JPS62235329A - 二酸化硫黄とアルキンの交互共重合体及びその製造方法 - Google Patents
二酸化硫黄とアルキンの交互共重合体及びその製造方法Info
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、二酸化硫黄とアルキンの共重合体及びその製
造方法に関し、更に詳しくは光、電子線、またはX線に
より高感度て分解するポジ型の新規なレジスト材料とし
て有用な二酸化硫黄とアルキンの共重合体及びその製造
方法に関するものである。
造方法に関し、更に詳しくは光、電子線、またはX線に
より高感度て分解するポジ型の新規なレジスト材料とし
て有用な二酸化硫黄とアルキンの共重合体及びその製造
方法に関するものである。
[従来の技術]
近年、半導体集積回路等の高性能化、高集積度化の要求
は一層増大しているか、従来の可視光、紫外線に感応す
るフォトレジストでは、光の回折現象のため満足する結
果を得るのは困難である。
は一層増大しているか、従来の可視光、紫外線に感応す
るフォトレジストでは、光の回折現象のため満足する結
果を得るのは困難である。
そのため現在てはより波長の短い電子線、X線に感応す
るレジストの開発研究か多数行なわれている。従来の電
子線ポジ型レジストとしては、ポリメチルメタクリレー
トに代表されるアルキルメタクリレート系レジスト、ポ
リ(ブテン−lスルホン)に代表されるオレフィン系ポ
リスルホンレジスト等があげられる。
るレジストの開発研究か多数行なわれている。従来の電
子線ポジ型レジストとしては、ポリメチルメタクリレー
トに代表されるアルキルメタクリレート系レジスト、ポ
リ(ブテン−lスルホン)に代表されるオレフィン系ポ
リスルホンレジスト等があげられる。
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら、例えばポリ(ラテン−lスルホン)はポ
リメチルメタクリレートに比して一桁以上の高感度を有
するが、その解像力はポリメチルメタクリレートに及ば
ない。一方、ポリメチルメタクリレートは感度が不足し
ている等不充分な点かあり、高感度、高解像力の高分子
レジスト材料の開発か望まれている現状である。
リメチルメタクリレートに比して一桁以上の高感度を有
するが、その解像力はポリメチルメタクリレートに及ば
ない。一方、ポリメチルメタクリレートは感度が不足し
ている等不充分な点かあり、高感度、高解像力の高分子
レジスト材料の開発か望まれている現状である。
本発明者は、この様な現状に鑑みて研究を行なった結果
、レジスト材料の主鎖に孤立した二重結合を導入すれば
よいことに想到した。
、レジスト材料の主鎖に孤立した二重結合を導入すれば
よいことに想到した。
その結果、二酸化硫黄とアルキンの共重合は交互共重合
体を与、え、スルホニル基どうし、またアルキニル基ど
うしの連続した単位はなく、孤立した二重結合か存在し
、そのためポジ型レジスト材料として二酸化硫黄とアル
キンの共重合体を用いると感度か著しく増大し、高解像
力を有するポジ型レジスト材料か得られることを知見し
本発明を完成した。
体を与、え、スルホニル基どうし、またアルキニル基ど
うしの連続した単位はなく、孤立した二重結合か存在し
、そのためポジ型レジスト材料として二酸化硫黄とアル
キンの共重合体を用いると感度か著しく増大し、高解像
力を有するポジ型レジスト材料か得られることを知見し
本発明を完成した。
[問題点を解決するだめの手段コ
即ち1本発明は主鎖か実質的に一般式(1)(式中Rい
1(2は同種又は異種の水素原子又はアルキニル基を表
わす)で示される繰返し単位からなり、数平均分子量が
500以上であることを特徴とする二酸化硫黄とアルキ
ンの共重合体、および二酸化硫黄とアルキンを混合し、
またはこれに有機溶媒を加えて、ラジカル重合させるこ
とを特徴とする二酸化値シ4とアルキンの共重合体の製
造方法、ざらに主鎖か実質的に一般式CI)(式中1(
1、R2は同種又は異種の水素原子又はアルキル基を表
わす)で示される繰返し単位からなり、数平均分子量か
500以上の二酸化硫黄とアルキンの共重合体を主成分
とするポジ型のレジスト材料である。
