JPS62223276A - Insulating film material for printed circuit - Google Patents
Insulating film material for printed circuitInfo
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Landscapes
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[技術分野]
この発明は、プリント回路基板の製造技術の分野に属す
る。また、エポキシ樹脂組成物の技術骨・野にも屈する
。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field] This invention belongs to the field of printed circuit board manufacturing technology. It also succumbs to the technical challenges of epoxy resin compositions.
[背景技術]
近年のエレクトロニクスの発展は、プリント基板にも高
密度化、高信頼性を要求し、種々の新しい材料、製法、
方式が提案され、試みられている。たとえば、従来の紙
−フェノール樹脂積層板による片面プリント回路板から
、高信頼性、高密度化が要求される分野に使用するため
に、ガラス−エポキシ樹脂積層板による両面プリント回
路板へ、さらにガラス−エポキシ樹脂、ガラス−ポリイ
ミド樹脂の組合せによる多層プリント回路板へと開発が
進められている。[Background technology] The recent development of electronics has required higher density and higher reliability for printed circuit boards, and various new materials, manufacturing methods, and
Methods have been proposed and tried. For example, from the conventional single-sided printed circuit boards made of paper-phenolic resin laminates, to double-sided printed circuit boards made of glass-epoxy resin laminates for use in fields that require high reliability and high density, and then to glass-epoxy resin laminates. - Development is progressing toward multilayer printed circuit boards using a combination of epoxy resin, glass, and polyimide resin.
これらの進歩は、同時にプリント回路板の大幅なコスト
アップの原因となり、高密度化、高信頼性に加えて低コ
ストのプリント回路の出現が望まれるに至っている。These advances have also caused a significant increase in the cost of printed circuit boards, and the emergence of low-cost printed circuits in addition to high density and high reliability has become desirable.
そのような問題点の解決策の1つが片面複層プリント回
路(Single Multi C1rcuit:以下
SMCと称する)Aと呼ばれるものの提案である。これ
は、第1図に示すよう゛に、両面銅面板を使用せずに、
さらに有機基板1としての片面基板からスルホール手法
を用いずに、ビルドアップによって回路を形成し、交差
配線を可能にしてたものである。One solution to such problems is the proposal of a single-sided multilayer printed circuit (hereinafter referred to as SMC) A. As shown in Figure 1, this is possible without using a double-sided copper face plate.
Further, a circuit is formed from a single-sided substrate as the organic substrate 1 by build-up without using the through-hole method, thereby making cross wiring possible.
すなわち有機基板1の上に、第1配線3を形成し、その
一部に絶縁N2を形成し、そしてその上に第2配線4を
形成して交差配線を完成するのである。簡単な回路では
、第2図に示すように、第1配線3と第2配線4との交
差配線部分だけを、絶縁層2を介在させることにより2
層構造にすると言う簡単な方法で両面板の機能を持たせ
ることができる。That is, the first wiring 3 is formed on the organic substrate 1, the insulation N2 is formed on a part of the first wiring 3, and the second wiring 4 is formed thereon to complete the cross wiring. In a simple circuit, as shown in FIG.
It is possible to provide the function of a double-sided board by simply creating a layered structure.
この方法はセラミックス基板HICにおいては、通常に
使用される方法であるが、その場合にはガラス層を絶縁
層として用いて高温処理しているため、この手法を同じ
ように有機基板に使用することはできない。そこで、有
機絶縁膜を使用する場合、一方では前記のように高信頼
性が要求されるため、絶縁膜の信頼性が問題となってい
る。プリント回路板の信頼性として、耐熱性、絶縁性の
他に耐マイグレーション性がある。エポキシ樹脂基板は
、この耐マイグレーション性が優れていて、これがフェ
ノール樹脂基板に代えて使用される重要な理由の1つと
なっている。This method is commonly used for ceramic substrate HIC, but in that case, a glass layer is used as an insulating layer and high temperature treatment is performed, so this method can also be used for organic substrates. I can't. Therefore, when using an organic insulating film, on the one hand, high reliability is required as described above, so the reliability of the insulating film has become a problem. The reliability of printed circuit boards includes heat resistance, insulation, and migration resistance. Epoxy resin substrates have excellent migration resistance, which is one of the important reasons why they are used in place of phenolic resin substrates.
