JPS62232611A - Laser exposing device for image scanning and recording device - Google Patents

Laser exposing device for image scanning and recording device

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Publication number
JPS62232611A
JPS62232611A JP61076157A JP7615786A JPS62232611A JP S62232611 A JPS62232611 A JP S62232611A JP 61076157 A JP61076157 A JP 61076157A JP 7615786 A JP7615786 A JP 7615786A JP S62232611 A JPS62232611 A JP S62232611A
Authority
JP
Japan
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laser
image
optical system
image scanning
aperture
Prior art date
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Pending
Application number
JP61076157A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeaki Shimazu
嶋津 茂昭
Kenji Endo
遠藤 健次
Hidekazu Tamaoki
玉置 英一
Yasuyuki Wada
康之 和田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to DE87104791T priority patent/DE3786939T2/en
Priority to EP87104791A priority patent/EP0240002B1/en
Priority to US07/033,582 priority patent/US4810068A/en
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Priority to US07/227,738 priority patent/US4867542A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To eliminate a variation of a size of an image, and to improve the workability by forming an image of an aperture on a recording surface by an image forming optical system, so that a main light beam of each laser beam for forming its line becomes parallel to an optical axis. CONSTITUTION:Plural lines of parallel laser beams B4 which have passed through an aperture 5 form an aperture image on a recording surface G as an image 14 whose beam pitch has been reduced, by an image forming optical system 10 consisting of a telecentric optical system. In this case, a main light beam 15 of each laser beam B6 for forming the image 14 becomes parallel rays to an optical axis 16. In this way, even if a shift DELTAD is generated between an image forming surface Q and the recording surface G of the image forming optical system 10, a size of the image is not varied.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、例えばレーザプロッターやカラースキャナ等
のように、光変調されたレーザビームにより、所望画像
を記録するための画像走査記録装置にJ3けるレーザ露
光装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention is applicable to a J3 image scanning recording apparatus for recording a desired image using a light-modulated laser beam, such as a laser plotter or a color scanner. The present invention relates to a laser exposure device.

〈従来技術〉 上記のような画像走査記録装置としては、例えば第8図
に示すようなレーザプロッタが知られている。このレー
ザプロッタは、コンソール部21と磁気テープ等の媒体
を介して入力したデータを演ヰ処理するデータ処理部2
2と、データ処理部22で処理されたデータを所要の記
録信号に変換するデータ変換生成部23と、記録信号に
基づいて記録シリンダ25上の感光シートに画像を走査
記録する記録部24とを具備して成り、プリント配線板
等の高精度のマスターパターンを高速で露光記録するよ
うにしたものである。
<Prior Art> As an image scanning recording device as described above, a laser plotter as shown in FIG. 8, for example, is known. This laser plotter includes a console section 21 and a data processing section 2 that performs processing on data inputted via a medium such as a magnetic tape.
2, a data conversion generation section 23 that converts the data processed by the data processing section 22 into a required recording signal, and a recording section 24 that scans and records an image on a photosensitive sheet on a recording cylinder 25 based on the recording signal. It is designed to record high-precision master patterns on printed wiring boards, etc., by exposure at high speed.

上記のような画像走査記録装置の記録部24には、所望
のパターンを記録するために、例えば第9図に示すよう
なレーザ露光装置30が装備されている。それは本出願
人が先に提案した特開昭6O−169f320号公報に
開示、されているように、レザー光源31からのレーザ
ビームB l lをビームスプリッタ32で複数本の平
行レーザビームB l 2に分割し、この複数本のレー
ザビームB1□をパータン信号に応じて多チャンネル型
音響又は電気光学変調器33でそれぞれ独立に変調し、
変調した複数本の平行レーザビームB11をズームレン
ズ35及び結像レンズ36からなる結像光学系34によ
ってそのビームピッチを所要の値に縮小してその結像面
Gに像14を形成し、記録シリング25に巻着した感光
シート26に所要のパターン画像を露光記録するように
構成したらである。
The recording section 24 of the image scanning recording apparatus as described above is equipped with a laser exposure device 30 as shown in FIG. 9, for example, in order to record a desired pattern. As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6O-169F320 previously proposed by the present applicant, a laser beam B l l from a laser light source 31 is split into a plurality of parallel laser beams B l 2 by a beam splitter 32. The plurality of laser beams B1□ are each independently modulated by a multi-channel acoustic or electro-optic modulator 33 according to the pattern signal,
The beam pitch of the plurality of modulated parallel laser beams B11 is reduced to a required value by an imaging optical system 34 consisting of a zoom lens 35 and an imaging lens 36, and an image 14 is formed on the imaging plane G, and the image 14 is recorded. This is after the configuration is such that a desired pattern image is exposed and recorded on the photosensitive sheet 26 wrapped around the shilling 25.

