JPS62197936A - Manufacture of metal die for optical disk - Google Patents

Manufacture of metal die for optical disk

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JPS62197936A
JPS62197936A JP3749586A JP3749586A JPS62197936A JP S62197936 A JPS62197936 A JP S62197936A JP 3749586 A JP3749586 A JP 3749586A JP 3749586 A JP3749586 A JP 3749586A JP S62197936 A JPS62197936 A JP S62197936A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resist film
metal
mold
base body
etching
Prior art date
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Pending
Application number
JP3749586A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masahide Yagi
八木 正秀
Kenichiro Nakao
健一郎 中尾
Tamotsu Iida
保 飯田
Hiroshi Nagate
弘 長手
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Maxell Ltd
Original Assignee
Hitachi Maxell Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Publication of JPS62197936A publication Critical patent/JPS62197936A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To reduce the number of processes and to avoid the generation of warp, etc., at a metal die by using a metal soluble in an etching solution on a base body on which a resist film is formed and forming a relief pattern to the metallic base body in accordance with information signals. CONSTITUTION:A metal soluble in an etching solution used in etching process after cutting process is used as a base body 1A to which a resist film 2 is formed on the surface. Cutting is made on the resist film formed on the base body 1A to form a recessed part in which the surface of a metallic substrate is exposed by cutting. The metal on the bottom face side of the recessed part is etched to specified depth by an etching solution, and the resist film 2 remaining after etching process is removed to obtain a metal mold (stamper) 9 having desired uneven pattern only on the metallic base body 1A. Thus, conventional conductive film forming process and electrocast process can be omitted and the mold can be manufactured by small number of processes, and pattern transfer of high fidelity is made possible without causing the irregularity of thickness and warp, etc.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光ディスクを複製するための光ディスク用金
型の製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method of manufacturing an optical disc mold for duplicating an optical disc.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来より、ビデオディスク、コンパクトディスク、追記
型ディスク、光磁気ディスク等で代表される光ディスク
やその他の情報記録媒体の複製方法として、当該記録媒
体に記録される信号パターンとは逆のパターンの凹凸が
形成された金型に、例えば紫外線硬化型の如き記録転写
用樹脂を塗布し、しかる後、その表面に透明な基板を圧
着し、上記記録転写用樹脂を硬化することによって、上
記透明基板に所定の凹凸パターンが転写された樹脂層を
形成する方法が知られている。
Conventionally, as a method for duplicating optical disks and other information recording media such as video disks, compact disks, recordable disks, magneto-optical disks, etc., a method has been used to reproduce unevenness with a pattern opposite to the signal pattern recorded on the recording medium. A recording and transfer resin such as an ultraviolet curing type is applied to the formed mold, and then a transparent substrate is pressed onto the surface of the mold, and the recording and transfer resin is cured to form a predetermined shape on the transparent substrate. There is a known method for forming a resin layer onto which a concavo-convex pattern is transferred.

上記した記録媒体複製用の金型は、従来、第2図に示す
ような方法、手順によって作成されている。即ち、まず
ガラス等の基板IB上にレジスト膜2が均一の厚さに形
成されたディスク原盤を作成する〔第2図(A))、次
いで、このディスク原盤を回転駆動し、該ディスク原盤
に集光レンズ3を介して所定の情報信号やトラッキング
信号によって変調されたレーザ光4を照射して上記レジ
スト膜2を露光する〔第2図(B)〕1次いで該露光原
盤を現像処理して上記露光部分あるいは露光部分以外の
部分を除去し、上記情報信号に対応するビット5や上記
トラッキング情報に対応するグループを作成する[第2
図(C)]、次いで、該記録済み原盤の凸凹パターン形
成側の面に、金型を電鋳するための電極として、金属導
電@6を形成する〔第2図(D))、Lかる後、金属導
電膜6を陰極として該金属導電1)U6上に金型基材7
を所要の厚さに電鋳する〔第2図(E))、Il後に、
この電鋳#、7とともに上記導電#6を上記レジスト膜
の表面から離型することによって、凹凸パターンが反転
された所定の金型を得る〔第2図(F)] 。
The above-mentioned mold for recording medium duplication has conventionally been produced by the method and procedure shown in FIG. That is, first, a disk master is prepared on which a resist film 2 is formed to have a uniform thickness on a substrate IB made of glass or the like (FIG. 2 (A)), and then this disk master is driven to rotate. The resist film 2 is exposed by irradiating the laser beam 4 modulated by a predetermined information signal or tracking signal through a condensing lens 3 [FIG. 2(B)] 1. Next, the exposed master is developed. The exposed portion or the portion other than the exposed portion is removed, and bit 5 corresponding to the information signal and a group corresponding to the tracking information are created [Second
[Fig. 2 (C)], Next, a metal conductor @6 is formed as an electrode for electroforming the mold on the surface of the recorded master on the side where the concavo-convex pattern is formed [Fig. 2 (D)]. After that, a mold base material 7 is placed on the metal conductive layer 1) U6 using the metal conductive film 6 as a cathode.
After electroforming to the required thickness [Fig. 2 (E)],
By releasing the conductive material #6 from the surface of the resist film together with the electroforming #7, a predetermined mold having an inverted pattern of protrusions and recesses is obtained [FIG. 2(F)].