1(2は同種又は異種の水素原子又はアルキニル基を表
わす)で示される繰返し単位からなり、数平均分子量が
500以上であることを特徴とする二酸化硫黄とアルキ
ンの共重合体、および二酸化硫黄とアルキンを混合し、
またはこれに有機溶媒を加えて、ラジカル重合させるこ
とを特徴とする二酸化値シ4とアルキンの共重合体の製
造方法、ざらに主鎖か実質的に一般式CI)(式中1(
1、R2は同種又は異種の水素原子又はアルキル基を表
わす)で示される繰返し単位からなり、数平均分子量か
500以上の二酸化硫黄とアルキンの共重合体を主成分
とするポジ型のレジスト材料である。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明の二酸化硫黄とアルキンの共重合体は主鎖が実質
的に前記一般式(1)で示される繰返し単位からなり、
具体的には50モル%のスルホニル単位と50モル%の
アルキニル中位からなる共重合体である。
的に前記一般式(1)で示される繰返し単位からなり、
具体的には50モル%のスルホニル単位と50モル%の
アルキニル中位からなる共重合体である。
一般式(I)において、式中のR1及び112は同種又
は異種の水素原子又はアルキル基を表わすが、アルキル
基としては、好ましくは炭素原子数l〜lOのアルキニ
ル基等が挙げられる。
は異種の水素原子又はアルキル基を表わすが、アルキル
基としては、好ましくは炭素原子数l〜lOのアルキニ
ル基等が挙げられる。
また、スルホニル基どうし、及びアルキニル基どうしは
それぞれ連続して結合しないのて、本発明の二酸化硫黄
とアルキンの共重合体は交互共重合体であり、共重合体
中には必ず孤立した二重結合か存在している。
それぞれ連続して結合しないのて、本発明の二酸化硫黄
とアルキンの共重合体は交互共重合体であり、共重合体
中には必ず孤立した二重結合か存在している。
次に1本発明の二酸化JtL黄とアルキンの共重合体の
分子量及び分子量分布は、テトラヒドロフラン中でゲル
パーミェーション りロマトグラフ(cpc)を用い
、標準ポリスチレン試料の分子量とその分布を基準にし
て決定する。共重合体の分子量は共重合反応において使
用するラジカル重合開始剤及びモノマーの仕込み割合並
びに重合温度により制御か可能であるが、数平均分子量
か500以上、好ましくはto、ooo〜1,50o、
oooの範囲か望ましく、500未満では溶液粘度が小
さく、レジスト膜を形成するのか困難となる。また、分
子量分布は、1.s〜4.コ、好ましくは 1.8〜3
.0の範囲が望ましい。
分子量及び分子量分布は、テトラヒドロフラン中でゲル
パーミェーション りロマトグラフ(cpc)を用い
、標準ポリスチレン試料の分子量とその分布を基準にし
て決定する。共重合体の分子量は共重合反応において使
用するラジカル重合開始剤及びモノマーの仕込み割合並
びに重合温度により制御か可能であるが、数平均分子量
か500以上、好ましくはto、ooo〜1,50o、
oooの範囲か望ましく、500未満では溶液粘度が小
さく、レジスト膜を形成するのか困難となる。また、分
子量分布は、1.s〜4.コ、好ましくは 1.8〜3
.0の範囲が望ましい。
ポジ型の高感度レジスト材料として本発明の二酸化硫黄
とアルキンの共重合体を利用する場合。
とアルキンの共重合体を利用する場合。
共重合体主鎖のスルホニル単位とアルキニル単位の間の
硫値−炭素結合の解離性、すなわち共重合体の分解性か
重要である。熱重量分析により種々の二酸化硫黄とアル
キンの共重合体について熱分解性を検討したところ、共
重合体は、いずれも+50°C付近より熱分解か開始さ
れ、220°Cより急激に熱分解を起こし、約280°
Cで終了する。
硫値−炭素結合の解離性、すなわち共重合体の分解性か
重要である。熱重量分析により種々の二酸化硫黄とアル
キンの共重合体について熱分解性を検討したところ、共
重合体は、いずれも+50°C付近より熱分解か開始さ
れ、220°Cより急激に熱分解を起こし、約280°
Cで終了する。
本発明の共重合体が高感度レジスト材料の特性を示すの
は、このような急激な熱分解に現われる共重合体主鎖の
スルホニル単位とアルキニル単位の間のtL黄−炭素結
合の解離性に基づくものである。