〈発明が解決しようとする問題点〉 上記従来例のレーザ露光装置30は簡単な構成の光学系
によって結像面Gに投影される光点列像のビームピンチ
を調整して露光し得るので、大変優れたものであるが、
下記に示すような点について、さらに改良の余地がある
<Problems to be Solved by the Invention> The laser exposure apparatus 30 of the above-mentioned conventional example can perform exposure by adjusting the beam pinch of the light spot array image projected onto the imaging plane G using an optical system with a simple configuration. It is very good, but
There is room for further improvement regarding the following points.

(イ)上記従来例のものは、ビーム圧縮光学系34によ
って、そのビームピッチを縮小して所要の光点列像を形
成する際に、第7図に示すように各レーザビームの主光
線55を結像レンズ36で収束させ、結像位置Q上で所
要の光点列の’m W +を得るようにしているため、
その結像位置Qと記録位置GとのずれΔDにより、記口
位置G上の光点列の幅W、は変化することとなる。
(a) In the conventional example described above, when the beam compression optical system 34 reduces the beam pitch and forms a required light spot array image, the principal ray 55 of each laser beam is is converged by the imaging lens 36 to obtain the required light spot sequence 'm W + on the imaging position Q.
Due to the deviation ΔD between the imaging position Q and the recording position G, the width W of the light spot array on the recording position G changes.

さらにズームレンズでビームピッチは無段階に謳!整可
能に構成されているが、例えば使用する感光シート26
の厚みが異なるものを使用する場合等においてら上記ず
れΔDが変化するから、このような場合においてらビー
ムピッチの調整を必要とするのは不都合であり、その3
!l整作業も容易ではない。
Furthermore, with a zoom lens, the beam pitch is infinitely variable! For example, the photosensitive sheet 26 to be used
Since the above-mentioned deviation ΔD changes when using beams with different thicknesses, it is inconvenient to need to adjust the beam pitch in such cases.
! The adjustment work is also not easy.

(ロ) また上記従来例のものは、リス系のフィルムに
画像を露光記録したとしても、現像条件等により、画像
のエッヂのシャープネスが十分でない場合がある。それ
は次のような理由によるものと考えられる。
(b) Furthermore, in the conventional example described above, even if an image is exposed and recorded on a lithium-ion film, the edge sharpness of the image may not be sufficient depending on the developing conditions and the like. This is thought to be due to the following reasons.

すなわち、レーザ光源31から射出されるレーザビーム
B l +の光強度分布は一様ではなく、例乏ば第6図
に示すような〃ウス分布I(実線部分)を有しており、
ビームの外周部は極度に光強度が低下しているため、こ
のようなレーザビームを用いて画線を描くと、その画線
のエッヂは硬調なリス型感光材を用いたとしても現像条
件により所要の濃度が得られないことあるからである。
That is, the light intensity distribution of the laser beam B l + emitted from the laser light source 31 is not uniform, and has, for example, a Uth distribution I (solid line portion) as shown in FIG.
The light intensity is extremely low at the outer periphery of the beam, so when an image is drawn using such a laser beam, the edges of the image may vary depending on the developing conditions, even if a high-contrast lithium-type photosensitive material is used. This is because the required concentration may not be obtained.