〔発明が解決しようとする問題点〕 ところで、従来の光ディスク用の金、型(スタンバ)の
製造方法では、第1に第1図(A)〜第1図(F)〕に
示すように工程数が多く、1枚のスタンパを製作するの
に長時間を要する。第2にピントの深さはレジスト膜厚
に依存することからビットの深さを所定の値とするため
にはレジス)1)9の厳密な制御が必要となる。第3に
レジスト膜は第1図(A)〜第1図(E)の工程中、基
体の表面に介在し、特に第1図(D)に示す導電膜形成
工程および第1図(E)に示す電鋳工程による後工程で
レジスト膜厚が徐々に変化するため、第1図(F)中、
8で示すビットエツジにブレを生じ、スタンパ9への転
写パターンが変化する。第4にスタンバ90本体は電鋳
層7からなるが、この電鋳ll17の応力によりスタン
バ9にそりが発生することからスタンパ9の平坦性が損
なわれる。この結果、そのスタンパ9により複製された
光ディスクの厚みムラが生じ、良好な記録再生特性を有
する情報記録媒体を得ることができない、第5にスタン
バ9を補強するために裏打材を接合すると、スタンパ9
の表面にしわが発生し、特にスタンバ9自体にそりが生
じている場合、その傾向が大きい。
[Problems to be Solved by the Invention] By the way, in the conventional manufacturing method of metal molds and molds (standbars) for optical discs, the first step is as shown in FIGS. 1(A) to 1(F). There are many stampers, and it takes a long time to manufacture one stamper. Secondly, since the depth of focus depends on the thickness of the resist film, strict control of the resist (1) and (9) is required in order to set the bit depth to a predetermined value. Thirdly, the resist film is interposed on the surface of the substrate during the steps shown in FIG. 1(A) to FIG. 1(E), especially in the conductive film forming step shown in FIG. Because the resist film thickness gradually changes in the post-electroforming process shown in Figure 1 (F),
The bit edge indicated by 8 becomes blurred, and the pattern transferred to the stamper 9 changes. Fourthly, although the main body of the stamper 90 is made of the electroformed layer 7, the stress of the electroformed layer 7 causes the stamper 9 to warp, thereby impairing the flatness of the stamper 9. As a result, the thickness of the optical disc reproduced by the stamper 9 becomes uneven, making it impossible to obtain an information recording medium with good recording and reproducing characteristics.Fifth, when a backing material is bonded to reinforce the stamper 9, the stamper 9
There is a strong tendency for wrinkles to occur on the surface of the stand bar 9, especially if the stand bar 9 itself is warped.

本発明の目的は、上記した従来技術の問題点を解消し、
少ない工程数で作成することができ、厚みムラやそり等
がなく忠実なパターン転写性を有する記録媒体用金型の
製造方法を提供することにある。
The purpose of the present invention is to solve the problems of the prior art described above,
It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a mold for a recording medium, which can be manufactured with a small number of steps, has no thickness unevenness, warpage, etc., and has faithful pattern transferability.

