JPS62216245A - Detector for directivity of wafer - Google Patents

Detector for directivity of wafer

Info

Publication number
JPS62216245A
JPS62216245A JP61058832A JP5883286A JPS62216245A JP S62216245 A JPS62216245 A JP S62216245A JP 61058832 A JP61058832 A JP 61058832A JP 5883286 A JP5883286 A JP 5883286A JP S62216245 A JPS62216245 A JP S62216245A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
semiconductor wafer
contact
movement
arms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP61058832A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0727958B2 (en
Inventor
Akira Kawaguchi
章 川口
Hiromasa Shiyoubutani
菖蒲谷 浩正
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Metal Corp
Original Assignee
Mitsubishi Metal Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Metal Corp filed Critical Mitsubishi Metal Corp
Priority to JP61058832A priority Critical patent/JPH0727958B2/en
Publication of JPS62216245A publication Critical patent/JPS62216245A/en
Publication of JPH0727958B2 publication Critical patent/JPH0727958B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To form the titled detector in simple constitution without using an image sensor, and to reduce maintenance and inspection works by providing a means shifting a wafer, a contact finger and a means measuring the movement of the contact finger. CONSTITUTION:A directional-property detector is installed to a positioning device 6 positioning a semiconductor wafer 5, and a pair of clamping arms (moving means) 10, 10 are arranged to the lower section of a frame 9 so as to hold the semiconductor wafer 5. Downward projected contact fingers 20 are positioned at positions slightly forward of fixed rollers 14 and fastened in the lower end sections of arms 16, and constituted of small-gage wires made of steel. A flat section 5a is brought into contact with the contact fingers 20, 20 by transporting the semiconductor wafer 5 to the fixed roller 14, 14 side, and the arms 16, 16 are turned in the direction of the arrow B together with the contact fingers 20, 20. A measuring means measuring the movement of the contact fingers 20, 20 is provided. Accordingly, the directional-property detector can be shaped in a simple constitution, cost thereof is reduced, and maintenance and inspection work can be lightened.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、側面の一部に平坦部(いわゆるオリエンテ
ィションフラット)が形成された半導体ウェーハの方向
性を検出する検出装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a detection device for detecting the orientation of a semiconductor wafer having a flat portion (so-called orientation flat) formed on a part of its side surface.

[従来の技術] 一般に、円形状の半導体ウェーハには、その結晶方位に
合わせて平坦部が形成されている。このような半導体ウ
ェーハを、倣い方式による外周研削装置に供給し、外周
研削や面取り加工を行う場合には、半導体ウェーハの平
坦部の方向性の精度が外周研削後の製品の合否を決定付
ける極めて重要な条件となる。そこで、従来においては
、半導体ウェーハを外周研削装置へ供給する際に、半導
体ウェーハの芯出しと、平坦部の周方向の位置決めを行
うとともに、位置決めの際に平坦部の方向性を検出し、
所定の精度で位置決めされた半導体ウェーハのみを供給
するようにして外周研削の加工不良の発生を防止するよ
うにしている。
[Prior Art] Generally, a circular semiconductor wafer has a flat portion formed in accordance with its crystal orientation. When such a semiconductor wafer is supplied to a peripheral grinding device using a copying method to perform peripheral grinding or chamfering, the accuracy of the directionality of the flat part of the semiconductor wafer is extremely important as it determines the acceptability of the product after peripheral grinding. This is an important condition. Therefore, conventionally, when supplying a semiconductor wafer to a peripheral grinding device, the semiconductor wafer is centered and the flat part is positioned in the circumferential direction, and the directionality of the flat part is detected during positioning.
By supplying only semiconductor wafers that have been positioned with a predetermined accuracy, processing defects during peripheral grinding are prevented from occurring.

第4図は、そのようなウェーハの方向性検出装置として
、先に出願された特開昭60−109242号公報のも
のを示した図である。
FIG. 4 is a diagram showing such a wafer directionality detection device as disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 109242/1983, which was previously filed.

