JPS62230642A - プラズマcvd用耐蝕構造磁気シ−ルユニツト - Google Patents

プラズマcvd用耐蝕構造磁気シ−ルユニツト

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JPS62230642A
JPS62230642A JP26901086A JP26901086A JPS62230642A JP S62230642 A JPS62230642 A JP S62230642A JP 26901086 A JP26901086 A JP 26901086A JP 26901086 A JP26901086 A JP 26901086A JP S62230642 A JPS62230642 A JP S62230642A
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JP
Japan
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sealing
magnetic
outer case
peripheral surface
seal
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JP26901086A
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Ryoji Sedaka
良司 瀬高
Michikazu Kosuge
道和 小菅
Hiroshi Takahashi
宏 高橋
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Furukawa Electric Co Ltd
Original Assignee
Furukawa Electric Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01884Means for supporting, rotating and translating tubes or rods being formed, e.g. lathes

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  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
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  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 珈°産業上の利用分野1 本発明はプラズマCvD(PCVD)法に用いて好適な
耐蝕構造磁気シールユニットに関する。
1従来の技術」 周知の通り1通信用、光学用のガラス母材を製造する際
の−L段としてPCVD法が汎用されており、この際の
プラズマとして非羽衡プラズマを用いることも広〈実施
されている。
非11L衡プラズマを用いるPCVD法において出発ガ
ラス管(石英系のサブストレイト)内にガラス膜を堆積
させるとき、プラズマがそのガラス管の中心に位置し、
管内周面との距離が断面方向に・定であるならば、プラ
ズマ化された気体の拡散は均一とみなすことができ、か
かる場合はガラス管を回転させずとも、その管内周面に
均一にガラス層が1sv vJ影形成きる。
しかし、このような状況は、全ての条件が理想的に満た
され、その理想的条件が定常的に保持される場合にのみ
可能であり、実際上このような状況をつくることは殆ど
不可能である。
その理由として、キャビティの寸法1誤差、形状の不均
一に起因し空洞共振器内の電界強度が不均一になるとか
、プラズマ反応領域をガラス管の外周からYaう筒状の
加熱炉内において、その炉内温度が均一・でないことに
よりガラス管の内周面に堆積されたガラス層の屈折十分
41が不均一になるとか、さらにはガラス管が真直でな
いこと、ガラス管内外径の=・方または両方が長r、方
向にわたり均一・でないこと等々があげられる。
L記において、ガラス管の内周面長r方向にわたって堆
積されたガラス層の径方向の屈折率分布が均一でないと
き、所定の帯域特性が得られず、導波路としての真円度
も低下する。
したがってPCVD法では、ガラス管を回転させること
により、」二記の問題点を緩和ないし一解消するのが一
般となっている。
このガラス管の回転に関して、例えばMCVD法では、
所定の反応により生成したガラス微粒子(スート)が東
方により偏向することがあるため、カラス?庁を50〜
100r、p、alのご゛とさかなりの高速で回転させ
て堆積ガラス層が円周方向に均一・となるようにしてい
る。
かかるMCVD法では1通常、大気圧に等しいか、ある
いは大気圧よりも若1−高い状1ムにガラス管内部が保
持されているので、そのガラス管に原料供給系を接続す
