JPS62219245A - Optical information recording disk - Google Patents

Optical information recording disk

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Publication number
JPS62219245A
JPS62219245A JP61059437A JP5943786A JPS62219245A JP S62219245 A JPS62219245 A JP S62219245A JP 61059437 A JP61059437 A JP 61059437A JP 5943786 A JP5943786 A JP 5943786A JP S62219245 A JPS62219245 A JP S62219245A
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JP
Japan
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optical information
layer
information recording
disk
recording
Prior art date
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Pending
Application number
JP61059437A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akira Goto
明 後藤
Katsunobu Yamazaki
山崎 克伸
Naoyuki Kikuchi
菊地 直幸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Maxell Ltd
Original Assignee
Hitachi Maxell Ltd
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Publication date
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Priority to EP19860116999 priority patent/EP0227981B1/en
Publication of JPS62219245A publication Critical patent/JPS62219245A/en
Priority to US07/246,925 priority patent/US4908250A/en
Priority to US07/459,243 priority patent/US5073243A/en
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Abstract

PURPOSE:To obviate the deterioration of a CN ratio with lapse of time by providing a light transmittable thermal impact relieving layer which is better in heat resistance than a disk substrate, is lower in m.p. or decomposition temp. and lower in heat conductivity than a recording layer between the disk substrate and the recording layer. CONSTITUTION:The thermal impact relieving layer 3 is formed of the light transmittable material which is better in the heat resistance than the disk substrate 1 and is lower in the m.p. or decomposition temp. and is lower in the heat conductivity than the recording layer. The thermal impact relieving layer 3 is preferably formed of at least one kind of org. material selected from a polytetrafluoroethylene, guanine, hydrocarbon film by a plasma polymn. method, PE, and methyl chloride if the disk substrate 1 is formed of a PMMA or PC or epoxy and the recording layer 4 is formed of a low melting metal essentially consisting of Te.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は1例えばコンパクトディスクやビデオディスク
それにコンピュータ用光デイスクメモリなど、光ビーム
を照射することによって情報の記録再生を行う光情報記
録ディスクに関する。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to an optical information recording disk, such as a compact disk, a video disk, and an optical disk memory for computers, on which information is recorded and reproduced by irradiation with a light beam. .

〔従来技術ゴ 第2図はこの種の光情報記録ディスクの一例を示す一部
切断した拡大断面図であって、ディスク基板11の片面
にトラッキング信号に対応するプレグルーブ12及びア
ドレス信号に対応するプレピット13が転写されており
、当該プレグルーブ12及びプレピット13の転写面に
ヒートモード用記録材料から成る記録層14が設けられ
ている。
[Prior art Fig. 2 is a partially cut-away enlarged sectional view showing an example of this type of optical information recording disk, in which a pregroove 12 corresponding to a tracking signal and a pregroove 12 corresponding to an address signal are formed on one side of a disk substrate 11. Pre-pits 13 are transferred, and a recording layer 14 made of a heat mode recording material is provided on the transfer surface of the pre-grooves 12 and pre-pits 13.

上記プレピット13は、上記プレグルーブ12上に形成
されており、両者の深さの差によってそれぞれの(11
7号が読み出されるようになっている。
The pre-pits 13 are formed on the pre-grooves 12, and each (11
No. 7 is now read out.

上記した光情報記録ディスクに情報を記録する場合には
、上記ディスク基板11側から上記プレグルーブ12及
びプレピット13に沿ってトラッキング用レーザビーム
を入射し、上記記録層14からの反射光強度を検知する
ことによってトラッキング情報及びアドレス情報を検出
する。そして。
When recording information on the above optical information recording disk, a tracking laser beam is incident along the pre-groove 12 and pre-pit 13 from the disk substrate 11 side, and the intensity of reflected light from the recording layer 14 is detected. Tracking information and address information are detected by and.

所定のトラック及びセクタに所定の情報信号によって変
調された記録用レーザビームを照射し、上記記録層14
に融解、蒸発、収縮などの熱的変形を生じさせて、ピッ
トの形で情報を記録する。また、上記光情報記録ディス
クに記録された情報を読み出す場合は、上記ディスク基
板11側から上記プレグルーブ12に沿って再生用レー
ザビームを入射し、上記記録層14からの反射光強度を
検知することによってトラッキング情報及びアドレス情
報を検出しつつ情報信号を検出する。
A recording laser beam modulated by a predetermined information signal is irradiated onto predetermined tracks and sectors, and the recording layer 14 is
By causing thermal deformation such as melting, evaporation, and contraction, information is recorded in the form of pits. When reading information recorded on the optical information recording disk, a reproducing laser beam is incident along the pregroove 12 from the disk substrate 11 side, and the intensity of reflected light from the recording layer 14 is detected. By this, the information signal is detected while tracking information and address information are being detected.

近年、この種の光情報記録ディスクに適用されるディス
ク基板材料としては、■生産性が高く。
In recent years, disc substrate materials applied to this type of optical information recording disc have: (1) high productivity;

安価に製造できる。俊)軽量にして破損しに<<。Can be manufactured cheaply. Shun) It is lightweight and does not get damaged.