この図に示す方向性検出装置は、水平方向へ移動可能に
設けられたアームlと、このアームの先端部下側に回転
可能に支持された吸着パッド2と、この吸着パッド2の
下方に、周方向へ90°の角度をもって互いに離間した
2個の光学式イメージセンサ3.4とを備えて構成した
ものであって、平坦部5aを有する半導体ウェーハ5を
吸着バッド2によってイメージセンサ3.4の上方で保
持し、これを一回転させることにより、イメージセンサ
3.4によって認識される受光画素数の変化を記憶演算
し、これによって、平坦部5aの方向性を検出すること
ができるようになっている。
The directionality detection device shown in this figure consists of an arm l that is movable in the horizontal direction, a suction pad 2 that is rotatably supported under the tip of this arm, and a circumference below the suction pad 2. The optical image sensor 3.4 is configured to include two optical image sensors 3.4 spaced apart from each other at an angle of 90° in the direction, and a semiconductor wafer 5 having a flat portion 5a is held between the image sensors 3.4 by a suction pad 2. By holding it above and rotating it once, changes in the number of light-receiving pixels recognized by the image sensor 3.4 are memorized and calculated, thereby making it possible to detect the directionality of the flat portion 5a. ing.

[発明が解決しようとする問題点コ ところで、上記構成の方向性検出装置では、高価なイメ
ージセンサや、その受光画素数の変化を記憶演算する複
雑な制御装置が必要となり、装置全体としてかなり割高
になるばかりでなく、イメージセンサを常に正常に働か
せるために、その受光部の清掃等の保守点検作業を頻繁
に行わなければならないという問題があった。
[Problems to be solved by the invention] By the way, the directionality detection device with the above configuration requires an expensive image sensor and a complicated control device that stores and calculates changes in the number of light-receiving pixels, making the device as a whole quite expensive. In addition, there is a problem in that maintenance and inspection work such as cleaning of the light receiving section must be performed frequently in order to keep the image sensor functioning normally.

[発明の目的コ この発明は、上記問題を解決するためになされたもので
、イメージセンサを用いることなく簡易な構成とするこ
とができ、したがって、安価なものとすることができる
のはもちろんのこと、保守点検作業を軽減することがで
きるウェーハの方向性検出装置を提供することを目的と
する。
[Purpose of the Invention] This invention has been made to solve the above problems, and can have a simple configuration without using an image sensor, and therefore can be made at low cost. Another object of the present invention is to provide a wafer orientation detection device that can reduce maintenance and inspection work.

[問題点を解決するための手段] この発明のウェーハの方向性検出装置は、互いに離間し
た一対のストッパーと、この一対のストッパーに向って
ウェーハを移動させる移動手段と、ストッパーとウェー
ハとの間に配置され、ウェーハの移動方向に移動可能に
設けられた触手と、この触手の移動量を測定する測定手
段とを備えて構成したものである。
[Means for Solving the Problems] The wafer orientation detection device of the present invention includes a pair of stoppers spaced apart from each other, a moving means for moving the wafer toward the pair of stoppers, and a mechanism between the stopper and the wafer. The tentacle is disposed in the wafer and is movable in the direction of movement of the wafer, and a measuring means for measuring the amount of movement of the tentacle.

[実施例コ 第1図ないし第3図はこの発明の一実施例を示す図であ
る。これらの図に示すウェーハの方向性検出装置は、半
導体ウェーハ5の位置決めを行う位置決め装置6に設け
られたものであって、フィーダ7の上面に載置され、サ
イドクランプローラ8・8によって位置決めされる半導
体ウェーハ5の方向性を修正するとともに、修正後の半
導体ウアーム5の方向性を検出することができるように
構成されている。
Embodiment FIGS. 1 to 3 are diagrams showing an embodiment of the present invention. The wafer orientation detection device shown in these figures is provided in a positioning device 6 for positioning a semiconductor wafer 5, and is placed on the top surface of a feeder 7 and positioned by side clamp rollers 8. The device is configured to be able to correct the directionality of the semiconductor wafer 5 and detect the directionality of the semiconductor arm 5 after the correction.

