JPS62193760A - Chamfering unit - Google Patents

Chamfering unit

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JPS62193760A
JPS62193760A JP3278986A JP3278986A JPS62193760A JP S62193760 A JPS62193760 A JP S62193760A JP 3278986 A JP3278986 A JP 3278986A JP 3278986 A JP3278986 A JP 3278986A JP S62193760 A JPS62193760 A JP S62193760A
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JP
Japan
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workpiece
cylindrical
tool
chamfering
work
Prior art date
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Application number
JP3278986A
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Japanese (ja)
Inventor
Koichi Noto
幸一 能戸
Toshio Tamura
利夫 田村
Tsuneo Oku
於久 常雄
Minoru Yamasaka
山坂 稔
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)

Abstract

PURPOSE:To chamfer an end face of a square body with such a tool that is easy in form correction, by installing a tool unit part rotating a cylindrical tool, a workpiece holding unit part rotating a workpiece in making it contact with an outer circumference of the cylindrical tool as keeping a tilt angle with constant load and a controlling device. CONSTITUTION:A tool unit part is designed so as to give high-speed rotation and axial vibration to a cylindrical grinding wheel 1. Control over a tilt angle alphaof a work 4 to the cylindrical grinding wheel 1 takes place in the following process that an arm 29 being installed in a rotary table 18 is operated with voltage to be impressed on a piezoelectric element 30 varied as well as the work 4 is rotated with the rotary table 18 rotated, whereby a top surface of the work 4 comes into contact with an outer circumference of the cylindrical grinding wheel 1 in keeping the tilt angle alpha. And, during rotation of the work 4, the tilt angle alpha is controlled at high speed continuously in a constant range, for example, in a range from alpha1 deg. to alpha2 deg. whereby chamfering for an end face of the work 4 can be done. In this connection, since the grinding wheel is of cylindrical form, dressing is very easy.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は1面取力加工装置に係り、特に1例えば磁気ヘ
ッド等の角形状物体の端面を、研削、研磨によシ面取り
加工するのに好適な面取シ加工装置に関するものである
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Field of Application] The present invention relates to a single-face force machining device, and particularly for chamfering the end face of a rectangular object such as a magnetic head by grinding or polishing. The present invention relates to a chamfer processing device suitable for.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、セラミックス材などからなる磁気ヘッドの端面を
面取り加工する方法としては、ラッピングテープを高速
で走行させ、研磨により行うものが知られている。
Conventionally, as a method of chamfering the end face of a magnetic head made of a ceramic material or the like, a method is known in which a wrapping tape is run at high speed and polished.

また、砥石を用いて研削によシ面取り加工を行うものと
しては、眼鏡レンズの例が知られている。
Furthermore, an example of an eyeglass lens that undergoes chamfering by grinding using a grindstone is known.

これは、面取り形状に対応した総形砥石を回転させて加
工するものである。同様の技術は、例えば特公昭58−
28071号公報に記載されている。
This process is performed by rotating a full-form grindstone that corresponds to the chamfered shape. A similar technique is used, for example, in the
It is described in No. 28071.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

前述の従来技術のうち、前者すなわちラッピングテープ
による研磨加工は、加工能率が低く、かつ面取り後の形
状のばらつきが大きいという問題があった。
Among the above-mentioned conventional techniques, the former, that is, the polishing process using a lapping tape, has a problem of low processing efficiency and large variations in the shape after chamfering.

また、後者の面取シ形状に対応した総形砥石による研削
は、総形砥石が高価であり、砥石が摩耗した場合の形状
修正が難しい。特に、被加工物の材質がセラミックスの
ときには、ダイヤモンド砥石を用いるのが一般的である
から、よりいっそう。
Furthermore, in the case of grinding using a full-form grindstone corresponding to the latter chamfered shape, the full-form grindstone is expensive, and it is difficult to correct the shape when the grindstone becomes worn. This is especially true when the material of the workpiece is ceramic, since it is common to use a diamond grindstone.

その総形砥石は高価で形状修正が難しいという問題があ
った。
The problem was that the full-form grindstone was expensive and difficult to modify.

