JPS62188642A - Wafer positioning device - Google Patents

Wafer positioning device

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JPS62188642A
JPS62188642A JP2723286A JP2723286A JPS62188642A JP S62188642 A JPS62188642 A JP S62188642A JP 2723286 A JP2723286 A JP 2723286A JP 2723286 A JP2723286 A JP 2723286A JP S62188642 A JPS62188642 A JP S62188642A
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wafer
semiconductor wafer
rollers
flat portion
clamp
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Akira Kawaguchi
章 川口
Hiromasa Shiyoubuya
菖蒲谷 浩正
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Mitsubishi Metal Corp
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Mitsubishi Metal Corp
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Abstract

PURPOSE:To obtain high positioning accuracy, by equipping a circumferential positioning mechanism with stoppers, which are adapted to two places in the flat part of a wafer, and clamping arms which hold the vicinity of said flat part to adapt it to the stoppers. CONSTITUTION:A vertically separated pair of clamping arm holders 23 are rotatably supported through axes 24. Clamping rollers 26 opposing their end faces to each other are rotatably supported to point end parts of these clamping arm holders 23 through two clamping arms 25. A wafer 3 is clamped by these clamping rollers 26. While supporting fixtures 28 are arranged in both right and left sides in point end parts of the clamping arms 25, and fixing rollers (stoppers) 29 are rotatably supported to bottom end parts of these supporting fixtures 28. High accurate positioning in the circumferential direction can be performed by adapting both ends in a flat part of the wafer to these fixing rollers 29.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、側面の一部に平坦部(オリエンティシンフ
ラット)が形成された半導体ウェーハの位置を決める位
置決め装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a positioning device for determining the position of a semiconductor wafer having a flat portion (orienting flat) formed on a part of its side surface.

[従来の技術] 一般に、半導体ウェーハには、その結晶方位に合わせて
平坦部が形成されている。このような半導体ウェーハを
外周研磨装置等の自動加工機に自動的に供給して研磨加
工を行うためには、供給の際に、半導体ウェーハの芯出
しのみならず円周方向の位置決めを高い精度で行わなけ
ればならない。
[Prior Art] Generally, a semiconductor wafer has a flat portion formed in accordance with its crystal orientation. In order to automatically feed such semiconductor wafers to automatic processing machines such as peripheral polishing equipment for polishing, it is necessary not only to center the semiconductor wafers but also to position them in the circumferential direction with high accuracy. must be done.

そこで、従来においては、予め半導体ウェーハの円周方
向の位置決めを平坦部を基準として行っておき、第5図
ないし第7図にそれぞれ示すような位置決め゛装置によ
って芯出しを行っている。
Conventionally, therefore, the semiconductor wafer is positioned in the circumferential direction in advance using the flat portion as a reference, and centering is performed using positioning devices as shown in FIGS. 5 to 7, respectively.

第5図に示す位置決め装置は、互いに向かい合った部分
に半円状の凹曲面部lが形成された一対のアーム2・2
を接近離間する方向へ移動自在に配置して構成したもの
であって、凹曲面部l・1によって半導体ウェーハ(ウ
ェーハ)3を側方から挾んで芯出しを行うようになって
いる。また、第6図に示す位置決め装置は、第5図に示
すアーム2の凹曲面部lの縁部に、回転自在なローラ4
・・・を設けたものである。さらに、第7図に示す位置
決め装置は、4つのローラ5・・・を同一円周上に配置
し、これらローラ5・・・を半径方向へ移動自在に構成
したものであて、ローラ5・・・の中に載置された半導
体ウェーハ3を4方向から挾んで芯出しを行うようにな
っている。
The positioning device shown in FIG.
are arranged so as to be movable toward and away from each other, and centering is performed by sandwiching the semiconductor wafer (wafer) 3 from the sides by the concave curved surface portions 1 and 1. Further, the positioning device shown in FIG. 6 has a rotatable roller 4 attached to the edge of the concave curved surface portion l of the arm 2 shown in FIG.
...is established. Further, the positioning device shown in FIG. 7 has four rollers 5 arranged on the same circumference and configured to be movable in the radial direction. Centering is performed by pinching the semiconductor wafer 3 placed inside from four directions.