第1図において符号9は、骨組みとなるフレームである
。フレーム9の下部には、半導体ウェーハ5を挾むよう
に上下に離間した一対のクランプアーム(移動手段)l
O・10が、長手方向を前後方向(第1図中矢印A−B
方向)へ向けて配置されている。これらクランプアーム
10・10は、互いに接近離間する方向へ移動可能に、
かつ前後方向へ移動可能に構成されている。また、クラ
ンプアーム10−10の先端部には、互いの端面を向か
い合わせたクランプローラ11がそれぞれ回転自在に支
持されている。クランプローラ11は、半導体ウェーハ
5を把持するものであって、その互いに向かい合った端
面には、ゴムからなる0リング12が固定され、半導体
ウェーハ5を傷付けることなく確実に把持することがで
きるようになっている。
In FIG. 1, reference numeral 9 is a frame that serves as a skeleton. At the bottom of the frame 9, a pair of clamp arms (moving means) l are vertically spaced apart so as to sandwich the semiconductor wafer 5.
O.10 is oriented in the longitudinal direction in the front-rear direction (arrow A-B in Fig. 1).
direction). These clamp arms 10 are movable toward and away from each other,
It is also configured to be movable in the front and rear directions. Furthermore, clamp rollers 11 are rotatably supported at the distal ends of the clamp arms 10-10, with their end surfaces facing each other. The clamp roller 11 is for gripping the semiconductor wafer 5, and O-rings 12 made of rubber are fixed to the end faces facing each other, so that the clamp roller 11 can grip the semiconductor wafer 5 reliably without damaging it. It has become.

また、フレーム9の先端部下面には、支持具13・13
が上記クランプアームlOの左右両側に相位置させて配
置されている。そしてこれら支持具13・13の下端部
には、軸線を上下方向へ向けた固定ローラ(ストッパー
)14が回転自在に支持されている。固定ローラ14は
、半導体ウェーハ5の平坦部5aの両端部が当接せしめ
られることにより、半導体ウェーハ5の円周方向の位置
決めをするものである。また、支持具13の中間部には
、先端部を支持具13の前方へ突出させた近接距離計(
測定手段)15が配置されている。
In addition, supports 13 and 13 are provided on the lower surface of the tip of the frame 9.
are arranged on both the left and right sides of the clamp arm IO. A fixed roller (stopper) 14 whose axis is vertically oriented is rotatably supported at the lower ends of these supports 13, 13. The fixed roller 14 positions the semiconductor wafer 5 in the circumferential direction by abutting both ends of the flat portion 5a of the semiconductor wafer 5. Further, in the middle part of the support 13, a proximity distance meter (
Measuring means) 15 are arranged.

さらに、フレーム9の先端部の左右両側には、長手方向
を上下方向へ向け、かつ先端部を上記近接距離計15の
前方に位置させたアームI6・16がベアリング17を
介して回転自在に支持されている。そして、アーム16
の上端部には、バランスウェイト18が固定されている
。バランスウェイト18は、アーム16を矢印Aの回転
方向へ付勢するものである。また、バランスウェイト1
8の後端部には、先端部をフレーム9の上面に当接させ
たねじ部材19がねじ込まれており、これによってアー
ム16の先端部が近接距離計15から一定寸法を離間さ
せることができ、また、その寸法を調節することができ
るようになっている。
Further, on both left and right sides of the tip of the frame 9, arms I6 and 16, whose longitudinal direction is directed in the vertical direction and whose tips are positioned in front of the proximity rangefinder 15, are rotatably supported via bearings 17. has been done. And arm 16
A balance weight 18 is fixed to the upper end of. The balance weight 18 biases the arm 16 in the rotational direction of arrow A. Also, balance weight 1
A screw member 19 whose tip is in contact with the upper surface of the frame 9 is screwed into the rear end of the arm 8, thereby allowing the tip of the arm 16 to be separated from the proximity distance meter 15 by a certain distance. , and its dimensions can be adjusted.