一般に、フェノール樹脂絶縁膜はエポキシ樹脂絶縁膜に
比べて、マイグレーションが起こりやすく、特に銀(A
g)の場合に顕著であるが、5liI(Cu)の場合に
も同様の傾向を表す。このような点から、通常はエポキ
シ樹脂絶縁膜の使用が推莢される。In general, phenolic resin insulating films are more prone to migration than epoxy resin insulating films, especially silver (A).
Although it is remarkable in the case of g), a similar tendency is also exhibited in the case of 5liI(Cu). From this point of view, it is usually recommended to use an epoxy resin insulating film.
SMC方式では、第2層目の配線方法として、メッキ法
(たとえば銅)、銀ペースト法などが考えられるが、作
業性の観点から後者が好ましい。In the SMC method, plating methods (for example, copper), silver paste methods, and the like can be considered as wiring methods for the second layer, but the latter is preferable from the viewpoint of workability.
また、このような場合、絶縁層が一般に薄いため(数1
0ミクロン)、メッキ法によるにしても、銀ペースト法
によるにしても、共に耐マイグレーション性は重要な要
因である。In addition, in such cases, since the insulating layer is generally thin (several 1
0 micron), migration resistance is an important factor in both plating and silver paste methods.
一方、有機絶縁膜として絶縁ペースト、ソルダーレジス
ト等が便宜的に使用されているが、エポキシ樹脂絶縁膜
を使用したとしても、前記の事情から諒解されるように
、充分な耐マイグレーション性を確保することができな
い、よって、SMC方式の普及が妨げられていた。On the other hand, insulating pastes, solder resists, etc. are conveniently used as organic insulating films, but even if epoxy resin insulating films are used, sufficient migration resistance cannot be ensured, as can be understood from the above circumstances. Therefore, the spread of the SMC method has been hindered.
[発明の目的]
本発明は、耐マイグレーション性に優れたエポキシ樹脂
によるプリント回路用層間絶縁膜を提供することを目的
とする。[Object of the Invention] An object of the present invention is to provide an interlayer insulating film for printed circuits made of epoxy resin with excellent migration resistance.
[発明の開示]
この発明は、1分子中に2個以上のエポキシ基を含む液
状エポキシ樹脂と、下記の構造を有するジヒドラジド化
合物を配合してなるプリント回路用絶縁膜材料を提供す
るものである。[Disclosure of the Invention] The present invention provides an insulating film material for printed circuits, which is made by blending a liquid epoxy resin containing two or more epoxy groups in one molecule and a dihydrazide compound having the following structure. .
明細書の浄ご(内容に変更なし)
N)12NH−R−Nl(Nu(z
R′はアルキル基または
アリール基
R“は水素またはアルキル基
またはアリール基
すなわち、ジヒドラジド化合物を硬化剤として1吏用し
てエポキシ樹脂を硬化させることによって、耐マイグレ
ーション性に優れた絶縁膜を得ようとするものである。Clarification of the specification (no change in content) The aim is to obtain an insulating film with excellent migration resistance by curing the epoxy resin using the following methods.
本発明は、前記の硬化剤の他に、絶縁膜を形成する組成
物に添加するものとして一般的にイ史用さルる添加剤、
たとえば製膜性をよくするためのレベリング剤等の界面
活性剤、密封性を付与するた明細古の浄書(h答ρ二変
更なし9
めの添加剤、スクリーン印刷性を付与するための添加剤
、さらには粘度調整剤、硬化促進剤、顔料、染料等を配
合してもかまわない。In addition to the above-mentioned curing agent, the present invention also provides additives that are generally used as additives to compositions for forming insulating films.
For example, surfactants such as leveling agents to improve film-forming properties, additives to provide sealing properties, and additives to provide screen printability. Furthermore, viscosity modifiers, curing accelerators, pigments, dyes, etc. may be added.
エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、脂環式エポキシ樹脂等どのようなものでも良いが、
そのうちの液状のものを使用するのが好ましい。しかし
、固形のものあるいは高粘度のエポキシ樹脂、たとえば
ビスフェノールA型、フェノールノボラック型、タレゾ
ールノボラック型等のエポキシ樹脂、ブロム化エポキシ
樹脂、ゴム変性エポキシ樹脂等を併用しても、全体が液
状を呈しておればかまわない。Any epoxy resin may be used, such as bisphenol A epoxy resin, alicyclic epoxy resin, etc.
