JPS62245705A - Ferromagnetic resonator - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は股肉に垂直に磁界が印加される強磁性薄膜を用
いた強磁性共鳴装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a ferromagnetic resonance apparatus using a ferromagnetic thin film in which a magnetic field is applied perpendicularly to the crotch.
本発明は強磁性共鳴装置に関し、欣面に垂直に磁界が印
加される強磁性薄膜に入力線路が結合せしめられ、この
入力線路におい°C第1の特性インピーダンスをn1る
と共に、強磁性M膜との結合部において第1の特性イン
ピーダンスより小さい第2の特性インピーダンスを有す
ることにより、使用誘電体の厚み、誘電率及び線路の配
置を変更することなく、線路及び強磁性薄膜間の結合を
強化することによっ°ζ、挿入損失及びその3dB帯域
幅の拡張を図るようにしたものである。The present invention relates to a ferromagnetic resonance device, in which an input line is coupled to a ferromagnetic thin film to which a magnetic field is applied perpendicularly to the magnetic field. By having a second characteristic impedance smaller than the first characteristic impedance at the coupling part with the line, the coupling between the line and the ferromagnetic thin film is strengthened without changing the thickness of the dielectric used, the dielectric constant, or the arrangement of the line. By doing so, it is possible to reduce insertion loss and expand its 3 dB bandwidth.
従来、YIG薄膜とストリップラインとを用いた量産性
の商い薄腺化YIGフィルタ(強磁性共鳴装置)が提案
されている(例えば、特開昭59−103403号公報
)。本発明と比較すべき従来の強磁性薄膜フィルタの一
例を第7図を参照して説明する。第7図Aはこのフィル
タの平面図、第7図Bはそのb−b線上の断面図である
。これは1段のフィルタである。 (11)は誘電体
基板としての石英基板で、その裏面iこは接地導電ji
iii(12)が全面にhり被着形成されている。この
石英基板(11)の表面上の中央部に、出力側マイクロ
ストリップライン(導電J’t#) (14)が被着
形成され、その−端は延長され°ζ接地導電1+#(1
2)に接続(短絡)される。(14a)は、この出力側
マイクロストリップライン(14)の短絡端部である。Hitherto, a mass-producible thinned YIG filter (ferromagnetic resonance device) using a YIG thin film and a strip line has been proposed (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 103403/1983). An example of a conventional ferromagnetic thin film filter to be compared with the present invention will be explained with reference to FIG. FIG. 7A is a plan view of this filter, and FIG. 7B is a sectional view taken along the line bb. This is a one stage filter. (11) is a quartz substrate as a dielectric substrate, the back surface of which is grounded and conductive.
iii (12) is coated on the entire surface. An output side microstrip line (conductive J't#) (14) is deposited on the center of the surface of this quartz substrate (11), and its negative end is extended and the ground conductive 1+# (1
2) is connected (shorted). (14a) is the shorted end of this output side microstrip line (14).
(17)はGGC; (ガドリニウム・ガリウム・ガー
ネット)板で、その一方の主向上に液相エピタキシャル
法により成長さゼーたYIGHMに、上り、フォトリソ
グラフィを用い°ζ円板状のYIG薄Iff(15)を
形成し、このYIG)i膜(15)を出力側マイクロス
トリップライン(14)の上の短絡端部(14a)付近
に密着して置く。このGGC板(17)の(h方の主向
上に、YIG薄II(15)に対向し、出力側マイクロ
ストリップライン(14)と交叉する如く入力端マイク
ロストリップライン(13)を被着形成し、その一端は
延長されて接地導電層(12)に接続(短絡)される。(17) is a GGC; (gadolinium gallium garnet) plate, one of which is mainly grown by the liquid phase epitaxial method, and the YIGHM is grown by the liquid phase epitaxial method. 15), and this YIG)i film (15) is placed in close contact with the vicinity of the short-circuited end (14a) on the output side microstrip line (14). An input end microstrip line (13) is formed on the main upper side of this GGC plate (17) in the h direction, facing the YIG thin II (15) and intersecting with the output side microstrip line (14). , one end of which is extended and connected (short-circuited) to the ground conductive layer (12).
(13a)は入力端マイクロストリップライン(13)
の短絡端部で、この端部(13a)の近傍に、yrc薄
19!(15)が対向せしめられる。(13a) is the input end microstrip line (13)
At the short-circuited end of , near this end (13a), yrc thin 19! (15) are made to face each other.