ところが、上記各位置決め装置では、芯出しの際の半導
体ウェーハ3の移動によって、半導体ウェーハ3が円周
方向にも移動し、円周方向の位置決め精度が悪いという
問題があった。
However, each of the above positioning devices has a problem in that the movement of the semiconductor wafer 3 during centering causes the semiconductor wafer 3 to also move in the circumferential direction, resulting in poor positioning accuracy in the circumferential direction.

そこで、本出願人は、第8図に示すように、互いに離間
した一対の固定ローラ6・6(ストッパー)と、これら
固定ローラ6・6を結ぶ線の垂直二等分線に沿って移動
自在な移動ローラ7とからなる円周位置決め機構を備え
た位置決め装置を考えた。
Therefore, as shown in FIG. 8, the present applicant has developed a pair of fixed rollers 6, 6 (stoppers) spaced apart from each other, and a movable roller that can be freely moved along a perpendicular bisector of a line connecting these fixed rollers 6, 6. We have considered a positioning device equipped with a circumferential positioning mechanism consisting of a moving roller 7.

ここで、円周位置決め機構は、移動ローラ7によって、
半導体ウェーハ3を固定ローラ6・6側へ移動させ、平
坦部8の両側を固定ローラ6・6に当接さ什ることによ
り半導体ウェーハ3の円周方向の位置決めを行うことが
できるようになっている。すなわち、平坦部8の一側が
一方の固定ローラ6に当接すると、この固定ローラ6と
の接点を支点として半導体ウェーハ3を他方の固定ロー
ラ6側へ回転させようとする分力T1が働き、半導体ウ
ェーハ3が回転する。そして、平坦部8の他側が他方の
固定ローラ6に当接して半導体ウェーハ3の円周方向の
位置が決まるのである。
Here, the circumferential positioning mechanism uses the moving roller 7 to
By moving the semiconductor wafer 3 toward the fixed rollers 6 and 6 and bringing both sides of the flat portion 8 into contact with the fixed rollers 6 and 6, the semiconductor wafer 3 can be positioned in the circumferential direction. ing. That is, when one side of the flat portion 8 comes into contact with one of the fixed rollers 6, a component force T1 acts to rotate the semiconductor wafer 3 toward the other fixed roller 6 using the point of contact with the fixed roller 6 as a fulcrum. The semiconductor wafer 3 rotates. Then, the other side of the flat portion 8 comes into contact with the other fixed roller 6, and the position of the semiconductor wafer 3 in the circumferential direction is determined.

[発明が解決しようとする問題点コ ところが、上記位置決め装置では、移動ローラ7によっ
て半導体ウェーハ3の側面を押してこれを移動させる構
成であるため、移動ローラ7と固定ローラ6とが大きく
離間している。このため、半導体ウェーハ3における力
の作用点と支点を結んだ線と、移動ローラ7による力の
作用方向とかなす角度θが小さくなり、半導体ウェーハ
3を回転させようとする分力T、が、移動ローラ7の移
動方向へ向って作用する力T。に比べてかなり小さくな
る。この結果、半導体ウェーハ3が充分に回転せず、高
い位置決め精度を得る事ができない。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in the positioning device described above, since the moving roller 7 is configured to push the side surface of the semiconductor wafer 3 and move it, the moving roller 7 and the fixed roller 6 are separated by a large distance. There is. Therefore, the angle θ between the line connecting the point of force application and the fulcrum on the semiconductor wafer 3 and the direction of force application by the moving roller 7 becomes smaller, and the component force T that attempts to rotate the semiconductor wafer 3 becomes A force T that acts on the moving roller 7 in the moving direction. It is considerably smaller than . As a result, the semiconductor wafer 3 does not rotate sufficiently, making it impossible to obtain high positioning accuracy.

また、半導体ウェーハ3を充分に回転させるために、移
動ローラ7による力T。を大きくすると、半導体ウェー
ハ3の外周部が移動ローラ7や固定ローラ6によって傷
付けられてしまうという問題があった。
In addition, in order to rotate the semiconductor wafer 3 sufficiently, the force T exerted by the moving roller 7 is applied. If the diameter of the semiconductor wafer 3 is increased, there is a problem in that the outer peripheral portion of the semiconductor wafer 3 is damaged by the moving roller 7 and the fixed roller 6.

