JPS6222201B2 - - Google Patents

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JPS6222201B2
JPS6222201B2 JP12323380A JP12323380A JPS6222201B2 JP S6222201 B2 JPS6222201 B2 JP S6222201B2 JP 12323380 A JP12323380 A JP 12323380A JP 12323380 A JP12323380 A JP 12323380A JP S6222201 B2 JPS6222201 B2 JP S6222201B2
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JP
Japan
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weight
parts
methacrylate
organic polymer
poly
Prior art date
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Expired
Application number
JP12323380A
Other languages
Japanese (ja)
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JPS5749105A (en
Inventor
Masanori Suzuki
Yukio Ishida
Kazuaki Uchiumi
Hideo Takamizawa
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NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP12323380A priority Critical patent/JPS5749105A/en
Publication of JPS5749105A publication Critical patent/JPS5749105A/en
Publication of JPS6222201B2 publication Critical patent/JPS6222201B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は、所謂写真製版技術によつてパターン
化することを可能とした、焼成によつて絶縁性セ
ラミツク薄層を形成するための絶縁ペースト組成
物に関するものである。 本発明の絶縁ペーストはその有する作用効果が
優れているために多岐に亘る用途を有するが、そ
の説明をより具体化し詳細にする便宜から、エレ
クトロニクス分野における多層セラミツク基板を
例に以下説明する。多層セラミツク基板は、本発
明による絶縁ペースト組成物の主要な用途である
と共にその技術的要求も細かく苛酷なものがある
ので、本発明の利点を理解して戴くために格好で
あろうと考えたからである。したがつて本発明の
用途を多層セラミツク基板に限定するものでは毛
頭ない。 さて今日のエレクトロニクス分野では、集積回
路、抵抗、容量、インダクタンス、等々の各種の
デバイスを実装し所望の回路を構成するために、
電線による結線に替えて所謂回路基板を多用して
いる。そしてこの回路基板もその実装密度増大の
要求に答えるため、従前の常織であつた1層配線
のものから多層配線のものへと発展してきてい
る。 回路基板として広く実用化された最初のものは
所謂プリント基板であつた。その最も代表的なも
のは銅張りの積層板を用意し、この銅層の不要部
分をエツチング液によつて蝕刻除去して所望の銅
配線を残留形成するものであつた。用いた銅の大
部分は除去されるわけで資源利用効率は極めて悪
いが、この時点では致し方のないことであり、そ
れよりも現実に物が出来ることに意義があつたの
がこの段階である。積層板としては、フエノール
樹脂、紙とフエノール樹脂との複合材、ガラスと
エポキシ樹脂との複合材、ポリエステル樹脂、
等々が多用されていた。またエツチングマスクは
耐エツチング性の印刷インキで印刷した被膜が用
いられた。この耐エツチング性印刷インキによる
印刷方法は微細パターン化に限界があるなどの理
由により、最近では耐エツチング性フオトレジス
トを用いた写真蝕刻技術に取つて替られている。 しかしこうしたプリント基板は上記積層板の材
質からも判るように耐熱性や電気絶縁性等々の点
で不充分なものであつた。この点を改善するため
に出現したのが上記積層板に替えてアルミナ、ジ
ルコニヤ、マグネシヤ、フオルステライト、等々
の板を用いた所謂セラミツク基板である。この場
合、配線層を上記プリント基板と同様に銅張り→
エツチングによつて形成することは勿論可能では
あるが、従来のように樹脂系接着剤で銅箔を張り
つけたのではセラミツク基板に替えた意味がなく
なるし、はんだ付けでも大同小異である。資源利
用効率の点でも何らの改善もなされないことにな
る。そこで次のような発想の転換をしたのであ
る。すなわち、上記プリント基板においては銅箔
は当初パターン化しておかず銅箔をエツチング除
去するためのエツチングマスクを印刷によつてパ
ターン化して所望の銅配線を形成していたわけで
あるが、今度は銅配線の方を最初からパターン化
して印刷し不要の個所にはそもそも銅を配さない
ようにしようと考えたのである。導体もしくは導
体の化合物の微粉末を混練した印刷インキ(以下
導電ペースト組成物という)を調製して所望の配
線パターンをセラミツク基板表面に印刷し、基板
がセラミツクスで高温に耐える特性を最大限に活
性して配線パターンを焼き付けようというわけで
ある。これが現在広く使われている所謂1層配線
のセラミツク基板である。導体として銅を用いる
のはかなり難しく、通常は金、白金、パラジウ
ム、銀とパラジウムとの合金、などが使われてい
る。 さてこうして実用化された所謂導電ペースト組
成物はあくまでも印刷インキであり、そのパター
ン化はたとえばスクリーン印刷等の所謂印刷技術
によつていた。しかし印刷技術にはパターンの微
細化、精密化の点に難点がある。そこでこの導電
ペースト組成物のビヒクル成分を前に出たフオト
レジストのような感光性樹脂にして所謂写真製版
技術によつてパターン化しようという思想が生じ
た。かかる思想の下に完成された導電ペースト組
成物としては、その感光性樹脂成分としてポリイ
ソプレンを用い溶剤としてキシレンを用いるも
の、感光性樹脂成分としてナフタレン−2・1−
ジアゾーオキサイド スルホン酸ナトリウム
(naphthalene−2・1−diazo−oxide sodium
sulfonate)を用いカプラー(coupler)としてフ
エノール誘導体を用い溶剤としてブチルアセテー
トやエチルアセテートを用いた英国特許第
1256344号公報記載の発明などが知られている。 こうして上記1層配線のセラミツク基板技術が
完成したのであるが、1層配線である以上その実
装密度に限界があるのは当然であり多層化の要求
が提起された。この要求に応ずるためには各導体
配線層間を分離絶縁しかつ特定の個所にのみ貫通
孔を形成しこの貫通孔中に導体を充満して電気接
続する必要があり、ここにパターン化した絶縁層
の形成技術、積層技術が研究開発されることとな
つたわけである。かかる技術も前記導体配線層形
成技術と相似た発達過程を経て発展してきてお
り、光重合性を備えた絶縁ペースト組成物を用い
てパターン化しこれを焼成する技術がようやく実
用化されようとしているのが現状であるが、やは
り種々の難点があつて思うようには運んでいな
い。本発明はこれらの難点を解決し、ひいては多
層セラミツク基板の実用化をもたらそうとするも
のである。 導電ペースト組成物にしろ絶縁ペースト組成物
にしろ、そこに混練する無機粉末組成物の種類に
導体構成材料か絶縁性セラミツク構成材料かの違
いがあるだけで、ビヒクル組成物共通でよいとの
考え方があり、昭和54年日本国公開特許第13591
号公報に記載された発明が良く知られている。こ
うした考え方の大筋は確かにその通りなのである
が、やはり微妙な違いがあり、その特性を追求し
ていくと別異な工夫を要することが本発明者等の
実践的研究によつて判明してきた。 現在使用されている光重合性絶縁ペースト組成
物は大抵のものが、有機高分子結合体として次式
()又は()で示した単量体の単独重合体や
他の共重合性単量体との共重合体を用いている。
The present invention relates to an insulating paste composition for forming an insulating ceramic thin layer by firing, which can be patterned by so-called photolithography. The insulating paste of the present invention has a wide variety of uses due to its excellent functions and effects, but for the convenience of making the explanation more specific and detailed, the following explanation will be given using a multilayer ceramic substrate in the electronics field as an example. Since multilayer ceramic substrates are the main application of the insulating paste composition according to the present invention, and their technical requirements are detailed and severe, we thought it would be a good opportunity to help people understand the advantages of the present invention. be. Therefore, the application of the present invention is not limited to multilayer ceramic substrates. Now, in today's electronics field, various devices such as integrated circuits, resistors, capacitors, inductances, etc. are mounted to construct desired circuits.
