JPS62241199A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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Publication number
JPS62241199A
JPS62241199A JP61084558A JP8455886A JPS62241199A JP S62241199 A JPS62241199 A JP S62241199A JP 61084558 A JP61084558 A JP 61084558A JP 8455886 A JP8455886 A JP 8455886A JP S62241199 A JPS62241199 A JP S62241199A
Authority
JP
Japan
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data
inverted
written
gate
input
Prior art date
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Pending
Application number
JP61084558A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinichi Kobayashi
真一 小林
Takeshi Toyama
毅 外山
Kenji Koda
香田 憲次
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPS62241199A publication Critical patent/JPS62241199A/en
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Abstract

PURPOSE:To reduce the data volatile rate by writing a data in a floating gate P-ROM while inverting the data when the bit of electron injection type bit shares the majority. CONSTITUTION:An input data is written in a memory section 3 via an input buffer 2 by a data input stage 1. When the input data is an inverted data, data zero is written in all A, B and C or the check bit 11, and when a non- inverted data, 1 is written. In case of the read, the majority decision of the bit 11 is taken by a majority decision circuit 12 and the result is inputted to a exclusive OR gate 14. The desired address is accessed and a read signal is inputted to the gate 14 via a sense amplifier 4. In this case, when the output of the circuit 12 is zero, the read data is inverted, and when 1, the data is outputted as it is. Thus, the bit number of electron injection type is always made a half or below to lower the rate of volatile data.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はEPROM及びEEPROM等の半導体記憶
装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to semiconductor memory devices such as EPROM and EEPROM.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

EPROMのメモリセルは、第6図に示す様なF’AM
O8構造である。図中■は単結晶半導体基板、■。
The memory cell of EPROM is F'AM as shown in Figure 6.
It has an O8 structure. In the figure, ■ is a single crystal semiconductor substrate, and ■ is a single crystal semiconductor substrate.

のはそれぞれ、基板と反対導電型のンース、ドレイン拡
散層、のは電子が注入されるフローティングゲート、例
は書込みと読出しを制卸するコントa −ルケ−ト、 
QBは基板と70−ティングゲート間のゲート酸化膜、
Qsはフローティングゲートとコントロールゲート間の
酸化膜、弼、aはフィールド酸化膜、(2)、ω、3D
はアルばである。この構造に於て、第6図[blに示す
電子注入状態と、第6図(a)に示す消去状態とでは異
ったエネルギー状態をとる。消去状態はエネルギー的に
平衡であると考えられ、’を予圧入状態とは、消去状態
という平衡状態になだれ降伏により電子をフローティン
グゲート内に注入させる為、電子注入状態に於いては、
フローティングケート上の余剰の電子は、基板又はコン
トロールゲートに戻ろうとする。又、我々の実、験結果
から、フローティングゲート型プログラマブルメモリは
、適正な製造条件の制御と適当なスクリーニングを経た
後、記憶保持特性を支配するのは、フローティングゲー
トに注入された電子の保持の程度に依存する事がわかっ
ている。
are respectively conductivity types opposite to that of the substrate, a drain diffusion layer, a floating gate into which electrons are injected, and a control gate that controls writing and reading.
QB is the gate oxide film between the substrate and the 70-ring gate,
Qs is the oxide film between the floating gate and the control gate, 弼, a is the field oxide film, (2), ω, 3D
is Alba. In this structure, the electron injection state shown in FIG. 6[bl] and the erased state shown in FIG. 6(a) take different energy states. The erased state is considered to be energetically balanced, and the pre-injection state means that electrons are injected into the floating gate by avalanche breakdown in the erased equilibrium state, so in the electron injection state,
Excess electrons on the floating cat try to return to the substrate or control gate. In addition, our experimental results show that, after proper control of manufacturing conditions and appropriate screening, the memory retention characteristics of floating gate type programmable memory are determined by the retention of electrons injected into the floating gate. I know it depends on the degree.