[発明の目的コ この発明は、上記問題を解決するためになされたもので
、半導体ウェーハの外周部を傷付けることなく、その平
坦部を固定ローラに確実に当接させることができ、円周
方向の位置決めを高い精度で行うことができるウェーハ
位置決め装置を提供することを目的とする。
[Purpose of the Invention] This invention was made to solve the above problem, and it is possible to reliably bring the flat part of the semiconductor wafer into contact with the fixed roller without damaging the outer peripheral part of the semiconductor wafer, and to An object of the present invention is to provide a wafer positioning device that can position a wafer with high precision.

[問題点を解決するための手段] この発明のウェーハ位置決め装置は、ウェーハをその軸
線と直行する方向へ移動させてウェーハの半径方向左右
の位置を・決める芯出し機構と、ウェーハの円周方向に
関する位置と半径方向左右の位置を決める円周位置決め
機構とを備え、上記円周位置決め機構を、ウェーハの平
坦部の互いに離間した少なくとも2箇所に当接するスト
ッパーと、上記平坦部近傍を把持してウェーハを上記ス
トッパー側へ引き寄せ、平坦部をストッパーに当接させ
るクランプアームとを備えた構成としたものである。
[Means for Solving the Problems] The wafer positioning device of the present invention includes a centering mechanism that moves the wafer in a direction perpendicular to its axis to determine the left and right positions of the wafer in the radial direction, and a circumferential positioning mechanism that determines a position relative to the wafer and a radial left and right position, and the circumferential positioning mechanism is configured to include a stopper that abuts at least two locations spaced apart from each other on a flat part of the wafer, and a stopper that grips the vicinity of the flat part. The clamp arm draws the wafer toward the stopper and brings the flat part into contact with the stopper.

[作用] 上記構成のウェーハ位置決め装置にあっては、クランプ
アームを半導体ウェーハの平坦部近傍を把持するように
構成しているので、半導体ウェーハにおける力の作用点
と平坦部とストッパーの一端部との接点(支点)とを結
んだ線と、クランプアームによる力の作用方向とがなす
角度か大きくなり、これに伴って、半導体ウェーハをス
トッパーの他端部側へ回転させようとする分力が大きく
なる。これによって、平坦部の両端部をストッパーに確
実に当接させることができる。
[Function] In the wafer positioning device configured as described above, the clamp arm is configured to grip the vicinity of the flat part of the semiconductor wafer, so that the point of force application on the semiconductor wafer, the flat part, and one end of the stopper are The angle between the line connecting the contact point (fulcrum) of the clamp arm and the direction in which the force is applied by the clamp arm increases, and as a result, the component force that tries to rotate the semiconductor wafer toward the other end of the stopper increases. growing. Thereby, both ends of the flat portion can be reliably brought into contact with the stopper.

[実施例コ 第1図ないし第4図はこの発明の一実施例を示す図であ
る。これらの図に示すウェーハ位置決め装置は、芯出し
機構9と円周位置決め機構10とから概略構成されてい
る。
Embodiment FIGS. 1 to 4 are diagrams showing an embodiment of the present invention. The wafer positioning apparatus shown in these figures is roughly composed of a centering mechanism 9 and a circumferential positioning mechanism 10.

まず、芯出し機構9について説明すると、第1図におい
て符号11はフレームである。フレーム11は、骨組み
となる枠体11aと、枠体11aの中央部に設けられた
機台11bとから構成されている。枠体11aには、軸
線を左右方向に向けた2本の軸12・12が前後方向へ
離間して設けられている。これら軸12・12には、機
台11bを挾むように位置せしめられた一対のアームホ
ルダ!3・13が軸線方向へ摺動自在に支持されている
。そして、各アームホルダI3の側部には、長手方向を
前後方向に向けるとともに、一端部を前方に突出させた
サイドクランプアームI4がそれぞれ固定されている。
First, the centering mechanism 9 will be explained. In FIG. 1, reference numeral 11 is a frame. The frame 11 includes a frame body 11a serving as a framework, and a machine stand 11b provided at the center of the frame body 11a. The frame body 11a is provided with two shafts 12 with their axes oriented in the left-right direction and spaced apart from each other in the front-rear direction. A pair of arm holders are positioned on these shafts 12, 12 so as to sandwich the machine base 11b! 3 and 13 are supported slidably in the axial direction. A side clamp arm I4 whose longitudinal direction is oriented in the front-rear direction and whose one end protrudes forward is fixed to the side of each arm holder I3.