So-called circuit boards are frequently used instead of electrical wire connections. In order to meet the demand for increased packaging density, circuit boards have evolved from conventional single-layer wiring to multi-layer wiring. The first circuit board that was widely put into practical use was the so-called printed circuit board. The most typical method is to prepare a copper-clad laminate, and remove unnecessary portions of the copper layer by etching away with an etching solution to form desired copper wiring. Most of the copper used was removed, making resource use extremely inefficient, but at this point there was nothing that could be done about it, and it was at this stage that it was more meaningful to actually make something. . Laminated boards include phenolic resin, composite materials of paper and phenolic resin, composite materials of glass and epoxy resin, polyester resin,
etc. were frequently used. The etching mask used was a film printed with etching-resistant printing ink. Since this printing method using etching-resistant printing ink has limitations in forming fine patterns, it has recently been replaced by photolithography using etching-resistant photoresists. However, as can be seen from the material of the laminate, such printed circuit boards are insufficient in terms of heat resistance, electrical insulation, etc. In order to improve this point, so-called ceramic substrates have been developed that use plates of alumina, zirconia, magnesia, forsterite, etc. in place of the above-mentioned laminate plates. In this case, the wiring layer is covered with copper like the printed circuit board above →
Of course, it is possible to form it by etching, but if the copper foil is attached with a resin adhesive as in the past, there is no point in replacing it with a ceramic substrate, and soldering is also the same. No improvement will be made in terms of resource utilization efficiency. Therefore, I changed my thinking as follows. In other words, in the above-mentioned printed circuit board, the copper foil was initially patterned and an etching mask for etching away the copper foil was patterned by printing to form the desired copper wiring. The idea was to print a pattern from the beginning and avoid placing copper in unnecessary areas. A printing ink (hereinafter referred to as a conductive paste composition) is prepared by kneading fine powder of a conductor or a conductor compound, and a desired wiring pattern is printed on the surface of a ceramic substrate to maximize the high temperature resistance of the ceramic substrate. The idea is to burn in the wiring pattern. This is the so-called single-layer wiring ceramic substrate that is currently widely used. It is quite difficult to use copper as a conductor, and gold, platinum, palladium, or an alloy of silver and palladium are usually used. Now, the so-called conductive paste composition that has been put into practical use is just a printing ink, and its patterning has been done by so-called printing techniques such as screen printing. However, printing technology has difficulties in making patterns finer and more precise. Therefore, the idea arose of using a photosensitive resin such as the photoresist mentioned above as the vehicle component of the conductive paste composition and patterning it using the so-called photolithography technique. Conductive paste compositions completed based on this idea include those that use polyisoprene as the photosensitive resin component and xylene as the solvent, and those that use naphthalene-2.1- as the photosensitive resin component.
Diazo oxide sodium sulfonate (naphthalene-2,1-diazo-oxide sodium
The British patent No.
The invention described in Publication No. 1256344 is known. Thus, the above-mentioned ceramic substrate technology with single-layer wiring was completed, but since it was a single-layer wiring, it was natural that there was a limit to its packaging density, and a demand for multilayer wiring was raised. In order to meet this requirement, it is necessary to separate and insulate each conductor wiring layer, form through holes only in specific locations, and fill these through holes with conductors to make electrical connections. This led to research and development into formation technology and lamination technology. This technology has also developed through a development process similar to the above-mentioned conductor wiring layer forming technology, and the technology of patterning and firing a photopolymerizable insulating paste composition is finally about to be put into practical use. However, there are still various difficulties and things are not going as planned. The present invention is intended to solve these difficulties and to bring about the practical use of multilayer ceramic substrates. Whether it is a conductive paste composition or an insulating paste composition, the only difference is in the type of inorganic powder composition kneaded into it, whether it is a conductor constituent material or an insulating ceramic constituent material, and the idea is that the same vehicle composition can be used. There is a Japanese published patent No. 13591 in 1978.