は、このような急激な熱分解に現われる共重合体主鎖の
スルホニル単位とアルキニル単位の間のtL黄−炭素結
合の解離性に基づくものである。
本発明の一酸化硫黄とアルキンの共重合体は二酸化硫黄
とアルキンを有機溶媒の存在下もしくは不存在下に熱ま
たは光、もしくはラジカル重合開始剤の添加等のラジカ
ル発生手段によって耐圧反応容器中で共重合せしめて製
造することかできる。
とアルキンを有機溶媒の存在下もしくは不存在下に熱ま
たは光、もしくはラジカル重合開始剤の添加等のラジカ
ル発生手段によって耐圧反応容器中で共重合せしめて製
造することかできる。
この共重合反応に用いる有機溶剤としてはベンゼン、ト
ルエン、オルトジクロロベンゼンのような芳香族化合物
、メタノール及びエタノールのようなアルコール類、メ
チルエチルケトン及びメチルイソフチルケトンのような
ケトン類、及びこれらの化合物の塩素化物か用いられる
。有機溶媒の使用埴は二酸化硫黄とアルキンの合計lO
口口重陥部対して30〜100重量部か好ましい。
ルエン、オルトジクロロベンゼンのような芳香族化合物
、メタノール及びエタノールのようなアルコール類、メ
チルエチルケトン及びメチルイソフチルケトンのような
ケトン類、及びこれらの化合物の塩素化物か用いられる
。有機溶媒の使用埴は二酸化硫黄とアルキンの合計lO
口口重陥部対して30〜100重量部か好ましい。
ラジカル重合開始剤は、 2.2’−アゾビスイソフチ
ロニトリルのようなアゾ化合物及び過酸化ベンゾイルの
ような過酸化物か好ましい。また、2種類以りのラジカ
ル重合開始剤を用いることも可能である。
ロニトリルのようなアゾ化合物及び過酸化ベンゾイルの
ような過酸化物か好ましい。また、2種類以りのラジカ
ル重合開始剤を用いることも可能である。
ラジカル重合開始剤は1通常、全鉢植に対して0.05
〜o、ootモル/p用いるのが好ましい。
〜o、ootモル/p用いるのが好ましい。
本発明の共重合反応に供する二酸化硫黄とアルキンの一
1□1合(仕込み割合)は、二酸化硫黄/アルキンか5
795〜9515 (数字はモル%)を用いることかで
きるか、 50150〜90/10 (モル%)の仕
込み割合か好ましく、このとき二酸化硫黄およびアルキ
ンの濃度は共重合体の収率及び分子量の観点から、それ
ぞれ、0.05〜5モル/2か好ましい。
1□1合(仕込み割合)は、二酸化硫黄/アルキンか5
795〜9515 (数字はモル%)を用いることかで
きるか、 50150〜90/10 (モル%)の仕
込み割合か好ましく、このとき二酸化硫黄およびアルキ
ンの濃度は共重合体の収率及び分子量の観点から、それ
ぞれ、0.05〜5モル/2か好ましい。
本発明の共重合反応の反応温度としては一80℃から1
20℃の間を用いうるか、特に30℃から90℃の範囲
て共重合させるのが好ましい。
20℃の間を用いうるか、特に30℃から90℃の範囲
て共重合させるのが好ましい。
[作 川]
本発明の二酸化硫黄とアルキンの共重合体はスルホニル
基とアルキニル基とからなる交互共重合体からなり、該
スルホニル基どうし、またはアルキニル)、’;どうし
の連続した単位かなく、孤立した二重結合か存在するの
て、電子線、X線笠の照射により感応し共重合体r鎖の
スルホニル単位とアルキニル単位間の硫黄−炭素結合か
解離し高感度で高解像力のポジ型のレジスト材料として
用いることができるものと推定される。
基とアルキニル基とからなる交互共重合体からなり、該
スルホニル基どうし、またはアルキニル)、’;どうし
の連続した単位かなく、孤立した二重結合か存在するの
て、電子線、X線笠の照射により感応し共重合体r鎖の
スルホニル単位とアルキニル単位間の硫黄−炭素結合か
解離し高感度で高解像力のポジ型のレジスト材料として
用いることができるものと推定される。
[実施例]
次に、実施例により本発明をさらに具体的に説明する。
実施例1
1−ヘプチン:I9.4m!、オルトジクロロベンゼン
(溶剤) I16mjl 、及び2.2′−アソビスイ
ソブチロニトリル11.12:l gをガラス製の耐圧
反応容器に投入した後、反応容器内の空気を窒素ガスで
置換し、次いで純度99%の二酸化硫黄な0℃において
13.4■p添加した。このようにして調製した反応容