さらに、サイドクランプアーム14の先端部下面には、
軸線を上下方向(第1図において紙面と直交する方向)
に向けたサイドクランプローラ15が回転自在に支持さ
れている。
Furthermore, on the lower surface of the tip of the side clamp arm 14,
The axis in the vertical direction (direction perpendicular to the paper surface in Figure 1)
A side clamp roller 15 is rotatably supported.

次に、上記アームホルダ13・13を左右方向へ移動さ
せる構成について説明すると、枠体11aの後端部両側
には、軸線を前後方向に向けたプーリー16・I6が回
転自在に支持されており、これらプーリー16・16に
はワイヤー17か巻回されている。そして、ワイヤー1
7の各プーリー16・16間に位置する上側の部分には
、一方のアームホルダ13の後端部が固定されている。
Next, to explain the configuration for moving the arm holders 13 in the left-right direction, pulleys 16 and I6, whose axes are directed in the front-back direction, are rotatably supported on both sides of the rear end of the frame 11a. A wire 17 is wound around these pulleys 16. And wire 1
The rear end portion of one arm holder 13 is fixed to the upper portion located between the pulleys 16 .

また、ワイヤー17の下側の部分には、他方のアームホ
ルダ13の後端部が固定されている。また、機台zbの
上面には、長手方向を左右方向に向けたピストンシリン
ダ18が配置されている。そしてこのピストンシリンダ
I8のピストンロッド19は、一方のアームホルダ13
の側部に固定されている。
Further, the rear end portion of the other arm holder 13 is fixed to the lower portion of the wire 17. Moreover, a piston cylinder 18 whose longitudinal direction is oriented in the left-right direction is arranged on the upper surface of the machine base zb. The piston rod 19 of this piston cylinder I8 is attached to one arm holder 13.
is fixed to the side of the

このような構成の芯出し機構9では、ピストンロッド■
9を左右方向へ移動させることにより、各サイドクラン
プアーム14・14を左右方向へ接近離間するように移
動させることができ、しかも、各サイドクランプアーム
I4・!4をそれぞれ同一寸法移動させることができる
ようになっている。
In the centering mechanism 9 having such a configuration, the piston rod ■
9 in the left-right direction, the side clamp arms 14 can be moved toward and away from each other in the left-right direction, and each side clamp arm I4.! 4 can be moved by the same dimension.

次に、円周位置決め機構IOについて説明すると、第1
図において符号20は、スライドフレームである。スラ
イドフレーム20は枠体11aに前後方向へ摺動自在に
支持されている。このスライドフレーム20には、長手
方向を前後方向に向けたピストンシリンダ21が、その
ピストンロッド22の先端部を枠体11aに固定されて
取り付けられている。このピストンシリンダ21は、ス
ライドフレーム20を前後方向へ移動させるためのもの
である。
Next, to explain the circumferential positioning mechanism IO, the first
In the figure, reference numeral 20 is a slide frame. The slide frame 20 is supported by the frame 11a so as to be slidable in the front and rear directions. A piston cylinder 21 whose longitudinal direction is oriented in the front-rear direction is attached to the slide frame 20, with the tip of a piston rod 22 fixed to the frame 11a. This piston cylinder 21 is for moving the slide frame 20 in the front-back direction.

