JPS62222559A

JPS62222559A - 極端紫外光発生装置

Info

Publication number: JPS62222559A
Application number: JP6686786A
Authority: JP
Inventors: Seiichi Itabashi; 聖一板橋; Ikuo Okada; 岡田　育夫; Yasunao Saito; 斉藤　保直; Hideo Yoshihara; 秀雄吉原
Original assignee: Nippon Telegraph and Telephone Corp
Current assignee: Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date: 1986-03-24
Filing date: 1986-03-24
Publication date: 1987-09-30
Anticipated expiration: 2009-01-26
Also published as: JPH067475B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は極端紫外光を発生する装置に係り・特にバタン
形成、薄膜形成、酸化、エツチング等の工程に対して好
適な極端紫外光発生装置に関するものである。

極端紫外光とは、波長にして１０〜１０００１程度の光
を指す。この波長領域の光は、気体分子や固体表面の原
子層によって非常に強く吸収される。紫外光などの光に
比べ、極端紫外光の吸収係数は数桁大きく、非常に効率
よく吸収され、気体分子や固体表面の原子層は、極端紫
外光を吸収することによって、電子励起状態、さらには
イオン化・分解、あるいは、振動・回転状態に励起され
るため、化学的に非常に反応性に富んだ状態になる。従
って、これらの励起された状態を利用することで、効率
的に光反応を引き起こし、薄膜形成、酸化。

エツチング、バタン形成等を効率よく行うことができる
ので、極端紫外光を高出力で効率よく発生できるような
装置の実現が要望されている。

〔従来の技術〕

従来、極端紫外光に近い短波長の光を発生する光源とし
ては、水銀ランプ（波長１８５０λ）、　７ｇランプ（
波長＞１４７ＯＡ）、　Ｋｒランプ（波長〉１２３０λ
）。

Ａｙプラズマ波長＞　１０６ＯＡ）、　Ｈａ−Ｃｄ　Ｌ
／−ザ（波長３２５０Ａ）や、各種のエキシマ−レーザ
が用いられテキタ。（エキシマ−レーザには、エキシマ
−媒体と発振波長との関係によって、次のような各種の
ものがある。Ｆ、　１５８０Ａ’、　Ａｒ２−１２６Ｏ
Ａ、　Ｋｒ２−１４６ＯＡ。

Ｘａ２−１７２０Ａ、　　Ａｆｃｊ！−１７５ＯＡ、　
　ＡｙＦ−１９３ＯＡ、　　ＫｒＣｆ１．−２２２ＯＡ
。

ＫｒＦ−２４９ＯＡ、　　ＸｍＢｒ−２８２ＯＡ、　　
ＺｇＣｊ２−３０８０Ａｔ　　ＺｇＦ’−３５２ＯＡ）
。

また、他に極端紫外光が得られる光源として、分光用の
標準光源として用いられている。Ｈ，（波長＞　９０Ｏ
Ａ）　、　Ｈａ　（波長＞　６０ＯＡ）　、　Ｎｇ　（
波長〉７４０Ｘ）等のキャピラリ放電管や、ウラニウム
等の重金属を電極としたＥＲＶ光源（開発者Ｂａ１ｌｏ
ｆｆａｔ、　ＲｏｔｎａｆＬｄ。

Ｖｏｄａデの頭文字をとった名）のような真空スパーク
光源および高密度プラズマを用いた光源、さらにはシン
クロトロン光放射装置（略してＳＲ装置）がある。

〔発明が解決しようとする問題点〕

極端紫外光は上述したように非常に吸収され易いために
、極端紫外光を透過させ、且つ、真空と大気圧とを隔て
ることができるような窓材となる物質がないために、可
視光や紫外光には見られない困難な問題がある。すなわ
ち、現在、最も短い波長まで透過できる急材は、ＬｉＦ
　（７）化リチウム）であるが、１０６０１以下の波長
の光を透過することはできない。従って、ガスを封入す
るために鬼、材を必要とする光源からは、極端紫外光を
取り出すことができない。上述の各種ランプやガスレー
ザはガス封入型の光源であるため、ガス封入管のガラス
、例えば、石英・ＭＱＦ、・ＬｉＦを透過する波長の光
しか発生しないため、上述したように、１０６ＯＡ以下
の極端紫外光領域の光を得ることはできない。