器内には、50℃において二酸化硫黄と1−ヘプチンは
それぞれ3モルlpずつ含まれ、仕込み割合としてはl
:l(モル比)である、50°Cの恒温水槽中で4時間
反応させた後、反応容器をメタノール−ドライアイス中
で冷却し、内容物を大量のメタノール中に投入して共重
合物のみを沈殿させ。
(溶剤) I16mjl 、及び2.2′−アソビスイ
ソブチロニトリル11.12:l gをガラス製の耐圧
反応容器に投入した後、反応容器内の空気を窒素ガスで
置換し、次いで純度99%の二酸化硫黄な0℃において
13.4■p添加した。このようにして調製した反応容
器内には、50℃において二酸化硫黄と1−ヘプチンは
それぞれ3モルlpずつ含まれ、仕込み割合としてはl
:l(モル比)である、50°Cの恒温水槽中で4時間
反応させた後、反応容器をメタノール−ドライアイス中
で冷却し、内容物を大量のメタノール中に投入して共重
合物のみを沈殿させ。
ろ過、乾燥、秤量して共重合物の収率3’7.7(重量
パーセント)を得た。この共重合体の数モ均分子−冒ま
74,000.分子聞分4jは、4.2てあった。共重
合物の組成は1元素分析結果から1−ヘプチン含1、:
、か50モル%、二酸化硫黄含量か50モル%の共重合
体てあった。
パーセント)を得た。この共重合体の数モ均分子−冒ま
74,000.分子聞分4jは、4.2てあった。共重
合物の組成は1元素分析結果から1−ヘプチン含1、:
、か50モル%、二酸化硫黄含量か50モル%の共重合
体てあった。
実施例2
耐圧ガラス反応容器に一酸化硫黄と1−ヘキシンかそれ
ぞれ3モル/pとなるように採取し。
ぞれ3モル/pとなるように採取し。
2.2′−アゾビスイソツチロニトリルを0 、011
7 Sモル/2となるように添加した。溶媒には才ルト
ジクロロベンゼンを用いた。共重合反応温度を50°C
に保ち、3時間反応させ、実施例1のように反応後の処
理を行なったところ、収率48.6%(重量)、数平均
分子量240,000 、分子量分布1.8の共重合物
を得た。共重合体組成は二酸化硫黄が50モル%、l−
ヘキシンが50モル%であった。この共重合物の赤外線
吸収スペクトル図を第1図に示す。共重合物にはスルホ
ニルノ、(にもとづく特徴的な吸収帯かl、:13:1
cm−’ 、 1,142cm−’および1、l]9c
s−’に現われていることかわかる。
7 Sモル/2となるように添加した。溶媒には才ルト
ジクロロベンゼンを用いた。共重合反応温度を50°C
に保ち、3時間反応させ、実施例1のように反応後の処
理を行なったところ、収率48.6%(重量)、数平均
分子量240,000 、分子量分布1.8の共重合物
を得た。共重合体組成は二酸化硫黄が50モル%、l−
ヘキシンが50モル%であった。この共重合物の赤外線
吸収スペクトル図を第1図に示す。共重合物にはスルホ
ニルノ、(にもとづく特徴的な吸収帯かl、:13:1
cm−’ 、 1,142cm−’および1、l]9c
s−’に現われていることかわかる。
得られた共重合体の2−へブタノン10%溶液を作製し
、この溶液をシリコンウェハー上に塗布し、 +20°
Cて30分間焼き付けを行い、電圧20キロボルト、電
流1.1 xlO−9アンペアて電子線照射を行なった
。現像は、メチルイソブチルケトン(MIBK)とイソ
プロピルアルコール(IPA) 50 : 50の混合
溶液を用い、25℃て2.5分間かけて行ない。
、この溶液をシリコンウェハー上に塗布し、 +20°
Cて30分間焼き付けを行い、電圧20キロボルト、電
流1.1 xlO−9アンペアて電子線照射を行なった
。現像は、メチルイソブチルケトン(MIBK)とイソ
プロピルアルコール(IPA) 50 : 50の混合
溶液を用い、25℃て2.5分間かけて行ない。
レジスト感度を測定した。この時の感度は2.6×10
−6クーロン/cI12てあった。
−6クーロン/cI12てあった。
測定力法
(1)数モ均分子量および分子量分布(重量」i均分子
−bt (Mw)/数平均分子量(Mn))はcpcを
用いて測定した。
−bt (Mw)/数平均分子量(Mn))はcpcを
用いて測定した。
(2)レジスト感度は次のように測定した。