The invention described in the publication is well known. Although this general idea is certainly true, practical research by the present inventors has revealed that there are still subtle differences, and that pursuing these characteristics requires different ingenuity. Most of the photopolymerizable insulation paste compositions currently in use consist of homopolymers of monomers represented by the following formula () or () or other copolymerizable monomers as organic polymer binders. A copolymer with is used.

【式】【formula】

【式】 (式中、Rは水素又はメチル基、R′はC数1〜12
のアルキル基、R″は水素、アルキル基、又はハ
ロアルキル基を示す。) 勿論これらの単独重合体や共重合性はそれらを
単独に使用したものであれば2種以上を混合して
用いているものもある。そしてこれらの有機高分
子結合体は厚膜技術用を例にとれば通常50000〜
1000000程度の分子量が適当とされ、ペースト組
成物としての粘度は15000〜60000センチポアズ程
度に調整されている。絶縁ペースト組成物は最終
的には焼成によつて所望の絶縁性セラミツク薄層
を残留形成するのであるから、そのビヒクル成分
は焼成時の熱もしくはその雰囲気との反応によつ
て絶縁性セラミツク薄層を損うことなく消失して
欲しいわけである。 こうした従来の絶縁ペースト組成物における重
大な難点の1つは、所謂平滑性の悪さである。例
えば光露光によるパターン潜像の形成に先立つて
絶縁ペースト組成物を塗布するわけであるが、こ
こでもこの平滑性の良いことは重要である。基板
全面に塗布する場合にもスクリーン印刷の手法は
好都合でありよく使用するが、平滑性が悪いとき
は塗布後もスクリーンのメツシユ目が塗膜表面に
残存したまま長時間放置してもなかなか消えず、
表面の平滑性が充分に得られぬままに焼結せざる
を得なくなるからである。この場合は、焼結後の
絶縁セラミツク薄層表面にこのメツシユ目が残留
する。例えばセラミツク基板の配線を多層化する
ときは、この絶縁セラミツク薄層上に更に導体配
線層を積層し、この導体配線層上にまた絶縁セラ
ミツク薄層を重ねるというように、導体配線層と
絶縁セラミツク薄層とを交互に積層していくの
で、前記メツシユ目の凹凸段差が個々には仮に小
さなものであつたとしても積層数が増すにつれて
増幅され導体配線層の断線や局部的抵抗上昇ある
いは逆に絶縁不良や短絡の要因となる。従つて絶
縁ペースト組成物の平滑性の良否が、多層化の限
界を定めてしまうわけである。 しかし従来の絶縁ペースト組成物はこの平滑性
が悪く、前記多層セラミツク基板の例で云うと3
層配線も困難なのが実情であつた。絶縁ペースト
組成物は多量の微細な無機粉末組成物を混練しな
ければならないため構造粘性が極めて大きく、従
つて平滑性は悪いのが当然と云つてもよい。こう
した構造粘性の極めて大きなものをその大きな構
造粘性のままその平滑性を良くする手段が必要不
可欠であり、これが本発明に課せられた最大の課
題であつた。 さてかかる課題の解決手段として従来当業者間
で有効と信じられており、本発明者等も当然なが
らそのように深く思い込んでいたのは、表面張力
を小さくすれば平滑性は良くなるはずだという思
想であつた。しかし結論を先に云えばこれは誤り
であつた。表面張力を小さくすることで平滑性の
改善に成功した例は確かに多くのものがある。従
つてこれらの先例と同様のことが絶縁ペースト組
成物でも通用するであろうというのが当業者の常
識であつたのであるが、この常識は比較的構造粘
性の小さな場合にしか通用しなかつたのである。 例えば塗料の分野では塗膜の平滑性を良くする
ためにシリコン系の平滑剤をよく用いるが、表面
張力を低下させるための界面活性剤を加えて更に
効率良く平滑塗布面を得ている。本発明の対象で
ある絶縁ペースト組成物についても、上記平滑性
の悪さを改善するためにこうした平滑剤が活用で
きれば好都合であるので、本発明者等も本発明に
到達する以前は鋭意この表面張力を減少させる方
向で研究してきたのである。しかしこれらの表面
張力低下剤が有効なのはペースト自身の粘度が
高々3000センチポアズまでの低粘性の場合であ
り、15000〜60000センチポアズの高粘性を有する
厚膜技術用の絶縁ペースト組成物を多層積層する
ような本発明の典型的な実施態様においては何ら
の効果をも得られなかつた。 このような表面張力低下をめざしたために得た
幾多の失敗を重ねた後、本発明者等は従来の試み
が全く逆の方向への努力であつたのではないかと
いうひらめきを得た。そして逆に表面張力を大き
くし、この大きな表面張力で自分自身の凹凸表面
を互いに強く引き合うようにさせてやれば自ずと
平滑になるはずだ、という発想の転換である。本
発明の対象である絶縁ペースト組成物は所謂厚膜
技術を用いる用途が多くスクリーン印刷などの手
法を経ることが多いが、こうした使われ方にはか
なり大きな構造粘性がないとそもそもスクリーン
印刷などの手法自体が実施できなくなつてしまう
ため、平滑性を大きくするために構造粘性を小さ
くする犠性を払うわけにはいかないのである。 さてかかる発想の転換をなした本発明者等は、
所謂添加剤を加える方法ではない手段で表面張力
を増大させることにより本質的な解決策を目ざし
た。すなわち、有機高分子結合体そのものに大き
な表面張力を具備させようと考えたわけである。
そして種々の試行錯誤を経た結果、本発明に到達
し、見事にその課題を達成したのである。本発明
の絶縁ペースト組成物を用いると、極く普通の厚
膜技術を公用されている程度の技術水準で用いた
としても極めて容易に5層配線程度までセラミツ
ク基板を多層化することができる。従来の絶縁ペ
ースト組成物を用いた場合はその使用技術に極め
て高度なものを用い熟練工が慎重に施工しても3
層配線が限界であつたことを比較すれば、その産
業的効果の卓越していることが良く判るはずであ
る。またこうした用途においては、上記平滑性と
相俟つて重要な要求に焼成形成した絶縁性セラミ
ツク薄層にボイドやピンホールが少なく緻密であ
ることがあるが、この緻密性に関する仕様は、絶
縁ペースト組成物の場合の方が導電ペースト組成
物の場合よりもはるかに厳しい。なぜならば、例
えば導体配線層の場合には仮にその中にボイドが
かなりあつたとしてもその周囲のどこかで導体粒
同志が互いに接触していればそれなりに導通機能
を果たすことが可能であるが、絶縁層中のボイド
の場合には即電気絶縁性の不良となつて顕れてし
まうからである。この緻密性の良否はまた、パタ
ーンの微細化が進むにつれパターン化性能の良否
にも重大な影響を与えているがこれもまた当然の
ことである。前に本発明により5層配線が容易に
実現し得ることとなつたとして本発明の効果を主
にその平滑性に基いて強調したが、その蔭にはこ
れら種々の効果もまた当然寄与しているのであ
る。 本発明はエチレン性不飽和化合物の重合体にア
ルコール性水酸基もしくはカルボキシル基又はそ
れら双方の基を導入することによつてその平滑性
を著るしく大きく改善したものである。すなわち
本発明の絶縁ペースト組成物は、焼成により絶縁
性セラミツクを構成することとなる無機粉末組成
物、有機高分子結合体、光重合性単量体、光重合
開始剤を含みこれらを混練してなる絶縁ペースト
組成物であつて、前記有機高分子結合体として (1) 1種以上のエチレン性不飽和化合物を重合の
最小単位とし、 (2) 1つの高分子体を構成する前記重合の最小単
位の総数を100としたときに下記の特定基を1
種以上1個以上備えた前記重合の最小単位の合
計数が2〜85の比率となつており、 (3) 前記特定基がアルコール性水酸基又はカルボ
キシル基であり、 (4) 前記エチレン性不飽和化合物の種類と前記特
定基の種類及び数との間の組み合せはその組み
合せの数だけあり、 (5) しかも1つの高分子体を構成する前記重合の
最小単位は前記組み合せ中の1以上のものを同
時に含む、 ことを特徴とした有機高分子結合体を用いた絶縁
ペースト組成物である。 本発明に好都合なエチレン性不飽和化合物にも
多くのものがあるが、それらのうちの一例を挙げ
れば例えば次のようなものがある。まずアルコー
ル性水酸基を備えたエチレン性不飽和化合物とし
て好都合なものには、例えばヒドロキシエチルア
クリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、
ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプ
ロピルメタクリレートに代表されるヒドロキシア
ルキルアクリレート類やそれに相当するメタクリ
レート類がある。またカルボキシル基を備えたエ
チレン性不飽和化合物として好都合なものには、
例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、
イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、無水マレイ
ン酸などがある。 更にアルーコル性水酸基およびカルボキシル基
の双方を共に備えたエチレン性不飽和化合物とし
ては、オキシカルボン酸ビニル化合物などがあ
る。そしてこれらのアルコール性水酸基やカルボ
キシル基を備えたエチレン性不飽和化合物と共重
合させるに好都合なエチレン性不飽和化合物とし
ては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメ
タクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチ
ルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、メ
チルアクリレート、エチルアクリレート、ステア
リルメタクリレート、n−デシルメタクリレー
ト、ジメチルアミノメタクリレート、2−エチル
ヘキシルメタクリレート、イソデシルメタクリレ
ート、ジエチルアミノエチルメタクリレート等の
メタクリレート(アクリレート)類の他に、アク
リロニトリル、スチレン、ヒドロキシスチレン、
酢酸ビニルなども好都合である。そして得られる
共重合体の一例を列挙すれば、ポリ(メチルメタ
クリレート/β−ヒドロキシエチルアクリレー
ト)、ポリ(メチルメタクリレート/β−ヒドロ
キシプロピルアクリレート)、ポリ(メチルメタ
クリレート/メタクリル酸/アクリル酸)、ポリ
(メチルメタクリレート/n−ブチルメタクリレ
ート/β−ヒドロキシエチルメタクリレート)、
ポリ(イソブチルメタクリレート/β−ヒドロキ
シプロピルメタクリレート)、ポリ(イソブチル
メタクリレート/β−ヒドロキシプロピルメタク
リレート/メタクリル酸)、ポリ(メチルメタク
リレート/スチレン/β−ヒドロキシエチルメタ
クリレート)、ポリ(スチレン/マレイン酸/β
−ヒドロキシブチルメタクリレート)、ポリ(ラ
ウリルメタクリレート/β−ヒドロキシプロピル
メタクリレート/スチレン)、ポリ(メタクリレ
ート/酢酸ビニル/β−ヒドロキシエチルアクリ
レート)、ポリ(メチルメタクリレート/2−エ
チルヘキシルメタクリレート/β−ヒドロキシエ
チルアクリレート)、ポリ(メチルメタクリレー
ト/エチルアクリレート/メタクリル酸)、ポリ
(メチルアクリレート/グリシジルメタクリレー
ト/β−ヒドロキシエチルアクリレート)、ポリ
(エチルメタクリレート/β−ヒドロキシプロピ