量の気体等の吸収係数を調べることはできても、気体分
子や固体表面を励起して、上記の各種製造工程に適用す
るためには充分ではなく、また、電極の重金属の蒸発に
よる汚染が避けられない。

高密度プラズマを光源とする装置も分光用光源として実
験室段階で用いられているが、放電容器内にガスを充満
させて放電する方式であるために、ガス自身による極端
紫外光の吸収等の原因により、光反応を引き起こすため
に充分な光量は得られていない。さらに、高密度プラズ
マ生成過程におけるプラズマの不安定性のために、再現
性・制御性を得るのが困難であシ、放電ガスの種類によ
って放電条件が異なるために、放電ガス種を変えて簡単
にスペクトルを変えることが難しい等の問題がある。

また、ＳＲ装置は、電子を光速に近い速度で回転させる
必要があるために、線形加速器、高周波加速器、多くの
電磁石、電子が回転する軌道部分を１ｃＪ−１０ｔｏｒ
ｒ程度の超高真空に保つだめの真空排気装置等を必要と
し、多量のガスを用いる薄膜形成や酸化・エツチング等
の光化学反応に用いることは容易でない。

本発明は、このように従来困難であった波長１０００λ
以下の極端紫外光を高出力で発生することができるとと
もに、極端客外光を取り出すためのさ材を必要としない
構造、および高真空を必要としない構造等の問題点を解
決した、実用的な極端紫外光源を提供しようとするもの
である。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の極端紫外光発生装置はこのような従来技術の問
題点を解決するため、真空中にあるプラズマに電流を流し、このプラズマを流
れる電流の作り出す自己磁場によってプラズマを自己収
縮させて高密度プラズマを生成し、このプラズマから極
端紫外光を発生させるようにしたものであ）、または、真空中にあるプラズマに電流を流し、このプラズマを流
れる電流の作シ出す自己磁場によってプラズマを自己収
縮させて高密度プラズマを形成するとともに、プラズマ
を流れる電流に平行な磁場を印加して、このプラズマか
ら極端紫外光を発生させるようにしたものである。

〔作　用〕

本発明の極端紫外光発生装置においては、ガスを真空中
の電極間にパルス的に供給し、電極間に高電圧を印加し
て放電させ、放電で形成されるプラズマ自身を流れる電
流の作り出す自己磁場による、プラズマの自己収束作用
で生成する高温・高密度のプラズマを用いて、高出力の
極端紫外光を発生する。

従来の技術では、各種希ガスランプ・レーザ等はガスを
封入する必要があるために、窓材を必要とし、極端紫外
光を取り出すことができない。また、キャピラリ放電管
ではガスを定常的に流して放電すゐ必要があるために、
光源ガス自身の吸収によって極端紫外光は減衰し、高出
力の極端紫外光を取シ出すことは困難であり、また、高
真空中では使用できないという問題があったが、本発明
ではこのようなことがなく容易に高出力の極端紫外光を
発生させることができ、また高真空中でも使用可能であ
る。

また本発明では、リターン成極の外側にコイルを配置し
、これによってプラズマを流れる電流に平行な磁場を加
えて、高密度プラズマの生成を安定化することによって
、極端紫外光発生の再現性を向上させるとともに、高密
度プラズマの温度・密度が制御でき、従って発生する極
端紫外光の波長分布を簡単に変えることができる。

さらに、本発明では、電極間へのガス注入装置として、
複数の高速開閉ガスバルブを使うことによって、混合ガ
ス注入放電を可能にするとともに、さらには、放電ガス
種を容易に変えられるようにしたので、発生する極端紫
外光の波長を容易に選ぶことができる。