父、第4図に示す様に従来のEPROM(10は、デー
タ入力手段(1)により入力される入力データを内部信
号に変換する入カバソファ(2)、又、メモリ部(3)
と、そのメモリ部(3)に書き込まれたデータが“1″
であるが“0“であるかを判定するセンスアンプ(4)
、そしてそのデータに外部負荷駆動能力を与えて出力デ
ータ(6)を出力する為の出力バッファ(5)、又アド
レス信号を受けてメモリ部(3)のアドレスを決定する
為のアドレスバッファ(7)、デコーダ(8)、(−(
As shown in Fig. 4, a conventional EPROM (10 is an input cover sofa (2) for converting input data inputted by a data input means (1) into an internal signal, and a memory section (3)
and the data written in the memory section (3) is “1”
Sense amplifier (4) that determines whether the value is “0” or not.
, an output buffer (5) for giving external load driving capability to the data and outputting output data (6), and an address buffer (7) for receiving an address signal and determining the address of the memory section (3). ), decoder (8), (-(
.

て入出力を制御する制御回路(9)により構成されてい
る。
It is composed of a control circuit (9) that controls input and output.

次に動作について説明する。第4図に於て、先スアドレ
スバソファ(7)、デコーダ(8)によりメモリ部(3
)の中の特定の番地を指定し、その番地に、データ人力
手段(1)により入力されたデータが入カバソファ(2
)を通り書込まれる。次をこ読み出しの場合は、メモリ
部(3)の中の指定されたアドレスのデータが“θ°で
あるが“【°であるかをセンスアンプ(4)にて判別し
、そのデータを出力バッファ(5)を通して、出力デー
タ(6)として出力する。尚、書込みと読み出しの制御
は制御回路(9)により行う。又、第5図に示す様tこ
、従来、ライター等で書き込まれるプログラムデータと
、実際にEPROMに書き込まれたデータ、及びEFR
OMから読み出されるデータは、全く同じものであり、
本来のプログラムデータをそのままの状態でEPROM
fこ書込み、その書き込まれたデータをそのままの状態
で読み出していた。
Next, the operation will be explained. In Fig. 4, the memory section (3
), and the data entered by the data manual means (1) is input to that address.
) is written through. When reading the following, the sense amplifier (4) determines whether the data at the specified address in the memory section (3) is "θ°" or "[°", and outputs that data. It is output as output data (6) through a buffer (5). Note that writing and reading are controlled by a control circuit (9). Moreover, as shown in FIG. 5, conventionally, program data written by a writer etc., data actually written to EPROM, and EFR
The data read from OM is exactly the same,
EPROM with original program data intact
f was written, and the written data was read out as is.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

従来の半導体記憶装置は以上の様に構成されていたので
、全書き込みデータのうち、電子注入タイプのデータが
半数以下の場合に比べ、過半数を越える場合、データ揮
発の可能性が高くなるという問題点があった。
Conventional semiconductor memory devices are configured as described above, so when more than half of all written data is electron injection type data, compared to less than half, there is a higher possibility of data volatilization. There was a point.

この発明は上記の様な問題点を解消する為になされたも
ので、電子注入タイプのメモリビット数を減少し、デー
タ揮発の可能性を感じることができるようなデータ書込
みが可能な半導体不揮発性メモリ装置を得ることを目的
とする。
This invention was made to solve the above-mentioned problems, and it reduces the number of electron injection type memory bits and creates a non-volatile semiconductor that can write data without worrying about the possibility of data volatilization. The purpose is to obtain a memory device.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

この発明に係る半導体記憶装置は、全人力データのうち
、電子注入タイプのビット数が過半数の場合に、データ
を反転して書込みが行える様lこする為に、反転信号を
記憶するためのチエックビットを備え、また書込まれた
データを出力する際に。
The semiconductor memory device according to the present invention has a check function for storing an inversion signal in order to write the data by inverting it when the number of bits of the electron injection type is more than half of the total human data. bits and also when outputting the written data.

チェックビットの内容により1反転させるべきデータが
どうかを判断し、反転させなければならないデータであ
れば、データを反転させ、非反転(こしなければならな
いデータであれば非反転のまま出力させる機能を持った
ものである。
The function determines whether the data should be inverted by the contents of the check bit, and if the data needs to be inverted, it is inverted and not inverted (if the data needs to be inverted, it is output as it is not inverted). It is something I have.