ルメタクリレート)、ポリ(メチルメタクリレー
ト/β−ヒドロキシプロピルアクリレート/イタ
コン酸)、ポリ(メチルメタクリレート/ジメチ
ルアミノメタクリレート/メタクリル酸)、ポリ
(メチルアクリレート/スチレン/アクリル酸)、
ポリ(メチルメタクリレート/酢酸ビニル/β−
ヒドロキシプロピルメタクリレート)、ポリ(メ
チルメタクリレート/β−ヒドロキシエチルアク
リレート/メタクリル酸/エチルアクリレー
ト)、ポリ(メチルメタクリレート/β−ヒドロ
キシブチルメタクリレート/アクリル酸/スチレ
ン)、ポリ(イソブチルメタクリレート/β−ヒ
ドロキシヘキシルメタクリレート/アクリル
酸)、ポリ(スチレン/アクリロニトリル/アク
リル酸メチル/メチルメタクリレート/メタクリ
ル酸)、等々があり、それぞれに良い成績を得て
いる。 以上、アルコール性水酸基もしくはカルボキシ
ル基又はこれら双方の基を共に備えたエチレン性
不飽和化合物を用意し、共重合させて本発明の有
機高分子結合体を製造する例で本発明を説明した
が、本発明の有機高分子結合体の製造方法は他に
も多く存在する。たとえば骨格となる有機高分子
結合体を先に形成しておき、後からその一部をケ
ン化したり酸化したりすることも勿論可能であ
る。例えばポリ酢酸ビニルをケン化してその一部
をアルコール性水酸基に変換したり、メチルメタ
クリレートと酢酸ビニルとを共重合させて所望の
分子量のポリマーを形成しておきこれをケン化し
て適当な数だけアルコール性水酸基に変換したり
することも有効である。アルデヒド基を持つ有機
高分子結合体を酸化してカルボキシル基に変換さ
せる反応などもまた本発明の有機高分子結合体を
製造する手段として好都合である。更にはまた無
水マレイン酸の付加反応などの付加反応を利用す
る手段もある。 さて本発明において特定基を1種以上1個以上
備えた重合の最小単位の合計数が重合の最小単位
の総数を100としたときに2〜85になるようにす
るべき理由について以下説明する。 前記従来技術を解決するために本発明がなした
最大の要点はアルコール性水酸基もしくはカルボ
キシル基又はそれら双方の基を有機高分子結合体
中に具備させた点にあり、これらの基を新らたに
導入した結果、平滑性の改善に卓効を奏したこと
は前に詳細に説明した通りである。すなわち、こ
れらの基を導入することにより有機高分子結合体
の極性が上昇しその表面張力が増大し、結果とし
て高粘稠とならざるを得ない絶縁ペースト組成物
であつてもその塗布膜表面がすみやかに平滑化さ
れることになつたものである。しかしこの平滑性
向上効果も具備させるアルコール性水酸基やカル
ボキシル基の比率が低下し従来組成に近づくに従
つて減少するのは当然であり、有意差が失われる
下限が2であつたということである。もし本発明
に課せられる課題が平滑性の改善のみであるなら
ば、これらの基は多く導入するに越したことはな
いというのが実験的事実である。しかしこの比率
をどんどん大きくしていくと前にも述べたように
有機高分子結合体の極性が強くなつていくのであ
り、その結果として極性の強い溶媒にしか溶解し
得なくなる傾向が生ずる。このことは一見たいし
た意味を持たないようにも見えるが、特定の領域
のみを光重合させた絶縁ペースト組成物を現像し
て所望のパターン以外の部分を溶解除去する際に
使用し得る現像液の種類が極性の強いものに限定
されてくるということであり、産業上の利用を考
えた場合好ましいことではない。極性が強くなつ
てくると、現像し得る条件の幅が狭まくなり作業
性が悪化する。またこの場合溶剤も高揮発性のも
のになる傾向があるので火炎の危険も大きくな
り、印刷しにくくなるなど所謂厚膜技術になじま
なくなる。以上のようにアルコール性水酸基もし
くはカルボキシル基又はこれら双方の基を増して
いくと極性は増大していくが平滑性はますます良
くなつていくわけである。しかし上記の極性の問
題以外にも、これらの基を増やすに伴つて絶縁ペ
ースト組成物としては無機粉末組成物を懸濁保持
する所謂保持性が悪くなつていく傾向もあるの
で、やはり上限はあると考えるべきである。この
上限は異種の作用効果のバランスから定まるた
め、下限の限定ほど明確なものではないが、85程
度とするのが妥当であろう。もし上記全ての利点
を同時に確実に満足しようとするのであれば、5
〜65程度とすれば無難であり、このときはほとん
ど全ての無機粉末組成物、光重合性単量体、光重
合開始剤との組み合せにおいて有意な効果が得ら
れた。特定基としてアルコール性水酸基のみを有
する有機高分子結合体を用いる場合では、5〜25
程度とすればクロロセン(1・1・1−トリクロ
ロエタン)などの不燃性溶剤のみで現象でき、従
来の厚膜技術をそのまま適用できるので更に好都
合である。特定基としてカルボキシル基のみを含
む有機高分子結合体を用いる場合では、6〜55程
度とすれば弱アルカリ現像ができるので更に好都
合である。55以上になると厚膜技術で汎用されて
いる通常の溶剤に溶けなくなるのであまり好まし
くない。特定基としてアルコール性水酸基及びカ
ルボキシル基に共に含む有機高分子結合体を用い
る場合は、カルボキシル基の比率を増していくに
伴つて、よりアルカリ現像に適するようになる傾
向がある。 以上で本発明の特徴は一通り説明したが、有機
高分子結合体以外の本発明の組成について以下例
示的に説明する。 まず無機粉末組成物であるが、これは焼成によ
つて絶縁性セラミツクを構成する素材である。し
たがつてその組成は、使用目的に支える各種特性
中の何をどの程度満足したいかによつて適宜定め
る必要があり、事実その選択の自由度は大きい。
アルミナ、シリカ、マグネシヤ、スピネル、等々
で構成される酸性、塩基性、中性の各種耐火物そ
のもの、あるいはまたこらを得るためめの原料と
なる各種無機酸化物、さらには又硼珪酸鉛ガラ
ス、硼珪酸亜鉛ガラス、硼珪酸鉛亜鉛ガラス、
等々のガラス類が使用できる。これらの無機粉末
組成物の粒径は特段の限定は要しないが、経験的
には0.05〜15μm程度に調製すると扱い易い。 光重合性単量体としては、多官能性アクリル系
を代表とする光重合し得るエチレン性不飽和化合
物が使用できる。アリル基、ビニルエーテル基、
ビニルアミノ基を持つ化合物も使用できる。好適
なものとしては、ジエチレングリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、テトラエチレングリコールジアクリレートで
代表されるポリエチレングリコールジアクリレー
ト(n=2〜200)類およびそれ等に対応するメ
タクリレート類、ポリアルキレングリコールジア
クリレート(n=4〜11)類、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、2・2−ジメチルプロパンジ
アクリレートに代表される各種のアクリレート類
およびそれ等に対応するメタクリレート類が有効
であり、又それ等の2種以上の混合物としても使
用できる。 光重合開始剤としては、ベンゾフエノン類、ビ
シナルケトン類例えばジアセチル、ベンジル、α
−ピリジン、アシロイン類例えばベンゾイン、ピ
バロイン、α−ピリドイン、アシロインエーテル
類例えばベンゾインメチル及びエチルエーテル、
α−炭化水素置換芳香族アシロイン類例えば、α
−メチルベンゾイル、α−tert−ブチルベンゾイ
ン、アシロインエステル類例えばベンゾインアセ
テート及びベンゾイルアルキルエーテル、カルボ
ニル基を含有する環に融合された少なくとも1個
の芳香族炭素環式環が存在する共役6員炭素環式
環における環内炭素原子と結合した2個の環内カ
ルボニル基を有する置換及び未置換キノン、例え
ばエチルアントラキノン、ベンズアントラキノ
ン、ジアミノアントラキノン、ベンゾフエノン及
び4・4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフエノ
ン、トリフエニルホスフインなどをあげることが
できる。これらは単独であるいは2種以上の混合
物として用いられる。 この光重合開始剤の使用量は少量でよく、前記
有機高分子結合体の総量に対し、通常0.01〜10重
量%、好ましくは0.05〜5重量%の範囲で用いれ
ば充分である。 こうして得られる本発明の絶縁ペースト組成物
は、例えば厚膜技術用として用いたときスクリー
ン印刷性能が高い極めて優れたペーストとして機
能する。これは、温度が25℃程度のときB型回転
粘度計で測定した粘度を2000〜500000センチポア
ズ程度の値に調製することが極めて容易であると
いう事実に負う所が大きい。この時使用する有機
高分子結合体の分子量としては15000〜600000程
度とすることが好ましい。本発明の絶縁ペースト
組成物を光重合性ペーストとしての特質を効果的
に活用して使用しようとするならば、その好適な
粘度範囲は5000〜100000センチポアズである。
5000センチポアズ以下であると1回の塗布膜が薄
くなり不経済であり、しかも平滑性も悪くなる。
100000センチポアズ以上であると印刷が困難とな
る。 本発明の絶縁ペースト組成物に使用する溶媒と
しては、大気圧中の沸点が140〜300℃の範囲のも
のが使用できるが、好ましい例を挙げれば、主溶
媒として沸点が170〜260℃のものを用いると好都
合である。補助溶媒を用いても良い。主溶媒の沸
点が170℃以下であると、乾燥が速すぎて塗膜の
平滑化に悪影響を及ぼすし、スクリーンの版を乾
燥させてスクリーンメツシユの目づまりを起す。
又260℃以上であると、平滑化には良いが乾燥性
が悪く不経済であり、時には光重合性を害する。
こうした種々の条件を満たした適切な溶媒として
は、例えば、メチルカルビトール、エチルカルビ
トール、ブチルカルビトール、メチルカルビトー
ルアセテート、エチルカルビトールアセテート、
ブチルカルビトールアセテート、エチレングリコ
ールモノブチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテルアセテート、酢酸メトキシブチ
ルエステル、ジアセトンアルコール、イソホロン
ジイソブチルケトン、エチレングリコールモノブ
チルエーテルアセテート、パイン油、テルピネオ
ール、酢酸−2−エチルヘキシル等々の高沸点の
多価アルコールの誘導体、ケトン類、エステル
類、テルペン類がある。 以下、本発明の多くの実施例の中から比較的ニ
ーズが多いと思われるものを幾つか選び具体的に
説明する。 実施例 1 メチルメタクリレート850重量部、β−ヒドロ
キシエチルアクリレート150重量部、アゾビスイ
ソブチロニトリル15重量部、エチルカルビトール
アセテート1000重量部をコンデンサー、温度計、
撹拌装置を取付けた3セパラブルフラスコに採
つた。次にマントルヒータで40分間撹拌しながら
内温70℃に上昇させ発熱反応を制御しながら70℃
〜75℃で50分間撹拌し重合した。次に室温迄冷却
したら透明で粘稠なポリ(メチルメタクリレー
ト/β−ヒドロキシエチルアクリレート)が得ら
れた。このメタクリル酸エステルコポリマー溶液
の粘度は32000センチボアズ(25℃)で、そのコ
ポリマーの平均分子量は141000であつた。 ポリ(メチルメタクリレート/β−ヒドロキシ
エチルアクリレート(85/15)のエチルカルビト
ールアセテート50%溶液を100重量部、テトラエ
チレングリコールジアクリレートを12重量部、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレートを3重量
部、第3ブチルアントラキノンを2重量部、微細
なアルミナ粉末を75重量部、微細な低融点ガラス
粉末を45重量部、メチルハイドロキノンを0.025
重量部、消泡剤を0.5重量部、以上の組成物を3
本ロールミルで混練した。粘度を回転粘度計で測
定したところ39000センチポアズであつた。導体
回路が形成されているアルミナ基板上に230メツ
シユのステンレススクリーンを用いてその全面に
このペーストを25μmの厚さで2回印刷したら、