本発明は、前述の従来技術の問題点を解決するためにな
されたもので、単純な円筒形状の、形状修正の容易な工
具を用い、角形状物体の端面を能率よく高精度に面取シ
加工しうる面取シ加工装置の提供を、その目的としてい
る。
The present invention was made in order to solve the problems of the prior art described above, and uses a simple cylindrical tool whose shape can be easily modified to efficiently chamfer the end face of a rectangular object with high precision. The purpose is to provide a chamfer processing device that can process chamfers.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明に係る面取力加工装置の構成は。 The configuration of the chamfering force processing device according to the present invention is as follows.

円筒状工具を少なくとも回転せしめる工具装置部と、 被加工物を、前記円筒状工具の外周に一定荷重で接触せ
しめる手段と、前記被加工物を回転する手段と、前記被
加工物を前記円筒状工具の外周に対して傾き角を保って
接触せしめる手段とを備えた被加工物保持装置部と。
a tool device section for at least rotating a cylindrical tool; means for bringing a workpiece into contact with the outer periphery of the cylindrical tool with a constant load; means for rotating the workpiece; and means for bringing the tool into contact with the outer periphery of the tool while maintaining an inclination angle thereto.

被加工物の面取り重刑状に対応して、少なくとも前記円
筒状工具の外周に接する被加工物の回転角と傾き角とを
制御するための制御手段とを備えたものである。
The tool is equipped with a control means for controlling at least a rotation angle and an inclination angle of the workpiece that is in contact with the outer periphery of the cylindrical tool in response to the severe chamfering of the workpiece.

なお付記すると、前記の工具装置部は、円筒状砥石と、
との円筒状砥石を回転せしめる駆動手段と、前記円筒状
砥石に軸方向の小振幅振動を与える振動付与手段とを備
えだものである。
As an additional note, the tool device section includes a cylindrical grindstone,
The cylindrical grindstone is provided with a drive means for rotating the cylindrical grindstone, and a vibration imparting means for applying small amplitude vibration in the axial direction to the cylindrical grindstone.

〔作用〕[Effect]

前述の技術手段によれば、工具装置部は、円筒状工具1
例えば円筒状砥石′に高速回転と振動を与えることがで
きる。
According to the above-mentioned technical means, the tool device section includes a cylindrical tool 1
For example, high-speed rotation and vibration can be applied to a cylindrical grindstone.

一方、被加工物保持装置部すなわちワークヘッド部は、
被加工物すなわちワークを一定荷重で円筒状砥石に接触
させ、ワークの回転速度と、ワークの円筒状砥石外周に
接する傾き角とを制御しながら、ワークの角形状物体の
面取り加工を行うことができる。
On the other hand, the workpiece holding device section, that is, the work head section,
By bringing the workpiece into contact with a cylindrical grindstone under a constant load and controlling the rotational speed of the workpiece and the angle of inclination of the workpiece in contact with the outer circumference of the cylindrical grindstone, it is possible to chamfer a square object on the workpiece. can.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の一実施例を第1図ないし第7図を参照し
て説明する。
Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 7.

まず、第1図は、本発明の一実施例に係る面取力加工装
置の斜視図、第2図は、ワークの形状を示す図で、(a
)は平面図、(b)は(a)のB−B断面図、第3図は
、第1図のA−A矢視要部平面図である。
First, FIG. 1 is a perspective view of a chamfering force processing device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing the shape of a workpiece.
) is a plan view, (b) is a sectional view taken along the line B-B in (a), and FIG. 3 is a plan view of essential parts taken along line A-A in FIG.

第1図に示す面取力加工装置は、研削装置本体と制御装
置とから構成されている。
The chamfering force processing device shown in FIG. 1 is composed of a grinding device main body and a control device.