搬送や取扱いが容易である、等の理由から、PMMA(
ポリメチルメタクリレート)やPC(ポリカーボネート
)、それにエポキシといった高分子材料を成形したもの
が主流となりつつある。
PMMA (
Molded polymer materials such as polymethyl methacrylate (polymethyl methacrylate), PC (polycarbonate), and epoxy are becoming mainstream.

然るに、これらの高分子材料は比較的耐熱性が低いため
、繰返し再生用レーザビームを照射すると、ディスク基
板11に転写されたプレグルーブ12及びプレピット1
3の形状が徐々に変形し。
However, since these polymer materials have relatively low heat resistance, when repeatedly irradiated with a laser beam for reproduction, the pre-grooves 12 and pre-pits 1 transferred to the disk substrate 11 are damaged.
The shape of 3 gradually deforms.

時間の経過とともに当該部分から読み出される反射光強
度のコントラストが低下してCN比が低下するという問
題が指摘されている。
It has been pointed out that there is a problem in that the contrast of the intensity of reflected light read from the portion decreases with the passage of time, resulting in a decrease in the CN ratio.

従来、記録時におけるディスク基板11の熱変形を防止
し、記録ピット形成部の周辺におけるディスク基板11
の盛り上がりやこれに基づくピットの形状の乱れを未然
に防止し、CN比の高い記録を行うため、ディスク基板
11と記録層14との間に、記録時の温度よりも高い耐
熱性を有し。
Conventionally, thermal deformation of the disk substrate 11 during recording has been prevented, and the disk substrate 11 around the recording pit formation area has been
In order to prevent the swelling of the pits and the resulting disturbance of the shape of the pits, and to perform recording with a high CN ratio, a layer is provided between the disk substrate 11 and the recording layer 14 that has a heat resistance higher than the temperature during recording. .

かつ熱伝導率が低く断熱効果を有する物質、例えばSs
、Sの何れかを40原子%以上含むCu S eやAs
zSe3等の物質から成る光透過性の断熱層を設けた情
報記録媒体が知られている(特開昭57−189356
)。
and a material with low thermal conductivity and a heat insulating effect, such as Ss.
, Cu S e or As containing 40 atomic % or more of S
An information recording medium provided with a light-transmitting heat insulating layer made of a substance such as zSe3 is known (Japanese Patent Laid-Open No. 57-189356).
).

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

然るに1本願発明者らの研究によると、記録層14の下
地層の耐熱性の優劣は記録感度の優劣に重大な影響をも
っており、記録層14の熱的変形は下地fFj(ディス
ク基板11)の熱的変形によって促進されること、即ち
、下地層が全く熱的変形を生じないと記録層14の記録
感度が著しく低下することが判明した。例えばガラス展
のディスク基板上に直接記録層を形成した場合には、P
MMAmのディスク基板上に直接記録層を形成した場合
に比べて、記録感度が著しく低下する。
However, according to research by the inventors of the present application, the heat resistance of the underlayer of the recording layer 14 has a significant influence on the recording sensitivity, and thermal deformation of the recording layer 14 is caused by the thermal deformation of the underlayer fFj (disk substrate 11). It has been found that the recording sensitivity of the recording layer 14 is significantly reduced if thermal deformation is promoted, that is, if the underlayer does not undergo any thermal deformation at all. For example, when a recording layer is formed directly on a glass disk substrate, P
The recording sensitivity is significantly lower than when the recording layer is directly formed on the MMAm disk substrate.

従って、上記公知例のように、ディスク基板11と記録
層14との間に記録時の温度に対して全く熱的変形を生
じない断熱層を形成すると、ディスクa抜11の熱的変
形が防止でき、CN比の劣化を防止することができるが
、その反面、記録感度が著しく低下し、記録パワーを大
きくしなくてはならないという問題を惹起する。
Therefore, as in the above-mentioned known example, if a heat insulating layer is formed between the disk substrate 11 and the recording layer 14 that does not cause any thermal deformation due to the temperature during recording, thermal deformation of the disk a removal 11 can be prevented. This can prevent deterioration of the CN ratio, but on the other hand, the recording sensitivity is significantly lowered and the recording power has to be increased, which is a problem.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

かように、繰り返し再生用レーザ光を照射した場合にも
ディスク基板に転写された凹凸パターンが熱変形せずか
つ記録感度を向上するためには、少なくともディスク基
板の凹凸パターン転写面を。
In this way, in order to prevent the concavo-convex pattern transferred to the disk substrate from being thermally deformed even when repeatedly irradiated with a reproduction laser beam and to improve recording sensitivity, at least the concavo-convex pattern transfer surface of the disk substrate must be protected.

耐熱性がディスク基板よりも高く、記録層の溶融温度よ
りも低い温度で溶融または分解する物質にて形成する必
要がある。
It needs to be formed of a material that has higher heat resistance than the disk substrate and melts or decomposes at a lower temperature than the melting temperature of the recording layer.

本発明は上記の知見に基づいてなされたものであって、
ディスク基板と上記記録層との間に、上記ディスク基板
よりも耐熱性に優れると共に上記記録層よりも融点また
は分解温度が低く、かつ熱伝導率が低い物質から成る光
透過性の熱衝撃緩和層を設けたことを特徴とするもので
ある。
The present invention was made based on the above findings, and
Between the disk substrate and the recording layer, there is a light-transmissive thermal shock mitigation layer made of a material that has better heat resistance than the disk substrate, has a lower melting point or decomposition temperature than the recording layer, and has lower thermal conductivity. It is characterized by having the following.