これを解消するには、ビーム断面内での光強度を所要の
レベルで一様にすることが望ましく、第6図に示すよう
にがクス分布■の中心部、つまり比較的一様な部分Jで
例えばビーム整形板51の7バーチヤ61を照明すれば
よい。
In order to solve this problem, it is desirable to make the light intensity within the beam cross section uniform at a required level. For example, seven vertices 61 of the beam shaping plate 51 may be illuminated.

しかし、レーザ光a31がらの射出ビームBl+はもと
もと小径であらから、その中心部の一様な光量部分Jを
取り出すだめのアパーチャ61は小さなものにする必要
があり、そうするとレーザ光の波長との相互関係により
回折現像が大きく影響し、一様であるべき光強度分布が
得られないこととなる。その上、このような小さいアパ
ーチャを高精度で形成することら容易ではない。
However, since the emitted beam Bl+ from the laser beam a31 originally has a small diameter, the aperture 61 for extracting the uniform light amount portion J at the center needs to be made small, and in doing so, the wavelength of the laser beam and the Due to this relationship, diffraction development has a large influence, and a light intensity distribution that should be uniform cannot be obtained. Moreover, it is not easy to form such small apertures with high precision.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、結
像光学系の結像面と記録面とのずれが変化しても、ビー
ムピッチが変化しないようにすること、画線のエッヂの
シャープネスを向上させることをその目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has an object to prevent the beam pitch from changing even if the deviation between the image forming surface and the recording surface of the image forming optical system changes, and to prevent the edge of the image line from changing. The purpose is to improve the sharpness of the image.

〈問題点を解決するための手段〉 本発明は上記目的を達成するため、前記従来例のレーザ
露光装置を例えば第1図〜第4図に示すように改良した
ものである。
<Means for Solving the Problems> In order to achieve the above object, the present invention improves the conventional laser exposure apparatus as shown in FIGS. 1 to 4, for example.

即ち、結像光学系10に入る手前におかれたアパーチャ
5の像14を1以上のテレセットリック光学系で構成し
た結像光学系で記録面G上に結像し、その線を形成する
各レーザビーム66の主光線15が光軸16に対して平
行となるようにしたことを特徴とするものである。
That is, an image 14 of the aperture 5 placed before entering the imaging optical system 10 is imaged onto the recording surface G by an imaging optical system constituted by one or more telecentric optical systems, and a line is formed. The main ray 15 of each laser beam 66 is parallel to the optical axis 16.

〈作 用〉 アパーチャを通った複数本の平行レーザビームB4は、
テレセンドリンク光学系上り成る結像光学系10によっ
て、ビームピッチが縮小された像14として記録面G上
にアパーチャ像を結像する。
<Operation> Multiple parallel laser beams B4 passing through the aperture are
An aperture image is formed on the recording surface G as an image 14 with a reduced beam pitch by an imaging optical system 10 comprising a telesend link optical system.

このとき、像14を形成する各レーザビームB6の主光
線15は光軸16に対して平行光線となる。
At this time, the chief ray 15 of each laser beam B6 forming the image 14 becomes a parallel ray with respect to the optical axis 16.

これにより、結像光学系10の結像面Qと記録面Gとの
開にずれΔDが生じるようなことがあっても、従来例の
ように像の寸法が変化することがない。
As a result, even if a deviation ΔD occurs between the imaging surface Q of the imaging optical system 10 and the recording surface G, the dimensions of the image do not change as in the conventional example.

〈実 施 例〉 以下本発明によるレーザ露光装置の実施例を第1図〜第
5図に基づいて説明する。
<Example> Hereinafter, an example of a laser exposure apparatus according to the present invention will be described based on FIGS. 1 to 5.