る際の回転シールユニットには高度の気密性が要求され
ず、0リング、ウィルソンシール等で十分のシール効果
が得られ、ガラス管と排気系との接続も、非接触なシー
ル構造で足りる。
しかし圧力の低い状態、すなわち減圧下でガラスf#J
I模の合成を行なうPCVD法では、ガラス管内が5〜
20Torrのごとき比較的低圧にしか保持されないが
、高い気密性が要求される。
その理由は、シール不足によりガラス管内に外気中の水
分が侵入し、これが合成ガラス中に取りこまれた場合、
PCVD法により得られるガラス母材の透明度が悪くな
り、ひいては、そのガラス母材から得られる光ファイバ
の伝送特性がきわめて悪くなる。
ちなみに、0.1pp+aの水分が光フアイバ中に存在
すると、波長1.39gmにおいて6〜7dB/に履も
の光が減衰してしまい、そのため光ファイバの水分残留
j11を数PPb−数1−ppb程度に抑える必要が生
じる。
したがって、PCVD法により光フアイバ用のガラス管
内部を作製するとき、h:(料の純度はもちろん、リー
クによって大気中の水分がガラス管およびその配管系に
侵入するのを防+l・する観点から。
超高真空と同程度のシールa滝を備えた回転シールユニ
ットが必要となる。
既知の通り1回転シールユニットには国定部、回転部相
圧の接触部分があり、その接触部分において摩耗粉塵が
発生し、あるいはリークが生じることにより系が汚染さ
れる。
例えばオイルシールの場合、シールゴム、固体相Qlに
摩擦が生じることによりゴム粉が発生し、これが飛散す
るほか、そのゴム摩耗によりリークが生じる。
これを防市するため、シールゴムと固体との間にオイル
1漠を介在させるが、当然オイルは低圧側へ引きこまれ
、系の汚染原因となる。
・方、メカニカルシールも、固定リングとrI丁切りン
グとが摩擦するので、これらシール部材の摩耗は不r+
7避であり、光ファイバの場合は、この際に発生する金
属粉塵などを水分と同茅またはそれ以にに様う。
例えば0.lppm+のFeイオンが光フアイバ中に残
留した場合、透過する波長全般で約1dB/kmの光が
減衰してしまう。
1−述した理111から、PCVD法での回転シールユ
ニットとしては、高度の気密性を満足させること、これ
とともに回転によるシール部材の摩耗が生じないことが
要求される。
これの−・例として、特開昭5o−5te2ss3の発
明では、”HA性(ベローズ)パイプを用いた配管によ
りガラス管をガス供給系および真空ポンプに接続し、そ
のl’lf撓性パイプの特性を利用してガラス管を適当
な周期で1逆回転させるようにしている。
r発明が解決しようとする問題点J L上記ローズパイプを用いるL段では、ガラス管を一方
向に連続回転できないため、その回転方向を頻繁に変換
しなければならず、したがって一方向回転式と比較し、
回転モータならびにその制ggT一段が複雑になる。
もちろん、問題点はそれのみにとどまらず、ベローズパ
イプが正方向、逆方向へ回転されるごとに当該パイプに
捻れが作用し、そのパイプ寿命が短くなる。
なかんずく、光ファイバの製造では四塩化ケイ素、四塩
化ゲルマニウムなどの腐食作用の高い原料を用いるので
、腐食と疲労によりベローズパイプにピンホールが発生
し、リークの原因となる。
さらにガラス合成時、原料収率の高いPCVD法といえ
ども、スート(ガラス微粒子)が排気側に堆積し、これ
がベローズパイプの内周面にも付着するので、超1°f
波洗浄のような洗浄力の強い手段で洗浄しなければなら
ず、この際の洗浄が不十分であると、不純なスートがガ
ラス管側へ逆流してガラス合成時の発泡原因となる。
一方、従来の磁気シールユニントをP CV D 法に
適用することが考えられるが、既存の磁気シールユニッ
トの場合はPCVD法に適した#触性が確保されていな
い。
これは、磁性流体としてト分なl1FIi性が得られて
いたが、磁気回路を構成するポールピース、回転部の耐
蝕性が不1−分なためである。
すなわち、ポールピース、回転部等の部材については磁
性を帯びる必要があるが、現状では磁性と耐蝕性とを満
足させる適当な金属材料が見出せないからである。
安易な対策として、1−述した部材に磁性、1耐蝕性に
優れるNiコーティングを施すことが考えられるが、こ
れにより磁性を帯びたとしても1通常、磁気シールユニ
ットに使用される材料はどの磁束密度が得られないので
、厚いコーテイング膜を形成することができず、したか
つコーテイング膜が剥離しやすく寿命面で問題が生じる
−・方、フェライト系ステンレスは被削性に優れた加重
易度の高い材料として用いられており、これらの中には
、5O9−31Gと同等の耐蝕性を有する材料も開発さ
れてきたが、かかるフェライト系ステンレスの場合、あ
くまでも被削性が重視されるにとどまり、磁気シールユ
ニットの磁気回路を構成する際の適否については検討さ
れていない。
ちなみに、フェライト系ステンレスの代表的特性は、透
磁率:400〜800、飽和磁束密度:1.35〜1.
