JPS62195907A - Surface acoustic wave element - Google Patents

Surface acoustic wave element

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JPS62195907A
JPS62195907A JP3799286A JP3799286A JPS62195907A JP S62195907 A JPS62195907 A JP S62195907A JP 3799286 A JP3799286 A JP 3799286A JP 3799286 A JP3799286 A JP 3799286A JP S62195907 A JPS62195907 A JP S62195907A
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JP
Japan
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layer
type semiconductor
semiconductor
surface acoustic
piezoelectric layer
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JP3799286A
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Japanese (ja)
Inventor
Suketsugu Yamamura
山村 祐嗣
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Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To improve the reliability and efficiency by providing a semiconductor layer including a hyper abrupt junction formed by an n(p) semiconductor and a p(n) semiconductor, a peizoelectric layer laminated on the semiconductor layer and >=2 electrodes formed on the piezoelectric layer. CONSTITUTION:The monolithic structure is provided, where the n(p) semiconductor layer 12, the p(n) semiconductor layer 14 and the piezoelectric layer 16 are arranged as layers in this order. Signal input and reference signal input interdigital electrode 20, 22 are arranged on the piezoelectric layer 16 in the lengthwise direction of the piezoelectric layer 16. The hyper abrupt junction 18 is formed between the semiconductor layers 12 and 14. A depletion layer capacitance (C) versus applied voltage (V) characteristic curve with a steep gradient is obtained from the junction 18, and since the depletion layer capacitance changes rapidly or remarkably when the applied electric field is changed slightly, the efficiency or sensitivity is improved. Since the monolithic structure is adopted, the high reliability is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は表面弾性波素子に関し、特にたとえば音響電
気コンボルバ、パラメトリンク発振器などに利用可能な
表面弾性波素子に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a surface acoustic wave device, and particularly to a surface acoustic wave device that can be used in, for example, an acoustoelectric convolver, a parametric link oscillator, and the like.

(従来技術) 表面弾性波素子はフィルタや発振器など種々利用される
が、その利用分野の1つに、たとえばスペクトラム拡散
(Spread Spectrum  : S S) 
1Jll信の受信系において拡散復調器として用いられ
る表面弾性波(SAW)コンボルバがある。sAwコン
ボルバは、基板両端のインクディジタルトランスデユー
サ(IDT)により発生したたとえば角周波数ω。、波
数におよび−にの表面弾性波が、互いにその基板中央方
向に伝播されて2つのトランスデユーサの間で相互作用
し、圧電体や半導体の持つ非線形作用によって波数O1
角周波数2ω。の弱い電界を生じるものである。
(Prior Art) Surface acoustic wave elements are used in various ways, such as filters and oscillators, and one of their applications is, for example, spread spectrum (SS).
There is a surface acoustic wave (SAW) convolver used as a spreading demodulator in a 1Jll signal reception system. The sAw convolver uses, for example, an angular frequency ω generated by ink digital transducers (IDTs) on both ends of the substrate. Surface acoustic waves with wave numbers of , and - are propagated toward the center of the substrate and interact between the two transducers, and the wave number of O1 increases due to the nonlinear action of the piezoelectric material and semiconductor.
Angular frequency 2ω. This produces a weak electric field.

第6図はこの発明の背景となる従来のエラスティックコ
ンボルバの一例を示す図解図である。エラスティックコ
ンボルバは圧電基板1上に配置された信号入力電極2お
よび参照信号入力電極3を含み、これら2つの入力電極
2および3で発生した表面弾性波がビーム幅圧縮器4に
よって圧縮され、出力電極5としてのウェーブガイド直
下における圧電基板1の歪の非線形を利用して、出力電
極5および6からコンポルージョン信号が取り出される
FIG. 6 is an illustrative view showing an example of a conventional elastic convolver which is the background of the present invention. The elastic convolver includes a signal input electrode 2 and a reference signal input electrode 3 arranged on a piezoelectric substrate 1, and the surface acoustic waves generated by these two input electrodes 2 and 3 are compressed by a beam width compressor 4 and output. A convolution signal is extracted from the output electrodes 5 and 6 by utilizing the nonlinear strain of the piezoelectric substrate 1 directly under the waveguide as the electrode 5.