第1図(A)はレーザ露光装置の概要を示す斜視図であ
り、この図において、符号1はレーザ光源、3はビーム
エキスパンダ、4はビームスプリッタ(分割手段)、5
(5a・5111)はビーム整形板、6はアパーチャ、
7は多チャンネル型光変調器、8はO次回折光遮断用ス
リット板、2及び9a・9bはミラー、10は結像光学
系である。
FIG. 1(A) is a perspective view showing an outline of a laser exposure apparatus, and in this figure, reference numeral 1 is a laser light source, 3 is a beam expander, 4 is a beam splitter (splitting means), and 5 is a laser light source.
(5a/5111) is a beam shaping plate, 6 is an aperture,
7 is a multi-channel optical modulator, 8 is a slit plate for blocking O-order diffracted light, 2 and 9a and 9b are mirrors, and 10 is an imaging optical system.

ビームエキスパンダ3は、−組のレンズ3a・3bを具
備して成り、レーザ光源1から射出されたレーザビーム
B、の径を拡大するためのらのである。
The beam expander 3 includes a pair of lenses 3a and 3b, and serves to expand the diameter of the laser beam B emitted from the laser light source 1.

ビーム整形板5aは、ビームエキスパンダ3により拡大
されたレーザビームB2の中心部分を取り出すことによ
り、比較的一様な光強度分布を得るためのものである。
The beam shaping plate 5a is for obtaining a relatively uniform light intensity distribution by extracting the central portion of the laser beam B2 expanded by the beam expander 3.

すなわち、レーザ光@1から射出されるレーザ光ビーム
B、のビームの光強度分布は一様でなく、前記のように
ビームの外周部は極度に光強度が低下しているため、こ
のようなレーザビームを用いて画線を描くと、その画線
のエッヂは硬調なリス型感光材を用いたとしても現像条
件により所要の濃度が得られないことがある。
That is, the light intensity distribution of the laser light beam B emitted from the laser light @1 is not uniform, and as mentioned above, the light intensity is extremely low at the outer periphery of the beam. When an image is drawn using a laser beam, the edges of the image may not have the required density depending on the developing conditions even if a high-contrast lithium-type photosensitive material is used.

従って、画線のエッヂのシャープネス低下の一つの原因
にもなることか呟ビーム整形板5aはビームエキスパン
ダ3を介した後に使用し、かかる不都合を解消する手段
として用いる。すなわち、このビーム整形板5aは単一
のアパーチャ6aを有し、ビームエキスパンダ3とビー
ムスプリッタ4との間に配置され、例えば第5図に示す
ように、このアパーチャ6aによりビーム断面Sの形状
及び大きさが規定されるとともに、拡大されたレーザビ
ームB2の中心部の比較的一様な光強度分布Jの部分を
取り出すことができる。これにより、ビームの外周部の
光強度の低下は無視できる。このようにして取り出した
レーザビームを用いて描いた画線は、そのエッヂのシャ
ープネスを十分確保することができる利点がある。
Therefore, the beam shaping plate 5a is used after the beam has passed through the beam expander 3, and is used as a means to solve this problem, since it may be one of the causes of a decrease in the sharpness of the edge of the image. That is, this beam shaping plate 5a has a single aperture 6a and is arranged between the beam expander 3 and the beam splitter 4, and as shown in FIG. and the size are defined, and it is possible to extract a portion of the relatively uniform light intensity distribution J at the center of the expanded laser beam B2. As a result, the decrease in light intensity at the outer periphery of the beam can be ignored. The line drawn using the laser beam extracted in this manner has the advantage of ensuring sufficient edge sharpness.

第1図(A)のようにビーム整形板5aをビームエキス
パンダ3の後に設ける場合には、ビームエキスパンダ3
によってレーザビームB2の径を十分大きくした後、ビ
ーム整形することができるので、そのアパーチャ6aの
直径を回折現象の影響を無視し得る程度まで拡げること
が可能である。
When the beam shaping plate 5a is provided after the beam expander 3 as shown in FIG. 1(A), the beam expander 3
After making the diameter of the laser beam B2 sufficiently large, the beam can be shaped, so that the diameter of the aperture 6a can be enlarged to such an extent that the influence of the diffraction phenomenon can be ignored.