It is preferable to use liquid ones. However, even if solid or highly viscous epoxy resins such as bisphenol A type, phenol novolak type, Talezol novolac type epoxy resin, brominated epoxy resin, rubber-modified epoxy resin, etc. are used together, the whole remains liquid. It doesn't matter if you present it.
硬化剤としては、前記の一般式で表示されるジヒドラジ
ド化合物が使用される。たとえばアジピン酸ジヒドラジ
ド、セパチン酸ジヒドラジド、イソフタール酸ジヒドラ
ジドなど、あるいは下記の式で表示されるジヒドラジド
を挙げることができなお、前記の式においてR″がメチ
ル基であるものを:14HTと略して表示する。As the curing agent, a dihydrazide compound represented by the above general formula is used. Examples include adipic acid dihydrazide, sepatic acid dihydrazide, isophthalic acid dihydrazide, etc., or dihydrazides represented by the following formula. In the above formula, when R'' is a methyl group, it is abbreviated as: 14HT. .
添加量は、エポキシ基1個に対して、ジヒドラジド基が
0.1〜0.4個となるように配合するのが好ましく、
0.4個以上であると、未反応ジヒドラジドが残り、耐
水性が好ましくない。0゜1個以下であると、本発明で
予定している効果が得られない。The amount of addition is preferably such that the number of dihydrazide groups is 0.1 to 0.4 per epoxy group,
If the number is 0.4 or more, unreacted dihydrazide remains and water resistance is unfavorable. If the number is less than 0°, the effects intended by the present invention cannot be obtained.
無機質充填剤は含まないか、あるいは30重量%以下に
するのが好ましい。多量に配合すると、製膜性が低下す
る上に、絶縁膜として有機基板とのマツチングが悪くな
り、さらに膜が固くなりすぎて密着性が悪くなる傾向が
ある。It is preferable that the inorganic filler is not included or is contained in an amount of 30% by weight or less. If a large amount is blended, not only will the film formability deteriorate, but also the matching of the insulating film with the organic substrate will be poor, and the film will also tend to become too hard and have poor adhesion.
以下、実施例に基づき説明する。The following will explain based on examples.
実施例1
エピコート828 (商標ニジニル化学側層、エポキシ
当量:185)を100重量部、2.4HTを18重量
部、エアロジル#30を3重量部、シランカップリング
剤を1重量部配合した。混合は、真空播かい機で行い、
2時間混合して、眉間絶縁膜材料用の組成物を得た。こ
れを使用し、以下のようにして評価した。Example 1 100 parts by weight of Epikote 828 (trademark Nijinyl chemical side layer, epoxy equivalent: 185), 18 parts by weight of 2.4HT, 3 parts by weight of Aerosil #30, and 1 part by weight of a silane coupling agent were blended. Mixing is done using a vacuum seeding machine.
The mixture was mixed for 2 hours to obtain a composition for a glabella insulating film material. This was used to evaluate as follows.
すなわち、第3図のように0.5 w幅の銅パターン5
を、エツチングにより形成し、そしてその一部に貴金属
メツキロを施して形成したた基板1上に、スペーサを使
用して第4図のように、銅パターン5上に絶縁膜材料7
を、30〜50μmの厚みとなるように均一に塗布した
。硬化は、160℃で8時間加熱して行った。その後、
第5図のように、銀ペーストのパターン8を形成し、上
下の導電層に15VDCを印加し、85℃、85%の雰
囲気中で、1000時間放置した。この基板を第5図の
破線X−Xに沿って切断し、マイグレーションの有無を
観察した。That is, as shown in FIG.
is formed by etching, and a part of the insulating film material 7 is formed on the copper pattern 5 using a spacer as shown in FIG.
was applied uniformly to a thickness of 30 to 50 μm. Curing was performed by heating at 160° C. for 8 hours. after that,
As shown in FIG. 5, a pattern 8 of silver paste was formed, 15 VDC was applied to the upper and lower conductive layers, and the pattern was left in an atmosphere of 85° C. and 85% for 1000 hours. This substrate was cut along the broken line XX in FIG. 5, and the presence or absence of migration was observed.
実施例2
実施例1で使用した2、4HTを、9重量部にした以外
は、実施例1と同様にして実施した。Example 2 The same procedure as in Example 1 was carried out except that 2,4HT used in Example 1 was changed to 9 parts by weight.