砥削装置本体は1円筒状の砥石1に矢印2で示す回転と
、矢印3で示す軸方向の小振幅の振動とを与える駆動手
段を備えた工具装置部と、被加工物(以下ワークという
)4に回転と傾きを与え、かつワーク4を円筒状砥石1
に対して一定荷重を付加する被加工物保持装置部(以下
ワークヘッド部という)とから成る。
The main body of the grinding device consists of a tool device section that is equipped with a driving means that gives a cylindrical grinding wheel 1 rotation as shown by arrow 2 and small amplitude vibration in the axial direction as shown by arrow 3, and a tool device section that is equipped with a drive means that gives a cylindrical grindstone 1 rotation as shown by arrow 2 and small amplitude vibration in the axial direction as shown by arrow 3. ) Rotate and tilt the workpiece 4, and place the workpiece 4 on the cylindrical grindstone 1.
It consists of a workpiece holding device section (hereinafter referred to as the workhead section) that applies a constant load to the workpiece.

まず、工具装置部の構成について説明する。First, the configuration of the tool device section will be explained.

第1図において、1は、円筒状工具に係る円筒状砥石、
5は、この円筒状砥石1を高速回転させるためのモータ
で、砥石軸心に直結されており、これらはスライドテー
ブル6上に載置されている。
In FIG. 1, 1 is a cylindrical grindstone related to a cylindrical tool;
Reference numeral 5 denotes a motor for rotating the cylindrical grindstone 1 at high speed, which is directly connected to the axis of the grindstone, and is placed on a slide table 6.

7は、円筒状砥石1に軸方向の小振幅振動を付与するた
めのクランク、8は、このクランク7を作動させるため
のモータ、9は、とのモータ8に直結された偏心カムを
示す。クランク7は、一端がスライドテーブル6の側面
に装着され、他端が偏心カム9に連結しており、モータ
8の回転にょυ偏心カム9を介して往復運動をなし、ス
ライドテーブル6上の円筒状砥石1に軸方向の小振幅振
動を付与する。振幅は、偏心カム9の偏心量を調節して
決める。
Reference numeral 7 indicates a crank for applying small amplitude vibrations in the axial direction to the cylindrical grindstone 1, 8 a motor for operating the crank 7, and 9 an eccentric cam directly connected to the motor 8. The crank 7 has one end attached to the side surface of the slide table 6 and the other end connected to an eccentric cam 9. The crank 7 makes reciprocating motion via the eccentric cam 9 as the motor 8 rotates, and moves around the cylinder on the slide table 6. A small amplitude vibration in the axial direction is applied to the shaped grindstone 1. The amplitude is determined by adjusting the amount of eccentricity of the eccentric cam 9.

次に、ワークヘッド部の構成について説明する。Next, the configuration of the work head section will be explained.

10は、ワーク4を回転させるための直流モータ、11
は、その直流モータ10の回転力を伝達するスピンドル
13を保持するスピンドルホルダ、12は、スピンドル
13に直結してワーク4を保持するワーク取付プレート
で、これらは次に述べるスライドテーブル14上に載置
されて、ワーク4を回転させる手段を構成している。
10 is a DC motor for rotating the workpiece 4, 11
12 is a spindle holder that holds the spindle 13 that transmits the rotational force of the DC motor 10, and 12 is a workpiece mounting plate that is directly connected to the spindle 13 and holds the workpiece 4. These are mounted on the slide table 14 described below. It constitutes a means for rotating the workpiece 4.

14は、ワーク4を円筒状砥石1の外周に一定荷重で接
触させる、すなわち研削荷重を付加するためのスライド
テーブル、15は、固定部、例えば後述するスライドベ
ース19側に固定されたアーム、16は、スライドテー
ブル14に固定されたアーム、17は、両アーム15.
16間にセットしたばねである。
14 is a slide table for bringing the workpiece 4 into contact with the outer periphery of the cylindrical grindstone 1 with a constant load, that is, for applying a grinding load; 15 is a fixed part, for example, an arm fixed to the slide base 19 side to be described later; 16 is an arm fixed to the slide table 14, 17 is both arms 15.
It is a spring set between 16 and 16.