第7図はこの発明の背景となる従来の分離媒質形コンボ
ルバの一例を示す図解図である。分離媒質形コンボルバ
は、表面波の伝播媒質である圧電基板1の上方に、わず
かの空隙を有して半導体7を配置する。2つの入力電極
2および3からの表面波の伝播に伴って圧電基板1の表
面から交流電界が洩れ、その洩れた交流電界と半導体7
中のキャリアとの相互作用によって、出力電極5および
6からコンポルージョン信号が取り出される。
FIG. 7 is an illustrative view showing an example of a conventional separation medium type convolver which is the background of the present invention. In the separation medium type convolver, a semiconductor 7 is placed above a piezoelectric substrate 1, which is a propagation medium for surface waves, with a slight air gap. An alternating current electric field leaks from the surface of the piezoelectric substrate 1 as the surface waves propagate from the two input electrodes 2 and 3, and the leaked alternating current electric field and the semiconductor 7
A convolution signal is extracted from the output electrodes 5 and 6 by interaction with carriers therein.

(発明が解決しようとする問題点) 第6図に示すエラスティックコンボルバでは、圧電基板
1の持つ弱い非線形性により生じる電界をその基板表面
の金属電極5および6で直接取り出すため、効率が非常
に悪い。
(Problems to be Solved by the Invention) In the elastic convolver shown in FIG. 6, the electric field generated by the weak nonlinearity of the piezoelectric substrate 1 is directly extracted by the metal electrodes 5 and 6 on the surface of the substrate, so the efficiency is very high. bad.

第7図に示す分離媒質形コンボルバでは、半導体のもつ
非線形作用を利用し、半導体上の電極から出力信号を取
り出すために、その効率はよい。
The separated medium type convolver shown in FIG. 7 utilizes the nonlinear effect of a semiconductor to extract an output signal from an electrode on the semiconductor, so its efficiency is high.

しかしながら、非常に長い範囲、たとえば数cmにわた
って圧電体1と半導体6との間の微小なエアギヤツブ(
たとえば1000人のオーダ)を均一に維持する必要が
あり、その製造が困難で、高価であるばかりでなく、振
動に弱く信頼性に欠ける。
However, a minute air gear (
For example, on the order of 1,000 people, it is necessary to maintain uniformity, and manufacturing is not only difficult and expensive, but also susceptible to vibration and lacking in reliability.

それゆえに、この発明の主たる目的は、信頼性がよくし
かも効率のよい、表面弾性波素子を提供することである
Therefore, the main object of the present invention is to provide a reliable and efficient surface acoustic wave device.

(問題点を解決するための手段) この発明は、簡単にいえば、n (p)形半導体とp 
(n)形半導体とによって形成される超段階接合を含む
半導体層、半導体層上に積層される圧電体層、および圧
電体層上に形成される少な(とも2個以上の電極を備え
る、表面弾性波素子である。
(Means for Solving the Problems) Simply put, this invention consists of an n (p) type semiconductor and a p type semiconductor.
(n) type semiconductor, a piezoelectric layer laminated on the semiconductor layer, and a surface layer having two or more electrodes formed on the piezoelectric layer. It is an elastic wave element.

(作用) 超段階接合によって急勾配の空乏層容量−電圧特性曲線
が得られ、微弱な交流電界が印加されてもその空乏層容
量が大きく変化する。その変化が出力信号として取り出
される。
(Function) A steep depletion layer capacitance-voltage characteristic curve is obtained by the super-step junction, and even when a weak alternating current electric field is applied, the depletion layer capacitance changes greatly. The change is extracted as an output signal.

(発明の効果) この発明によれば、モノリシック構造であるため信頼性
が高くまたその製造も容易であるばかりテナ<、従来の
エラステインクコンボルバに比べて、その効率が大幅に
向上した、表面弾性波素子を得ることができる。
(Effects of the Invention) According to the present invention, since it has a monolithic structure, it is highly reliable and easy to manufacture. A wave element can be obtained.

この発明の上述の目的、その他の目的、特徴および利点
は、図面を参照して行う以下の実施例の詳細な説明から
一層明らかとなろう。
The above objects, other objects, features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description of embodiments with reference to the drawings.

(実施例) 第1図はこの発明の一実施例を示す断面図解図である。(Example) FIG. 1 is an illustrative cross-sectional view showing one embodiment of the present invention.

表面弾性波素子10は、n (p)形半導体層12. 
 p (n)形半導体層14および圧電体層16が、こ
の順で積層的に配置されたモノリシック構造を有する。
The surface acoustic wave device 10 includes an n (p) type semiconductor layer 12 .
It has a monolithic structure in which the p (n) type semiconductor layer 14 and the piezoelectric layer 16 are stacked in this order.