この場合にはそれだけ7パーナヤを高精度で形成するこ
とが容具となる利点がある。すちなみに、本実施例にお
いては、このアパーチャ6aの直径は約1.Sn+/m
程度である。
In this case, it is advantageous to form the seven pernaya with high precision. Incidentally, in this embodiment, the diameter of this aperture 6a is approximately 1.5 mm. Sn+/m
That's about it.

なお、上記ビーム整形板5aに代えて第1図(B)で示
す別実施例によるビーム整形板5bを用いることらでき
る。この別実施例によるビーム整形板5bは、ビームス
プリッタ4と光変調器7どの間に設けられ、ビームスプ
リッタ4から射出される平行ビームBコに対応させて直
列状に開口した複数の7バーチヤ6bを有しており、基
本的には上記のビム整形板5aと同様に、このアパーチ
ャ6bにより各レーザビームB、を光変調器7に入射さ
せる前に整形上かつ、比較的一様な光強度部分Jを取り
出すようにしたものである。
Note that a beam shaping plate 5b according to another embodiment shown in FIG. 1(B) may be used in place of the beam shaping plate 5a. The beam shaping plate 5b according to this other embodiment is provided between the beam splitter 4 and the optical modulator 7, and has a plurality of seven vertices 6b opened in series corresponding to the parallel beam B emitted from the beam splitter 4. Basically, similar to the beam shaping plate 5a described above, each laser beam B is shaped by the aperture 6b and has a relatively uniform light intensity before entering the optical modulator 7. Part J is taken out.

ビームスプリッタ4は、拡大されたレーザビームB2を
複数本の平行なレーザビームB、に分割するためのもの
であり、このビームスプリッタ4は、例えば特開昭52
−122135号公報に記載されているように、平行平
面を有するガラス板を具備して成り、一方の平面には完
全反射面を形成するコーティングが施され、他方の平面
には、その平面から射出する平行ビームB、の各ビーム
の光量が均一となるように透過率を段階的に変化させる
ようなコーティングが施されている。
The beam splitter 4 is for splitting the expanded laser beam B2 into a plurality of parallel laser beams B.
As described in Japanese Patent No. 122135, it is equipped with a glass plate having parallel planes, one plane is coated with a coating that forms a completely reflective surface, and the other plane is coated with a coating that emits light from the plane. A coating is applied to change the transmittance in stages so that the light intensity of each of the parallel beams B is uniform.

多チャンネル型光変調器7は、例えば音響光学式のもの
が用いられ、周知のように複数個の超音波励振部材が単
一の音響光学媒体上に付着せしめられ、当該励振部材に
対応する音響光学媒体部分に各平行レーザビームB、を
入射させ、バタン信号に基づいて発せられる制御信号に
上り入射した各レーザビームB、をそれぞれ独立に変調
するように構成されている。
The multi-channel optical modulator 7 is of an acousto-optic type, for example, and as is well known, a plurality of ultrasonic excitation members are attached on a single acousto-optic medium, and an acoustic wave corresponding to the excitation member is attached. Each parallel laser beam B is made incident on the optical medium portion, and each incident laser beam B is configured to be independently modulated based on a control signal issued based on a bang signal.

スリット板8は上記光変調調器7により変調された一次
回折光のみを通過させ、0次回折光を遮断除去するため
のものである。
The slit plate 8 is for passing only the first-order diffracted light modulated by the light modulation adjuster 7 and blocking and removing the zero-order diffracted light.

スリッシ板8を通過した複数本の平行レーザビームB、
は、次の2つの平面ミラー9a・9bによってその方向
が変換され、結像光学系10に入射される。
A plurality of parallel laser beams B passing through the slithering plate 8,
The direction of the light is changed by the next two plane mirrors 9a and 9b, and the light is incident on the imaging optical system 10.

結像光学系10は、二つの望遠鏡光学系11及び12を
テレセントリックに光学接続したテレセンドリンク光学
系として構成してあり、この構成により複数本の平行ビ
ームB、のビームピッチを圧縮してその結像面Fに所要
の幅W1をもった像14を形成するようにしである。
The imaging optical system 10 is configured as a telesend link optical system in which two telescope optical systems 11 and 12 are optically connected telecentrically, and with this configuration, the beam pitch of the plurality of parallel beams B is compressed and the resulting An image 14 having a required width W1 is formed on the image plane F.