〔作用〕[Effect]

この発明をこおいては、結果的にメモリに書込まれたデ
ータのうち、′l!子注入タイプのデータは常に半数以
下にすることができる為、データ揮発の可能性が減少す
る。
Considering this invention, among the data written to the memory as a result, 'l! Child injection type data can always be less than half, reducing the possibility of data volatilization.

〔実施例〕〔Example〕

以上、この発明の一実施例の構成を図について説明する
。第1図に於て、(ロ)は反転信号を記憶させるために
、EPROMで構成されたチェックビット、(6)はチ
ェックビットのデータの“0″″と11の多数決をとる
多数決回路、(2)はインバータ、α場は排他的論理和
ゲート、(ト)は本発明に係る一実施例のEP ROM
である。
The configuration of one embodiment of the present invention will be described above with reference to the drawings. In FIG. 1, (b) is a check bit configured with an EPROM to store an inverted signal, (6) is a majority decision circuit that takes a majority vote of 11 and "0" of the check bit data, ( 2) is an inverter, α field is an exclusive OR gate, and (g) is an EP ROM of an embodiment according to the present invention.
It is.

次lこ本発明lこ於ける一実施例の動作Iこついて説明
する。先ずデータ入力手段C1)により入力された人力
データを通常の方法により入カバソファ(2)を通し、
メモリ部(3)に書込む。次に、この入力データが反転
されたものであればチエックビット(6)の3ビットA
、B、Cすべてにデータ“0°を書込む。
Next, the operation of one embodiment of the present invention will be explained. First, the human data input by the data input means C1) is passed through the input cover sofa (2) in the usual manner.
Write to memory section (3). Next, if this input data is inverted, check bit (6) 3 bits A
, B, and C. Write data "0°" to all of them.

又、この人力データが、非反転のものであればチエック
ビット(ロ)のA、B、C全でにデータ“1“を書き込
む。読出しの場合は、先ずチェックビット(6)のA、
B、Cの多数決を多数決回路(6)にてとり、その信号
をインバータ(至)で反転し、排他的論理和ゲートα勾
に入力する。次lこメモ1月3)の所望のアドレスをア
クセスし、その読出しデータをセンスアンプ(4)を通
して排他的論理和ケートα弔に入力する。
If this manual data is non-inverted, data "1" is written in all check bits A, B, and C of the check bit (b). For reading, first check bit (6) A,
The majority decision of B and C is taken by the majority decision circuit (6), the signal is inverted by an inverter (to), and is input to the exclusive OR gate α. The desired address of the next memo (January 3) is accessed and the read data is input to the exclusive OR gate α through the sense amplifier (4).

その際、チエックビット(6)のA、B、Cの多数決を
とった信号が“0″であわば出力バッファ(5)へ入力
される読出しデータは反転され、よって出力データ(6
)は反転されたものになる。父、チエックビットαυの
A、B、Cの多数決をとった信号が“1゜であわば出力
バッファ(5)へ人力される読出しデータは非反転のま
まで、よって出力データ(6)は、非反転のものになる
。尚、以上の構成を解り易く説明したフローチャートを
第2図に示す。ここでチエックビットとして、A、B、
Cの3つのピントを設けたわけであるが、これは、チェ
ックビットというのはメモリ部に書込まれた全データを
反転して出力するかどうかを決定する、極めて重要なヒ
ントである為、その信頼性を向上させる理由によりなさ
れたものである。第3図に本発明に係る一実施例の多数
決回路の回路図を示す。図falIこ一般的な多数決回
路を論理記号を用いて表わし1図11)lにその多数決
回路を実際のnチャネルMOSトランジスタを用いて表
わした。図ialに於て、A、BCの入力のうち少なく
とも2つの入力信号が“l“である場合、ANDゲート
α呻を通った信号A、、A2.AIの少なくとも1つの
信号は“loが出力される。従って後段のORゲートα
ηを通って出力される信号Xは“1“となる。次に、A
、B、Cの入力信号の少なくとも2つが“0“である場
合、ANDゲートα・を通った信号A、、A2.A、は
、すべて“0゛となる。従って後段のORゲート口を通
って出力される信号Xは“O“となる。又、図(blに
於ても同様で、A、B。
At this time, the signal obtained by the majority vote of A, B, and C of the check bit (6) is "0", so that the read data input to the output buffer (5) is inverted, and therefore the output data (6
) becomes the inverted version. If the signal obtained by the majority vote of A, B, and C of check bit αυ is "1°," the read data inputted to the output buffer (5) remains non-inverted, so the output data (6) is It is non-inverted.A flowchart explaining the above configuration in an easy-to-understand manner is shown in Figure 2.Here, as check bits, A, B,
This is because the check bit is an extremely important hint that determines whether all data written in the memory section should be inverted and output. This was done to improve reliability. FIG. 3 shows a circuit diagram of a majority circuit according to an embodiment of the present invention. Figure 11) shows a general majority circuit using logic symbols, and Figure 11) shows the majority circuit using actual n-channel MOS transistors. In Fig. ial, if at least two input signals among the inputs of A and BC are "1", the signals A, , A2 . At least one signal of AI is output as "lo". Therefore, the OR gate α in the subsequent stage
The signal X output through η becomes "1". Next, A
, B, C are "0", the signals A, , A2 ., passed through the AND gate α. A, are all "0". Therefore, the signal X outputted through the OR gate in the subsequent stage becomes "O". Also, the same is true in the figure (bl), and A, B.