n (p)形半導体層12およびp (n)形半導体層
14は、たとえばSiなどの半導体材料からなる。また
、圧電体層16は、たとえばZnOからなる。この圧電
体層16上には、信号入力用インクディジタル電極20
および参照信号入力用インクディジタル電極22が、こ
の圧電体層16の長さ方向(SAWの伝播方向)両端に
間隔を隔てて配置される。なお、この電極20および2
2は半導体層12側に設けてもよい。
The n (p) type semiconductor layer 12 and the p (n) type semiconductor layer 14 are made of a semiconductor material such as Si, for example. Furthermore, the piezoelectric layer 16 is made of, for example, ZnO. On this piezoelectric layer 16 is an ink digital electrode 20 for signal input.
Ink digital electrodes 22 for inputting a reference signal are arranged at both ends of the piezoelectric layer 16 in the length direction (SAW propagation direction) at intervals. Note that these electrodes 20 and 2
2 may be provided on the semiconductor layer 12 side.

n (p)形半導体層12とp (n)形半導体層14
との間には、第2図に示すような超段階接合が形成され
る。この超段階接合18では、急峻な勾配の空乏層容量
(C)−印加電圧(V)特性曲線が得られ、そのために
、印加される電界がわずか変化すると、その空乏層容量
が急激にあるいは大幅に変化する。したがって、従来の
エラスティックコンボルバに比べて、効率ないし感度の
よい表面弾性波素子が得られる。
n (p) type semiconductor layer 12 and p (n) type semiconductor layer 14
A super-step junction as shown in FIG. 2 is formed between the two. In this super-step junction 18, a characteristic curve of depletion layer capacitance (C) vs. applied voltage (V) with a steep slope is obtained. Therefore, when the applied electric field changes slightly, the depletion layer capacitance increases rapidly or significantly. Changes to Therefore, a surface acoustic wave element with higher efficiency or sensitivity than a conventional elastic convolver can be obtained.

第3図はこの発明の他の実施例を示す断面図解図である
。この実施例では、n (p)形半導体層12が、n”
 (p” )形半導体N12aとその上に積層されるn
 (p)形半導体層12bとを含む。
FIG. 3 is an illustrative cross-sectional view showing another embodiment of the present invention. In this embodiment, the n (p) type semiconductor layer 12 is n”
(p”) type semiconductor N12a and the n layered on top of it
(p) type semiconductor layer 12b.

そして、n (p)形半導体層12bにはp”  (n
o)形半導体N14′が積層ないし接合される。
Then, the n (p) type semiconductor layer 12b has p” (n
o) Type semiconductors N14' are stacked or bonded.

そして、空乏層容量以外の半導体領域については、その
比抵抗が大きいと損失が大きくなるので、導電率を大き
くするために、この実施例では、n(p)形半導体層1
2に、n” (p” )形半導体層12aを設ける。ま
た、アース電極を取り付ける必要がある場合、n (p
)形半導体では、ショットキ接触となって好ましくない
ので、オーミック接触にするためにも、このn” (p
” )形半導体層12aは有効である。
As for the semiconductor regions other than the depletion layer capacitance, if the specific resistance is large, the loss will be large, so in this embodiment, in order to increase the conductivity, the n(p) type semiconductor layer 1
2, an n''(p'') type semiconductor layer 12a is provided. Also, if it is necessary to attach a ground electrode, n (p
) type semiconductors, this results in Schottky contact, which is undesirable, so in order to make ohmic contact, this n” (p
”) type semiconductor layer 12a is effective.

また、接合面付近の不純物濃度が高いと良好な超段階接
合が得られ難いので、この実施例では、n” (p” 
)形半導体層12aの上にn (p)形半導体Fi12
bとして、エピタキシャル層を成長させ、そこに正イオ
ンや負イオンを注入しあるいは拡散することにより、超
段階接合18を形成する。
In addition, if the impurity concentration near the bonding surface is high, it is difficult to obtain a good super-step bond, so in this example, n"(p"
) type semiconductor layer 12a.
As b, a super-step junction 18 is formed by growing an epitaxial layer and implanting or diffusing positive ions and negative ions into the epitaxial layer.

この第3図実施例においても、n (p)形半導体11
2bおよびp”(n”)形半導体層14′によって形成
される第4図に示すような超段階接合18によって、接
合面に急峻なC−V特性が得られ、したがって印加され
る電圧に対する空乏層容量の変化の度合が非常に大きく
なる。
Also in this embodiment of FIG. 3, the n (p) type semiconductor 11
2b and the p"(n") type semiconductor layer 14', the superstep junction 18 shown in FIG. The degree of change in layer capacitance becomes very large.

