or signal line 38B, 40B) itself is disconnected, and the process moves to step 244 to turn off the heater. Then, in step 246, the warning buzzer 100 sounds.

ステップ248で警告ブザーlOOの作動が停止される
とステップ200へ移行する。
When the warning buzzer lOO is deactivated in step 248, the process moves to step 200.

なお、ステップ240でヒータがオンされていない場合
、及びステップ242で温度差が生じている場合は正常
と判断し、メインルーチンへ移行する。
Note that if the heater is not turned on in step 240 and if there is a temperature difference in step 242, it is determined that the condition is normal, and the process moves to the main routine.

次に、第5図(E)のフローチャートに従い、循環量制
御を説明する。
Next, circulation amount control will be explained according to the flowchart of FIG. 5(E).

ステップ250で@理事を変更する必要があると判断さ
れるとステップ252へ移行し、これに対応した周波数
(Fl )を読み込む。
If it is determined in step 250 that @director needs to be changed, the process moves to step 252, and the corresponding frequency (Fl) is read.

これは、A体重には感光材料が送されない場合に、これ
を処理量検出センサ78で検出して循環量を通常の約半
分(41/min、)に制御して現像液18の酸化等を
防+h したり、通常画質から軟調画質になる処理へ変
更する場合には循環量を少なくし現像液18を静止に近
い状態で処理するのが好ましく、また、硬調画質になる
処理へ変更する場合には循環を多くするのが好ましい、
そしてこれらの目的に応じて周波数(Fl)が算出され
る。
When no photosensitive material is sent to weight A, this is detected by the throughput detection sensor 78 and the circulation rate is controlled to about half the normal rate (41/min) to prevent oxidation of the developer 18, etc. When changing from normal image quality to soft-tone image quality, it is preferable to reduce the amount of circulation and process the developer 18 in a nearly stationary state, and when changing to high-tone image quality. It is preferable to increase circulation for
The frequency (Fl) is then calculated according to these purposes.

ステップ254では現在の周波数と前記周波数(Fl 
)とが比較され、現在の周波数の方が高い場合はステッ
プ256でインバータ回路54の周波数を低くシ、逆に
低い場合はステップ258へ移行してインバータ回路5
4の周波数を高くする。これを繰り返し1周波数が等し
くなるとステップ254からステップ260へ移行しイ
ンバータ回路54の周波数を固定した後、メインルーチ
ンへ移行する。
In step 254, the current frequency and the frequency (Fl
) is compared, and if the current frequency is higher, the frequency of the inverter circuit 54 is lowered in step 256;
Increase the frequency of 4. This process is repeated until one frequency becomes equal, and the process moves from step 254 to step 260, where the frequency of the inverter circuit 54 is fixed, and then the process moves to the main routine.

第5図(F)に示される如く、温度制御サブルーチンで
は、ステップ262で下流温度(TO)と設定温度CT
C’)とを比較し、下流温度(TO)が設定温度(TO
)よりも高い又は等しい場合はヒータをオフした後リタ
ーンしくステップ264)、下流温度(TO)の方が低
い場合は、ステップ265でヒータをオンさせでリター
ンする。
As shown in FIG. 5(F), in the temperature control subroutine, in step 262, the downstream temperature (TO) and the set temperature
C'), and the downstream temperature (TO) is the set temperature (TO
), the heater is turned off and the process returns (step 264); if the downstream temperature (TO) is lower, the heater is turned on in step 265 and the process returns.

これを繰り返すことにより、現像液18の温度を設定温
度に近づけると共に温度を均一に保つことができる。
By repeating this, the temperature of the developer 18 can be brought close to the set temperature and the temperature can be kept uniform.

第5図(G)には補充量制御のサブルーチンが示されて
いる。
FIG. 5(G) shows a subroutine for controlling the replenishment amount.

ステップ266では感光材料12の処理数をモの面積と
処理速度で積算し、所定処理数(面ia)に達したか否
かを判別する。感光材料12が所定処理数(面m)に達
していない場合はリターンする。
In step 266, the number of processed photosensitive materials 12 is integrated by the area of the photosensitive material 12 and the processing speed, and it is determined whether a predetermined number of processed items (area ia) has been reached. If the photosensitive material 12 has not reached the predetermined number of processed surfaces (surface m), the process returns.

また、感光材料12が所定処理数(面積)に達した場合
には、適正補充時間(TS、)を読み込んだ後、補充液
62を現像液槽14へ搬送するポンプ72を作動させる
(ステップ267、ステップ268)。
Further, when the photosensitive material 12 reaches a predetermined processing number (area), after reading the appropriate replenishment time (TS), the pump 72 that transports the replenisher 62 to the developer tank 14 is activated (step 267 , step 268).

補充時間が終了すると、ポンプ72を停止させリターン
する(ステップ270,272)。
When the replenishment time ends, the pump 72 is stopped and the process returns (steps 270, 272).