40? 、残留磁気:0.3〜0.7T、保持力4〜7
0eテある。
本発明はl−述した問題点を解決するため、フェライト
系ステンレスが磁気シールユニットの磁気回路を構成す
る七で十分な磁気が得られるとの検討結果に基づき、高
度のシール効果、耐蝕性、耐久性、簡潔な構成、取り扱
いの容易さ等を満足させ得るプラズマCVD用磁気シー
ルユニットを提供しようとするものである。
r問題点を解決するためのL段1 本発明に係るI耐蝕構造磁気シールユニット(以ドri
磁気シールユニットという)はJ−記の目的を達成する
ため、軸方向の一端に接続[1を有する磁性体からなる
中空の内軸と、軸方向の他端に接続[1を有する筒状の
外ケースとが、相対回転自在に嵌合され、内軸外周面と
外ケース内周面との間には、リング状の磁性体からなる
シール基材と永久磁石とが!にいに隣接して介在され、
シール基体内周面と内軸の外周面との間には、/a磁性
流体らなるシール材が、これら内外周面に密接して介在
され、かつ、シール基体外周面と外ケース内周面との間
には、シール部材が介在されていることを特徴とする。
一′作用J 本発明磁気シールユニットは二組のものを一対として用
い、その二組の磁気シールユニットによりガラス管を回
転自在に両端支持するとともに、該各磁気シールユニッ
トの一方には、原料供給系を、その他方には排気系をそ
れぞれ接続する。
より具体的には、ガラス管の両端を所定間隔で対向せる
両内軸の接続1]に接続し、原料供給系を一方の外ケー
スの接続口に接続し、排気系を他方の外ケースの接続口
に接続するのであり、かかる状態において、ガラス管を
両端支持している両内軸を回転させ、そのガラス管内へ
の原料供給、ガラス管内の減圧、ならびにプラズマの発
生を行ないながら当該ガラス管の内周面にガラス層を堆
請させる。
この際の磁気シールユニットは、前述の通り内軸と外ケ
ースとが相対回転自在に嵌合され、内軸外周面と外ケー
ス内周面と間には、シール基材と永久磁石とが介在され
、シール基体内周面と内軸の外周面との間には、永久磁
石により磁気を帯たシール材が介在され、かつ、シール
基体外周面と外ケース内周面との間に、例えば磁性流体
またはOリング等からなるシール部材が介在されている
ため、永久磁石を介しそ磁気を帯だ磁性流体製′   
シール材および前記シール部材により1回転体(内軸)
、非回転体(外ケース)相互の高度の気密性が得られる
なお %l/、然のことながら、シールノ、tH体外周
面と外ケース内周面との間に磁性流体からなるシール部
材が介在される場合は、前記外ケースも内軸と同様に磁
性体により構成されなければならない。
磁性体製のシール材またはシール部材は、これを例えば
常温ないし低温(常温以下)に保持することにより蒸発
が防止でき、物理的、かがくていに安定するから、PC
VI:におけるガラス管内を汚染することがなく、しか
も十分な耐蝕構造を有するので、長期的に安定したシー
ル効果を発揮する。
I;記シールノ1(材、永久磁石、シール材、およびシ
ール部材笠は、これらを所定の位置に配置するだけであ
るから、筒潔な構成となり、もちろん、ガラス管を一方
向連続回転させることが可能であるから、ガラス管を回
転させながら実施するPCVD法の取り扱いが容易とな
り、そのガラス管の回転制御手段も筒易なもので足りる
奮実 施 例J 以ド、本発明磁気シールユニットの実施例につき、図面
を参照して説明する。
第1図に例示した未発IJ′]磁気シールユニット1は
中空の内軸2と筒状の外ケース3との組み合わせからな
る。
内軸2は一例として、耐蝕性のフェライト系ステンレス
鋼からなり、!l′I該内軸2は一端に接続口4を有す
るほか、その外周の一端にブー95、その外周の長手方
向中間に鍔状の突起6を有する。
内軸2の材質の具体的−例として、スウェーデンサンド
ピンク(Sweden 5advik)社(7)180
2材を用いた。
なお、プーリ5は歯付である。
外ケース3は1例えばシール部材13がシール材12と
同じく磁性流体からなる場合、−例として。
耐蝕性のあるフェライト系ステンレス鋼(例えばスウェ
ーデンサンドビック社の1802材)からなり、0リン
グの場合は、耐蝕性のあるステンレス鋼(SOS−31