C問題点を解決するための手段〕 上記目的を達成するために本発明は、表面にレジスト膜
が形成される基体として、カッティング工程後のエウチ
イング工程に使用されるエツチインダ液に可溶な金属を
用い、この基体に形成されたレジスト膜にカッティング
を行い、カッティングによって上記金属の基板表面が露
出した凹部を形成し、この凹部の底面側の上記金属をエ
ッチインダ液により所定の深さにエッチイングし、エッ
チイング工程後に残存するレジスト膜を除去して、上記
金属の基体のみに所望の凹凸パターンを有する金型(ス
タンバ)を得るようにしたものである。
Means for Solving Problem C] In order to achieve the above object, the present invention uses a metal that is soluble in the etching indica solution used in the etching process after the cutting process as a substrate on which a resist film is formed. The resist film formed on the substrate is cut using the resist film, and a recess is formed by cutting to expose the surface of the metal substrate, and the metal on the bottom side of the recess is etched to a predetermined depth using an etch indica solution. , the resist film remaining after the etching process is removed to obtain a mold (standbar) having a desired uneven pattern only on the metal base.

したがって、本発明の製造方法において、従来のガラス
基板の代りに酸又はアルカリ等を主成分するエッチイン
グ液に可溶な金属の基体を用い、従来の導電膜形成工程
、電鋳工程を省略している。
Therefore, in the manufacturing method of the present invention, a metal substrate soluble in an etching solution containing acid or alkali as a main component is used instead of the conventional glass substrate, and the conventional conductive film forming process and electroforming process are omitted. ing.

〔実施例〕〔Example〕

第1図に本発明に係る光ディスク用金型の製造方法の工
程図を示す。
FIG. 1 shows a process diagram of a method for manufacturing an optical disk mold according to the present invention.

まず、レジストとの接着性を改善するための処理がなさ
れた基板IAの表面に、スピンナ塗布、デツピング等の
手段によりポジ型のレジスト@2を形成する〔第1図(
A))、ここで金属基体1人は、後工程で使用されるエ
ツチインダ液に可溶な金属からなる。エッチインダ液は
通常、酸又は、アルカリをそれぞれ主成分とする液から
なるので、アルカリを主成分とするエツチインダ液の場
合、金属基体IAはAl、sb又はPb等の金属で構成
され、酸を主成分とするエッチインダ液の場合、金属基
体lはFes Ni、、Cus Al、sb又はpb等
の金属で構成される。したがって金属基体IAを構成す
る金属は、後工程で使用されるエッチイング液によって
任意に選定される。
First, a positive resist@2 is formed on the surface of the substrate IA, which has been treated to improve adhesion with the resist, by means such as spinner coating and depping [Fig.
A)) Here, one metal substrate is made of a metal that is soluble in the etching indica solution used in the subsequent process. Etch indium liquid usually consists of a liquid whose main component is an acid or an alkali, so in the case of an etch indah liquid whose main component is an alkali, the metal substrate IA is composed of a metal such as Al, sb, or Pb, and the main component is an acid or an alkali. In the case of the etching inder liquid as a component, the metal substrate 1 is made of a metal such as Fes Ni, Cus Al, sb, or PB. Therefore, the metal constituting the metal base IA is arbitrarily selected depending on the etching solution used in the subsequent process.