そして、離間した寸法は、近接距離計15によって常に
測定されるようになっている。
The spaced dimension is always measured by the proximity distance meter 15.

さらに、アーム16の下端部には、下方に突出する触手
20が上記固定ローラ14よりもやや前方に位置させて
固定されている。この触手20は、鋼製の細線によって
構成されている。このような構成のもとに、半導体ウェ
ーハ5を固定ローラ14・14側へ移動させることによ
って、平坦部5aが触手20・20に当接し、アーム1
6・16が触手20・20とともに矢印B方向へ回転す
るようになっている。
Furthermore, a tentacle 20 projecting downward is fixed to the lower end of the arm 16 so as to be positioned slightly forward of the fixed roller 14. This tentacle 20 is made of a thin steel wire. Based on this configuration, by moving the semiconductor wafer 5 toward the fixed rollers 14, the flat portions 5a come into contact with the tentacles 20, and the arms 1
6 and 16 rotate in the direction of arrow B together with the tentacles 20 and 20.

次に、上記構成のウェーハの方向性検出装置によって、
半導体ウェーハ5の方向性を検出する手順を、位置決め
の手順とともに説明する。
Next, the wafer directionality detection device configured as described above is used to detect
The procedure for detecting the directionality of the semiconductor wafer 5 will be explained together with the positioning procedure.

まず、クランプアームlO・10を後退させ、位置決め
装置6のサイドクランプローラ8・8を開いた状態にし
ておき、予め荒位置決めされた半導体ウェーハ5をその
平坦部5aが固定ローラl上に載置する。次に、クラン
プアーム10・10を前進させ、半導体ウェーハ5の平
坦部5a近傍を把持する。
First, the clamp arms 10 and 10 are moved back to open the side clamp rollers 8 and 8 of the positioning device 6, and the semiconductor wafer 5, which has been roughly positioned in advance, is placed on the fixed roller 1 with its flat portion 5a. do. Next, the clamp arms 10 are moved forward to grip the semiconductor wafer 5 near the flat portion 5a.

次に、クランプアーム10−10を後退させ、平坦部5
aの両側部を固定ローラ14・14側へ引き寄せる。す
ると、触手20・20が平坦部5aに当接してアーム1
6・16がバランスウェイト18・18の付勢力に抗し
て矢印B方向へ回転する。ここで、平坦部5aの一側部
が固定ローラ14に当接せず、半導体ウェーハ5の方向
性に狂いが生じていれば、一方のアーム16が他方より
も前方に突出していることになり、近接距離計15の測
定結果によってそれを認識することができる。そして、
そのような場合には、次工程への搬送を停止し、警報が
発せられるようになっている。
Next, the clamp arm 10-10 is moved backward, and the flat part 5
Pull both sides of a towards the fixed rollers 14. Then, the tentacles 20 come into contact with the flat part 5a and the arm 1
6 and 16 rotate in the direction of arrow B against the urging force of balance weights 18 and 18. Here, if one side of the flat portion 5a does not come into contact with the fixed roller 14 and the orientation of the semiconductor wafer 5 is misaligned, one arm 16 will protrude more forward than the other. This can be recognized from the measurement results of the proximity range finder 15. and,
In such a case, transport to the next process is stopped and an alarm is issued.