〔発明の実施例〕

（第１の実施例）第１図は本発明の第１の実施例を説明する図であって、
１はガス溜、２は高電圧側電極、３は取薯シはずし可能な電極でＷ−ＣｌＬ合金やカーゴ１ン慢形
６Ａは真空容器５の真空排気装置、７は基準信号発生装
置、８は遅延パルサーで７の信号パルスに遅延をかける
。９は高速開閉ガスバルブ、１０は高速開閉ガスバルブ
９に対する駆動電気回路で遅延パルサー８からの信号パ
ルスに応じて高速開閉ガスバルブ９を駆動する。１１は
コンデンサー、１２は充電電源でコンデンサー１１を充
電する。１３は遅延パルサーで基準信号発生装置７の信
号パルスに遅延を掛ける。１４はスイッチ駆動パルス発
生装置であって、遅延パルサー１３からの信号パルスで
高電圧のパルスを発生する。１５はスイッチ駆動パルス
発生装置１４の高電圧パルスで動作するスイッチ。

１６はスイッチ１５を閉じることによって電極３．４の
あいだに高電圧を印加して放電させたとき、形成される
プラズマを流れる電流、１７は電流１６の作り出す自己
磁場、１８はコイル、１８Ａはコイル用の電源、１９は
コイル１８によって形成される電流に平行な磁場、２０
はプラズマが自己磁場によって中心部に圧縮されて形成
される高密度プラズマ、２１は２０の高密度プラズマか
らあらゆる方向に放射される極端紫外光、２２は１端紫
外光取り出し口。

これを動作するためには、真空容器５を真空排気装置６
Ａで排気し、１０−’〜１０−’ｔｏｒｒ程度の真空に
しておく。次に、充電電源１２でコンデンサー１１を充
電する。次に、基準信号発生装置７で基準パルスを発生
し、遅延パルサー８で遅延を掛けて、高速開閉ガスバル
ブ用駆動電気回路１０を動かし、高速開閉ガスバルブ９
を駆動して、電極３．４の間にガスを注入する。次に、
基準信号発生装置７で発生した基準パルスに、遅延時間
が電極６．４の間にガスが注入される時間と一致するよ
うに設定された遅延パルサー１３で遅延を掛けたパルス
で、スイッチ駆動パルス発生装置１４を駆動してスイッ
チ駆動パルスを発生し、スイッチ１５を動かして電極３
．４の間に高電圧を印加し、ガスによって放電させる。

ガスは放電によってプラズマ化し、プラズマを流れる電
流１６の作シ出す自己磁場１７とプラズマ中のイオン・
電子との電磁相互作用により、プラズマの中心方向へ取
束し、電極中心軸上で、高温高密度となシ、高温高密度
プラズマ中のイオンと電子の相互作用によって、極端紫
外光が発生する。

第２図に、光源ガスとしてＮ、とＡｒガスを使った場合
に、第１図の装置構成の極端紫外光発生装置から発生す
る、極端紫外光スペクトルの測定結果を示す。同図にお
いて、（α）は強くピンチさせた場合を示し、（ｂ）は
ピンチを弱くした場合を示している。測定に用いた分光
器は、瀬谷−波岡分光方式で、裏面にＡ２をコーティン
グした１２００本／フ鴇の凹面回折格子を装備したもの
である。波長の掃引は回折格子を回転させて行なった。

第２図の横軸は波長を、縦軸は極端紫外光の相対強度を
表わしており、２０Ａ毎の光量の和を示している。測定
波長領域は、気体及び固体表面に強く吸収される５００
〜１５００Ａである。　この結果から、本発明の極端紫
外光発生装置からは、極端紫外光が発生していることが
わかる。