また、スライドフレーム20の上面には、第2図に示す
ように、上下に離間した一対のクランプアームホルダ2
3・23が軸24・24を介して回転自在に支持されて
いる。これらクランプアームホルダ23・23の先端部
には、2本のクランプアーム25・25を介して、互い
の端部を向かい合わせたクランプローラ26がそれぞれ
回転自在に支持されている。ここで、上記クランプアー
ム25は、弾性変形可能な鋼線からなるものであって、
これが左右方向へ向ってたイつむことにより、クランプ
ローラ26が左右方向へ若干移動することができるよう
になっている。また、クランプローラ26は、半導体ウ
ェーハ3を把持するものであって、その互いに向かい合
った端面には、第3図に示すように、ゴムからなる0リ
ング27が固定され、半導体ウェーハ3を傷付けること
なく確実に把持することができるようになっている。
Further, on the upper surface of the slide frame 20, as shown in FIG.
3 and 23 are rotatably supported via shafts 24 and 24. At the tips of these clamp arm holders 23, 23, clamp rollers 26, whose ends face each other, are rotatably supported via two clamp arms 25, 25, respectively. Here, the clamp arm 25 is made of elastically deformable steel wire,
By folding this in the left-right direction, the clamp roller 26 can be moved slightly in the left-right direction. Further, the clamp roller 26 is for gripping the semiconductor wafer 3, and O-rings 27 made of rubber are fixed to the mutually facing end surfaces thereof, as shown in FIG. It is designed so that it can be held securely without any problems.

また、上記クランプアーム25の先端部の左右両側には
、支持具28・28が配置されている。
Furthermore, supports 28 are arranged on both left and right sides of the tip of the clamp arm 25.

そしてこれら支持具28の下端部には、軸線を上下方向
に向けた固定ローラ(ストッパー)29が回転自在に支
持されている。固定ローラ29は、半導体ウェーハ3の
平坦部8の両端部が当接せしめられることにより、半導
体ウェーハ3の円周方向の位置決めをするものである。
A fixed roller (stopper) 29 whose axis is vertically oriented is rotatably supported at the lower ends of these supports 28. The fixed roller 29 positions the semiconductor wafer 3 in the circumferential direction by abutting both ends of the flat portion 8 of the semiconductor wafer 3 .

次に、上記クランプアームホルダ23を駆動する構成に
ついて説明すると、スライドフレーム20の側部にはピ
ストンシリンダ30が固定されている。一方、上側のク
ランプアームホルダ23の後端部には、一端部を下方へ
突出させたリンクア−ム31が固定されている。そして
、このリンクアーム3Iの先端部と上記ピストンシリン
ダ3゜のピストンロッド32とは上下方向へ移動自在に
連結されている。さらに、上下のクランプアームホルダ
23・23には、図示しない伝動機構が設けられており
、上側のクランプアームホルダ23が軸24を中心とし
て回転すると、下側のクランプアームホルダ23も回転
し、クランプローラ26・26が接近離間する方向に移
動するようになっている。
Next, the configuration for driving the clamp arm holder 23 will be described. A piston cylinder 30 is fixed to the side of the slide frame 20. On the other hand, a link arm 31 having one end projecting downward is fixed to the rear end of the upper clamp arm holder 23. The tip of the link arm 3I and the piston rod 32 of the piston cylinder 3° are connected to be movable in the vertical direction. Furthermore, the upper and lower clamp arm holders 23 are provided with a transmission mechanism (not shown), and when the upper clamp arm holder 23 rotates around the shaft 24, the lower clamp arm holder 23 also rotates, and the clamp The rollers 26 and 26 move in the direction of approaching and separating.

また、このような構成の円周位置決め機構IOには、半
導体ウェーハ3の円周方向の位置を確認する検出機構が
設けられている。すなわち、第3図および第4図におい
て符号33は、揺動アームである。揺動アーム33は、
機台11bに長手方向を上下方向へ向けて前後方向へ回
転自在に支持されたものであって、その下端部には下方
に突出する触手34が固定されている。一方、上記支持
具28には、先端を揺動アーム33側に向けたセンサ3
5か配置されている。センサ35は、その先端面から揺
動アーム33の側面までの距離を測定するものである。
Further, the circumferential positioning mechanism IO having such a configuration is provided with a detection mechanism for confirming the position of the semiconductor wafer 3 in the circumferential direction. That is, in FIGS. 3 and 4, the reference numeral 33 is a swing arm. The swing arm 33 is
It is supported by the machine stand 11b so as to be rotatable in the front and back directions with its longitudinal direction facing up and down, and a tentacle 34 that projects downward is fixed to the lower end thereof. On the other hand, the support 28 has a sensor 3 with its tip facing the swing arm 33 side.
5 are arranged. The sensor 35 measures the distance from its tip surface to the side surface of the swing arm 33.