10分後に塗布膜が平滑となつた。これを85℃の温
風乾燥機で30分乾燥して室温になるまで放置し
た。次に所定のパターンを備えた露光マスクを介
して超高圧水銀灯で6秒間照射して潜像を形成
し、その後クロロセンを現像剤としてスプレー式
で現像した。残留部の膜厚は48μmであつた。ま
た現像により除去されて形成されたスルーホール
は充分に満足すべきシヤープさを有していた。こ
れを2時間かけて900℃で焼成し、所望のスルー
ホールを持つ絶縁性セラミツク薄層が得られた。
この絶縁性セラミツク薄層の厚さは27μmであつ
た。また絶縁性セラミツク薄層の絶縁度の目安と
して弱塩水中でリーク電流を測定した。リーク電
流は直流5Vで20μAであり優れた絶縁性を示し
ていた。 実施例 2 実施例1で用いたと同様のポリ(メチルメタク
リレート/β−ヒドロキシエチルアクリレート)
のエチルカルビトール溶液を100重量部、ポリエ
チレングリコールジアクリレート(n=14)を9
重量部、ジエチレングリコールジアクリレートを
3重量部、トリメチロールプロパントリアクリレ
ートを4重量部、微細なマグネシヤ粉末を20重量
部、低融点ガラス(日本電気硝子製GA−9)を
85重量部、メチルハイドロキノンを0.025重量
部、消泡剤を0.1重量部、エチルバイオレツトを
0.3重量部、セルローズアセテートを2重量部、
エチルアンスラキノンを2.5重量部、を3本ロー
ルで混練したところ、粘度は19500センチポアズ
であつた。実施例1と同じように導体形成された
アルミナ基板上にスクリーン印刷法で30μmで2
回印刷したところ、7分後に平滑になつた。その
后露光、現像し焼成を行つた。焼成後の絶縁性セ
ラミツク層の厚みは30μmであり、スルーホール
は130μm角のシヤープな画像が得られた。リー
ク電流は5Vで22μAであり、優れた絶縁性を示
していた。 実施例 3 メチルメタクリレートを740重量部、β−ヒド
ロキシプロピルメタクリレートを110重量部、メ
タクリル酸を150重量部、アゾビスイソブチロニ
トリルを13重量部、ブチルカルビトールを650重
量部、エチレングリコールモノエチルエーテルア
セテートを350重量部、実施例1と同様に設定し
たマントルヒータで80分間撹拌しながら65℃に昇
温させ、冷却しながら65℃〜70℃の温度で40分間
撹拌重合した。このコポリマーの粘度は48000セ
ンチポアズであつた。分子量は98000であつた。 この反応生成物を10重量部、テトラエチレング
リコールを0.8重量部、ポリエチレングリコール
ジアクリレート(n=9)を0.4重量部、ペンタ
エリスリトールトリアクリレートを0.6重量部、
ムライト(Al2O3・SiO2)微粉末を44量部、低融
点ガラス(前記GA−9)を1重量部、ベンゾイ
ンイソプロピルエーテルを0.4重量部、ミヒラー
ケトンを0.01重量部、3本ロールミルで混練し
た。次にアルミナ基板上に印刷塗布し乾燥后、
150μm角のスルーホールパターンを有する露光
マスクを介し紫外線で露光した。1.5%ジエタノ
ールアミン水溶液で現像したところ、所望通りの
150μm角のきれいなスルーホール画像が得られ
た。次に990℃に3時間で昇温し30分保持して焼
成したところ、平滑面でシヤープなスルーホール
を持つ所望通りの均質な絶縁性セラミツク薄層が
得られた。 実施例 4 実施例1で用いたと同様のポリ(メチルメタク
リレート/β−ヒドロキシエチルアクリレート)
のエチルカルビトールアセテート50%溶液を100
重量部、テトラエチレングリコールジアクリレー
トを12重量部、ペンタエリスリトールトリアクリ
レートを3重量部、第3ブチルアントラキノンを
2重量部、アルミナの微粉末を55重量部、
SiO2、B2O3、ZrO2、ZnO、PbO、Na2O、K2O、
MgO、CaO、TiO2を含む硼珪酸鉛系結晶化ガラ
スの微粉末を65重量部、メチルハイドロキノンを
0.025重量部、消泡剤を0.5重量部、オイルブルー
#603(オリエント化学製)を0.5重量部の各成分
を3本ロールミルで混練し、粘度46000センチポ
アズのペーストを得た。これを導体回路の形成さ
れたアルミナ基板上にスクリーン印刷し乾燥し
100μm角のスルーホールパターンを有する露光
マスクを介して露光し現像したところ、100μm
角のシヤープなスルーホールを持つ画像が得られ
た。その後910℃で焼成したところ所望通りのシ
ヤープなスルーホールをもつ膜厚30μmの絶性セ
ラミツク薄層が得られた。その後実施例1と同様
にリーク電流試験をしたところ、直流10Vで20μ
A以下という非常に優れた絶縁性を示した。 実施例 5 無機粉末組成物以外は実施例4と同じ組成物と
し、無機粉末組成物としてSiO2;31重量%、
B2O3;3.6重量%、PbO;10重量%、Na2O;2.0
重量%、CaO;8.0重量%、ZrO2;1.7重量%、
Al2O3;43.7重量%からなる混合微細粉末を用い
て3本ロールミルで混練しペーストとした。その
後実施例4と同じ方法で処理したところ、シヤー
プなスルーホールを持つ平滑な絶縁性セラミツク
薄層が得られた。リーク電流は直流10Vで10μA
以下と非常に優れた絶縁性を示した。 以上例示した実施例からも伴るように本発明の
効果は卓越したものである。これら本発明の実施
例と参照するために従来技術の中から比較的良い
成績を得るためについて若干例示すると次のよう
であつた。 まず、メチルメタクリレートを850重量部、n
−ブチルメタクリレートを150重量部、アゾビス
イソブチロニトリルを15重量部、エチルカルビト
ールアセテートを100重量部秤量し、これらをコ
ンデンサー、温度計、撹拌装置を取付けた3セ
パラブルフラスコに採つた。これを実施例1と同
様に反応させた。得られたポリ(メチルメタクリ
レート/n−ブタルメタクリレート(85/15))
溶液の粘度は29000センチポアズ(25℃)であつ
た。こうして得られた有機高分子結合体を用いて
実施例1と同様に絶縁ペースト組成物を調整し
た。この絶縁ペーストの組成は有機高分子結合体
以外は全く同一の組成であるのに、これをアルミ
ナ基板上にスクリーン印刷したところ、60分以上
経過してもなお平滑塗布面が得られず、スクリー
ン印刷のメツシユ目が残つたままであつた。 同様の試験を、ポリ(メチルメタクリレート/
エチルアクリレート(85/15))、ポリ(メチルメ
タクリレート/ラウリルメタクリレート(90/
10))、ポリ(n−ブチルメタクリレート/メチル
アクリレート(95/5))の各種の有機高分子結
合体についても行つたが、これらは全て充分な平
滑面が得られなかつたので、多層化は困難であつ
た。
[Formula] (In the formula, R is hydrogen or a methyl group, R' is a C number of 1 to 12
(The alkyl group, R'' represents hydrogen, an alkyl group, or a haloalkyl group.) Of course, these homopolymers and copolymers can be used alone or as a mixture of two or more types. For example, these organic polymer conjugates are usually 50,000 ~
A molecular weight of about 1,000,000 is considered appropriate, and the viscosity of the paste composition is adjusted to about 15,000 to 60,000 centipoise. Since the insulating paste composition ultimately forms the desired insulating ceramic thin layer after firing, the vehicle component forms the insulating ceramic thin layer by reaction with the heat during firing or the atmosphere. We want it to disappear without damaging it. One of the major drawbacks of these conventional insulation paste compositions is their so-called poor smoothness. For example, an insulating paste composition is applied prior to forming a latent pattern image by light exposure, and good smoothness is also important here. Screen printing is convenient and often used when coating the entire surface of a substrate, but if the smoothness is poor, the screen mesh remains on the coating surface even after coating and is difficult to remove even if left for a long time. figure,
This is because sintering has to be carried out before sufficient surface smoothness is obtained. In this case, the mesh remains on the surface of the thin insulating ceramic layer after sintering. For example, when multi-layering wiring on a ceramic substrate, a conductive wiring layer is further laminated on the insulating ceramic thin layer, and another insulating ceramic thin layer is laminated on this conductive wiring layer. Since the thin layers are laminated alternately, even if the unevenness of the mesh is small individually, as the number of laminated layers increases, it will be amplified and cause disconnection of the conductor wiring layer, local resistance increase, or conversely. This may cause insulation failure or short circuit. Therefore, the level of smoothness of the insulating paste composition determines the limit of multilayering. However, conventional insulation paste compositions have poor smoothness, and in the case of the multilayer ceramic substrate mentioned above, the smoothness is poor.