また第６図は波長５００Ａの極端紫外光の出力と、放電
タイミング（１！極間にガスを注入してから放電するま
での時間）との関係を示したものである。

極端紫外光出力は、プラズマを強くピンチさせたくした
場合には■で示すように減少する。極端紫外光のスペク
トルは、■のタイミングすなわちプラズマを強くピンチ
させた場合は、第２図（１）に示すように連続的となシ
、■のタイミングすなわちピンチを弱くした場合には、
第２図（６）に示すように輝線的になる。これはプラズ
マを強くピンチさせた場合はプラズマの温度が上昇し、
制御放射による連続光が増加するためであると考えられ
る。

従って本発明の極端紫外光発生装置によれば、放電タイ
ミングを変化させることによって、発生光のスペクトル
を連続的にも輝線的にも容易に変えることができる。ま
た第２図においてＮ２ガスとＡｒさらに、本発明の極端
紫外光発生装置から発生する極端紫外光の光量が、次の
ように算出された。

まず、ＡＴから発生する波長４００〜３０００λ領域の
スペクトルを測定した。次に、パルス状光源の光量が測
定できるジュールメータと光源の間に石英を置き、極端
紫外光量を測定した。石英は波長１６００Ａ端紫外光量
の比を求め、ジュールメータでの測定結果と組み合わせ
た結果、１６００Ａ以下の極端紫外光量は、１回の放電
当た。ｉ９．１５．７以上であった。

この値は、凹面回折格子の反射率が波長が短くなるにつ
れて低下することを考慮すれば、実際は、１５Ｊより大
きいものと考えられる。従って、本発明の伎Ｎｌからは
、従来の光源に比べて高出力の極端紫外光が発生するこ
とがわかった。しかも、多数回の放電を行った場合の極
端紫外光量の変動を調べた結果、平均値±１０係以内で
あυ、充分な再現性が得られた。

に、光源ガスの種類を変えることで発生する極端紫外光
のスペクトルを変えることができる。さらに、放電条件
を変化させることによっても、すなわちピンチの強弱（
自己収束の強弱）によってもスペクトルは変化する。こ
れは高密度プラズマの温度及び密度が変化するためであ
り、第２の実施例で示す方法等によって、高密度プラズ
マの温度、密度を変えることによっても、極端虞外光の
スペクトルを変えることができることを示している。

第４図は電流に平行な磁場を印加した場合のプラズマの
挙動を説明する図であって、３は高電圧側の電極、４は
接地側の電極、２０はプラズマ、１６はプラズマ表面を
流れる電流、１７は電流１６の作り出す自己磁場、１８
はコイル、１９はコイル１８の作り出す磁場、２０−Ｇ
は、自己収束の速さを示す矢印である。

さて、プラズマが自己収束の過程で、第４図（α）のよ
うに完全な円柱の形を保ちつつ自己収束すれば不安定性
は生じにくい。しかし、プラズマの自己収束過程で放電
初期のガス密度分布に差があった場合等には、プラズマ
の分布に第４図（６１のように太い部分と細い部分が生
じ、プラズマ表面を流れる電流の作り出す自己磁場の強
度に片寄シができるために、太い部分はゆつくシ収束し
、細い部分は速く収束するためにプラズマは崩喫しやす
くなる不安定性を生じる。しかしプラズマ内部に第４図
（ｃ）のように、コイルによって作られる電流に平行な
磁場があった場合、プラズマ柱の一部が細くなろうとし
た時プラズマ内部の磁気圧が上昇し、細くなることを妨
げる働きをするために、不安定性は生じにくくなり、高
密度プラズマの生成過程が安定になる。

また、コイルによる磁場を大きくした場合、プラズマ柱
の内部磁気圧が大きくなり、中心部に圧縮されることを
妨げるために、生成される高密度プラズマの温度も密度
も低くなる。従って、コイルによって作られる磁場の強
度を変えることによって、高密度プラズマの温度と密度
を制御できる。