そして、触手34の先端部に半導体ウェーハ3の平坦部
8が当接し、触手34が固定ローラ29側へ移動すると
、それに伴って揺動アーム33がセンサ35側へ回転し
、これによって、半導体ウェーハ3の平坦部8が固定ロ
ーラ29・29に当接したかどうかを確認することがで
きるようになっている。
When the flat part 8 of the semiconductor wafer 3 comes into contact with the tip of the tentacle 34 and the tentacle 34 moves toward the fixed roller 29, the swinging arm 33 rotates toward the sensor 35, thereby causing the semiconductor wafer to It is now possible to check whether the flat portion 8 of No. 3 has come into contact with the fixed rollers 29, 29.

なお、図中符号36で示すものは、フィーダであって、
上記構成のウェーハ位置決め装置によって位置決めされ
た半導体ウェーハを、真空吸引によってその表面に固定
し、後工程に搬送することができるように構成されてい
る。
In addition, what is indicated by the reference numeral 36 in the figure is a feeder,
The semiconductor wafer positioned by the wafer positioning device configured as described above is fixed to the surface of the semiconductor wafer by vacuum suction, and can be transported to a subsequent process.

次に、上記構成のウェーハ位置決め装置によって半導体
ウェーハ3の位置決めを行う動作について説明する。ま
ず、クランプローラ26・26を後退させ、サイドクラ
ンプローラ15・15を開いた状態にしておき、予め荒
位置決めされた半導体ウェーハ3をその平坦部8が固定
ローラ29・29の数mrRffJ方に位置するように
フィーダ36上に載置する。次に、クランプローラ26
・26を前進させ、半導体ウェーハ3の平坦部8近傍を
把持する。次にクランプローラ26・26を後退させ、
平坦部8を固定ローラ29・29側に引き寄せる。する
と、平坦部8の一側が一方の固定ローラ29に当接し、
その接点を支点として半導体ウェーハ8を他方の固定ロ
ーラ29側へ回転させようとする分力が生じ、半導体ウ
ェーハ8が回転する。そして、平坦部8の他側が他方の
固定ローラ29に当接し、半導体ウェーハ3の円周方向
の位置と半径方向面後の位置が決まる。
Next, the operation of positioning the semiconductor wafer 3 using the wafer positioning apparatus having the above configuration will be described. First, the clamp rollers 26, 26 are moved back to leave the side clamp rollers 15, 15 open, and the semiconductor wafer 3, which has been roughly positioned in advance, is positioned so that its flat part 8 is in the direction of the number mrRffJ of the fixed rollers 29, 29. Place it on the feeder 36 so that it does. Next, the clamp roller 26
- 26 is advanced and the vicinity of the flat portion 8 of the semiconductor wafer 3 is gripped. Next, the clamp rollers 26, 26 are moved back,
Pull the flat portion 8 toward the fixed rollers 29. Then, one side of the flat portion 8 comes into contact with one of the fixed rollers 29,
A component force is generated that attempts to rotate the semiconductor wafer 8 toward the other fixed roller 29 using the contact point as a fulcrum, and the semiconductor wafer 8 rotates. Then, the other side of the flat portion 8 comes into contact with the other fixed roller 29, and the position of the semiconductor wafer 3 in the circumferential direction and the rear position in the radial direction are determined.