Cの入力信号の少なくとも2つが“1°であれば。If at least two of the input signals of C are “1°.

n MOSで構成されたNOR回路の出力りには“0“
が出力され、gik段のインバータによりX【こは“1
“が出力される。次にA、B、Cの入力信号の少なくと
も2つが“0“であればnMO8で構成さnたNOR回
路に出力りにはl″が出力され、後段のインノ<−タに
よりXiこは“θ″が出力される。尚、第3図の図(b
l中のトランジスタ(ト)は、テプレクション型nMO
Sトランジスタ、又、トランジスタa9は、エンハンス
メントnMO8トランジスタである。
The output of the NOR circuit composed of n MOS is “0”.
is output, and the gik stage inverter outputs
" is output. Next, if at least two of the input signals A, B, and C are "0", "l" is output to the NOR circuit composed of nMO8, and the subsequent stage "θ" is outputted by the controller. In addition, the diagram in Figure 3 (b
The transistor (G) in l is a teplection type nMO
The S transistor, or transistor a9, is an enhancement nMO8 transistor.

なお、上記実施例ではEPROMを例Gこ説明したが。Incidentally, in the above embodiment, the EPROM was explained using Example G.

gEPROM又は、 EPROM内蔵のマイクロコンピ
ュータ、EEFROMEPROM内蔵コンピュータでも
同様の効果を奏する。又、チェックビットは3ピントの
場合を示したが、奇数個であればそれ以上のヒント数で
も何ら問題はない。さらに多数決回路lこ於てnMO8
を例に説明したが、cMO8でも何ら問題はない。
A similar effect can be obtained using a microcomputer with a built-in gEPROM or an EPROM, or a computer with a built-in EEFROME PROM. Further, although the case where there are 3 check bits is shown, there is no problem with a larger number of hints as long as the check bits are an odd number. Furthermore, in the majority circuit l, nMO8
Although the explanation was given using cMO8 as an example, there is no problem with cMO8.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上の様に、この発明によnば、全入力データのうち、
電子注入タイプのビット数が過半数の場合、ライターに
よりデータを反転して書込みが行える様に構成したので
、書込まれたデータのうち、電子注入タイプのデータを
常に半数以下にする事が出来、データ揮発の可能性を減
少できる効果がある。父、チェックビットのビット数を
複数個にする事奢こよって、チエックビット自体の信頼
性も向上する効果がある。
As described above, according to the present invention, among all input data,
If the number of bits of the electronic injection type is more than half, the data is inverted by the writer and written, so the electronic injection type data can always be less than half of the written data. This has the effect of reducing the possibility of data volatilization. Furthermore, using a plurality of check bits has the effect of improving the reliability of the check bit itself.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