一方、第２図に示すように極端紫外光の光量とスペクト
ルは高密度プラズマの状態で大きく変化するために、高
密度プラズマ状態すなわち自己収束の強弱を制御するこ
とによってこれを制御できる。

第１図の構造で、リターン電極の外側のコイルによって
電甑間に加えられる磁場の強度を変えた場合の、高密度
プラズマから発生するＸ線出力の変化を調べたのが第５
図である。第５図において強度が０〜５０Ｇ程度の弱い
磁場ではＸ線出力は変化しない。これは、生成される高
密度プラズマの状態が変化しないことを反映している。

加える磁場が２５０〜５００ＧになるとＸ線出力は低下
し、９５０Ｇに増やすことでＸ線出力はほとんど無くな
る。

これは、プラズマを流れる電流に平行に磁場を加え、第
４図の原理で高密度プラズマの温度を低く抑えることに
よって、イオンの電離度合が低下し、電子温度が上がら
なくなるために、Ｘ線出力が低下していることを示すと
考えられる。従って、電流に平行に磁場を加えることに
よって、同一の放電条件でも高密度プラズマの温度、密
度を制御できるという効果を生じる。

（第２の実施例）第６図は、本発明の第２の実施例の、複数の高速開閉ガ
スバルブを備えた極端紫外光発生装置を説明する図であ
って、第１図におけると同じ部分を同じ番号で示し、１
Ａはガス溜、８Ａは基準信号発生装置７の信号パルスを
遅延させる遅延パルサー。１０Ａは遅延パルサー８Ａの
パルスを受けて動作する高速開閉ガスバルブ用の駆動電
気回路。９Ａは駆動電気回路１０Ａによって動作する高
速開閉ガスバルブである。なお第６図においては、プラ
ズマに流れる電流１６に平行な磁場を形成するためのコ
イルは省略して示されている。

これを動作するためには、真空容器５を真空排気装置６
Ａで排気し、１０−４〜１０−’　ｔｏデｒ程度の真空
に保つ。次に、充電電源１２でコンデンサー１１を充電
する。次に、基準信号発生装置７で基準パルスを発生し
、遅延パルサー８で遅延を掛けて、高速開閉ガスバルブ
用駆動′亀気回路１０を動かし、高速開閉ガスバルブ９
を駆動して、電極３．４０間にガス溜１のガスＡを注入
する。次に、同じ基準信号発生装置７からの基準パルス
に、電極間に拡散速度の異なるガスＡとガスＢが同時に
存在する様に遅延時間を設定した遅延パルサー８Ａで遅
延を掛けて、高速開閉ガスバルブ用駆動回路１０Ａを動
かし、高速開閉ガスバルブ９Ａを、駆動して、電極３．
４の間にガスＪＩＡのガスＢを注入し、混合ガス状態を
形成する。次に、基準信号発生装置７で発生した基準パ
ルスに、遅延時間が電極３．４の間にガスが注入される
時間と一致するように設定された遅延パルサー１３で遅
延を掛けたパルスで、スイッチ駆動パルス発生装置１４
を駆動してスイッチ駆動パルスを発生し、スイッチ１５
を動かして電極３．４の間に高電圧を印加し、混合ガス
によって放電させる。混合ガスは放電によってプラズマ
化し、プラズマを流れる電流１６の作シ出す１７の自己
磁場とプラズマ中のイオン・電子との電磁相互作用によ
り、プラズマの中心方向へ収束し、電極中心軸上で、高
温高密度となシ、高温高密度プラズマ中のイオンと電子
の相互作用によって、極端紫外光が発生する。

気体分子はその種類によって、運動速度が異なる。例え
ば、Ｋｒの場合ユ３２０φ、　Ｎ２の場合＝６５０１ｎ
／８である。予め２種類以上のガスを混合して１つのバ
ルブで噴射した場合、噴射されたガス内の気体分子は方
向の揃った超音速の分子流になるために、分子が相互に
衝突することは非常に少なくなシ、気体分子は上記の様
な固有の速度で運動ずでには真空容器内に拡散してしま
う。電極間に高電圧を印加する時に気体分子ＡとＢが混
在した状態を作り出すためには、まず、運動速度の小さ
な気体を注入し、適当な時間を置いて運動速度の大きな
気体を注入する必要がある。