而、入力及び出力側マイクロストリップライン(1:(
) 、 (14)の特性インピーダンスが共に50Ω
となるように、各ライン(13) 、 (14)及び
接地導電w4(12)間ノ31電体基& (11) 及
ヒGC:Gi(17)の介在を考慮して、その谷幅が選
定されている。The input and output side microstrip lines (1: (
) and (14) both have a characteristic impedance of 50Ω.
Taking into consideration the interposition of each line (13), (14) and the ground conductor between w4 (12) and (11) and GC:Gi (17), the width of the valley is Selected.
又、入力及び出力側マイクロストリップライン(13)
、 (14)の各端部には夫々コネクタ(図ボせず
)が取付けられ、これらコネクタを介し”ζ、入力及び
出力側マイクロストリップライン(13) 。Also, input and output side microstrip line (13)
, (14) are each equipped with a connector (not shown), and the microstrip line (13) on the input and output sides is connected via these connectors.
(14)が外部回路に接続される。(14) is connected to an external circuit.
そして第8図及び第9図に示す如き、磁気装置の磁気ヨ
ークY内の対向する永久磁、/1 (19) 。As shown in FIGS. 8 and 9, the opposing permanent magnets in the magnetic yoke Y of the magnetic device are /1 (19).
(20)間のギャップCP内に第7図のフィルタを第8
図にポすように配し、Y I G8検(15)に、その
フェリ磁性共鳴のために、その膜面に!lE直で一様な
バイアス直流磁界を与えることによっ°C1固定フィル
タ装置を得ることができる。又、第1θ図にボずように
、磁気ヨークY内に、永久磁イ1(I’ll) 、
(20)と共に、発生磁界を可変できる電磁石(19B
) 、 (20B )を配した磁気装置のギャップ
GP内に、第7図のフィルタを配することにより、狭帯
jSロJ変フィルタ装置を得ることもできる。(20) Insert the filter shown in Figure 7 within the gap CP between
Arrange it as shown in the figure, Y I G8 test (15), due to its ferrimagnetic resonance, on the film surface! By applying a uniform bias direct current magnetic field at 1E, a fixed filter device of °C1 can be obtained. Also, as shown in Fig. 1θ, there are permanent magnets 1 (I'll) in the magnetic yoke Y,
(20) and an electromagnet (19B) that can vary the generated magnetic field.
), (20B) by placing the filter shown in FIG. 7 in the gap GP of the magnetic device, a narrow band jS ro J-variant filter device can be obtained.
かかるN股ylGフィルタは、マイクロ波帯で使用する
場合Qが商り、共振周波数がYIG@磁性体の体積に依
存せず、バイアス磁界の強さを可変することにより共振
周波数を広帯域に亘って直線的に可変でき、又、YIG
I模の形成にフォトリングラフィ技術を採用できるとこ
ろから、量産性が高く、特性のばらつきが少なく、fM
副調整が61能で、しかも廉価であるという特長を有す
る。When such an N-crotch ylG filter is used in the microwave band, the Q is quotient, the resonance frequency does not depend on the volume of the YIG@magnetic material, and the resonance frequency can be varied over a wide band by varying the strength of the bias magnetic field. Can be varied linearly, and YIG
Since photolithography technology can be used to form the I model, mass production is high, there is little variation in characteristics, and fM
It has the advantage of having 61 sub-adjustments and being inexpensive.
ところで、かかる従来の強磁性共鳴装置では、入力及び
出力線路(入力及び出力側マイクロストリップライン(
13) 、 (14)の特性インピーダンスは、外!
’fB [1111ffiとのインピーダンス整合を考
慮して、例えば50Ωと比較的大きな値に設定されてい
た。By the way, in such a conventional ferromagnetic resonance device, input and output lines (input and output side microstrip lines (
13) The characteristic impedance of (14) is outside!
In consideration of impedance matching with 'fB [1111ffi, it was set to a relatively large value of, for example, 50Ω.
このため、従来の強磁性共鳴装置には、各線路(13)
、 (14)及び強磁性薄膜(15)間の結合が弱
く成り、これにより挿入損失が増加するという欠点があ
った。Therefore, in a conventional ferromagnetic resonance device, each line (13)
, (14) and the ferromagnetic thin film (15) becomes weak, resulting in an increase in insertion loss.