The reality was that layer wiring was also difficult. Since an insulating paste composition must be kneaded with a large amount of fine inorganic powder composition, it has extremely high structural viscosity, and therefore it can be said that it naturally has poor smoothness. It is essential to find a means to improve the smoothness of such materials with extremely high structural viscosity while maintaining the high structural viscosity, and this was the greatest challenge faced by the present invention. Now, it has been believed by those skilled in the art to be effective as a solution to this problem, and the inventors of the present invention also believed that smoothness would improve if the surface tension was reduced. It was a thought. However, the conclusion was that this was a mistake. There are certainly many examples of success in improving smoothness by reducing surface tension. Therefore, it was common knowledge among those skilled in the art that the same thing as these precedents would also apply to insulating paste compositions, but this common sense was only valid in cases where the structural viscosity was relatively small. It is. For example, in the field of paints, silicone-based smoothing agents are often used to improve the smoothness of paint films, but adding surfactants to lower surface tension can more efficiently achieve a smooth coated surface. It would be advantageous if such a smoothing agent could be used to improve the poor smoothness of the insulating paste composition that is the object of the present invention. We have been conducting research in the direction of reducing this. However, these surface tension reducing agents are effective only when the paste itself has a low viscosity of 3,000 centipoise at most, and is useful for multi-layer lamination of insulating paste compositions for thick film technology with high viscosities of 15,000 to 60,000 centipoise. In the typical embodiment of the present invention, no effect was obtained. After experiencing numerous failures in this attempt to reduce surface tension, the inventors had an epiphany that previous attempts may have been an effort in the completely opposite direction. This is a shift in the idea that if you increase the surface tension and use this large surface tension to force the uneven surfaces of your own to attract each other, the surface will naturally become smooth. The insulating paste composition that is the subject of the present invention is often used using so-called thick film technology, and is often subjected to methods such as screen printing. Since the method itself becomes impracticable, we cannot afford to make the sacrifice of reducing structural viscosity in order to increase smoothness. Now, the inventors of the present invention have made such a change in their thinking.
The aim was to find a fundamental solution by increasing the surface tension by means other than adding additives. In other words, the idea was to provide the organic polymer bond itself with a large surface tension.
As a result of various trials and errors, they arrived at the present invention and successfully accomplished the task. By using the insulating paste composition of the present invention, it is possible to extremely easily multi-layer a ceramic substrate up to about five layers of wiring even if a very ordinary thick film technique is used at a publicly available technical level. When conventional insulating paste compositions are used, even if the technique used is extremely advanced and the construction is carefully performed by skilled workers, the
If we compare the limitations of layered wiring, we can clearly see that its industrial effects are outstanding. In addition, in these applications, an important requirement in combination with the above-mentioned smoothness is that the fired insulating ceramic thin layer has few voids and pinholes and is dense. It is much more severe for conductive paste compositions than for conductive paste compositions. This is because, for example, in the case of a conductor wiring layer, even if there are a large number of voids in it, if the conductor grains are in contact with each other somewhere around them, it is possible to perform a conductive function to some extent. This is because, in the case of voids in the insulating layer, they immediately appear as defects in electrical insulation. This density also has a significant influence on patterning performance as patterns become finer, which is also a matter of course. Previously, I have emphasized the effects of the present invention mainly on the basis of its smoothness, saying that the present invention makes it possible to easily realize five-layer wiring, but these various effects also naturally contribute. There is. The present invention significantly improves the smoothness of a polymer of ethylenically unsaturated compounds by introducing alcoholic hydroxyl groups, carboxyl groups, or both groups. That is, the insulating paste composition of the present invention contains an inorganic powder composition, an organic polymer binder, a photopolymerizable monomer, and a photopolymerization initiator, which will form an insulating ceramic upon firing. An insulating paste composition comprising: (1) one or more ethylenically unsaturated compounds as the minimum unit of polymerization as the organic polymer bond; (2) the minimum unit of polymerization constituting one polymer; When the total number of units is 100, the following specific group is 1
(3) the specific group is an alcoholic hydroxyl group or a carboxyl group; (4) the ethylenically unsaturated There are as many combinations between the type of compound and the type and number of the specific groups as there are combinations, and (5) the minimum unit of polymerization constituting one polymer is one or more of the combinations. An insulating paste composition using an organic polymer binder, characterized in that it simultaneously contains: There are many ethylenically unsaturated compounds that are advantageous for the present invention, and examples of them include the following. First, suitable ethylenically unsaturated compounds having an alcoholic hydroxyl group include, for example, hydroxyethyl acrylate, hydroxypropyl acrylate,
There are hydroxyalkyl acrylates represented by hydroxyethyl methacrylate and hydroxypropyl methacrylate, and methacrylates corresponding thereto. Also, favorable ethylenically unsaturated compounds with carboxyl groups include:
For example, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid,
These include itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, and maleic anhydride. Furthermore, examples of ethylenically unsaturated compounds having both an alcoholic hydroxyl group and a carboxyl group include vinyl oxycarboxylate compounds. Examples of ethylenically unsaturated compounds suitable for copolymerization with these ethylenically unsaturated compounds having an alcoholic hydroxyl group or carboxyl group include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, lauryl methacrylate, and methyl methacrylate. In addition to methacrylates (acrylates) such as acrylate, ethyl acrylate, stearyl methacrylate, n-decyl methacrylate, dimethylamino methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, isodecyl methacrylate, and diethylaminoethyl methacrylate, acrylonitrile, styrene, hydroxystyrene,
Vinyl acetate and the like are also convenient. Examples of the resulting copolymers include poly(methyl methacrylate/β-hydroxyethyl acrylate), poly(methyl methacrylate/β-hydroxypropyl acrylate), poly(methyl methacrylate/methacrylic acid/acrylic acid), and poly(methyl methacrylate/β-hydroxypropyl acrylate). (methyl methacrylate/n-butyl methacrylate/β-hydroxyethyl methacrylate),
Poly(isobutyl methacrylate/β-hydroxypropyl methacrylate), poly(isobutyl methacrylate/β-hydroxypropyl methacrylate/methacrylic acid), poly(methyl methacrylate/styrene/β-hydroxyethyl methacrylate), poly(styrene/maleic acid/β)
-hydroxybutyl methacrylate), poly(lauryl methacrylate/β-hydroxypropyl methacrylate/styrene), poly(methacrylate/vinyl acetate/β-hydroxyethyl acrylate), poly(methyl methacrylate/2-ethylhexyl methacrylate/β-hydroxyethyl acrylate) , poly(methyl methacrylate/ethyl acrylate/methacrylic acid), poly(methyl acrylate/glycidyl methacrylate/β-hydroxyethyl acrylate), poly(ethyl methacrylate/β-hydroxypropyl methacrylate), poly(methyl methacrylate/β-hydroxypropyl acrylate) / itaconic acid), poly(methyl methacrylate/dimethylamino methacrylate/methacrylic acid), poly(methyl acrylate/styrene/acrylic acid),
Poly(methyl methacrylate/vinyl acetate/β-
hydroxypropyl methacrylate), poly(methyl methacrylate/β-hydroxyethyl acrylate/methacrylic acid/ethyl acrylate), poly(methyl methacrylate/β-hydroxybutyl methacrylate/acrylic acid/styrene), poly(isobutyl methacrylate/β-hydroxyhexyl methacrylate) /acrylic acid), poly(styrene/acrylonitrile/methyl acrylate/methyl methacrylate/methacrylic acid), etc., and each has achieved good results. The present invention has been explained above using an example in which an ethylenically unsaturated compound having an alcoholic hydroxyl group, a carboxyl group, or both of these groups is prepared and copolymerized to produce the organic polymer conjugate of the present invention. There are many other methods for producing the organic polymer conjugate of the present invention. For example, it is of course possible to first form an organic polymer bond serving as a skeleton and then saponify or oxidize a portion of it. For example, you can saponify polyvinyl acetate and convert some of it into alcoholic hydroxyl groups, or copolymerize methyl methacrylate and vinyl acetate to form a polymer with a desired molecular weight, and then saponify this to convert a portion of it into alcoholic hydroxyl groups. It is also effective to convert it into an alcoholic hydroxyl group. A reaction in which an organic polymer conjugate having an aldehyde group is oxidized and converted into a carboxyl group is also convenient as a means for producing the organic polymer conjugate of the present invention. Furthermore, there is also a means of utilizing an addition reaction such as an addition reaction of maleic anhydride. Now, in the present invention, the reason why the total number of minimum polymerization units having one or more specific groups should be 2 to 85 when the total number of minimum polymerization units is 100 will be explained below. The main point of