第5図はこの発明の好ましい実施例としての音響電気コ
ンボルバの一例を示す図解図である。このコンボルバ1
00は先の第3図で示す表面弾性波素子10と同じモノ
リシック構造を有し、no(po)形半導体層112a
、n (p)形半導体層112 b、  p”  (n
” )形半導体層114および圧電体層116がこの順
で積層される。そして、n (p)形半導体層112b
とp”(n”)形半導体層114とによって、超段階接
合118を形成する。そして、圧電体N116の上には
、信号入力用インクディジタル電極120および参照信
号入力用インクディジタル電極122が、この圧電体層
116の長さ方向(SAWの伝播方向)両端に間隔を隔
てて配置される。そして、これら2つのインクディジタ
ル電極120および122の間には、圧電体層116上
にゲート電極124が形成されるとともに、n+(p+
)形半導体層112aの下面には、アース電極126が
形成される。
FIG. 5 is an illustrative view showing an example of an acousto-electric convolver as a preferred embodiment of the present invention. This convolver 1
00 has the same monolithic structure as the surface acoustic wave device 10 shown in FIG.
, n (p) type semiconductor layer 112 b, p” (n
) type semiconductor layer 114 and piezoelectric layer 116 are laminated in this order. Then, the n (p) type semiconductor layer 112b
and the p″(n″) type semiconductor layer 114 form a superstep junction 118. On the piezoelectric layer N116, an ink digital electrode 120 for signal input and an ink digital electrode 122 for inputting a reference signal are arranged at intervals on both ends of the piezoelectric layer 116 in the length direction (SAW propagation direction). be done. Between these two ink digital electrodes 120 and 122, a gate electrode 124 is formed on the piezoelectric layer 116, and an n+(p+
A ground electrode 126 is formed on the lower surface of the ) type semiconductor layer 112a.

ゲート電極124には、バイアス電圧が印加され、した
がって、超段階接合118には、空乏層容量が生じる。
A bias voltage is applied to the gate electrode 124, and therefore a depletion layer capacitance is generated in the superstep junction 118.

その状態で2つの入力インタディジタル電極120およ
び122からそれぞれ信号が入力され゛ると、圧電体層
116としてのZnOに伝わる表面弾性波によって、そ
の空乏層容量が変化する。この空乏層容量の変化に応じ
た電圧が、ゲート電極122から結合コンデンサを通し
て取り出される。
When signals are input from the two input interdigital electrodes 120 and 122 in this state, the depletion layer capacitance changes due to the surface acoustic waves transmitted to ZnO as the piezoelectric layer 116. A voltage corresponding to this change in depletion layer capacitance is extracted from the gate electrode 122 through the coupling capacitor.

すなわち、圧電体層の両端の入力電極より励振された、
たとえば角周波数ω。、波数におよび−にの弾性表面波
がゲート電極の直下の圧電体層ですれちがう際、圧電体
層のもつ非線形作用により、角周波数2ω。、波数0の
コンポルージョン信号が発生するが、これは非常に弱い
電界のため、直接取り出すと効率が非常に低い。そこで
、超階段接合面に逆バイアスを印加し、空乏層を作る。
That is, excited from the input electrodes at both ends of the piezoelectric layer,
For example, the angular frequency ω. When surface acoustic waves with wave numbers of , and - pass each other on the piezoelectric layer directly under the gate electrode, the angular frequency is 2ω due to the nonlinear action of the piezoelectric layer. , a convolution signal with a wave number of 0 is generated, but this is a very weak electric field, so if it is extracted directly, the efficiency is very low. Therefore, a reverse bias is applied to the hyperstaircase junction to create a depletion layer.

そこに圧電体層で生じたコンポルージョン信号の電界を
印加し、超階段接合のもつ急勾配のC−V特性曲線を利
用して空乏層容量の変化をゲート電極より出力信号とし
て取り出す。
An electric field of a convolution signal generated in the piezoelectric layer is applied thereto, and the change in depletion layer capacitance is extracted as an output signal from the gate electrode using the steep CV characteristic curve of the hyperstep junction.