第2図はこの結像光学系10の概要図である。FIG. 2 is a schematic diagram of this imaging optical system 10.

L、及びL2はそれぞれ前段の望遠鏡光学系11の対物
レンズ及び接眼レンズを示す。この光学系11は全体と
して一つのテレセントリック光学系を構成し、対物レン
ズL1の前側焦点位置F1に配置されたビーム整形板5
からの複数本の平行ビームB4は接収レン′X:L2よ
り再び同じ本数の平行ビームB、となって射出し、11
1ルンズL2の後側焦点位置F 23に前段縮小倍率M
、にビームピッチを圧縮しすこ像13を形成する。
L and L2 indicate the objective lens and eyepiece lens of the telescope optical system 11 at the front stage, respectively. This optical system 11 constitutes one telecentric optical system as a whole, and a beam shaping plate 5 is arranged at the front focal position F1 of the objective lens L1.
The plurality of parallel beams B4 from the converging lens 'X:L2 are emitted as the same number of parallel beams B again, and 11
1 lens L2 rear focal position F 23 front stage reduction magnification M
, the beam pitch is compressed to form a small image 13.

L、及びL4はそれぞれ後段の望遠鏡光学系12の対物
レンズ及び接眼レンズを示す、この光学系12ら前段光
学系11と同様に全体として一つのテレセンドリンク光
学系を構成し、対物レンズL、の前側焦点位置F 21
に形成された像13からの複数本の平行ビームB、は接
[L4より再び同じ本数の平行ビームBGとなって射出
し、接眼レンズL4の後側焦点位置Fに所要のビームピ
ッチに圧縮された像14を形成する。
L and L4 respectively indicate the objective lens and eyepiece of the rear-stage telescope optical system 12. Like the front-stage optical system 11, this optical system 12 constitutes one telesend link optical system as a whole, and the objective lens L, Front focal position F 21
The plurality of parallel beams B from the image 13 formed in An image 14 is formed.

後段の望遠鏡光学系12は、内部にズームレンズL、を
含んでおり、像14のビームピッチを無段階に調整する
ことができるようになっている。
The rear-stage telescope optical system 12 includes a zoom lens L therein, so that the beam pitch of the image 14 can be adjusted steplessly.

上記のように、望遠鏡光学系11及び12を2段に接続
した場合には、それぞれの倍率を比較的低くできるので
一段階で縮小するよりも収差を小さくできるという利点
を生ずる。もなみにこの実施例ではビーム圧縮光学系1
0全体の縮小倍率は1/150〜1/300まで無段階
にi整可能となっている。
As described above, when the telescope optical systems 11 and 12 are connected in two stages, the magnification of each can be made relatively low, resulting in an advantage that aberrations can be made smaller than when the telescope optical systems are reduced in one stage. By the way, in this embodiment, the beam compression optical system 1
The overall reduction magnification of 0 can be adjusted steplessly from 1/150 to 1/300.

ズームレンズL、は必ずしも後段の光学系12に限るこ
となく、これに代えて前段の光学系11に含まれてもよ
く、あるいは縮小倍率を無段階に調整しない場合には第
3図に示すように省略することらできる。
The zoom lens L is not necessarily limited to the rear optical system 12, but may instead be included in the front optical system 11, or if the reduction magnification is not adjusted steplessly, as shown in FIG. It can be abbreviated to