gJ1図はこの発明の一実施例による半導体記憶装置の
全体ブロック図である。 第2図は本発明の一実施例の書込み、読み出しを示す流
れ図である。 @3図は本発明の一実施例における多数決回路を示す回
路図である。 第4図は従来方法による半導体記憶装置の機能ブロック
図である。 第5図は従来方法による書込み、読み出しを示す流れ図
である。 第6図はFAMO8型のメモリセルを構造と、電子注入
状態、消去状態を示す図である。 又、図に2いて、(1)は入力データ手段、C2)は入
力バッファ、(3)はメモリ部、(4)はセンスアンプ
、(5)ハ出力バンファ、(6)は出力データ、(7)
はアドレスバッファ、(8)はデコーダ、(9)は制御
回路、αqは従来のEPROM、(ロ)はチエックビッ
ト、(6)は多数決回路、QJはインバータ、C4は排
他的論理和ゲート、(ト)は本発明に係る一実施例のE
PROM、αゆはANDゲート、σηはORゲート、1
181はデグレンション型n−MOSトランジスタ、■
はエンバンスメントFll n −MOSトランジスタ
、■は単結晶半導体基板、■。 ■は基板と反対導電型のソース、ドレイン拡散層。 ムは電子が注入されるフローティングゲート、(至)は
コントロールゲート、鑓は基板とフローティングゲート
間の酸化膜、(至)は70−ティングケートとコントロ
ールゲート間の酸化膜、万、(至)はフィールド酸化膜
、(至)、■、 c31)はアルミである。 な3、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
Figure gJ1 is an overall block diagram of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a flowchart showing writing and reading in one embodiment of the present invention. @3 Figure is a circuit diagram showing a majority circuit in an embodiment of the present invention. FIG. 4 is a functional block diagram of a semiconductor memory device according to a conventional method. FIG. 5 is a flowchart showing writing and reading according to the conventional method. FIG. 6 is a diagram showing the structure, electron injection state, and erase state of a FAMO8 type memory cell. In addition, in Figure 2, (1) is an input data means, C2) is an input buffer, (3) is a memory section, (4) is a sense amplifier, (5) is an output buffer, (6) is an output data, ( 7)
is an address buffer, (8) is a decoder, (9) is a control circuit, αq is a conventional EPROM, (b) is a check bit, (6) is a majority circuit, QJ is an inverter, C4 is an exclusive OR gate, ( G) is an example of E according to the present invention.
PROM, αyu is AND gate, ση is OR gate, 1
181 is a degradation type n-MOS transistor, ■
1 is an evangelization Flln-MOS transistor, 2 is a single crystal semiconductor substrate, and 2 is a single crystal semiconductor substrate. ■ is the source and drain diffusion layer of the opposite conductivity type to the substrate. (to) is the floating gate into which electrons are injected, (to) is the control gate, (to) is the oxide film between the substrate and the floating gate, (to) is the oxide film between the 70-ing gate and the control gate, and (to) is the oxide film between the substrate and the floating gate. The field oxide film, (to), ■, c31) is aluminum. 3. In the figures, the same reference numerals indicate the same or equivalent parts.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)単結晶半導体基板上に形成された、フローティン
グゲート型プログラマブルリードオンリメモリに於て、
書き込まれたデータが本来のデータに対して反転された
ものであるか否かを識別する情報を記憶する為にチエッ
クビットを有し、読み出し時には、チェックビットの内
容により、読出しデータの内容を反転すべきか否かを判
別し、本来のデータ内容で出力するようにしたことを特
徴とする半導体記憶装置。
(1) In a floating gate programmable read-only memory formed on a single crystal semiconductor substrate,
It has a check bit to store information that identifies whether the written data is inverted from the original data, and when reading, the contents of the read data are inverted depending on the contents of the check bit. 1. A semiconductor memory device characterized in that it determines whether or not data should be processed and outputs the original data content.
(2)半導体記憶装置に於けるチェックビットが複数個
よりなり、そのチェックビット内の“0”と“1”のデ
ータの多数決をとる事によりチェックビットのデータを
判別し、さらにそのチェックビットにEPROMを用い
る事を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体記
憶装置。
(2) There are multiple check bits in a semiconductor memory device, and the data of the check bit is determined by taking a majority vote of the data of “0” and “1” in the check bit, and then the data of the check bit is determined. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, which uses an EPROM.
JP61084558A 1986-04-11 1986-04-11 Semiconductor memory device Pending JPS62241199A (en)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0745085A (en) * 1993-07-30 1995-02-14 Tec Corp Data writer and reader
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