なお、この実施例のように、圧電体層116としてZn
Oを用いると、セザワ波あるいはレーリー波で、電気機
械結合係数に2が太き(取れ、しかも非線形結合係数が
大きな圧電体層が実現でき、したがって帯域幅が広く大
きなりT積が得られる。
Note that, as in this embodiment, Zn is used as the piezoelectric layer 116.
When O is used, a piezoelectric layer with a Sezawa wave or a Rayleigh wave with a large electromechanical coupling coefficient of 2 and a large nonlinear coupling coefficient can be realized, and therefore a wide bandwidth and a large T product can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明の一実施例を示す断面図解図である。 第2図は第1図実施例の不純物濃度分布を示す図である
。 第3図はこの発明の他の実施例を示す断面図解図である
。 第4図は第3図実施例の不純物濃度分布を示す図である
。 第5図はこの発明の好ましい実施例としての音響電気コ
ンボルバの一例を示す斜視図である。 第6図はこの発明の背景となるエラスティックコンボル
バの一例を示す図解図である。 第7図はこの発明の背景となる分離媒質形コンボルバの
一例を示す図解図である。 図において、10は表面弾性波素子、12はn(p)形
半導体層、12a、112aはn+ (p′″)形半導
体領域、12b、112bはn (p)形半導体領域、
14はp (n)形半導体層、14’、114はp”(
n”)形半導体層、16.116は圧電体層、18,1
18は超段階接合、20.22,120,122はイン
タディジタル電極、100は音響電気コンボルバ、12
4はゲート電極、126はアース電極を示す。 特許出願人 株式会社 村田製作所 代理人 弁理士 山 1) 義 人 (ほか1名) 第1図
FIG. 1 is an illustrative cross-sectional view showing one embodiment of the present invention. FIG. 2 is a diagram showing the impurity concentration distribution of the embodiment shown in FIG. FIG. 3 is an illustrative cross-sectional view showing another embodiment of the present invention. FIG. 4 is a diagram showing the impurity concentration distribution of the embodiment shown in FIG. FIG. 5 is a perspective view showing an example of an acoustoelectric convolver as a preferred embodiment of the present invention. FIG. 6 is an illustrative view showing an example of an elastic convolver which is the background of the present invention. FIG. 7 is an illustrative view showing an example of a separation medium type convolver which is the background of the present invention. In the figure, 10 is a surface acoustic wave element, 12 is an n (p) type semiconductor layer, 12a, 112a are n + (p''') type semiconductor regions, 12b, 112b are n (p) type semiconductor regions,
14 is a p (n) type semiconductor layer, 14', 114 are p'' (
n'') type semiconductor layer, 16.116 is a piezoelectric layer, 18,1
18 is a super step junction, 20, 22, 120, 122 are interdigital electrodes, 100 is an acoustoelectric convolver, 12
4 is a gate electrode, and 126 is a ground electrode. Patent applicant Murata Manufacturing Co., Ltd. Agent Patent attorney Yama 1) Yoshito (and 1 other person) Figure 1

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 n(p)形半導体とp(n)形半導体とによって形
成される超段階接合を含む半導体層、前記半導体層上に
積層される圧電体層、および前記圧電体層上に形成され
る少なくとも2個以上の電極を備える、表面弾性波素子
。 2 前記n(p)形半導体はn^+(p^+)形半導体
上に積層され、前記p(n)形半導体がp^+(n^+
)形半導体である、特許請求の範囲第1項記載の表面弾
性波素子。 3 前記n(p)形半導体およびp^+(n^+)形半
導体はエピタキシャル層を含む、特許請求の範囲第2項
記載の表面弾性波素子。 4 前記圧電体層はZnOを含む、特許請求の範囲第1
項ないし第3項のいずれかに記載の表面弾性波素子。 5 前記電極がくし型構造を有することを特徴とする、
特許請求の範囲第1項ないし第4項のいずれかに記載の
表面弾性波素子。 6 前記電極のうち少なくとも2個の電極の間の前記圧
電体層上にゲート電極が形成され、それによって音響電
気コンボルバとして構成された、特許請求の範囲第1項
ないし第5項のいずれかに記載の表面弾性波素子。
[Claims] 1. A semiconductor layer including a super-step junction formed by an n(p) type semiconductor and a p(n) type semiconductor, a piezoelectric layer laminated on the semiconductor layer, and the piezoelectric layer A surface acoustic wave device comprising at least two or more electrodes formed thereon. 2. The n(p) type semiconductor is stacked on the n^+(p^+) type semiconductor, and the p(n) type semiconductor is layered on the p^+(n^+) type semiconductor.
) type semiconductor, the surface acoustic wave device according to claim 1. 3. The surface acoustic wave device according to claim 2, wherein the n(p) type semiconductor and the p^+(n^+) type semiconductor include an epitaxial layer. 4. Claim 1, wherein the piezoelectric layer contains ZnO
The surface acoustic wave device according to any one of Items 1 to 3. 5. The electrode has a comb-shaped structure,
A surface acoustic wave device according to any one of claims 1 to 4. 6. According to any one of claims 1 to 5, wherein a gate electrode is formed on the piezoelectric layer between at least two of the electrodes, thereby forming an acoustoelectric convolver. The surface acoustic wave device described above.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0276408A (en) * 1988-09-13 1990-03-15 Canon Inc Surface acoustic wave convolver

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0276408A (en) * 1988-09-13 1990-03-15 Canon Inc Surface acoustic wave convolver

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