結像光学系10をテレセントリック光学系で構成するこ
とによる利点は、fjrJ4図に示すように結像位置F
Qと記録位置Gとの間にずれ△Dが生じた場合でも、そ
れぞれの位置における像の寸法W1とW2とが実質的に
等しくなることである。つまり、前記のように後段の接
眼レンズL、から射出する各レーザビームB6の主光線
15がこの光学系12の光軸16に対して平行となるか
らである。但し、このような位置ズレは各ビームの結像
状態が劣化することを意味するので、結像位置Fと記録
位置Gとは可能な限り近接させることが望ましい。
The advantage of configuring the imaging optical system 10 as a telecentric optical system is that the imaging position F is fixed as shown in figure fjrJ4.
Even if a deviation ΔD occurs between Q and the recording position G, the dimensions W1 and W2 of the image at each position are substantially equal. That is, this is because, as described above, the chief ray 15 of each laser beam B6 emitted from the eyepiece L at the subsequent stage is parallel to the optical axis 16 of this optical system 12. However, since such a positional shift means that the imaging state of each beam deteriorates, it is desirable that the imaging position F and the recording position G be as close as possible.

なお、上記実施例においては、結像光学系10が望遠鏡
光学系11・12を2段に接続しだらのについて例示し
たがこれに限ることなく、全体としてテレセントリック
光学を構成するものであれば、単一のものでも3段以上
の多段に接続したものでもよい。
In the above embodiment, the imaging optical system 10 is an example in which the telescope optical systems 11 and 12 are connected in two stages, but the invention is not limited to this, and as long as the imaging optical system 10 as a whole constitutes a telecentric optical system, It may be a single type or a type connected in three or more stages.

なお、遮断用スリット板8を直列状に開口した複数のア
パーチャにしてもよいし、結像光学系と多チャンネル型
光変調器との間の適宜の位置に直列状に開口した複数の
アパーチャを設けてもよい。
The blocking slit plate 8 may have a plurality of apertures opened in series, or a plurality of apertures opened in series may be provided at appropriate positions between the imaging optical system and the multi-channel optical modulator. It may be provided.