従って、第６図の様な、時間差を持って、駆動できる、
複数の高速開閉ガスバルブを備えた構造とすることによ
って、それぞれ異なる運動速度を有する複数の気体を、
別々の高速開閉ガスバルブを用い、運動速度に対応した
時間差をつけて電極間に注入し、１原間に任意の混合ガ
ス状態を作り出して、混合ガス放電することが可能にな
る。そして混合ガス放電によって複数の気体分子を含む
高密度プラズマを生成し、この高密度プラズマから複数
の気体分子からの極端紫外光を同時に発生させられると
いう効果を生じる。

さらに、１回目の放電で高速開閉ガスバルブ９を駆動し
て、気体Ａから極端紫外光を発生させ、次の放電では高
速開閉ガスバルブ９Ａを駆動して、気体Ｂから極端紫外
光を発生させることができる。

従って、複数の高速開閉ガスバルブを備えることによっ
て、容易に光源となる気体の種類を変えることができる
という効果を生じる。

なおここで、高速開閉ガスバルブ９，９Ａには、自動車
で用いられる燃料噴射バルブを用いることもできる。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれば、ガスをパルス状
に供給する方式を用いるために、ガスを封入する必要が
なくなり、また極端紫外光を取シ出す窓材を用いないた
め、極端紫外光を発生装置外に取り出すことができる。

さらに、ガスを定常的に流す必要もなくなるために、ガ
ス自体の内部吸収による減衰をも防ぐことができるため
に、高出力の極端紫外光を取υ出すことができる利点を
もつ。

また、プラズマを流れる電流に平行な磁場を印加するこ
とによって、高密度プラズマを安定化し、極端紫外光の
発生再現性を向上させられる利点がある。さらに、印加
する磁場の強度を変えることによって、高密度プラズマ
の温度・密度を制御して、発生する極端紫外光の光量と
、そのスペクトル等を変えることができる。

また、複数の高速開閉ガスバルブを時刻をずらして駆動
することによって、複数の種類の気体分子を含む混合ガ
ス塊を形成することができるために、単独の高速開閉ガ
スバルブでは不可能であった、混合ガスでの放電が可能
となシ、−回の放電で、複数種の気体で生成される高密
度プラズマから極端紫外光を発生させることができ、従
って、ガス種・ガスの混合比を変えることで、極端紫外
光スペ、クトルを容易に変えることができる利点がある
。

さらに、１回目の放電では高速開閉ガスバルブＡで、ガ
スＡを注入して放電し、２回目の放電では、高速開閉ガ
スバルブＢでガスＢを注入して放電し、生成される高密
度プラズマ内の元素を変えて、発生するスペクトルを変
えることもできる。

本発明の光源を用いれば、極端室外光を気体や固体表面
に照射し、気体分子や固体表面の数原子層が励起できる
ために、薄膜形成・酸化・エツチング・ドーピング・表
面の清浄化等に適用できる。

本発明によれば、従来の光ＣＶＤに比べて極端紫外光に
よって効率的に光励起されるので、このような薄膜形成
等の工程における効率が良くなるだけでなく、原子オー
ダーで膜厚等の制御を行うことができる可能性がある。

さらに本発明の光源は、極端紫外光によるＬＳＩの微細
バタン転写装置の光源として用いることができる。また
、Ｘ線露光用のプラズマＸ線源として用いることもでき
る。

また、本発明の光源から発生する高出力の極端紫外光を
、光化学反応を引き起こす光源として用い、光化学反応
を調べることができる。また、固体表面に照射して、反
射・吸収を利用した表面解析装置に用いることができる
。