上記構成のウェーハの方向性検出装置においては、アー
ム16の先端部までの距離を近接距離計15によって測
定することにより、半導体ウェーハ5の方向性を検出す
るように構成しているので、装置全体として非常にコン
パクトとなり、安価なものとすることができる。また、
構成が簡単なため故障が少なく、保守点検作業を軽減す
ることができる。さらに、バランスウェイト18によっ
てアーム16の先端部を前方に付勢しているので、半導
体ウェーハ5の微少な変位に対して非常に小さい力で、
かつ、確実に追従してその変位量を認識することができ
、極めて高い精度と信頼性を得ることができる。また、
触手20を鋼製の細線によって構成しているので、前工
程において平坦部5aにうねり等の非直線形状が生じた
ような場合に、それらを検知することができる。
In the wafer directionality detection device having the above configuration, the directionality of the semiconductor wafer 5 is detected by measuring the distance to the tip of the arm 16 using the proximity distance meter 15, so the entire device It can be made very compact and inexpensive. Also,
Since the configuration is simple, there are fewer failures and maintenance and inspection work can be reduced. Furthermore, since the tip of the arm 16 is biased forward by the balance weight 18, even a minute displacement of the semiconductor wafer 5 can be handled with a very small force.
In addition, it is possible to reliably track and recognize the displacement amount, and extremely high accuracy and reliability can be obtained. Also,
Since the tentacles 20 are made of thin steel wires, if non-linear shapes such as undulations occur in the flat portion 5a in the previous process, they can be detected.

なお、上記実施例では、触手20を回転自在なアーム1
6に固定しているが、このような構成に限るものではな
く、たとえば、前後方向に摺動自在に設けられた支持部
材の先端部に固定してもよい。また、近接距離計15に
ついては、一般に市販されている磁気変位センサ、静電
容量式変位センサ、光学式変位センサ等の汎用品、さら
に、製品許容値の合否判定だけに限る場合には、近接ス
イッヂや接触式のリミットスイッチ等を用いてもよい。
In addition, in the above embodiment, the tentacle 20 is attached to the rotatable arm 1.
6, but the configuration is not limited to this, and for example, it may be fixed to the tip of a support member provided slidably in the front-rear direction. Regarding the proximity distance meter 15, general-purpose products such as magnetic displacement sensors, capacitance displacement sensors, and optical displacement sensors that are generally commercially available, as well as proximity distance meters 15, are available. A switch, contact type limit switch, etc. may also be used.

[発明の効果] 以上説明したようにこの発明のウェーハの方向性検出装
置では、互いに離間した一対のストッパーと、この一対
のストッパーに向ってウェーハを移動させる移動手段と
、ストッパーとウェーハとの間に配置され、ウェーハの
移動方向に移動可能に設けられた触手と、この触手の移
動量を測定する測定手段とを備えて構成しているので、
簡易な構成とすることができ、したがって、安価なもの
とすることができるのはもちろんのこと、保守点検作業
を軽減することができるという効果が得られる。
[Effects of the Invention] As explained above, in the wafer orientation detection device of the present invention, there is a pair of stoppers spaced apart from each other, a moving means for moving the wafer toward the pair of stoppers, and a movement mechanism between the stopper and the wafer. Since the tentacle is disposed in the wafer and is movable in the direction of movement of the wafer, and a measuring means for measuring the amount of movement of the tentacle,
It is possible to have a simple configuration, and therefore, not only can it be made inexpensive, but also the effect that maintenance and inspection work can be reduced can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図ないし第3図は本発明の一実施例を示す図であっ
て、第1図はウェーハの方向性検出装置を示す平面図、
第2図は第1図の■方向矢視図、第3図は第2図の■−
■線視線面断面図4図は従来の方向性検出装置の一例を
示す平面図である。 5・・・・・・半導体ウェーハ(ウェーハ)、5a・・
・・・平坦部、 10・・・・・・クランプアーム(移動手段)、14・
・・・・・固定ローラ(ストッパー)、15・・・・・
・近接距離計(測定手段)。
1 to 3 are diagrams showing an embodiment of the present invention, in which FIG. 1 is a plan view showing a wafer directionality detection device;
Figure 2 is a view from the ■ direction arrow in Figure 1, and Figure 3 is a view of ■ - in Figure 2.
(2) Linear cross-sectional view FIG. 4 is a plan view showing an example of a conventional directionality detection device. 5... Semiconductor wafer (wafer), 5a...
... Flat part, 10 ... Clamp arm (moving means), 14.
...Fixed roller (stopper), 15...
- Proximity distance meter (measurement means).