〔実施例〕〔Example〕

まず、本発明の概略を第1図に基づいて説明する。第1
図は本発明にかかる光情報記録ディスクの概略を示す断
面図であって、1はディスク基板、2は凹凸パターン、
3はr!!%衝撃緩和層、4は記録層を示している、 ディスク基板1は、PMMA、PC,エポキシ等の高分
子物質を用いて、中央部に中央孔1aを有する所定直径
の円板状に形成される。このディスク基板1の片面には
、トラッキング情報に対応するプレグルーブ及びアドレ
ス信号に対応するプレピット等の凹凸パターン2が転写
される。かかるディスク基板1の製造方法は、材料に合
せて任意の成形方法を採ることができるが、PMMA。
First, an outline of the present invention will be explained based on FIG. 1st
The figure is a cross-sectional view schematically showing an optical information recording disk according to the present invention, in which 1 is a disk substrate, 2 is a concavo-convex pattern,
3 is r! ! % impact relaxation layer, 4 indicates a recording layer. The disk substrate 1 is formed into a disk shape of a predetermined diameter with a central hole 1a in the center using a polymeric material such as PMMA, PC, or epoxy. Ru. On one side of this disk substrate 1, a concavo-convex pattern 2 such as a pre-groove corresponding to tracking information and a pre-pit corresponding to an address signal is transferred. The disk substrate 1 can be manufactured by any molding method depending on the material, but PMMA is used.

PCについては射出成形法、またエポキシについては注
型法が適する。
Injection molding is suitable for PC, and casting is suitable for epoxy.

上記記録層4は、例えばTeまたは1°eを主成分とす
る合金などの低融点金属をもって形成される。この記録
WI4の形成手段としては、真空蒸着法、スパッタ法、
fltlt−ビーム法ラズマ重合法など、公知に属する
任意の薄膜形成手段を用いろことができる。
The recording layer 4 is formed of a low melting point metal such as Te or an alloy containing 1°e as a main component. This recording WI4 can be formed by vacuum evaporation, sputtering,
Any known thin film forming means can be used, such as the fltlt-beam method and the plasma polymerization method.

熱li7撃緩和層3は、上記ディスク基板1よりも耐熱
性に優れろと共に、上記記録層4よりも融点または分解
温度が低く、かつ熱伝導率が低い物質から成る光透過性
の物質によって形成されろ。
Thermal impact relaxation layer 3 is formed of a light-transmissive material that has better heat resistance than the disk substrate 1, has a lower melting point or decomposition temperature than the recording layer 4, and has a lower thermal conductivity. Be it.

ただし、光学系からのノイズやシステムとしてのS/N
比を考慮した場合、再生用レーザパワーは大きいほど好
ましく1例えば波長が830nmの半導体レーザを用い
た場合には、1mW以上のレーザパワーを必要とする。
However, noise from the optical system and S/N as a system
Considering the ratio, the higher the reproduction laser power, the better. For example, when a semiconductor laser with a wavelength of 830 nm is used, a laser power of 1 mW or more is required.

かかるパワーを有する再生用レーザを繰り返し照射し、
た場合にもディスク基板1に熱的変形を生じさせないた
めには。
Repeatedly irradiate with a reproducing laser having such power,
In order to prevent thermal deformation of the disk substrate 1 even in the case of

110℃以上の耐熱性を有する熱WRIJI和層3を設
ける必要がある。また、熱伝導率は低いほど記録感度を
向上することができ、実用上5 W / m K以下と
する必要がある。
It is necessary to provide a thermal WRIJI sum layer 3 having heat resistance of 110° C. or higher. Further, the lower the thermal conductivity, the better the recording sensitivity can be, and in practical terms, it needs to be 5 W/mK or less.

具体的には、ディスク基板がPMMAまたはPCまたは
エポキシから形成され、記録層がTaを主成分とする低
融点金属にて形成されている場合においては、熱衝撃緩
和層をポリ四フッ化エチレン、グアニン、プラズマ重合
法による炭化水素膜。
Specifically, when the disk substrate is made of PMMA, PC, or epoxy, and the recording layer is made of a low melting point metal containing Ta as a main component, the thermal shock mitigation layer is made of polytetrafluoroethylene, Guanine, hydrocarbon film made by plasma polymerization method.

ポリエチレン、メチルクロライドから選択された少なく
とも1種の有機材料から形成することが好ましい。
Preferably, it is formed from at least one organic material selected from polyethylene and methyl chloride.

表−1に本発明の光情報記録ディスクに適用可能なディ
スク基板材料及び記録材料それに熱衝撃緩和層料を例示
し、これらの融点または分解温度。
Table 1 lists examples of disk substrate materials, recording materials, and thermal shock mitigation layer materials that can be applied to the optical information recording disk of the present invention, and lists their melting points or decomposition temperatures.

熱変形温度、それに熱伝導率を示す。Shows heat distortion temperature and thermal conductivity.