これを解決するために、誘電体基数(11)及びGGC
板(17)の厚みを減少させ、出力線路(14)から接
地導電層(12)に向う電界の電束密度及び磁界の磁束
密度を大きくし、これによって出力線路(14)及び強
磁性薄II(15)間の結合を強くすることも考えられ
るが、入力線II(13)に対しては、強磁性Wl膜(
15)は磁束の集中しない方に位置してしまい、却って
結合が弱くなってしまう。In order to solve this problem, dielectric base number (11) and GGC
The thickness of the plate (17) is reduced to increase the electric flux density of the electric field and the magnetic flux density of the magnetic field from the output line (14) to the ground conductive layer (12), thereby increasing the output line (14) and the ferromagnetic thin II (15) may be considered, but for input line II (13), the ferromagnetic Wl film (
15) is located on the side where magnetic flux is not concentrated, and the coupling becomes weaker on the contrary.
かかる点に綴み、本発明は使用誘電体の厚み、誘電率及
び線路の配置を変更することなく、線路及び強磁性81
3間の結合を強化するごとによっ°(、挿入損失及びそ
の3dB帯域幅の拡張を図ることのできる強磁性共鳴装
置を提案しようとするものである。Addressing these points, the present invention provides a method for forming lines and ferromagnetic 81 without changing the thickness, dielectric constant, or arrangement of the dielectric used.
This paper attempts to propose a ferromagnetic resonance device that can increase the insertion loss and its 3 dB bandwidth by strengthening the coupling between the two.
(問題点を解決するための手段)
本発明による強磁性共鳴装置は、膜面に垂直に磁界が印
加される強磁性薄1iJ(15)と、この強磁性1VI
I!(15)に結合せしめられる入力線路(13)とを
備え、この入力線路(13)は、その入力端(13B
)において第1の特性インピーダンスをイfすると共に
、強磁性成1’E(15)との結合部(12C)におい
て第1の特性インピーダンスより小さい第2の特性イン
ピーダンスを有することを特徴とするものである。(Means for Solving the Problems) The ferromagnetic resonance device according to the present invention includes a ferromagnetic thin 1iJ (15) to which a magnetic field is applied perpendicular to the film surface, and a ferromagnetic thin
I! (15), and this input line (13) is connected to its input end (13B).
), and has a second characteristic impedance smaller than the first characteristic impedance at the coupling part (12C) with the ferromagnetic component 1'E (15). It is.
かかる本発明によれば、入力線路(13)の特性インピ
ーダンスが、入力端においては大きく、強磁性成FJ(
15)との結合部においては小さくなるように選定する
ので、入力線路(13)及び強磁性H襖Hs)間の結合
が強化される。According to the present invention, the characteristic impedance of the input line (13) is large at the input end, and the ferromagnetic component FJ (
15) is selected to be small, so that the coupling between the input line (13) and the ferromagnetic H sliding door Hs) is strengthened.
以下に、第1図、第2図及び第3図を参照して、本発明
の一実施例を詳細に説明する。これは2段フィルタであ
る。(11)は誘電体基板とし′この石英基板(0,3
m+−厚)で、その裏面には接地導電1−(12)が全
面に酊り被着形成されている。この石英基&(11)の
表面上の両側付近にJLいに平行で、t7いに逆向きの
第1及び第2の方向に延在する入力及び出力側マイクロ
ストリップライン(導電層)(13) 、 (14)
が被着形成され、その住いに反対向きの各一端は開放さ
れる。(13A ) 、 (14A )はマイクロス
トリップライン(13) 、 (14)の各開放端部
である。An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to FIGS. 1, 2, and 3. This is a two-stage filter. (11) is a dielectric substrate; this quartz substrate (0,3
m+-thickness), and a ground conductive layer 1-(12) is deposited on the entire surface of the back surface. Input and output side microstrip lines (conductive layers) (13 ), (14)
are deposited and each end facing away from the housing is open. (13A) and (14A) are the open ends of the microstrip lines (13) and (14), respectively.