また、気体・極薄膜等の吸収係数・反射率等を測定する
分光光源としても用いることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の極端紫外光発生装置の第１の実施例を
示す図、第２図は本発明の装置における極端紫外光のスペクトル
の測定結果を示す図、第３図は極端紫外光の出力と放電タイミングとの関係を
示す図、第４図は電流に平行な磁場を印加した場合のプラズマの
挙動を説明する図、第５図は本発明における高密度プラズマから発生するＸ
線出力の変化を示す図、第６図は本発明の極端紫外光発生装置の第２の実施例を
示す図である。１．１Ａ・・・ガス、留、２・・・高電圧側電極、３・・・取りはずし可能な電極、４・・・接地側電極、５・・・真空容器、６・・・絶燦体、６Ａ　　・・・真空排気装置、７・・・基準信号発生装置、８．８Ａ　　・・・遅延パルサー、９．９Ａ　　・・・高速開閉ガスバルブ、１０．１ＯＡ
　　・・・駆動電気回路、１１　　・・・コンデンサー
、１２　　・・・充電電源、１３　　・・・遅延パルサー、１４　　・・・スイッチ駆動パルス発生装置、１５　　
・・・スイッチ、１６　　・・・プラズマを流れる電流、１７　　・・・
自己磁場、１８　　・・・コイル、１８Ａ・・・コイル用電源、１９　　・・・磁場、２０　　・・・高密度プラズマ、２Ｏ−１０Ｌ　　・・・自己収束の速さを表わす矢印、
２１　　・・・極端紫外光雫孝咄叱千千四　−・・極璃
紮ｚト光取り工し口。特許出願人　日本電信電話株式会社代理人　弁理士玉、戊久五部（外２名）（ａ）　　　　
　　　　　　　　　（ｂ）５皮畏　（人）　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　波長　（Ｘ）本発明絞ｉ
ｔ＝　８け各極端紫外光スペクトルの測定緒第を示す３
第　２　図１．０　　　　　　　　　　　１．５　　　（ｍｓ）−
一一−―放電、タイミング楢傭紫外光の出力と放電タイミングとの関係を示す３第
　３　図（Ｑ）　　　　　　　　　　　　　　　　（ｂン２０−
σ・・・・自己収束の速さを示す矢印電流−平行梗磁埼
）印加した場合のプラズマの第　４　図帯動を説Ｂ月す２図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）真空中にあるプラズマに電流を流し該プラズマを
流れる電流の作り出す自己磁場によってプラズマを自己
収縮させることによって高密度プラズマを生成する手段
を具え、該高密度プラズマから極端紫外光を発生させることを特
徴とする極端紫外光発生装置。
（２）前記真空中にあるプラズマが、真空槽内にスイッ
チを介して電源に接続された対向電極間に、高速開閉ガ
スバルブを介してガスを供給した後、前記スイッチを経
て対向電極間に電圧を印加して放電させることによって
形成されることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の極端紫外光発生装置。
（３）前記高速開閉バルブが複数であって、それぞれを
介してガスを供給することを特徴とする特許請求の範囲
第２項記載の極端紫外光発生装置。
（４）真空中にあるプラズマに電流を流し該プラズマを
流れる電流の作り出す自己磁場によってプラズマを自己
収縮させることによって高密度プラズマを生成する手段
と、該プラズマを流れる電流に平行な磁場を印加する手段と
を具え、該高密度プラズマから極端紫外光を発生させることを特
徴とする極端紫外光発生装置。
（５）前記真空中にあるプラズマが、真空槽内にスイッ
チを介して電源に接続された対向電極間に、高速開閉ガ
スバルブを介してガスを供給した後、前記スイッチを経
て対向電極間に電圧を印加して放電させることによって
形成されることを特徴とする特許請求の範囲第４項記載
の極端紫外光発生装置。
（６）前記高速開閉バルブが複数であって、それぞれを
介してガスを供給することを特徴とする特許請求の範囲
第５項記載の極端紫外光発生装置。