表−1 この熱mva緩和層3の形成手段としては、真空蒸着法
、スパッタ法、プラズマ重合法等、公知に属する任意の
薄膜形成手段を用いることができる。
Table 1 As a means for forming this thermal mva relaxation layer 3, any known thin film forming means such as vacuum evaporation, sputtering, plasma polymerization, etc. can be used.

以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明の効果に言
及する。
Hereinafter, specific examples of the present invention will be shown, and the effects of the present invention will be discussed.

第1実施例乃至第5実施例 射出成形したPC製のディスク基板lの片面に、それぞ
れ50人(第1実施例)、100人(第2実施例)、2
00人(第3実施例)、400人(第4実施例)、80
0A (第5実施例)の厚さのポリ四フッ化エチレン製
熱ms緩和層3をスパッタ法により成膜した5例のディ
スク基板1を作製した。このときのスパッタ条件は、ア
ルゴンガス圧が7X10″′Pa、RF電力が60Wで
あった0次いで、これらのディスク基板lの上記ポリ四
フッ化エチレン製熱衝qB緩和層3上に、スパッタ法に
より300スの厚さのT e S e系合金による記録
層4を形成した。このときのスパッタ条件は。
1st to 5th Examples 50 people (first example), 100 people (second example), and 2
00 people (3rd example), 400 people (4th example), 80 people
Five disk substrates 1 were prepared in which a polytetrafluoroethylene thermal ms relaxation layer 3 having a thickness of 0 A (fifth example) was formed by sputtering. The sputtering conditions at this time were that the argon gas pressure was 7X10''Pa and the RF power was 60W.Next, a sputtering process was performed on the polytetrafluoroethylene thermal shock qB relaxation layer 3 of these disk substrates l. A recording layer 4 made of a T e Se alloy with a thickness of 300 mm was formed using the following sputtering conditions.

アルゴンガス圧が6X10−’Pa、放電電力が40W
であった。
Argon gas pressure is 6X10-'Pa, discharge power is 40W
Met.

第6実施例 射出成形したPC@のディスク基板lの片面に、抵抗加
熱真空蒸着法により300人の厚さのグアニン製熱衝I
I!緩和M3を形成した。このときの真空度は、10−
’Pa台であった0次いで、上記グアニン製熱衝撃緩和
層3上に、上記第1実施例と同様の条件の下で、300
人の厚さのT e S e系合金による記録M!j4を
形成した。
6th Example A 300 mm thick guanine hot plate I was applied to one side of an injection molded PC@ disk substrate l using a resistance heating vacuum deposition method.
I! A relaxed M3 was formed. The degree of vacuum at this time is 10-
Then, the guanine thermal shock mitigation layer 3 was coated with 300 ml under the same conditions as in the first example.
Record of human thickness by T e S e alloy M! j4 was formed.

・第7実施例 射出成形したPC製のディスク基板1の片面に、プラズ
マ重合法により300人の厚さの炭化水素プラズマ重合
膜から成る熱衝撃緩和層3を形成した。上記炭化水素プ
ラズマ重合膜の形成にあたっては、プラズマ重合装置内
のCH4ガス圧を7×10Paに保ち、120WのRF
 ’i!力を印加した。
- Seventh Example A thermal shock mitigation layer 3 made of a hydrocarbon plasma polymerized film having a thickness of 300 mm was formed on one side of an injection-molded PC disk substrate 1 by a plasma polymerization method. In forming the above hydrocarbon plasma polymerized film, the CH4 gas pressure in the plasma polymerization apparatus was maintained at 7 x 10 Pa, and 120 W RF
'i! applied force.

次いで、上記炭化水素製熱衝11!緩和層3上に、上記
第1実施例と同様の条件の下で、300λの厚さのT 
e S e系合金による記録層4を形成した。
Next, the above-mentioned hydrocarbon thermal shock 11! A T layer with a thickness of 300λ was formed on the relaxation layer 3 under the same conditions as in the first embodiment.
A recording layer 4 was formed using an e SE alloy.

表−2に、上記第1実施例乃至第7実施例の光情報記録
ディスクについて、10時間繰返し再生を行った場合に
、±10%の信号変動を生じるレーザパワーを示し、下
地層が形成されていない従来品と比較する。ただし5本
試験に適用した再生用レーザビームの波長は830nm
である。
Table 2 shows the laser power that causes a signal fluctuation of ±10% when the optical information recording disks of the first to seventh embodiments are repeatedly reproduced for 10 hours. Compare with a conventional product that does not. However, the wavelength of the reproduction laser beam applied to the five tests was 830 nm.
It is.

表−2 表−2に示したように、本実施例の光情報記録ディスク
は、第1実施例のものを除き、いずれも熱IJ7!緩和
層が設けられていない従来品に比べて。
Table 2 As shown in Table 2, all of the optical information recording disks of this example, except for the one of the first example, had a thermal IJ7! Compared to conventional products that do not have a relaxation layer.

10時間繰返し再生を行った場合に信号レベルを±10
%変動するレーザパワーが上昇しており。
Signal level ±10 after 10 hours of repeated playback
% fluctuating laser power is increasing.

凹凸パターンの熱変形を防止する効果が向上しているこ
とが判る。これらの熱衝撃緩和層のうちでは、炭化水素
のプラズマ重合膜が最も優れ、以下。
It can be seen that the effect of preventing thermal deformation of the uneven pattern is improved. Among these thermal shock buffering layers, hydrocarbon plasma polymerized films are the best and the following.