電子線をウェハー上に塗布したレジストに、単位面積ち
りの電荷量(DO3E量)を変えて照射、現像して電子
線照射範囲のレジストが完全に除去される最少のDO3
E量をもってレジストの感度とした。現像後のレジスト
の状態観察は、SEM (走査型電子顕微鏡):触針
式膜厚計で行なった。
りの電荷量(DO3E量)を変えて照射、現像して電子
線照射範囲のレジストが完全に除去される最少のDO3
E量をもってレジストの感度とした。現像後のレジスト
の状態観察は、SEM (走査型電子顕微鏡):触針
式膜厚計で行なった。
実際照射したDO8E量は6.4 X 10−7から6
.0×!ロ一5クーロン/cm2で20段階に分けて行
なった。
.0×!ロ一5クーロン/cm2で20段階に分けて行
なった。
[発明の効果]
以上説明したように本発明の二酸化硫黄とアルキンの共
重合体は、光、電子線またはX線により高感度て分解す
るので、高解像力を有するポジ型レジスト材料として有
用である。、また、原料として二酸化硫黄とアルキンを
用いて共重合させることにより容易に得ることかできる
。
重合体は、光、電子線またはX線により高感度て分解す
るので、高解像力を有するポジ型レジスト材料として有
用である。、また、原料として二酸化硫黄とアルキンを
用いて共重合させることにより容易に得ることかできる
。
第1図は1本発明の二酸化硫黄と1−ヘキシンの共重合
体の赤外線吸収スペクトル図である。 出願人 松 [ロ 室 間 電気化学工業株式会社
体の赤外線吸収スペクトル図である。 出願人 松 [ロ 室 間 電気化学工業株式会社
Claims (3)
- (1)主鎖が実質的に一般式▲数式、化学式、表等があ
ります▼ (式中R_1、R_2は同種又は異種の水素原子又はア
ルキル基を表わす)で示される繰返し単位からなり、数
平均分子量が500以上であることを特徴とする二酸化
硫黄とアルキンの共重合体。 - (2)二酸化硫黄とアルキンを混合し、またはこれに有
機溶媒を加えて、ラジカル重合させることを特徴とする
二酸化硫黄とアルキンの共重合体の製造方法。 - (3)主鎖が実質的に一般式▲数式、化学式、表等があ
ります▼ (式中R_1、R_2は同種又は異種の水素原子又はア
ルキル基を表わす)で示される繰返し単位からなり、数
平均分子量が500以上の二酸化硫黄とアルキンの共重
合体を主成分とするポジ型のレジスト材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7670586A JPS62235329A (ja) | 1986-04-04 | 1986-04-04 | 二酸化硫黄とアルキンの交互共重合体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7670586A JPS62235329A (ja) | 1986-04-04 | 1986-04-04 | 二酸化硫黄とアルキンの交互共重合体及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62235329A true JPS62235329A (ja) | 1987-10-15 |
JPH0331734B2 JPH0331734B2 (ja) | 1991-05-08 |
Family
ID=13612932
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7670586A Granted JPS62235329A (ja) | 1986-04-04 | 1986-04-04 | 二酸化硫黄とアルキンの交互共重合体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62235329A (ja) |
-
1986
- 1986-04-04 JP JP7670586A patent/JPS62235329A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0331734B2 (ja) | 1991-05-08 |
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