次いで、レジスト膜2が形成されたディスク原盤を回転
駆動し、上記レジスト膜2に集光レンズ3を介して所定
の情報信号およびトラッキング信号によって変調された
レーザー光4を照射する〔第1図(B))、続いて、こ
の露光済みのディスク原盤を現像処理して、所定のグル
ープやピット5が形成させたディスク原盤を得る〔第1
図(C))、このとき、凹部の底面には金属基体lAが
露出される。すなわち、凹部の底面にレジスト膜2が残
存していると、金属基体IAを後記するエツチング時間
でエツチング時間できないためである0次にエツチング
時間 プ又はピットが所望の深さになるようにエッチイングす
る[第1図(D)]、このとき、グループ又はピットの
深さは、読み取りレーザーの波長λの1/8.1/4に
調整される。エツチングで形成するグループ又はピット
の深さは、エツチング時間を制御することによって調整
される。
Next, the disk master on which the resist film 2 has been formed is driven to rotate, and the resist film 2 is irradiated with a laser beam 4 modulated by a predetermined information signal and a tracking signal through a condensing lens 3 (see FIG. 1). B)) Next, this exposed disk master is subjected to a development process to obtain a disk master in which predetermined groups and pits 5 are formed [first step
(FIG. (C)), at this time, the metal base IA is exposed at the bottom of the recess. That is, if the resist film 2 remains on the bottom surface of the recess, the metal substrate IA cannot be etched in the etching time described later. [FIG. 1(D)] At this time, the depth of the group or pit is adjusted to 1/8.1/4 of the wavelength λ of the reading laser. The depth of the groups or pits formed by etching is adjusted by controlling the etching time.

次に金属基体IA上のレジスト膜2を従来法と同様な方
法で除去すると、表面に情報信号に従ったレリーフパタ
ーンを存する金型(スタンパ)9が形成される〔第1図
(E))。
Next, when the resist film 2 on the metal substrate IA is removed in the same manner as the conventional method, a mold (stamper) 9 having a relief pattern according to the information signal on the surface is formed [Fig. 1(E)] .

上記した金型の製造方法では、工程数は第1図(A)〜
第1図(E)に示す5工程で足り、従来の導電膜形成工
程および電鋳工程を省略することができる。ピット深さ
は、レジスト膜に依存することなく、エッチイング工程
時のエツチインダ液の組成、エツチング時間の管理、金
属基体IAの金属の選定等によって容易に達成される。
In the method for manufacturing the mold described above, the number of steps is as shown in Figure 1 (A) ~
The five steps shown in FIG. 1(E) are sufficient, and the conventional conductive film forming step and electroforming step can be omitted. The pit depth is not dependent on the resist film and is easily achieved by controlling the composition of the etch indica liquid during the etching process, controlling the etching time, selecting the metal of the metal base IA, etc.

また従来のようにレジスト膜上に導電性膜や電鋳膜に形
成される工程を有しないでレジスト膜厚の変化がほとん
どなく、したがってピットエツジにだれを生じることが
なく、忠実な転写パターンが得られる。さらに導電性膜
および電鋳層を形成する必要がないのでめっき応力によ
りスタンパにそりが生ずることがなく、基体自体の平坦
性を確保でき、複製されたディスクに厚みが生じない、
また従来は、スタンパは導電膜層と電鋳層によりその厚
みが決定され、スタンパの厚みを大きくするためには導
電膜層および電鋳層を大きくする必要があり、これらの
層を形成する工程に多くの時間を要する。
In addition, there is no process of forming a conductive film or electroformed film on the resist film as in conventional methods, so there is almost no change in the resist film thickness, so there is no drooping at pit edges, and a faithful transfer pattern can be obtained. It will be done. Furthermore, since there is no need to form a conductive film or an electroformed layer, the stamper does not warp due to plating stress, the flatness of the base itself can be ensured, and the duplicated disk does not have any thickness.
Conventionally, the thickness of the stamper was determined by the conductive film layer and the electroformed layer, and in order to increase the thickness of the stamper, it was necessary to increase the size of the conductive film layer and the electroformed layer, and the process of forming these layers was required. It takes a lot of time.

したがって、従来はスタンパを補強する場合、裏打材を
接合している。しかるに、本発明において、金属基板1
自体の厚みを、最終的に得られるスタンパの強度に対応
した厚みとすることができ、裏打材を敢えて接合する手
間を省くことができるとともに裏打材を接合したときに
生ずるスタンパのしわ等の弊害を未然に防止できる。
Therefore, conventionally, when reinforcing a stamper, a backing material is bonded. However, in the present invention, the metal substrate 1
The thickness of the stamper itself can be set to a thickness that corresponds to the strength of the final stamper, which eliminates the trouble of daringly joining the backing material, and also eliminates harmful effects such as wrinkles on the stamper that occur when the backing material is joined. can be prevented from occurring.