グアニンの真空蒸着膜、ポリ四フッ化エチレンのスパッ
タ暎の順で効果が高いことが判る。また、第1実施例乃
至第5実施例の比較から、ポリ四フッ化エチレンを熱衝
撃緩和層3に適用した場合には熱1[Itli和層3を
厚く形成するほど熱衝撃緩和効果があることが判った。
It can be seen that the effectiveness is highest in the order of vacuum deposition of guanine and sputtering of polytetrafluoroethylene. Furthermore, from a comparison of the first to fifth embodiments, when polytetrafluoroethylene is applied to the thermal shock mitigation layer 3, it is found that the thicker the thermal shock mitigation layer 3 is, the more effective the thermal shock mitigation effect is. It turned out that.

再生信号のS/N比を向上するためには再生用レーザパ
ワーが大きいほど好ましく、最低1mW以上とすること
が好ましい、このことから、ポリ四フッ化エチレンを熱
衝I!緩和層3に適用した場合には熱*@緩和M3の厚
さを200Å以上に形成することが好ましい。
In order to improve the S/N ratio of the reproduced signal, the higher the reproduction laser power is, the more preferable it is, and it is preferably at least 1 mW. From this, polytetrafluoroethylene is heated to I! When applied to the relaxation layer 3, it is preferable to form the heat*@relaxation M3 to a thickness of 200 Å or more.

次に1本発明品と熱Wr 11!!和層が形成されてい
ない従来品について、10時間繰り返し再生を行った後
の読み出し信号の波形と読み出し信号レベルの変化の一
例を示し、本発明の耐熱変形性をより明確にする。
Next, one invention product and heat Wr 11! ! An example of a change in the waveform of a read signal and a read signal level after repeated reproduction for 10 hours is shown for a conventional product in which a Japanese layer is not formed, to further clarify the heat deformation resistance of the present invention.

第2図(a)は第6実施例の光情報記録ディスク。FIG. 2(a) shows an optical information recording disk of the sixth embodiment.

即ち、PC製ディスク基板上に熱衝撃緩和層としてグア
ニンの真空蒸着膜を形成し、このグアニン膜上にT e
 S e記録層が形成された光情報記録デイスフのSM
部からの読み出し波形を示す波形図であり、第2図(b
)は上記の光情報記録ディスクに1.5mWの再生用レ
ーザビームを10時間照射したのちにS M部から読み
出される読み出し波形を示す波形図である。また、第3
図(a)はPC製ディスク基板上に直接T e S e
記録層が形成された光情報記録ディスクのSM部からの
読み出し波形を示す波形図であり、第3図(b)は上記
の光情報記録ディスクに1.5rnWの再生用レーザビ
ームを10時間照射したのちにSM部から読み出される
読み出し波形を示す波形図である。
That is, a vacuum-deposited guanine film is formed as a thermal shock mitigation layer on a PC disk substrate, and T e
SM of optical information recording disk with S e recording layer formed
FIG.
) is a waveform chart showing a readout waveform read out from the SM section after irradiating the optical information recording disk with a 1.5mW reproducing laser beam for 10 hours. Also, the third
Figure (a) shows T e S e directly on the PC disk board.
FIG. 3(b) is a waveform diagram showing the readout waveform from the SM section of the optical information recording disk on which a recording layer is formed, and FIG. FIG. 3 is a waveform diagram showing a readout waveform read out from the SM section after the above operation.

第2図(a)(b)に示すように1本発明の第6実施例
のかかる光情報記録ディスクは、1.5mWの再生用レ
ーザビームを10時間照射したのちにおいてもSM部か
らの読み出し波形にはほとんど変化が見られない、これ
に対し、第31A(a)(b)に示すように、熱PM 
!!!! 緩和層が形成されていない従来の光情報記録
ディスクにおいては、再生用レーザビーム照射前の読み
出し波形(第3図(a))に対して再生用レーザビーム
照射径の読み出し波形(第3図(b))に顕著な乱れが
観察され、熱衝撃緩和層が形成された本発明の光情報記
録ディスクについては、再生用レーザビームの繰り返し
照射に対するディスク基板の耐熱変形性が改善されてい
ることが判る。
As shown in FIGS. 2(a) and 2(b), in the optical information recording disk according to the sixth embodiment of the present invention, even after being irradiated with a 1.5 mW reproducing laser beam for 10 hours, reading from the SM portion is still not possible. Almost no change is seen in the waveform.On the other hand, as shown in Section 31A(a)(b), thermal PM
! ! ! ! In a conventional optical information recording disk in which a relaxation layer is not formed, the readout waveform of the reproducing laser beam irradiation diameter (Fig. 3(a)) is different from the readout waveform before the reproducing laser beam irradiation (Fig. 3(a)). b)) Significant disturbances were observed in the optical information recording disk of the present invention on which a thermal shock mitigation layer was formed, indicating that the thermal deformation resistance of the disk substrate against repeated irradiation with a reproduction laser beam was improved. I understand.