6)からなり、当該外ケース3はその他端に接続n7を
有するとともに、その周壁に冷媒導入用のjilpn8
を有する。
この継手118には、後述するシール材冷却用として例
えば1−水を加圧供給すべく、所定の配管が接続される
l−記内軸2、外ケース3はその軸方向の両端にこれら
の接続口4,7を配置して相対嵌合されるが、この際、
内軸外1.1面と外ケース内周面と間には、突起6を挟
むようにして軸受(玉軸受)9が介在され、これにより
内軸2、外ケース3は相対回転IIf能となっている。
■油受9は−・例として金コーティングされたものから
なり、内軸2を低速回転(約10Or、p、m以ド)さ
せる場合、二つの軸受9のいずれか一方が省略されるこ
とがある。
さらにに配回軸外周面と外ケース内周面と間には、リン
グ状の磁性体からなる複数のシール部、(材!Oと、こ
れらシール基材間に挟まれたリング状の永久磁石11と
が介在され、該各シールノ、(体内周面と1−配向軸外
周面との間には、磁性流体からなるシール材12が介在
され、かつ、該各シール基体外周面とに記外ケース内周
面との間には、磁性流体または0リングからなるシール
部材13が介在されここで、L記シール部材13として
磁性流体を使用する場合は、外ケース3の材質として磁
性体からなるものを使用しなければならないが、該シー
ル部材13として0リングを使用する場合、外ケース3
は磁性体からなるものに限定されない。
かくて軸受8はCVD用気体と遮断される。
シール基材10は一例として、前記と同様、耐蝕性フェ
ライト系ステンレス鋼からなり、このシール基材10の
内外周面には、シール材12およびシール部材13を保
持するための溝が形成されている。
シール材12を構成する磁性流体は、強磁性体の固体微
粒子・(例えばマグネタイト)を、フルオロ・カーボン
系のベース液体中に安定に分散させた懸濁液であり、見
掛けり、磁性をもつ液体のごとくふるまい、耐蝕性を有
する。
第2図は本発明の磁気シールユニットlを装備したPC
VD法の略示図である。
第2図において、21は制御装置22を有するインダク
ションモータ、23はそのインダクションモータ21に
より回転される原動軸、24は原動軸23の外周に取り
つけられたプーリ(歯付)である。
1−記制御装置22は正逆回転機構1回転速度調整機構
、緊急停止機構などの基本的な回路構成を有する。
25はガラス管(石英系サブストレイ))、2Bはガラ
ス管25の外周長り方向に沿って往復動する空洞共振器
、27はガラス管25内に発生させるしプラズマ(非平
衡プラズマ)、28は1:(料供給装置、29は真空ポ
ンプである。
に記ガラス管25の両端を回転自在に支持している一対
の磁気シールユニットlには、プーリ5.24にわたっ
て掛回された歯付ベルト30を介して原動軸23の回転
が伝達されるようになっており、かつ、これら磁気シー
ルユニッHには、原料供給装置28、真空ポンプ29が
接続されている。
なお、磁気シールユニット1とガラス管25、磁気シー
ルユニットlと原料供給装置28、真空ポンプ29との
接続ひ前述した接続rJ4、?を介して行なわれる。
つぎに、第2図においてPCVD法を実施する際の具体
例とその比較例について説明する。
具体例 ガラス管25として内径17mmφ、外径20腸層φ、
長さ1500mmの高純度石英管を用い、これを第2図
における二つの磁気シールユニットlに気密し接続した
ガラス管25の外周は、該管内壁を1100〜1300
℃に加熱すべく、より具体的にはその内壁を1250°
Cに加熱すべく図示しない筒状の加熱炉で覆い、所定の
温度で加熱した。
ガラス管25をインダクションモータ21とその伝動系
により回転させるとき、当該ガラス管25の回転数が5
Or、p、mとなるように設定した。
ガラス管25内は真空ポンプ29により11Torrに
保持した。
放電プラズマの発生に際しては、2.45GHzのマイ
クロ波発振機を用い、900wの出力を加えた。
はじめ、ガラス管25内には原料供給装置28から25
0secmのガラス原料(SiC+4) と22scc
+aのドープ原料(02CIFs)と1.5!IL11
の02を供給し、空洞共振器26を速度8.25m+/