実施例3
実施例1で使用した2、4HTの18重量部に代えて、
2.4HTを6重量部、イミダゾール系化合物(2MA
−OK :四国化成@)を1.5重量部使用して、実施
例1と同様に実施した。Example 3 Instead of 18 parts by weight of 2,4HT used in Example 1,
6 parts by weight of 2.4HT, imidazole compound (2MA
-OK: Shikoku Kasei@) was used in the same manner as in Example 1, using 1.5 parts by weight.
比較例1
実施例1の2.4HTに代えて、イミダゾール系化合物
(2MA−OK :四国化成@)を5重量部使用した以
外は、実施例1のようにして実施した。Comparative Example 1 The same procedure as in Example 1 was carried out, except that 5 parts by weight of an imidazole compound (2MA-OK: Shikoku Kasei@) was used in place of 2.4HT in Example 1.
比較例2
実施例1で使用した2、4HTに代えて、ジシアンジア
ミドを8重量部使用した以外は、全〈実施例1と同様に
して実施した。Comparative Example 2 The same procedure as in Example 1 was carried out except that 8 parts by weight of dicyandiamide was used in place of 2,4HT used in Example 1.
比較例3
エポキシアクリレート(商標:UE−8200、大日本
インキtill)100重量部、エアロジル#300を
3重量部、シランカップリング剤を1重量部、ベンゾイ
ンエチルエーテルを2重量部、タルクを10重量部を配
合し、同様にして実施した。なお、硬化はUv光の照射
により行った。Comparative Example 3 100 parts by weight of epoxy acrylate (trademark: UE-8200, Dainippon Ink Till), 3 parts by weight of Aerosil #300, 1 part by weight of silane coupling agent, 2 parts by weight of benzoin ethyl ether, 10 parts by weight of talc. The same procedure was carried out. Note that curing was performed by irradiation with Uv light.
実施例4
エピコート828 (商標ニジエル化学(!零製)を7
0重J5HH5、エピコート1004 (商標ニジエル
化学US ! >を30重量部、シランカップリング剤
を1重量部、アジピン酸ジヒドラジドを15重量部を配
合して、その他は実施例1と同様にして実施した。Example 4 Epicoat 828 (trademark Nigel Chemical (manufactured by! Zero) 7
The process was carried out in the same manner as in Example 1 except that 30 parts by weight of 0 weight J5HH5, Epicoat 1004 (trademark Nigel Chemical US!), 1 part by weight of a silane coupling agent, and 15 parts by weight of adipic acid dihydrazide were blended. .
実施例5
実施例4のアジピン酸ジヒドラジドに代えて、セバシン
酸ジビドラジドを18重量部使用して実施した。Example 5 A test was carried out using 18 parts by weight of sebacic acid dihydrazide in place of adipic acid dihydrazide in Example 4.
実施例6
実施例4のアジピン酸ジヒドラジドに代えて、イソフタ
ル酸ジビドラジドを18重量部使用して実施した。Example 6 A test was carried out using 18 parts by weight of isophthalic acid dihydrazide in place of adipic acid dihydrazide in Example 4.
以上の実施例および比較例につき、評価を行ったところ
、比較例1では上下の導電層がショート寸前まで銀のマ
イグレーションが起こっていた。When the above Examples and Comparative Examples were evaluated, it was found that in Comparative Example 1, silver migration occurred to the point where the upper and lower conductive layers were on the verge of short-circuiting.
比較例2.3では上下の導電層の間にところどころ、マ
イグレーションが観察された。これに対して実施例1〜
6ではマイグレーションが全く認められなかった。In Comparative Example 2.3, migration was observed here and there between the upper and lower conductive layers. In contrast, Example 1~
6, no migration was observed at all.
[発明の効果]
この発明は、1分子中に2個以上のエポキシ基を含む液
状エポキシ樹脂と、特定のジヒドラジド系化合物を配合
してなるので、耐マイグレーション性が改良されたプリ
ント回路板用の絶縁膜材料を提供することができた。[Effects of the Invention] This invention is made by blending a liquid epoxy resin containing two or more epoxy groups in one molecule with a specific dihydrazide compound, so it can be used for printed circuit boards with improved migration resistance. We were able to provide insulating film materials.