第4図は上記第6実施例の光情報記録ディスク(グアニ
ン製熱I17撃緩和層)に1.5mWの再生用レーザビ
ームを照射したときの信号レベル比の経時変化を示すグ
ラフであり、第5図はPC製ディスク基板上に直接Ta
ke記録層が形成された光情報記録ディスクに1.5m
Wの再生用レーザビームを照射したときの信号レベル比
の経時変化を示すグラフである。これらのグラフにおい
て、O印は記録層からの情報信号レベル比、X印はプリ
グルーブからのトラッキング信号レベル比、Δ印はSM
部からの読み出し信号レベル比、O印はVFO部からの
読み出し信号レベル比を示している。
FIG. 4 is a graph showing the change over time in the signal level ratio when a 1.5 mW reproduction laser beam is irradiated onto the optical information recording disk of the sixth embodiment (thermal I17 shock absorbing layer made of guanine). Figure 5 shows Ta directly on the PC disk board.
ke recording layer is formed on the optical information recording disk.
It is a graph showing the change over time in the signal level ratio when a W reproduction laser beam is irradiated. In these graphs, the O mark is the information signal level ratio from the recording layer, the X mark is the tracking signal level ratio from the pregroove, and the Δ mark is the SM
The O mark indicates the read signal level ratio from the VFO section.

ここで、信号レベル比とは、初期の信号レベルに対する
測定すべき信号レベルの比をいう、つまり。
Here, the signal level ratio refers to the ratio of the signal level to be measured to the initial signal level, that is.

信号レベル比が1に近いほど信号レベルの変化が少ない
ことになる。
The closer the signal level ratio is to 1, the smaller the change in signal level will be.

これらのグラフから明らかなように1本発明の第6″A
施例のかかる光情報記録ディスクは、1.5mWの再生
用レーザビームを10時間照射したのちにおいても信号
レベル比の変化が最大で±5%以内であるのに対して、
熱衝撃緩和層が形成されていない光情報記録ディスクに
おいては、同様の条件の下で士(15〜25)%もの信
号レベル比の変化があり、本発明の第2実施例のかかる
光情報記録ディスクは、再生用レーザビームの繰り返し
照射に対するディスク基板の耐熱変形性が改善されてい
ることが判る。
As is clear from these graphs, 1.6″A of the present invention
In the optical information recording disk according to the embodiment, even after being irradiated with a 1.5 mW reproduction laser beam for 10 hours, the change in signal level ratio was within ±5% at most.
In an optical information recording disk in which a thermal shock mitigation layer is not formed, there is a change in signal level ratio of 15 to 25% under similar conditions, and such an optical information recording disk according to the second embodiment of the present invention It can be seen that the disk substrate has improved thermal deformation resistance against repeated irradiation with a reproducing laser beam.

第6図及び第7図は、上記した第1実施例乃至第7実施
例の光情報記録ディスクにレーザビームを照射すること
によって開設されるピットの変調度と、熱mt fRl
i’lU和層3が形層3れていない従来の光情報v!、
録ディスクにレーザビームを照射することによって開設
されろピットの変調度の比較を示す。ただし、記録用レ
ーザビームは波長が830nmのものを使用し、ディス
クを1200rpmにて回転駆動した。このグラフにお
いて、横軸は記録用レーザパワー(膜面パワー)を示し
、R軸は変調度を示す。ここで、ピットの変調度とは、
ピットの大きさ、即ちピットの開き易さを示す度数であ
って、ピットが開設されていない部分の反射率をA、記
録膜が形成されていない部分の反射率&B、所定のレー
ザパワーを照射することによってrA設されたピットの
部分の反射率をXとした場合、(A−X)/ (A−B
)をもって表わされるものをいう。
FIGS. 6 and 7 show the modulation degree of pits created by irradiating the optical information recording disks of the first to seventh embodiments with a laser beam, and the heat mt fRl.
Conventional optical information v! where i'lU sum layer 3 is not formed layer 3! ,
A comparison of the degree of modulation of pits created by irradiating a recording disk with a laser beam is shown. However, a recording laser beam with a wavelength of 830 nm was used, and the disk was rotated at 1200 rpm. In this graph, the horizontal axis indicates recording laser power (film surface power), and the R axis indicates modulation degree. Here, the modulation degree of the pit is
The size of the pit, that is, the frequency that indicates the ease with which the pit opens, is A, the reflectance of the part where no pit is formed, and the reflectance &B of the part where no recording film is formed, and irradiation with a predetermined laser power. If the reflectance of the pit portion where rA is set by
).