次に、クランプローラ26・26を一時的に解放し、サ
イドクランプローラI5・15によって半導体ウェーハ
3を側方から挾み、半導体ウェーハ3の半径方向左右の
位置決めを行う。次に、サイドクランプローラ15・!
5を開き、かつ、クランプローラ26・26によって半
導体ウェーハ3の引き寄せを行いながら再度サイドクラ
ンプローラ15・15を閉じ、最終的な半導体ウェーハ
3の位置決めを行う。このとき、クランプローラ26・
26は、半導体ウェーハ3の移動に伴って左右方向へ若
干移動する。
Next, the clamp rollers 26 and 26 are temporarily released, and the semiconductor wafer 3 is sandwiched from the sides by the side clamp rollers I5 and 15, and the semiconductor wafer 3 is positioned laterally in the radial direction. Next, side clamp roller 15!
5 is opened, and while the semiconductor wafer 3 is being pulled by the clamp rollers 26, 26, the side clamp rollers 15, 15 are closed again, and the semiconductor wafer 3 is finally positioned. At this time, the clamp roller 26
26 moves slightly in the left and right direction as the semiconductor wafer 3 moves.

次に、半導体ウェーハ3を真空吸引によってフィ。Next, the semiconductor wafer 3 is finned by vacuum suction.

−ダ36に固定した後、クランプローラ26・26およ
びサイドクランプローラ15・15を開き、フィーダ3
6を移動させて半導体ウェーハ3を後工程へ搬出する。
- After fixing to the feeder 36, open the clamp rollers 26, 26 and side clamp rollers 15, 15, and
6 is moved and the semiconductor wafer 3 is carried out to a subsequent process.

上記ウェーハ位置決め装置にあっては、サイドクランプ
ローラ15・15によって半導体ウェーハ3を左右方向
から挾むように構成しているので、半導体ウェーハ3の
半径方向左右の位置決めを高い精度で行うことができる
In the above wafer positioning device, the semiconductor wafer 3 is clamped from the left and right by the side clamp rollers 15, so that the semiconductor wafer 3 can be positioned in the radial direction left and right with high accuracy.

また、クランプローラ26・26によって半導体ウェー
ハ3の平坦部8近傍を把持し、これを固定ローラ29・
29側へ引き寄せるように構成しているので、半導体ウ
ェーハ3に作用する力の作用点と平坦部8の一側と一方
の固定ローラ29との接点(支点)を結んだ直線と、ク
ランプローラ26・26による力の作用方向とがなす角
度が大きくなっている。この結果、半導体ウェーハ3を
他方の固定ローラ29側へ回転させようとする分力が大
きくなり、平坦部8の両側を固定ローラ29・29に小
さい力で、かつ、確実に当接させることができる。した
がって、半導体ウェーハ3の外周部を傷付けることなく
、その半径方向前後の位置決めはもちろんのこと、円周
方向においても高い位置決め精度を得ることができる。
Further, the vicinity of the flat portion 8 of the semiconductor wafer 3 is gripped by the clamp rollers 26 and fixed rollers 29 and
29 side, the straight line connecting the point of application of the force acting on the semiconductor wafer 3 and the point of contact (fulcrum) between one side of the flat portion 8 and one of the fixed rollers 29 and the clamp roller 26・The angle formed by the direction of force exerted by 26 is large. As a result, the component force that tries to rotate the semiconductor wafer 3 toward the other fixed roller 29 increases, making it possible to bring both sides of the flat portion 8 into contact with the fixed rollers 29 with a small force and reliably. can. Therefore, high positioning accuracy can be achieved not only in the radial direction of the wafer 3 but also in its circumferential direction without damaging the outer peripheral portion of the semiconductor wafer 3.

また、上記実施例では、半導体ウェーハ3の円周方向の
位置を確認する検出機構が設けられているので、半導体
ウェーハ3の品質に対して高い信頼性を得ることができ
る。
Further, in the above embodiment, since a detection mechanism for confirming the position of the semiconductor wafer 3 in the circumferential direction is provided, high reliability regarding the quality of the semiconductor wafer 3 can be obtained.

なお、上記実施例では、2個の固定ローラ29・29に
平坦部8を当接させるように構成しているが、このよう
な構成に限るものではなく、例えば、1枚の板体からな
るストッパーや、離間した2個のストッパーを配置して
もよい。
In the above embodiment, the flat portion 8 is configured to be in contact with the two fixed rollers 29, 29, but the configuration is not limited to this. A stopper or two spaced stoppers may be arranged.