このようにスライドするアーム16と固定したアーム1
5との間にセットされたばね17により研削荷重が付加
されるもので、これらスライドテーブル14、両アーム
15,16、ばね17をもって、ワーク4を円筒状砥石
1の外周に一定荷重で接触せしめる手段を構成している
Arm 16 that slides like this and arm 1 that is fixed
A grinding load is applied by a spring 17 set between the slide table 14, both arms 15 and 16, and the spring 17 to bring the workpiece 4 into contact with the outer periphery of the cylindrical grindstone 1 with a constant load. It consists of

18は、前記の各手段を回動させる回転テーブルで、こ
の回転テーブル18上にスライドテーブル14が載置さ
れている。
Reference numeral 18 denotes a rotary table for rotating each of the above-mentioned means, and a slide table 14 is placed on this rotary table 18.

19は、前記の各手段および回転テーブルを載置するス
ライドベース、20は、このスライドベース20を移動
させるためのモータである。
19 is a slide base on which the above-mentioned means and a rotary table are placed, and 20 is a motor for moving this slide base 20.

22は操作盤を示し、この操作盤22内部には、後述す
るワーク回転角、傾き角の制御回路その他が納められて
いる。
Reference numeral 22 indicates an operation panel, and inside this operation panel 22, a control circuit for a workpiece rotation angle, a tilt angle, etc., which will be described later, is housed.

次に、第3図は1円筒状価石1の外周に対してワーク4
を傾き角αを保って接触せしめる手段を示したものであ
る。図中、第1図と同一符号のものは同一部品を示して
いる。
Next, Fig. 3 shows a workpiece 4 relative to the outer circumference of a cylindrical stone 1
This figure shows a means for bringing the two into contact while maintaining the inclination angle α. In the figure, the same reference numerals as in FIG. 1 indicate the same parts.

第3図において、27は、円筒状砥石1とワーク4の接
触点、28は、回転テーブル18の回転軸、29は、回
転テーブル18に固定したアーム、30は、圧電効果を
生じる半導体であるピエゾ素子で、とのピエゾ素子30
は回転テーブル18を矢印aの方向へ回転させる手段と
して機能する。
In FIG. 3, 27 is a contact point between the cylindrical grindstone 1 and the workpiece 4, 28 is a rotating shaft of the rotary table 18, 29 is an arm fixed to the rotary table 18, and 30 is a semiconductor that produces a piezoelectric effect. With piezo element, piezo element 30 with
functions as means for rotating the rotary table 18 in the direction of arrow a.

31は、ピエゾ素子30を取付けるベースで、このベー
ス31は、回転テーブル18に対して固定側となるスラ
イドベース19に固定されている。
Reference numeral 31 denotes a base on which the piezo element 30 is attached, and this base 31 is fixed to a slide base 19 that is fixed to the rotary table 18.

321d、アーム29とベース31との間にセットされ
た引張ばねであシ、この引張ばね32は、回転テーブル
18を矢印すの方向へ回転させる手段として機能する。
321d is a tension spring set between the arm 29 and the base 31, and this tension spring 32 functions as a means for rotating the rotary table 18 in the direction of the arrow mark.

本面域シ加工装置は、このような構成であるから、円筒
状砥石1を高速回転させ軸方向に一定の小振幅振動を与
えつつ、ワーク4をその円筒状砥石1の外周に対し一定
の荷重で押しつけつつ、ワーク4に回転と傾き角を与え
ながら面取り加工を行うことができる。
Since the surface area machining device has such a configuration, the cylindrical grinding wheel 1 is rotated at high speed and a constant small amplitude vibration is applied in the axial direction, while the workpiece 4 is rotated at a certain constant level with respect to the outer circumference of the cylindrical grinding wheel 1. Chamfering can be performed while applying rotation and tilt angle to the workpiece 4 while pressing it with a load.

次に、さきの各図に合わせて第4図ないし第6図を参照
して、角形状物体の端部を面取シ加工する動作を説明す
る。
Next, the operation of chamfering the end of a square object will be explained with reference to FIGS. 4 to 6 together with the previous figures.

第4図は、円筒状砥石とワークとの接触位置を示す説明
図、第5図は、制御系の説明図、第6図は、ワークの回
転と傾きとの関係を示す線図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing the contact position between the cylindrical grindstone and the workpiece, FIG. 5 is an explanatory diagram of the control system, and FIG. 6 is a diagram showing the relationship between the rotation and inclination of the workpiece.