この図から明らかなように、熱衝!!緩和M3が形成さ
れた本発明の光情報記録ディスクは、いずれも熱衝!!
緩和層3が開設されていない従来品に対して一定パワー
のレーザパワーに対する変調度が大きく、ピットが開設
され易いことが判る。また、本発明品のうちでは、ポリ
四フッ化エチレン製の熱衝gRa和層を200Å以上の
厚さにスパッタ形成した第3実施例、第4実施例、第5
実施例の光情報記録ディスクが特に優れ、以下、グニア
ンの真空蒸着膜を用いたもの、炭化水素のプラスマ重合
膜を用いたものの順で、ピットが開き易いことが判った
。さらに、各レーザパワーに対する変調度の差は、低パ
ワーのレーザビームに対するほど大きく1通常この種の
光情報記録ディスクを駆動するディスクドライブに搭載
される20mW(記録膜面上のパワーi6mW〜8mW
)のレーザに対して特に有効であることが判った。
As you can see from this picture, it's hot! ! The optical information recording disk of the present invention on which relaxed M3 is formed is a hot hit! !
It can be seen that the degree of modulation with respect to a constant laser power is large compared to the conventional product in which the relaxation layer 3 is not formed, and pits are easily formed. In addition, among the products of the present invention, the third, fourth, and fifth embodiments each have a heat-impacted gRa sum layer made of polytetrafluoroethylene sputtered to a thickness of 200 Å or more.
It was found that the optical information recording disks of Examples were particularly excellent, and pits were more likely to open in the following order: disks using Gunian's vacuum-deposited film and disks using hydrocarbon plasma polymerized film. Furthermore, the difference in the degree of modulation for each laser power is larger for a laser beam with a lower power.1 Normally, the power on the recording film surface is 6 mW to 8 mW, which is installed in a disk drive that drives this type of optical information recording disk.
) was found to be particularly effective for lasers.

尚、本発明の要旨は、ディスク基板と記録層の間にディ
スク基板よりも耐熱性に優れると共に記録層よりも融点
または分解温度が低く、かつ熱伝導率が低い物質から成
る光透過性の熱衝aS!和層を設けた点に存するのであ
って、熱衝撃緩和層を構成する材料が上記実施例に掲げ
たものに限定されるものではない。
The gist of the present invention is to provide a light-transmitting heat-transmitting material between the disc substrate and the recording layer, which is made of a material that has better heat resistance than the disc substrate, has a lower melting point or decomposition temperature than the recording layer, and has a lower thermal conductivity. Shock aS! However, the material constituting the thermal shock mitigation layer is not limited to those listed in the above embodiments.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように1本発明の光情報記録ディスクは、
ディスク基板と記録層の間にディスク基板よりも耐熱性
に優れると共に記録層よりも融点または分解温度が低く
、かつ熱伝導率が低い物質から成る光透過性の熱11j
f!!緩和層を設けたので、再生用レーザビーム照射時
の熱がディスク基板の凹凸パターン形成面に伝達され難
くなり、ディスク基板に転写された凹凸パターンが熱的
変形してCN比が時間の経過とともに劣化することがな
い。
As explained above, the optical information recording disk of the present invention has the following features:
Between the disk substrate and the recording layer is a light-transmitting heat layer 11j made of a material that has better heat resistance than the disk substrate, has a lower melting point or decomposition temperature, and has lower thermal conductivity than the recording layer.
f! ! Since the relaxation layer is provided, the heat during irradiation with the reproduction laser beam is difficult to be transferred to the uneven pattern forming surface of the disk substrate, and the uneven pattern transferred to the disk substrate is thermally deformed, causing the CN ratio to decrease over time. Never deteriorates.

また、この熱衝!Ia和層は、記録層の融解温度よりも
低い温度で融解または分解するものを用いたので、記録
用レーザビームを照射したとき記録層の熱的変形を促進
し、記録感度を低下することがない。
Also, this passion! Since the Ia sum layer was made of a material that melts or decomposes at a temperature lower than the melting temperature of the recording layer, it does not promote thermal deformation of the recording layer when irradiated with a recording laser beam and reduce recording sensitivity. do not have.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明にかかる光情報記録ディスクの概略を示
す断面図、第2図(a)(b)は本発明にかかる光情報
記録ディスクの耐熱変形性を示す波形図であって、この
うち第2図(a)は再生用レーザビーム照射前における
SM部からの読み出し信号波形を示す波形図、第2図(
b)は1.5mWの再生用レーザビームを10時間照射
したのちにおけるSM部からの読み出し信号波形を示す
波形図。 第3図(a )(b )は熱[r!!!緩和層が形成さ
れていない光情報記録ディスクの耐熱変形性を示す波形
図であって、このうち第3図(a)は再生用レーザビー
ム照射前におけるSM部からの読み出し信号波形を示す
波形図、第3図(b)は1.5mWの再生用レーザビー
ムを10時間照射したのちにおけるSM部からの読み出
し信号波形を示す波形図、第4図は本発明の光情報記録
ディスクから読み出される信号レベル比の経時変化の一
例を示すグラフ。 第5図は熱衝撃緩和層が形成されていない光情報記録デ
ィスクから読み出される信号レベル比の経時変化を示す
グラフ、第6図及び第7図は本発明にかかる光情報記録
ディスク及び公知例の光情報記録ディスクの変調度の比
較を示すグラフ、第8図は従来知られている光情報記録
ディスクの一例を示す拡大断面図である。 1:ディスク基板、2:凹凸パターン、3:熱衝ffi
緩和層、4:記録層 第1図 1 °ディスク基板 2)凹凸パターン 3゛熱衝ll膿和1 42録層 哨間/分 囲間/分 (%) 師 舗 丘 第7図 手続上【l正帯(自発) 昭和61年 5月IO日
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing the optical information recording disk according to the present invention, and FIGS. 2(a) and 2(b) are waveform diagrams showing the heat deformation resistance of the optical information recording disk according to the present invention. Of these, FIG. 2(a) is a waveform diagram showing the readout signal waveform from the SM section before irradiation with the reproduction laser beam;
b) is a waveform diagram showing the read signal waveform from the SM section after irradiation with a 1.5 mW reproduction laser beam for 10 hours. Figure 3 (a) and (b) show the heat [r! ! ! FIG. 3A is a waveform diagram showing the thermal deformation resistance of an optical information recording disk in which a relaxation layer is not formed, of which FIG. , FIG. 3(b) is a waveform diagram showing the readout signal waveform from the SM section after 10 hours of irradiation with a 1.5mW reproduction laser beam, and FIG. 4 is a waveform diagram showing the signal readout from the optical information recording disk of the present invention. A graph showing an example of a change in level ratio over time. FIG. 5 is a graph showing changes over time in the signal level ratio read from an optical information recording disk on which a thermal shock mitigation layer is not formed, and FIGS. 6 and 7 are graphs showing optical information recording disks according to the present invention and known examples. A graph showing a comparison of modulation degrees of optical information recording disks, and FIG. 8 is an enlarged sectional view showing an example of a conventionally known optical information recording disk. 1: disk substrate, 2: uneven pattern, 3: thermal shock ffi
Relaxation layer, 4: Recording layer Fig. 1 Disc substrate 2) Concave and convex pattern 3 Thermal shock 1 42 Recording layer interval/min Encircle interval/min (%) Teacher Oka Fig. 7 Procedure [l Regular belt (voluntary) May IO date, 1985