[発明の効果コ 以上説明したようにこの発明のウェーハ位置決め装置は
、ウェーハをその軸線と直行する方向へ移動させてウェ
ーハの半径方向左右の位置を決める芯出し機構と、ウェ
ーハの円周方向に関する位置と半径方向前後の位置を決
める円周位置決め機構とを備え、上記円周位置決め機構
を、ウェーハの平坦部の少なくとも2箇所に当接するス
トッパーと、上記平坦部近傍を把持してウェーハを上記
′ストッパー側へ引き寄せ、平坦部をストッパーに当接
させるクランプアームとを備えた構成としているので、
半導体ウェーハの平坦部を小さい力で、かつ、確実にス
トッパーに当接させることができる。したがって、半径
方向左右の位置決めを高い精度で行うことができるのは
もちろんのこと、半導体ウェーハの外周部を傷付けるこ
となく、半径方向前後および円周方向においても高い位
置決め精度を得ることができるという効果が得られる。
[Effects of the Invention] As explained above, the wafer positioning device of the present invention includes a centering mechanism that moves the wafer in a direction perpendicular to its axis to determine the left and right positions of the wafer in the radial direction, and a centering mechanism that moves the wafer in a direction perpendicular to its axis and a centering mechanism that a circumferential positioning mechanism that determines the position and the radial front and rear positions; It has a structure that includes a clamp arm that pulls it toward the stopper and brings the flat part into contact with the stopper.
The flat part of the semiconductor wafer can be brought into contact with the stopper reliably with a small force. Therefore, not only can positioning in the left and right radial directions be performed with high precision, but also high positioning precision can be obtained in the radial direction forward and backward and circumferential directions without damaging the outer periphery of the semiconductor wafer. is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図ないし第4図は本発明の一実施例を示す図であっ
て、第1図はウェーハ位置決め装置を示す平面図、第2
図は第1図の■−■線視線面断面図3図は第1図の■方
向矢視図、第4図は第3図のIV−IV線線断断面図第
5図ないし第8図はそれぞれ従来のウェーハ位置決め装
置の例を示す平面図である。 3・・・・・・半導体ウェーハ(ウェーハ)、6・・・
・・・固定ローラ(ストツバ−)、8・・・・・・平坦
部、 9・・・・・・芯出し機構、 lO・・・・・・円周位置決め機構、 25・・・・・・クランプアーム、
1 to 4 are views showing one embodiment of the present invention, in which FIG. 1 is a plan view showing a wafer positioning device, and FIG. 2 is a plan view showing a wafer positioning device.
Figure 3 is a cross-sectional view taken along the line ■-■ in Figure 1; Figure 4 is a cross-sectional view taken along the line IV--IV in Figure 3. Figures 5 through 8 are 2A and 2B are plan views showing examples of conventional wafer positioning devices, respectively. 3... Semiconductor wafer (wafer), 6...
...Fixed roller (stopper), 8...Flat portion, 9...Centering mechanism, lO...Circumferential positioning mechanism, 25... clamp arm,

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 側面の一部に平坦部が形成された円形状のウェーハの位
置決めを行う位置決め装置であって、上記ウェーハをそ
の軸線と直行する方向へ移動させてウェーハの半径方向
左右の位置を決める芯出し機構と、ウェーハの円周方向
に関する位置と半径方向前後の位置を決める円周位置決
め機構とを具備してなり、上記円周位置決め機構は、上
記平坦部の互いに離間した少なくとも2箇所に当接する
ストッパーと、上記平坦部近傍を把持してウェーハを上
記ストッパー側へ引き寄せ、平坦部をストッパーに当接
させるクランプアームとを備えていることを特徴とする
ウェーハ位置決め装置。
A positioning device that positions a circular wafer with a flat portion formed on a part of its side surface, the centering mechanism moving the wafer in a direction perpendicular to its axis to determine the radial left and right positions of the wafer. and a circumferential positioning mechanism that determines the position in the circumferential direction and the front and rear positions in the radial direction of the wafer, and the circumferential positioning mechanism includes a stopper that abuts on at least two locations spaced apart from each other on the flat portion; A wafer positioning device comprising: a clamp arm that grips the vicinity of the flat portion, draws the wafer toward the stopper, and brings the flat portion into contact with the stopper.
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