このように1本実施例に適用された循環装置22では、
温度制御、循環量制御及び補充量制御をマイクロコンピ
ュータ42で行なうと共に、現像液18の循環不良、空
炊及び信号線の断線を補償しているので、現像液18が
最適な状態に保たれ、現像不良をおこすことがない。
In this way, in the circulation device 22 applied to this embodiment,
The microcomputer 42 performs temperature control, circulation amount control, and replenishment amount control, and also compensates for poor circulation of the developer 18, dry cooking, and disconnection of the signal line, so the developer 18 is maintained in an optimal state. No developing defects will occur.

なお、本実施例では現像液槽14に設置された循環装置
22について説明したが、この循g5装置22を定着液
槽16等の他の処理液槽の循環装置に用いてもよい。
In this embodiment, the circulation device 22 installed in the developer tank 14 has been described, but the circulation device 22 may be used as a circulation device for other processing liquid tanks such as the fixer tank 16.

[発明の効果] 以上説明した如く1本発明に係る写真処理装置では、感
光材料を処理する処理液が収容された処理液槽と、この
処理液槽から処理液を再度処理液槽へとポンプで案内す
る循環路を備えた循環装置と、前記循環路に配置され処
理液を加温するヒータと、このヒータに近接配置され処
理液の温度を検出する温度センサと、ヒータ通電中に前
記温度センサ出力が急激にk Rシたか否かを判断して
ヒータへの給電を中止させる制御手段と、を有すること
を特徴としているので、処理液の温度制御ができ循環液
を均一に加温することができるという優れた効果を有す
る。
[Effects of the Invention] As explained above, the photographic processing apparatus according to the present invention includes a processing liquid tank containing a processing liquid for processing a photosensitive material, and a pump for pumping the processing liquid from this processing liquid tank back to the processing liquid tank. a circulation device equipped with a circulation path for guiding the processing liquid; a heater placed in the circulation path for heating the processing liquid; a temperature sensor placed close to the heater for detecting the temperature of the processing liquid; It is characterized by having a control means for determining whether or not the sensor output suddenly increases and stops power supply to the heater, so that the temperature of the processing liquid can be controlled and the circulating liquid can be heated uniformly. It has the excellent effect of being able to

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本実施例に係る写真処理装置の配管図、第2図
(A)及び(B)はヒータ部の斜視図及び断面図、第3
図は処理量検出センサの斜視図及び断面図、第4図は制
御ブロック図、第5図(A)乃至(G)はfi制御フロ
ーチャートである。
Fig. 1 is a piping diagram of the photographic processing apparatus according to this embodiment, Figs. 2 (A) and (B) are perspective views and cross-sectional views of the heater section, and Fig. 3
The figures are a perspective view and a sectional view of the processing amount detection sensor, FIG. 4 is a control block diagram, and FIGS. 5(A) to (G) are fi control flowcharts.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)感光材料を処理する処理液が収容された処理液槽
と、この処理液槽からの処理液を再度処理液槽へとポン
プで案内する循環路を備えた循環装置と、前記循環路に
配置され処理液を加温するヒータと、このヒータに近接
配置され処理液の温度を検出する温度センサと、ヒータ
通電中に前記温度センサ出力が急激に上昇したか否かを
判断してヒータへの給電を中止させる制御手段と、を有
することを特徴とした写真処理装置。
(1) A circulation device comprising a processing liquid tank containing a processing liquid for processing a photosensitive material, a circulation path for guiding the processing liquid from this processing liquid tank to the processing liquid tank again by a pump, and the circulation path. a heater placed in the heater for heating the processing liquid; a temperature sensor placed close to the heater for detecting the temperature of the processing liquid; and a temperature sensor placed near the heater to detect the temperature of the processing liquid; A photographic processing apparatus comprising: a control means for stopping power supply to the apparatus.
(2)前記ヒータは筒状のヒータ本体と、このヒータ本
体に埋設された熱源とで構成され、ヒータ本体の管路が
前記循環路と連通されていることを特徴とする前記特許
請求の範囲第(1)項に記載の写真処理装置。
(2) The above-mentioned claim is characterized in that the heater is composed of a cylindrical heater body and a heat source embedded in the heater body, and a pipe line of the heater body is communicated with the circulation path. The photographic processing device according to paragraph (1).
(3)前記熱源は低電力と高電力の2個の電力回路を備
えていることを特徴とする前記特許請求の範囲第(2)
項に記載の写真処理装置。
(3) Claim (2) characterized in that the heat source includes two power circuits, one low power and one high power.
Photographic processing equipment as described in Section.
JP9037586A 1986-04-18 1986-04-18 Photographic processing device Pending JPS62246058A (en)

Priority Applications (1)

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JP (1) JPS62246058A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0364749A (en) * 1989-08-03 1991-03-20 Fuji Photo Film Co Ltd Solvent applying device for image formation
JPH0462551A (en) * 1990-07-02 1992-02-27 Fuji Photo Film Co Ltd Heater for processing solution of automatic developing device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0364749A (en) * 1989-08-03 1991-03-20 Fuji Photo Film Co Ltd Solvent applying device for image formation
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