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)トラッキング情報に対応するプリグルーブ及びア
ドレス信号に対応するプリビツト等の凹凸パターンが形
成されたディスク基板の当該凹凸パターン形成面にヒー
トモード用記録材料から成る記録層を形成して成る光情
報記録ディスクにおいて、上記ディスク基板と上記記録
層との間に、上記ディスク基板よりも耐熱性に優れると
共に上記記録層よりも融点または分解温度が低く、かつ
熱伝導率が低い物質から成る光透過性の熱衝撃緩和層を
設けたことを特徴とする光情報記録ディスク。
(1) Optical information obtained by forming a recording layer made of a heat mode recording material on the surface of a disk substrate on which a concavo-convex pattern is formed, such as a pre-groove corresponding to tracking information and a pre-bit corresponding to an address signal. In the recording disk, a light transmitting material is provided between the disk substrate and the recording layer, and is made of a material that has better heat resistance than the disk substrate, has a lower melting point or decomposition temperature than the recording layer, and has a lower thermal conductivity. 1. An optical information recording disk characterized by being provided with a thermal shock mitigation layer.
(2)特許請求の範囲第1項記載の光情報記録ディスク
において、熱衝撃緩和層が110℃以上の耐熱性と、5
W/mK以下の熱伝導率を有する物質から形成されてい
ることを特徴とする光情報記録ディスク。
(2) In the optical information recording disk according to claim 1, the thermal shock mitigation layer has a heat resistance of 110° C. or higher;
An optical information recording disk characterized in that it is formed from a material having a thermal conductivity of W/mK or less.
(3)ディスク基板がPMMAまたはPCまたはエポキ
シから形成され、記録層がTeを主成分とする合金にて
形成された特許請求の範囲第1項及び第2項記載の光情
報記録ディスクにおいて、熱衝撃緩和層がポリ四フッ化
エチレン、グアニン、プラズマ重合法による炭化水素膜
、ポリエチレン、メチルクロライドから選択された少な
くとも1種の有機材料から形成されていることを特徴と
する光情報記録ディスク。
(3) In the optical information recording disk according to claims 1 and 2, the disk substrate is made of PMMA, PC, or epoxy, and the recording layer is made of an alloy containing Te as a main component. 1. An optical information recording disk characterized in that the impact relaxation layer is formed from at least one organic material selected from polytetrafluoroethylene, guanine, a hydrocarbon film produced by plasma polymerization, polyethylene, and methyl chloride.
(4)特許請求の範囲第1項乃至第3項記載の光情報記
録ディスクにおいて、熱衝撃緩和層が真空蒸着法、スパ
ッタ法、プラズマ重合法から選択された薄膜形成手段に
よつて形成されていることを特徴とする光情報記録ディ
スク。
(4) In the optical information recording disk according to claims 1 to 3, the thermal shock mitigation layer is formed by a thin film forming method selected from vacuum evaporation, sputtering, and plasma polymerization. An optical information recording disc characterized by:
(5)特許請求の範囲第1項乃至第3項記載の光情報記
録ディスクにおいて、熱衝撃緩和層の厚さを200Å以
上としたことを特徴とする光情報記録ディスク。
(5) An optical information recording disk according to claims 1 to 3, characterized in that the thickness of the thermal shock mitigation layer is 200 Å or more.
JP61059437A 1985-12-09 1986-03-19 Optical information recording disk Pending JPS62219245A (en)

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DE8686116999T DE3683362D1 (en) 1985-12-09 1986-12-06 MANUFACTURING METHOD FOR AN OPTICAL RECORDING MEDIUM.
EP19860116999 EP0227981B1 (en) 1985-12-09 1986-12-06 Production method of an optical recording medium
US07/246,925 US4908250A (en) 1985-12-09 1988-09-19 Optical recording medium and production method thereof
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