(17)はGGG (ガドリニウム・ガリウム・ガーネ
ット)板(0,4mm厚)で、その上に液相エピタキシ
ャル法により成長させたYIG薄膜により、フォトリン
グラフィを用いて、厚さが15μ鋼、直径が1.5m−
の円板状のYIG薄映(15) 、 (16)を形成
し、各々のYIG薄膜(15) 、 (16)を入力
及び出力側マイクロストリップライン(13)。(17) is a GGG (gadolinium gallium garnet) plate (0.4 mm thick), on which a YIG thin film grown by the liquid phase epitaxial method is grown using photolithography, and the thickness is 15μ steel. is 1.5m-
A disk-shaped YIG thin film (15), (16) is formed, and each YIG thin film (15), (16) is connected to an input and output side microstrip line (13).
(14)の上の開放端部(13八)、(14^)より後
述する特性の距離だけ離れた位置に密着して置く。The upper open ends (138) and (14^) of (14) are placed in close contact at a distance of a characteristic described later.
このGGG板(17)の他方の主面上に、YIG薄膜(
15) 、 (16)に対向し、入力及び出力側マイ
クロストリップライン(13) 、 (14)と交叉
する如く連結用マイクロストリップライン(18)を被
着形成し、その両端は開放される。(18A)。On the other main surface of this GGG plate (17), a YIG thin film (
A connecting microstrip line (18) is formed so as to face the microstrip lines 15) and (16) and intersect the input and output side microstrip lines (13) and (14), and both ends thereof are open. (18A).
(18B)はマイクロストリップライン(18)の両開
放端部である。(18B) are both open ends of the microstrip line (18).
ぞして、入力及び出力側マイクロストリップライン(1
3) 、 (14)の入力及び出力端(13B)。Then, connect the input and output side microstrip lines (1
3) Input and output terminals (13B) of (14).
(14B)の特性インピーダンスを例えば50Ωに設定
し、YIC薄股C15) 、(16)との結合部(13
c)(14G)の特性インピーダンスを30Ωに設定す
る。The characteristic impedance of (14B) is set to 50Ω, for example, and the coupling part (13B) with YIC thin crotch C15) and (16)
c) Set the characteristic impedance of (14G) to 30Ω.
この場合、入力及び出力側マイクロストリップライン(
13) 、 (14)の誘電体基板(11)の縁から
GGG&(17)の縁に至る部分(7,5mm)の特性
インピーダンスが、誘亀体基&(11)の縁からGGG
扱(17)の縁に行くに従って、例えば50Ωから30
Ωに漸次小さくなるように、入力及び出力側マイクロス
トリップライン(13) 、 (14)及び接地環?
t!jtf(12)間の#p、′f!t1体基板(11
)の介在を考慮して、その各部分の幅を0.64〜1.
36+w+wに設定し°ζ、その両側をテーパー状にす
る。又、入力及び出力側マイクロストリップライン(1
3) 、 (14)のGGG&(17)の両縁間に跨
がる部分の特性インピーダンスが、例えば30Ω一定と
なるように、入力及び出力側マイクロストリップライン
(13) 。In this case, input and output microstrip lines (
13) The characteristic impedance of the portion (7.5 mm) from the edge of the dielectric substrate (11) in (14) to the edge of GGG & (17) is from the edge of dielectric substrate (11) to GGG
For example, from 50Ω to 30Ω as you go to the edge of (17)
Input and output side microstrip lines (13), (14) and ground ring so that Ω gradually decreases?
T! #p, 'f! between jtf(12)! t1 body board (11
), the width of each part is set to 0.64 to 1.
Set it to 36+w+w and make both sides tapered. In addition, input and output side microstrip lines (1
3) Input and output microstrip lines (13) so that the characteristic impedance of the portion spanning between both edges of GGG & (17) in (14) is constant, for example, 30Ω.
(14)及び接地導電層(12)間の誘電体基板(11
)の介在を考慮して、その幅を一定の@ (1、021
m11)に設定する。又、連結用マイクロストリップラ
イン(18)の特性インピーダンスが50Q一定となる
ように、連結用マイクロストリップライン(18)及び
接地導電層(12)間の誘本体基&(11)及びGGG
板(17)の介在を考慮して、その幅を一定の幅0.7
9++−に設定する。(14) and the dielectric substrate (11) between the ground conductive layer (12)
), the width is set to a constant @ (1,021
m11). In addition, the dielectric base & (11) and GGG between the connecting microstrip line (18) and the ground conductive layer (12) are arranged so that the characteristic impedance of the connecting microstrip line (18) is constant at 50Q.
Considering the intervention of the plate (17), its width is set to a constant width of 0.7
Set to 9++-.