the present invention in order to solve the above-mentioned prior art is that an alcoholic hydroxyl group, a carboxyl group, or both groups are provided in the organic polymer bond, and these groups are newly incorporated. As explained in detail above, the introduction of this method into the wafer was extremely effective in improving smoothness. In other words, by introducing these groups, the polarity of the organic polymer bond increases and its surface tension increases, and as a result, even if the insulating paste composition inevitably becomes highly viscous, the surface of the coating film increases. This meant that the area was quickly smoothed out. However, it is natural that the ratio of alcoholic hydroxyl groups and carboxyl groups, which also have this smoothness improving effect, decreases as the composition approaches the conventional composition, and the lower limit at which the significant difference is lost was 2. . It is an experimental fact that if the problem faced by the present invention is only to improve smoothness, it would be better to introduce more of these groups. However, as this ratio increases, the polarity of the organic polymer bond becomes stronger, as mentioned above, and as a result, it tends to be soluble only in highly polar solvents. Although this may not seem to have much meaning at first glance, it is possible to develop a developing solution that can be used when developing an insulating paste composition that has been photopolymerized only in a specific area and dissolving and removing areas other than the desired pattern. This means that the types are limited to those with strong polarity, which is not desirable when considering industrial use. As the polarity becomes stronger, the range of conditions under which development can be performed becomes narrower and workability deteriorates. In this case, the solvent also tends to be highly volatile, which increases the danger of flames and makes it difficult to print, making it unsuitable for so-called thick film technology. As described above, as the number of alcoholic hydroxyl groups, carboxyl groups, or both of these groups increases, the polarity increases, but the smoothness becomes better and better. However, in addition to the above-mentioned polarity problem, as the number of these groups increases, the so-called retention ability of the inorganic powder composition in suspension tends to deteriorate as the insulating paste composition, so there is still an upper limit. should be considered. This upper limit is determined by the balance of the effects of different types, so it is not as clear as the lower limit, but it would be appropriate to set it at around 85. If you want to ensure that all of the above benefits are satisfied at the same time, 5
It is safe to set it to about 65, and in this case, significant effects were obtained in almost all combinations with inorganic powder compositions, photopolymerizable monomers, and photopolymerization initiators. When using an organic polymer conjugate having only an alcoholic hydroxyl group as a specific group, 5 to 25
To a certain extent, the phenomenon can be achieved using only a nonflammable solvent such as chlorocene (1,1,1-trichloroethane), and conventional thick film technology can be applied as is, which is more convenient. When using an organic polymer bond containing only a carboxyl group as a specific group, it is more convenient to set the number to about 6 to 55 because weak alkaline development can be performed. If it exceeds 55, it will not be soluble in ordinary solvents commonly used in thick film technology, so it is not very desirable. When using an organic polymer bond containing both an alcoholic hydroxyl group and a carboxyl group as the specific group, as the ratio of carboxyl groups increases, it tends to become more suitable for alkaline development. Although the features of the present invention have been explained above, the compositions of the present invention other than the organic polymer conjugate will be exemplified below. First, there is an inorganic powder composition, which is a material that forms insulating ceramic by firing. Therefore, the composition needs to be appropriately determined depending on which and how much of the various characteristics supporting the purpose of use are desired to be satisfied, and in fact there is a great degree of freedom in its selection.
Acidic, basic, and neutral refractories such as alumina, silica, magnesia, spinel, etc., as well as various inorganic oxides that are raw materials for obtaining them, and lead borosilicate glass. Zinc borosilicate glass, lead zinc borosilicate glass,
Glasses such as these can be used. Although the particle size of these inorganic powder compositions does not need to be particularly limited, it has been empirically determined that it is easier to handle if the particle size is adjusted to about 0.05 to 15 μm. As the photopolymerizable monomer, photopolymerizable ethylenically unsaturated compounds typified by polyfunctional acrylic monomers can be used. Allyl group, vinyl ether group,
Compounds with vinylamino groups can also be used. Suitable examples include polyethylene glycol diacrylates (n=2 to 200) represented by diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, and tetraethylene glycol diacrylate, methacrylates corresponding thereto, and polyalkylene glycol diacrylates. Various acrylates represented by acrylates (n = 4 to 11), pentaerythritol triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, and 2,2-dimethylpropane diacrylate, and their corresponding methacrylates are effective, It can also be used as a mixture of two or more of them. As photopolymerization initiators, benzophenones, vicinal ketones such as diacetyl, benzyl, α
- pyridine, acyloins such as benzoin, pivaloin, α-pyridoin, acyloin ethers such as benzoin methyl and ethyl ether;
α-Hydrocarbon-substituted aromatic acyloins such as α
- Methylbenzoyl, α-tert-butylbenzoin, acyloin esters such as benzoin acetate and benzoyl alkyl ethers, conjugated 6-membered carbon in which there is at least one aromatic carbocyclic ring fused to a ring containing a carbonyl group Substituted and unsubstituted quinones having two endocyclic carbonyl groups bonded to endocyclic carbon atoms in the cyclic ring, such as ethylanthraquinone, benzanthraquinone, diaminoanthraquinone, benzophenone and 4,4′-bis(dimethylamino)benzophenone, Examples include triphenylphosphine. These may be used alone or as a mixture of two or more. The amount of this photopolymerization initiator used may be small, and it is sufficient to use it in a range of usually 0.01 to 10% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, based on the total amount of the organic polymer bond. The insulating paste composition of the present invention thus obtained functions as an extremely excellent paste with high screen printing performance when used, for example, in thick film technology. This is largely due to the fact that it is extremely easy to adjust the viscosity to a value of about 2,000 to 500,000 centipoise as measured by a B-type rotational viscometer when the temperature is about 25°C. The molecular weight of the organic polymer conjugate used at this time is preferably about 15,000 to 600,000. If the insulating paste composition of the present invention is to be used effectively utilizing its characteristics as a photopolymerizable paste, the preferred viscosity range is 5,000 to 100,000 centipoise.
If it is less than 5,000 centipoise, a single coating film will be thin and uneconomical, and the smoothness will also deteriorate.
If it is 100,000 centipoise or more, printing becomes difficult. As the solvent used in the insulating paste composition of the present invention, those having a boiling point in the range of 140 to 300°C at atmospheric pressure can be used, but a preferable example is one having a boiling point in the range of 170 to 260°C as the main solvent. It is convenient to use A co-solvent may also be used. If the boiling point of the main solvent is below 170°C, drying will be too fast, which will have an adverse effect on the smoothness of the coating film, and will also dry the screen plate and cause clogging of the screen mesh.
If the temperature is 260°C or higher, it is good for smoothing, but the drying properties are poor and it is uneconomical, and sometimes photopolymerizability is impaired.
Suitable solvents that meet these various conditions include, for example, methyl carbitol, ethyl carbitol, butyl carbitol, methyl carbitol acetate, ethyl carbitol acetate,
High boiling points of butyl carbitol acetate, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, methoxybutyl acetate, diacetone alcohol, isophorone diisobutyl ketone, ethylene glycol monobutyl ether acetate, pine oil, terpineol, 2-ethylhexyl acetate, etc. These include derivatives of polyhydric alcohols, ketones, esters, and terpenes. Hereinafter, from among the many embodiments of the present invention, some embodiments that are considered to be in relatively high demand will be selected and explained in detail. Example 1 850 parts by weight of methyl methacrylate, 150 parts by weight of β-hydroxyethyl acrylate, 15 parts by weight of azobisisobutyronitrile, and 1000 parts by weight of ethyl carbitol acetate were added to a condenser, a thermometer,
The mixture was placed in a 3-separable flask equipped with a stirrer. Next, the internal temperature was raised to 70℃ while stirring for 40 minutes using a mantle heater, and the temperature was raised to 70℃ while controlling the exothermic reaction.
Polymerization was carried out by stirring at ~75°C for 50 minutes. Next, upon cooling to room temperature, a transparent and viscous poly(methyl methacrylate/β-hydroxyethyl acrylate) was obtained. The viscosity of this methacrylic acid ester copolymer solution was 32,000 centiboads (25°C), and the average molecular weight of the copolymer was 141,000. 100 parts by weight of a 50% solution of poly(methyl methacrylate/β-hydroxyethyl acrylate (85/15) in ethyl carbitol acetate, 12 parts by weight of tetraethylene glycol diacrylate, 3 parts by weight of pentaerythritol triacrylate, tertiary butyl 2 parts by weight of anthraquinone, 75 parts by weight of fine alumina powder, 45 parts by weight of fine low-melting glass powder, 0.025 parts by weight of methylhydroquinone.
3 parts by weight, 0.5 parts by weight of antifoaming agent, 3 parts by weight of the above composition.