winにて往復動させ、1750回のガラス堆積により
クラッド部を合成した。
つぎに、1−記におけるC2ClF5の供給量を徐々に
減らし、  l;記クラッド部の内周に850回の堆積
により二乗分41のm折率分布をもつコア部を形成した
が、この際、コア部の最終層まで上記ドープ原ネ1を供
給した。
したがって、コア部におけるJX1i折率の最も高い部
分でも、サブストレイトよりは屈折率が低い。
1−記において、ガラス管25の回転と空洞共振器2B
の往復動とは同期させていない。
その後、ガラス管25を高温の加熱処理によりコラプス
するとき、常時、酸素とフッ素原料とを流して気相エツ
チング処理を行ない、屈折率分布の異常が発生しないよ
うにした。
こうして得られたガラスII材を抵抗加熱炉にて紡糸し
、コア径50ILIlφ、クラッド厚18JLa+φ。
外径125終■φの光ファイバをえ得た。
かかる光ファイバの特性を調べたところ、波長1.3g
mにおける伝送損失: 0.46dB/km 、伝送帯
域: 2GHz k+a 、HA : 0.205 テ
あり、良好な特性を示した。
比較例 ガラス管25を回転させない点を除き、他は具体例と同
様にしてガラスCJ材をつくり、さらにそのIす材を紡
糸して所定の光ファイバを得た。
なお、この比較例におけるPCVD法では、磁気シール
ユニットを用いず、金属パイプ(SU331B)により
ガラス管25とD’sC料供給袋供給装置28ス管25
と真空ポンプ29とをそれぞれ接続した。
比較例での光ファイバの特性は、波長1.3ルmにおけ
る伝送損失70.45dB/に層、伝送帯域: 800
%Hz−km 、 NA : 0.21であり、帯域特
性がかなり悪いものとなった。
また、紡糸前のガラス母材を母材分析機によりΔIII
定したところ、外径中心とコア部中心とが軸ずれしてい
た。
r発明の効果A 以り説明した通り、本発明に係るプラズマCvDJIl
+耐蝕構造磁気シールユニットは、高度のシール効果、
耐蝕性、耐久性、簡潔な構成、取り扱いの容易さ等を満
足させることができ、かかる耐蝕構造磁気シールユニッ
トを用いてプラズマCVDD:を実施した場合、特性の
よいガラス母材が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係るプラズマCVD用耐蝕構造磁気シ
ールユニットの゛ト裁IE面図、第2図は同上の磁気シ
ールユニットを用いたPCVD法の略示説明図である。 !・・・・・・耐蝕構造磁気シールユニット2・・・・
・・内軸 3・・・・・・外ケース 4・・・・・・内軸の接続口 ?・・・・・・外ケースの接続口 10・拳・・拳・シール基材 11・・・・・・永久磁石 12・・・・・・シール材 13・・・・・・シール部材

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)軸方向の一端に接続口を有する磁性体からなる中
    空の内軸と、軸方向の他端に接続口を有する筒状の外ケ
    ースとが、相対回転自在に嵌合され、内軸外周面と外ケ
    ース内周面との間には、リング状の磁性体からなるシー
    ル基材と永久磁石とが互いに隣接して介在され、シール
    基体内周面と内軸の外周面との間には、磁性流体からな
    るシール材が、これら内外周面に密接して介在され、か
    つ、シール基体外周面と外ケース内周面との間には、シ
    ール部材が介在されていることを特徴とする耐蝕構造プ
    ラズマCVD用磁気シールユニット。
  2. (2)シール部材がOリングからなる特許請求の範囲第
    1項記載の耐蝕構造プラズマCVD用磁気シールユニッ
    ト。
  3. (3)外ケースが磁性体からなり、シール部材が磁性流
    体からなる特許請求の範囲第1項記載の耐蝕構造プラズ
    マCVD用磁気シールユニット。
JP26901086A 1985-12-09 1986-11-12 プラズマcvd用耐蝕構造磁気シ−ルユニツト Pending JPS62230642A (ja)

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