そして、第1図、第2図及び第3図に示すフィルタを、
第8図及び第9図又は第1θ図の磁気装置のギャップC
P内に配し、YIG薄151! (15) 。Then, the filters shown in FIGS. 1, 2, and 3 are
Gap C of the magnetic device in Figures 8 and 9 or Figure 1θ
Placed inside P, YIG thin 151! (15).
(16)に、そのフェリ磁性共鳴のために、その設面に
垂直で一様なバイアス直流磁界を与えて、固定又は可変
フィルタ装置を得るようにする。ここでは、帯域通過中
心周波数が例えば13.0GIlzである。(16), due to its ferrimagnetic resonance, is subjected to a uniform bias DC magnetic field perpendicular to its installation surface to obtain a fixed or variable filter device. Here, the bandpass center frequency is, for example, 13.0 GIlz.
そして、入力及び出力側マイクロストリップライン(1
3) 、 (1,1)の!I、いに対向′Jる部分の
長さく物理長)fを、通過帯域の信号の伝1′a波長λ
の略1/2の整数倍、ごこではλ/2に選定する。Then, the input and output side microstrip lines (1
3) , (1,1)! I, the physical length of the part facing J) is the transmission wavelength 1'a of the signal in the passband, λ.
An integer multiple of approximately 1/2 of , in this case, λ/2 is selected.
史に、本例では、マイクロストリップライン13)(1
4)及び(]8)の各開放端部(13八)、(14八)
及び(18^)、(18B)の夫々円扱状のYIG薄膜
(15) 、 (16)の中心からの長さく物理長)
a。Historically, in this example, the microstrip line 13) (1
4) and (]8) each open end (138), (148)
and the physical length from the center of circular YIG thin films (15) and (16) of (18^) and (18B), respectively)
a.
b、 c、 dを、共に通過帯域の信号の伝播波長
λの略1/4の奇数倍、こごではλ/4に選定する。b, c, and d are all selected to be odd multiples of approximately 1/4 of the propagation wavelength λ of the signal in the passband, here λ/4.
史に、入力及び出力側マイクロストリップライン(13
) 、 (14)間の距1ile (円娠状ytc簿
jQ(15) 、 (16)の中心間距離と実質的に
等しく、ここでは2.2mva ’Jを通過帯域の信号
の伝播波長λの略1/2以ド(望ましくは略λ/4以下
)、ここでは略λ/4に選定する。この場合、両YIG
?i膜(15) 、 (1B)間の直接結合が生じな
い限りに於いて、距[cは雉い方が望ましい。Historically, input and output side microstrip lines (13
), (14) is substantially equal to the center-to-center distance of the conical ytc book jQ(15), (16), here 2.2 mva'J is the propagation wavelength λ of the signal in the passband. Approximately 1/2 or more (preferably approximately λ/4 or less), here approximately λ/4 is selected. In this case, both YIG
? As long as direct bonding between the i-films (15) and (1B) does not occur, it is preferable that the distance c be small.
次に、かかるフィルタの動作を説明する。入力側マイク
ロストリップライン(13)に伝播波長λの高周波信号
を供給すると、その高周波信号はその開放端部(13A
)に伝播するが、その開放端では、電圧最大、電流最小
(′:@″)、磁界最小(零)となる。一方、開放端部
(13A)からYIG薄映(15)までの長さは上述の
ように選定されているノテ、Y I G ’A’ine
(15) (D 中心(17,置テ4;1:逆に、電
圧最小(零)、電流最大、磁界最大となる。従って、こ
のYIG薄N’(15)の中心位置では、マイクロスト
リップライン(13)とY I G WIifllP
(15)との間の磁界による篩周波結合幼率は最大とな
り、入力側マイクロストリップライン(13)と連結用
マイクロストリップライン(18) との間の電圧分に
よる容量結合度は最小となり、アイソレージジンが採ら
れるごとになる。Next, the operation of such a filter will be explained. When a high frequency signal with a propagation wavelength λ is supplied to the input side microstrip line (13), the high frequency signal is transmitted to the open end (13A) of the input side microstrip line (13).
), but at the open end, the voltage is maximum, the current is minimum (':@''), and the magnetic field is minimum (zero).On the other hand, the length from the open end (13A) to the YIG thin film (15) is the note selected as described above, Y I G 'A'ine
(15) (D center (17, position 4; 1: Conversely, the voltage is minimum (zero), current is maximum, and magnetic field is maximum. Therefore, at the center position of this YIG thin N' (15), the microstrip line (13) and Y I G WIifllP
(15), the sieve frequency coupling rate due to the magnetic field becomes maximum, and the degree of capacitive coupling due to the voltage between the input side microstrip line (13) and the connecting microstrip line (18) becomes minimum, and the Each time Regijin is collected.