第1図はSMCの一例を示すプリント回路板の要部断面
図、第2図はSMCの交差配線の様子を示すためのプリ
ント回路板の要部平面図、第3図は配線パターンに貴金
属メッキを施した例を示すプリント回路板の要部平面図
、第4図は絶縁膜を施す部分を示すためのプリント回路
板の要部平面図、第5図はマイグレーションの試験のた
めの切断部を示すプリント回路板の要部平面図である。
1は有機基板 3は第1配線層
2は絶縁膜 4は第2配線層
特許出願人 松下電工株式会社
代理人弁理士 竹元敏丸(ほか2名)手続ネi1?正
書(方力
昭和61年 6月24日
ロ訓61年 特許願 第066457 号2、発明の名
称
プリント回路用絶縁膜材料
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
住 所 大阪府門真市大字門真1048番地
名 称(583)松下電工株式会社
代表者 藤 井 貞 夫4、代
理人Figure 1 is a sectional view of the main part of a printed circuit board showing an example of SMC, Figure 2 is a plan view of the main part of the printed circuit board showing the state of cross wiring in SMC, and Figure 3 is precious metal plating on the wiring pattern. Fig. 4 is a plan view of the main part of the printed circuit board showing an example of applying insulation film, Fig. 5 is a plan view of the main part of the printed circuit board showing the part to which the insulating film is applied, and Fig. 5 shows the cut section for migration testing. FIG. 2 is a plan view of essential parts of the printed circuit board shown in FIG. 1 is an organic substrate 3 is a first wiring layer 2 is an insulating film 4 is a second wiring layer Patent applicant Patent attorney representing Matsushita Electric Works Co., Ltd. Toshimaru Takemoto (and 2 others) Procedure Nei1? Seisho (Hōri June 24, 1988, Rokun 1961 Patent Application No. 066457 2, Name of Invention Insulating Film Material for Printed Circuits 3, Relationship with Amendment Case Patent Applicant Address Kadoma, Osaka Prefecture Address: 1048 Kadoma, Ichi-Oaza Name: (583) Matsushita Electric Works Co., Ltd. Representative: Sadao Fujii 4, Agent
Claims (2)
キシ樹脂と、下記の構造を有するジヒドラジド化合物を
配合してなるプリント回路用絶縁膜材料。 NH_2NH−R−NHNH_2 ただし Rは▲数式、化学式、表等があります▼または ▲数式、化学式、表等があります▼ R’はアルキル基または アリール基 R”は水素またはアルキル基 またはアリール基(1) An insulating film material for printed circuits comprising a liquid epoxy resin containing two or more epoxy groups in one molecule and a dihydrazide compound having the following structure. NH_2NH-R-NHNH_2 However, R is ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ R' is an alkyl group or aryl group R'' is hydrogen, an alkyl group, or an aryl group
ラジド化合物を、そのジヒドラジド基が0.1〜0.4
モルとなるように配合したことを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載のプリント回路用絶縁膜材料。(2) Add a dihydrazide compound to 1 mole of epoxy group in the epoxy resin, and the dihydrazide group is 0.1 to 0.4
The insulating film material for printed circuits according to claim 1, characterized in that the ingredients are blended in molar amounts.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6645786A JPS62223276A (en) | 1986-03-25 | 1986-03-25 | Insulating film material for printed circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6645786A JPS62223276A (en) | 1986-03-25 | 1986-03-25 | Insulating film material for printed circuit |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62223276A true JPS62223276A (en) | 1987-10-01 |
Family
ID=13316316
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6645786A Pending JPS62223276A (en) | 1986-03-25 | 1986-03-25 | Insulating film material for printed circuit |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62223276A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015159286A (en) * | 2014-02-24 | 2015-09-03 | エルジー エレクトロニクス インコーポレイティド | Solar cell module and method for manufacturing the same |
-
1986
- 1986-03-25 JP JP6645786A patent/JPS62223276A/en active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015159286A (en) * | 2014-02-24 | 2015-09-03 | エルジー エレクトロニクス インコーポレイティド | Solar cell module and method for manufacturing the same |
US9553226B2 (en) | 2014-02-24 | 2017-01-24 | Lg Electronics Inc. | Solar cell module and method for manufacturing the same |
US10475944B2 (en) | 2014-02-24 | 2019-11-12 | Lg Electronics Inc. | Solar cell module and method for manufacturing the same |
US11538952B2 (en) | 2014-02-24 | 2022-12-27 | Shangrao Jinko Solar Technology Development Co., Ltd. | Solar cell module and method for manufacturing the same |
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