〔発明の効果〕 以上のように本発明によれば、レジスト膜が形成される
基体にエツチインダ液に可溶な金属を用い、この金属基
体に情報信号に従ったレリーフパターンを形成するので
、導電膜形成工程および電鋳工程を省略することができ
、これらの工程を省略できることからめつき応力により
金型(スタンパ)にそり等が発生することを回避できる
。またピットの深さはレジスト膜の膜厚に依存しないの
でレジスト膜厚の厳密な制御を要することなくピットエ
ツジにダレも生じることなく所望のパターンが得られる
。さらに金型を補強するための裏打材を接合する必要も
ない。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, a metal soluble in an etch indica liquid is used for the substrate on which a resist film is formed, and a relief pattern is formed in accordance with the information signal on this metal substrate, so that conductive The film forming step and the electroforming step can be omitted, and since these steps can be omitted, it is possible to avoid warping or the like in the mold (stamper) due to plating stress. Further, since the depth of the pit does not depend on the thickness of the resist film, a desired pattern can be obtained without sagging at the pit edges without requiring strict control of the resist film thickness. Furthermore, there is no need to bond a backing material to reinforce the mold.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図(A)〜(E)は本発明にかかる光ディスク用金
型の製造方法を示す工程図、第2図(A)〜(F)は従
来の記録媒体用金型の製造方法を示す工程図である。 IA・・・・・・金属基体、  IB・・・・・・基体
(ガラス)2・・・・・・レジスト膜、   3・・・
・・・集光レンズ、4・・・・・・レーザ光、    
5・・・・・・ピット、6・・・・・・導電膜層、  
  7・・・・・・電鋳層、8・・・・・・ピットエツ
ジ、  9・・・・・・金型(スタンパ)。 第1図    第2図 (F) 8 日 手続補正帯(自発) 昭和61年 4月7日
FIGS. 1(A) to (E) are process diagrams showing a method for manufacturing a mold for an optical disk according to the present invention, and FIGS. 2(A) to (F) show a conventional method for manufacturing a mold for a recording medium. It is a process diagram. IA...metal base, IB...substrate (glass) 2...resist film, 3...
... Condensing lens, 4... Laser light,
5... pit, 6... conductive film layer,
7...Electroformed layer, 8...Pit edge, 9...Mold (stamper). Figure 1 Figure 2 (F) 8-day procedural amendment band (voluntary) April 7, 1985

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)エッチング液に可溶な金属からなる基板の表面に
形成されたレジスト膜にカッティングを行う工程と、該
カッティング工程によつて上記基板表面が露出した凹部
をエッチイング液により所定の深さにエッチイングする
工程と、該エッチイング工程後に残存するレジスト膜を
除去する工程とからなることを特徴とする光ディスク用
金型の製造方法。
(1) A step of cutting a resist film formed on the surface of a substrate made of a metal soluble in an etching solution, and a recessed part where the substrate surface is exposed by the cutting step is cut to a predetermined depth with an etching solution. 1. A method for manufacturing a mold for an optical disk, comprising the steps of: etching the resist film; and removing the resist film remaining after the etching step.
(2)特許請求の範囲第(1)項記載において、エッチ
イング液がアルカリを主成分とし、上記基板がAl、S
b及びPbの群から選ばれた金属からなることを特徴と
する光ディスク用金型の製造方法。
(2) In claim (1), the etching solution contains an alkali as a main component, and the substrate is made of Al, S,
1. A method for manufacturing a mold for an optical disc, characterized in that the mold is made of a metal selected from the group consisting of Pb and Pb.
(3)特許請求の範囲第(1)項記載において、エッチ
イング液が酸を主成分とし、上記基板がFe、Ni、C
u、Al、Sb及びPbからなる群から選ばれた金属か
らなることを特徴とする光ディスク用金型の製造方法。
(3) In claim (1), the etching solution contains acid as a main component, and the substrate is made of Fe, Ni, or C.
1. A method for producing a mold for an optical disc, characterized in that the mold is made of a metal selected from the group consisting of u, Al, Sb, and Pb.
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