又、入力端マイクロストリップライン(13)に波長が
λとは異なる画周波信号が供給されたときは、入力側マ
イクロストリップライン(13)と、Y I G Q股
(15)及び連結用マイクロス1−リップライン(18
)との間には共にある値の磁気結合度及び容量結合度を
有するので、アイソレージ9ンは採られないごとになる
。Also, when a picture frequency signal with a wavelength different from λ is supplied to the input end microstrip line (13), the input end microstrip line (13), the Y I G Q crotch (15) and the connecting micro strip 1-Lip line (18
), both have a certain value of magnetic coupling and capacitive coupling, so no isolation is required.
しかして、YIG薄映(15)に、その薄膜に垂直なバ
イアス直流磁界を与えれば、ある周波数でフェリ磁性共
鳴を起こし、この周波数がアイソレーションの採れてい
るとき、この周波数を帯域通過中心周波数とするバンド
パスフィルタが得られる。尚、マイクロストリップライ
ン(1B)と、Y I GB膜(16)及び出力側マイ
クロストリップライン(14)との間の関係についても
、上述と同様のことが言える。If a bias DC magnetic field perpendicular to the thin film is applied to YIG thin film (15), ferrimagnetic resonance will occur at a certain frequency, and when this frequency is isolated, this frequency will be changed to the bandpass center frequency. A bandpass filter is obtained. The same can be said of the relationship between the microstrip line (1B), the Y I GB film (16), and the output microstrip line (14).
この実施例のフィルタの挿入損失及び反射損失の周波数
特性は、第4図にボす如くであった。この場合、帯域通
過中心周波数が13,0GHz、最小ii1人m失は2
4(dB 、 hti人損失の3 dB4:f域幅は2
5M Ilz 。The frequency characteristics of the insertion loss and reflection loss of the filter of this example were as shown in FIG. In this case, the bandpass center frequency is 13,0 GHz, and the minimum ii 1 person m loss is 2
4 (dB, hti person loss of 3 dB4: f bandwidth is 2
5M Ilz.
最大反射損失は20dBである。The maximum return loss is 20 dB.
かかる磁気共鳴装X(フィルタ)によれば、使用誘電体
の1!tみ、誘電率及び線路の配置を変更することなく
、線路及び強磁性薄膜間の結合を強化することによって
、挿入損失及びその3dB帯域幅の拡張を図ることがで
き、通過帯域中心周波数を数Gllz以上の面周波数と
なし得、自由度を増大し得、しかも製造が容易となる。According to this magnetic resonance device X (filter), the number of dielectrics used is 1! By strengthening the coupling between the line and the ferromagnetic thin film without changing the dielectric constant, dielectric constant, or line arrangement, the insertion loss and its 3 dB bandwidth can be increased, and the passband center frequency can be increased by several dB. It is possible to achieve a surface frequency higher than Gllz, increase the degree of freedom, and facilitate manufacturing.
因みに、第1図〜第3図のフィルタにおいて第5図にボ
ず如く、入力及び出力側マイクロスI−IJツブライン
(13) 、 <14)並びに連結用マイク「Jスト
リップライン(]8)の特性インピーダンスを総て50
Ω一定とした場合の挿入tm失及び反射FLJ失の周波
数特性を、比較のために第す図に示す。この場合、帯域
通過中心周波数が13.0Glly+、最小挿入損失が
4dB、挿入損失の3dB帯域幅がlOMHz、最大反
射損失が13dBで、第4図に比べて特性が劣。Incidentally, in the filters of Figs. 1 to 3, as shown in Fig. 5, the input and output side micros I-IJ tube line (13), <14) and the connecting microphone "J strip line (]8) are connected. All characteristic impedances are 50
For comparison, the frequency characteristics of insertion tm loss and reflection FLJ loss when Ω is constant are shown in FIG. In this case, the bandpass center frequency is 13.0 Glly+, the minimum insertion loss is 4 dB, the 3 dB bandwidth of the insertion loss is 10 MHz, and the maximum return loss is 13 dB, and the characteristics are inferior to those in FIG. 4.