The mixture was kneaded using a roll mill. The viscosity was measured using a rotational viscometer and was found to be 39,000 centipoise. After printing this paste twice at a thickness of 25 μm on the entire surface of the alumina substrate on which the conductor circuit is formed using a 230 mesh stainless steel screen,
The coating film became smooth after 10 minutes. This was dried in a hot air dryer at 85°C for 30 minutes and left until it reached room temperature. Next, a latent image was formed by irradiating with an ultra-high pressure mercury lamp for 6 seconds through an exposure mask having a predetermined pattern, and then developed by spraying using chlorocene as a developer. The film thickness of the remaining portion was 48 μm. In addition, the through holes formed by removal by development had sufficiently satisfactory sharpness. This was fired at 900°C for 2 hours to obtain an insulating ceramic thin layer with the desired through holes.
The thickness of this insulating ceramic thin layer was 27 μm. In addition, the leakage current was measured in weak salt water as a measure of the degree of insulation of the thin insulating ceramic layer. The leakage current was 20μA at 5V DC, indicating excellent insulation. Example 2 Poly(methyl methacrylate/β-hydroxyethyl acrylate) similar to that used in Example 1
100 parts by weight of ethyl carbitol solution, 9 parts of polyethylene glycol diacrylate (n=14)
parts by weight, 3 parts by weight of diethylene glycol diacrylate, 4 parts by weight of trimethylolpropane triacrylate, 20 parts by weight of fine magnesia powder, and low melting point glass (GA-9 manufactured by Nippon Electric Glass).
85 parts by weight, 0.025 parts by weight of methylhydroquinone, 0.1 parts by weight of antifoaming agent, and ethyl violet.
0.3 parts by weight, 2 parts by weight of cellulose acetate,
When 2.5 parts by weight of ethyl anthraquinone was kneaded using three rolls, the viscosity was 19,500 centipoise. In the same way as in Example 1, a 30μm film was printed on an alumina substrate with a conductor formed thereon by screen printing.
After printing twice, it became smooth after 7 minutes. After that, it was exposed, developed and fired. The thickness of the insulating ceramic layer after firing was 30 μm, and a sharp image with through holes of 130 μm square was obtained. The leakage current was 22μA at 5V, indicating excellent insulation. Example 3 740 parts by weight of methyl methacrylate, 110 parts by weight of β-hydroxypropyl methacrylate, 150 parts by weight of methacrylic acid, 13 parts by weight of azobisisobutyronitrile, 650 parts by weight of butyl carbitol, ethylene glycol monoethyl 350 parts by weight of ether acetate was heated to 65° C. with stirring for 80 minutes using a mantle heater set in the same manner as in Example 1, and stirred and polymerized at a temperature of 65° C. to 70° C. for 40 minutes while cooling. The viscosity of this copolymer was 48,000 centipoise. The molecular weight was 98,000. 10 parts by weight of this reaction product, 0.8 parts by weight of tetraethylene glycol, 0.4 parts by weight of polyethylene glycol diacrylate (n=9), 0.6 parts by weight of pentaerythritol triacrylate,
44 parts by weight of mullite (Al 2 O 3・SiO 2 ) fine powder, 1 part by weight of low melting point glass (GA-9), 0.4 part by weight of benzoin isopropyl ether, and 0.01 part by weight of Michler's ketone were kneaded in a three-roll mill. did. Next, print and coat onto the alumina substrate and after drying,
It was exposed to ultraviolet light through an exposure mask having a 150 μm square through-hole pattern. When developed with a 1.5% diethanolamine aqueous solution, the desired result was obtained.
A clear through-hole image of 150 μm square was obtained. Next, the temperature was raised to 990°C for 3 hours, held for 30 minutes, and fired, resulting in the desired homogeneous insulating ceramic thin layer with a smooth surface and sharp through holes. Example 4 Poly(methyl methacrylate/β-hydroxyethyl acrylate) similar to that used in Example 1
100% solution of ethyl carbitol acetate
parts by weight, 12 parts by weight of tetraethylene glycol diacrylate, 3 parts by weight of pentaerythritol triacrylate, 2 parts by weight of tert-butyl anthraquinone, 55 parts by weight of fine alumina powder,
SiO2 , B2O3 , ZrO2 , ZnO, PbO, Na2O , K2O ,
65 parts by weight of fine powder of lead borosilicate crystallized glass containing MgO, CaO, and TiO 2 and methylhydroquinone.
0.025 parts by weight of the antifoaming agent, 0.5 parts by weight of the antifoaming agent, and 0.5 parts by weight of Oil Blue #603 (manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.) were kneaded in a three-roll mill to obtain a paste with a viscosity of 46,000 centipoise. This is screen printed onto an alumina substrate with a conductor circuit formed on it and dried.
When exposed and developed through an exposure mask with a 100 μm square through-hole pattern, a 100 μm square
An image with sharp through holes at the corners was obtained. After that, it was fired at 910°C, and a thin layer of insulating ceramic having a thickness of 30 μm and having the desired sharp through holes was obtained. After that, a leakage current test was conducted in the same manner as in Example 1, and the result was 20μ at 10V DC.
It showed very excellent insulation properties of A or less. Example 5 The same composition as Example 4 was used except for the inorganic powder composition, and the inorganic powder composition contained SiO 2 ; 31% by weight,
B2O3 ; 3.6 % by weight, PbO; 10% by weight, Na2O ; 2.0
Weight%, CaO; 8.0% by weight, ZrO2 ; 1.7% by weight,
A mixed fine powder containing 43.7% by weight of Al 2 O 3 was kneaded in a three-roll mill to form a paste. Thereafter, treatment was carried out in the same manner as in Example 4, and a smooth insulating ceramic thin layer with sharp through holes was obtained. Leakage current is 10μA at 10V DC
It showed very excellent insulation properties as shown below. As can be seen from the examples illustrated above, the effects of the present invention are outstanding. For reference with these embodiments of the present invention, some examples of how to obtain relatively good results from the prior art are as follows. First, 850 parts by weight of methyl methacrylate, n
-150 parts by weight of butyl methacrylate, 15 parts by weight of azobisisobutyronitrile, and 100 parts by weight of ethyl carbitol acetate were weighed, and these were placed in a three-separable flask equipped with a condenser, a thermometer, and a stirring device. This was reacted in the same manner as in Example 1. Obtained poly(methyl methacrylate/n-butal methacrylate (85/15))
The viscosity of the solution was 29,000 centipoise (25°C). An insulating paste composition was prepared in the same manner as in Example 1 using the organic polymer bond thus obtained. Although the composition of this insulating paste is exactly the same except for the organic polymer bond, when it was screen printed on an alumina substrate, a smooth coated surface was still not obtained even after 60 minutes had passed, and the screen The printing marks were still visible. A similar test was performed on poly(methyl methacrylate/
Ethyl acrylate (85/15)), poly(methyl methacrylate/lauryl methacrylate (90/
10)) and various organic polymer combinations of poly(n-butyl methacrylate/methyl acrylate (95/5)), but all of these could not provide a sufficiently smooth surface, so multilayering was not possible. It was difficult.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 焼成により絶縁性セラミツクを構成すること
となる無機粉末組成物、有機高分子結合体、光重
合性単量体、光重合開始剤を含みこれらを混練し
てなる絶縁ペースト組成物であつて、前記有機高
分子結合体として (1) 1種以上のエチレン性不飽和化合物を重合の
最小単位とし、 (2) 1つの高分子体を構成する前記重合の最小単
位の総数を100としたときに下記の特定基を1
種以上1個以上備えた前記重合の最小単位の合
計数が2〜85の比率となつており、 (3) 前記特定基がアルコール性水酸基又はカルボ
キシル基であり、 (4) 前記エチレン性不飽和化合物の種類と前記特
定基の種類及び数との間の組み合せはその組み
合せの数だけあり、 (5) しかも1つの高分子体を構成する前記重合の
最小単位は前記組み合せ中の1以上のものを同
時に含む、 ことを特徴とした有機高分子結合体を用いた絶縁
ペースト組成物。
[Scope of Claims] 1. An insulating paste made by kneading an inorganic powder composition, an organic polymer bond, a photopolymerizable monomer, and a photopolymerization initiator, which will form an insulating ceramic upon firing. A composition, wherein the organic polymer conjugate includes (1) one or more ethylenically unsaturated compounds as the minimum unit of polymerization, and (2) the total number of the minimum units of polymerization constituting one polymer. When 100, the following specific group is 1
(3) the specific group is an alcoholic hydroxyl group or a carboxyl group; (4) the ethylenically unsaturated There are as many combinations between the type of compound and the type and number of the specific groups as there are combinations, and (5) the minimum unit of polymerization constituting one polymer is one or more of the combinations. An insulating paste composition using an organic polymer binder, characterized in that it simultaneously contains:
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