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 円形状をなすウェーハの周側面に形成された平坦部の向
きを検出するウェーハの方向性検出装置であって、互い
に離間した一対のストッパーと、この一対のストッパー
に向って上記ウェーハを移動させる移動手段と、上記ス
トッパーと上記ウェーハとの間に配置され、ウェーハの
移動方向に移動可能に設けられた触手と、この触手の移
動量を測定する測定手段とを備えてなることを特徴とす
るウェーハの方向性検出装置。
A wafer directionality detection device that detects the orientation of a flat portion formed on the circumferential side of a circular wafer, which includes a pair of stoppers spaced apart from each other, and movement that moves the wafer toward the pair of stoppers. A wafer comprising: means; a tentacle disposed between the stopper and the wafer so as to be movable in the direction of movement of the wafer; and a measuring means for measuring the amount of movement of the tentacle. direction detection device.
JP61058832A 1986-03-17 1986-03-17 Wafer directionality detector Expired - Lifetime JPH0727958B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61058832A JPH0727958B2 (en) 1986-03-17 1986-03-17 Wafer directionality detector

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61058832A JPH0727958B2 (en) 1986-03-17 1986-03-17 Wafer directionality detector

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62216245A true JPS62216245A (en) 1987-09-22
JPH0727958B2 JPH0727958B2 (en) 1995-03-29

Family

ID=13095620

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61058832A Expired - Lifetime JPH0727958B2 (en) 1986-03-17 1986-03-17 Wafer directionality detector

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0727958B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000005761A1 (en) * 1998-07-24 2000-02-03 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Wafer holding hand

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59145037U (en) * 1983-03-17 1984-09-28 日本電子株式会社 Wafer alignment device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59145037U (en) * 1983-03-17 1984-09-28 日本電子株式会社 Wafer alignment device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000005761A1 (en) * 1998-07-24 2000-02-03 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Wafer holding hand
US6216883B1 (en) 1998-07-24 2001-04-17 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Wafer holding hand

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0727958B2 (en) 1995-03-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4944650A (en) Apparatus for detecting and centering wafer
US5822213A (en) Method and apparatus for determining the center and orientation of a wafer-like object
US20050073676A1 (en) Backside contamination inspection device
KR0185782B1 (en) Wafer diameter/sectional shape measuring machine
JP2611251B2 (en) Substrate transfer device
EP1090716A3 (en) Target-lens-shape measuring device, and eyeglass-lens processing apparatus having the same
US3879993A (en) Method and apparatus for inspecting glass containers
JPS62216245A (en) Detector for directivity of wafer
JPS5858405A (en) Measuring device for plate body
JPS62162342A (en) Wafer alignment device
JP4391901B2 (en) Dimension measuring method and apparatus for annular measuring object
CN111272085A (en) Automatic detection device and method for center thickness of optical part
JPS5939702B2 (en) Measuring device for moving objects
JPH1163907A (en) Work size measuring equipment
JPH11150172A (en) Transfer equipment
JPH0725614Y2 (en) Plate thickness detector
JP2000040735A (en) Substrate transfer device
JPS6171383A (en) Wafer position detector
JP2728555B2 (en) Automatic thickness gauge
JPS62188642A (en) Wafer positioning device
JPS5763408A (en) Flatness detector
JPH0652753B2 (en) Substrate loading / unloading device
JPWO2022054605A5 (en)
JPH0288117A (en) Attitude correcting device
JPH04279810A (en) Warping measuring device