っていることが解る。I understand that
尚、入力及び出力側マイクロストリップライン<13)
、 (14)の入力端、出力端の特性インピーダン
ス(例えば50Ω)に対し、入力側マイクロストリップ
ライフ (13) (DY I C’n膜(15) ト
ノ結合部又はこれと出力側マイクロストリップライン(
14)のYIG薄1!!(1[3)との結合部又は(及
び)連結用マイクロストリップライン(18)の特性イ
ンピーダンスを低く (例えば20〜25Q)に設定す
ることができる。In addition, input and output side microstrip line <13)
, For the characteristic impedance (for example, 50Ω) of the input end and output end of (14), the input side microstrip life (13) (DY I C'n film (15) Tonneau coupling part or this and the output side microstrip line (
14) YIG Thin 1! ! The characteristic impedance of the coupling portion with (1[3) or (and) the connecting microstrip line (18) can be set low (for example, 20 to 25Q).
又、本発明を通用するフィルタとし”ζは、1段又は複
数段のフィルタがr+f能である。Further, the filter that can be used in the present invention is one-stage or multiple-stage filter with r+f function.
L述せる本発明によれば、使用誘電体の厚み、ll力″
rfL率及び線路の配置を変更することなく、線路及び
強磁性薄膜間の結合を強化することによっζ、hli入
FtJ失及びその3dB帯域幅の拡張を図るごとのでき
る強磁性共鳴装置を得ることができる。According to the present invention, the thickness of the dielectric used, the force of
Obtaining a ferromagnetic resonance device capable of increasing ζ, hli input FtJ loss and its 3 dB bandwidth by strengthening the coupling between the line and the ferromagnetic thin film without changing the rfL rate and line arrangement. be able to.
第1図は本発明の一実施例の平面図、第2は1及び第3
図は夫々その■−■線上及びm −ni縁線上断面図、
第4図は実施例の特性曲線図、第5図は参考例をボず平
面図、第6図は参考例の特性曲線図、第7図は従来例を
し1<す図、第8図、第9図及び第1O図は夫々磁気装
置の各側をボず断面図である。
(11)は誘電体基扱、(12)は接地導電j−1(1
3)は入力端マイクロストリップライン、 (14)は
出力側マイクロストリップライン、(15)。
(16)はY I Gン’Xl’XI、 (17)は
GGG扱、(18)は連結用マイクロストリップライン
ごある。FIG. 1 is a plan view of one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a plan view of the first and third embodiments of the present invention.
The figures are cross-sectional views on the ■-■ line and on the m-ni edge line, respectively.
Fig. 4 is a characteristic curve diagram of the embodiment, Fig. 5 is a top view of the reference example, Fig. 6 is a characteristic curve diagram of the reference example, Fig. 7 is a diagram of the conventional example, and Fig. 8 , 9, and 10 are cross-sectional views of each side of the magnetic device. (11) is treated as a dielectric material, and (12) is treated as a ground conductive j-1 (1
3) is the input microstrip line, (14) is the output microstrip line, and (15). (16) is YI G'Xl'XI, (17) is GGG, and (18) is a connecting microstrip line.
Claims (1)
性薄膜に結合せしめられる入力線路とを備え、該入力線
路は、その入力端において第1の特性インピーダンスを
有すると共に、上記強磁性薄膜との結合部において上記
第1の特性インピーダンスより小さい第2の特性インピ
ーダンスを有することを特徴とする強磁性共鳴装置。A ferromagnetic thin film to which a magnetic field is applied perpendicular to the film surface, and an input line coupled to the ferromagnetic thin film, the input line having a first characteristic impedance at its input end, and the ferromagnetic A ferromagnetic resonance device characterized by having a second characteristic impedance smaller than the first characteristic impedance at a coupling portion with the thin film.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8846886A JPS62245705A (en) | 1986-04-17 | 1986-04-17 | Ferromagnetic resonator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8846886A JPS62245705A (en) | 1986-04-17 | 1986-04-17 | Ferromagnetic resonator |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62245705A true JPS62245705A (en) | 1987-10-27 |
Family
ID=13943604
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8846886A Pending JPS62245705A (en) | 1986-04-17 | 1986-04-17 | Ferromagnetic resonator |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62245705A (en) |
-
1986
- 1986-04-17 JP JP8846886A patent/JPS62245705A/en active Pending
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