〈発明の効果〉 本発明によれば、結像光学系の結像面と記録面との間に
ずれが生ずるようなことがあっても、従来例のように像
の寸法が変化することがない、従って、例えば使用する
感光シートの厚みが変化しても、ピント調整だけ行えば
よく、像の寸法の変化を全く気にしなくてもよいから、
作業性が向上するとともに、結像光学系の組付調整ら容
易となる。
<Effects of the Invention> According to the present invention, even if there is a misalignment between the imaging surface of the imaging optical system and the recording surface, the dimensions of the image do not change as in the conventional example. Therefore, even if the thickness of the photosensitive sheet used changes, for example, all you have to do is adjust the focus, and you don't have to worry about changes in the image dimensions at all.
Workability is improved and assembly and adjustment of the imaging optical system becomes easier.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図〜第5図は本発明によるレーザ露光装置の実施例
を示し、第1図(A)はレーザ露光装置の概要斜視図、
第1図(B)は別実施例の要部斜視図、第2図は第1図
におけるビーム圧縮光学系10の概要を示す平面図、第
3図は結像光学系の別実施例を示す第2図対応図、第4
図は結像光学系による結像位置近傍でのビームの態様を
示す平面図、第5図及び第6図はそれぞれビーム整形板
によるビーム整形の態様を示す説明図、!@7図〜第9
図は従来例を示し、第7図は従来の結像光学系による結
像位置近傍でのビームの態様を示す平面図、第8図はレ
ーザ露光装置が利用される画像走査記録装置の一例を示
すレーザプロフタの斜視図、第9図は従来例によるレー
ザ露光装置の概要斜視図である。 1・・・レーザ光源、  3・・・ビームエキスパンダ
、4・・・ビームスプリッタ、  5(5a・5b)・
・・ビーム整形板、 6(6a・6b)・・・アパーチ
ャ、7・・・多チャンネル型光変調器、  10・・・
結像光学系、  11・12・・・望遠鏡光学系、  
14・・・像。 第 1 図 (A’) 第 1 図 (B)
1 to 5 show an embodiment of a laser exposure apparatus according to the present invention, and FIG. 1(A) is a schematic perspective view of the laser exposure apparatus;
FIG. 1(B) is a perspective view of the main parts of another embodiment, FIG. 2 is a plan view showing an outline of the beam compression optical system 10 in FIG. 1, and FIG. 3 is a diagram showing another embodiment of the imaging optical system. Figure 2 Correspondence diagram, 4th
The figure is a plan view showing the mode of the beam near the imaging position by the imaging optical system, and FIGS. 5 and 6 are explanatory diagrams showing the mode of beam shaping by the beam shaping plate, respectively. @Figure 7-9
The figure shows a conventional example, FIG. 7 is a plan view showing the state of the beam near the imaging position by the conventional imaging optical system, and FIG. 8 shows an example of an image scanning recording device using a laser exposure device. FIG. 9 is a perspective view of a conventional laser exposure apparatus. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Laser light source, 3... Beam expander, 4... Beam splitter, 5 (5a, 5b).
...Beam shaping plate, 6 (6a, 6b)...Aperture, 7...Multi-channel optical modulator, 10...
Imaging optical system, 11/12... Telescope optical system,
14...Statue. Figure 1 (A') Figure 1 (B)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、レーザ光源からのレーザビームをビーム分割手段で
複数本の平行レーザビームに分割し、複数本のレーザビ
ームを多チャンネル型光変調器でそれぞれ独立に変調し
、変調した複数本の平行レーザビームを複数のレンズで
構成した結像光学系を介して、記録面上に投影するよう
に構成した画像走査記録装置のレーザ露光装置において
、 結像光学系に入る手前におかれたアパーチャの像を1以
上のテレセットリック光学系で構成した結像光学系で記
録面上に結像し、その線を形成する各レーザビームの主
光線が光軸に対して平行となるようにしたことを特徴と
する画像走査記録装置のレーザ露光装置 2、結像光学系がズームレンズを含んで成る特許請求の
範囲第1項に記載した画像走査記録装置のレーザ露光装
置 3、ビームエキスパンダを設けてレーザ光源から射出し
たレーザビームの径を拡大し、当該レーザビームの光強
度分布を比較的一様な部品のレーザビームでアパーチャ
を照射する特許請求の範囲第1項に記載した画像走査記
録装置のレーザ露光装置 4、ビーム整形板が単一のアパーチャを有し、ビームエ
キスパンダとビームスプリッタとの間に配置された特許
請求の範囲第3項に記載した画像走査記録装置のレーザ
露光装置 5、ビーム整形板が直列状に開口した複数のアパーチャ
を有しビームスプリッタと多チャネル型光変調器との間
に配置された特許請求の範囲第3項に記載した画像走査
記録装置のレーザ露光装置 6、ビーム型形板が結像光学系と多チャネル型光変調器
との間に配置された特許請求の範囲第3項に記載の画像
走査記録装置のレーザ露光装置
[Claims] 1. A laser beam from a laser light source is divided into a plurality of parallel laser beams by a beam splitting means, and each of the plurality of laser beams is modulated independently by a multi-channel optical modulator. In a laser exposure device of an image scanning recording device configured to project multiple parallel laser beams onto a recording surface via an imaging optical system composed of multiple lenses, a The image of the aperture is formed on the recording surface by an imaging optical system composed of one or more telecentric optical systems, and the chief ray of each laser beam forming the line is parallel to the optical axis. A laser exposure device 2 of an image scanning and recording device characterized in that the imaging optical system includes a zoom lens, a laser exposure device 3 of the image scanning and recording device according to claim 1, and a beam According to claim 1, an expander is provided to expand the diameter of a laser beam emitted from a laser light source, and the aperture is irradiated with a laser beam of parts whose light intensity distribution is relatively uniform. The laser exposure device 4 of the image scanning recording device according to claim 3, wherein the beam shaping plate has a single aperture and is arranged between the beam expander and the beam splitter. The laser exposure device 5 is an image scanning recording device according to claim 3, wherein the beam shaping plate has a plurality of serially opened apertures and is arranged between a beam splitter and a multi-channel optical modulator. A laser exposure device 6 for an image scanning and recording device according to claim 3, wherein the beam-shaped plate is arranged between the imaging optical system and the multi-channel optical modulator.
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