さて、第2図は、ワーク4の形状を示すもので、このワ
ーク4は、例えば磁気ヘッド等の角形状のものである。
Now, FIG. 2 shows the shape of the workpiece 4, and the workpiece 4 is, for example, a square-shaped object such as a magnetic head.

(a)図は、ワーク4の上面を示し、中心位置を23、
面取シ部分を24.25で示している。
(a) The figure shows the top surface of the workpiece 4, and the center position is 23,
The chamfered portion is indicated by 24.25.

(1))図は、(a)図のB−B断面を示すもので、面
取多部分25は、上面の平面部26に対し、傾き角α;
からα;まで連続的に変るR形状となっている。
(1)) The figure shows a cross section taken along line B-B in figure (a), and the multi-chamfered portion 25 has an inclination angle α with respect to the flat portion 26 on the upper surface.
It has an R shape that changes continuously from to α;.

このワーク4を面取り加工する状況を第3図々いし第7
図に示す。
Figures 3 to 7 show the situation in which this workpiece 4 is chamfered.
As shown in the figure.

第3図には、円筒状砥石1にワーク4が傾き角αで接触
した状態を示している。
FIG. 3 shows a state in which the workpiece 4 is in contact with the cylindrical grindstone 1 at an inclination angle α.

傾き角αの制御は、回転テーブル18に設けたアーム2
9を、ピエゾ素子30に印加する電圧を変化させて作動
させ、回転テーブル18を回動させることによって、回
転テーブル18上に載置されているスピンドルホルダ1
1、ワーク取付プレート12およびワーク4を回動させ
、円筒状砥石1の軸心C−Cに直交する方向に対し、ス
ピンドル13の軸心をα0傾かせる。すなわち、円筒状
砥石1の外周に対しワーク4の上面23が傾き角αを保
ち、図のように27で接触する。
The tilt angle α is controlled by the arm 2 provided on the rotary table 18.
9 is operated by changing the voltage applied to the piezo element 30, and the rotary table 18 is rotated, thereby rotating the spindle holder 1 placed on the rotary table 18.
1. Rotate the workpiece mounting plate 12 and the workpiece 4 to tilt the axis of the spindle 13 by α0 with respect to the direction perpendicular to the axis C-C of the cylindrical grindstone 1. That is, the upper surface 23 of the workpiece 4 maintains an inclination angle α with respect to the outer periphery of the cylindrical grindstone 1, and contacts at 27 as shown in the figure.

ワーク4は、直流モータ10によってスピンドル13を
介し回転するが、ワーク4の回転中に、傾き角αを一定
の範囲、例えばα1からα2の範囲で連続的に高速制御
することによって、ワーク4の端部の面取り加工ができ
る。
The workpiece 4 is rotated by a DC motor 10 via a spindle 13. During the rotation of the workpiece 4, the inclination angle α is continuously controlled at high speed within a certain range, for example, from α1 to α2. The edges can be chamfered.

第4図は、ワーク4をθ00回転せたときの、円筒状砥
石1に対するワーク4の接触位置を示す。
FIG. 4 shows the contact position of the work 4 with respect to the cylindrical grindstone 1 when the work 4 is rotated by θ00.

本図におけるワーク4の傾き状態は、第3図の場合と同
じ傾き角α0とする。
The inclination state of the workpiece 4 in this figure is set to the same inclination angle α0 as in the case of FIG. 3.

円筒状砥石1の軸心に対応する、砥石外周の中心ライン
C−Cへ達したところでワーク4が研削される。
The workpiece 4 is ground when it reaches the center line C-C of the outer periphery of the grindstone, which corresponds to the axis of the cylindrical grindstone 1.

したがって、ワーク4の中心23を通る長手方向中心線
が、前記砥石外周の中心ラインC−Cと同一線上にある
第4図(a)の場合は点33で、第4図(a)に対して
ワーク4が000回転た第4図(b)の場合は点34の
位置が接触位置す々わち研削位置である。
Therefore, in the case of FIG. 4(a) where the longitudinal center line passing through the center 23 of the workpiece 4 is on the same line as the center line C-C of the outer periphery of the grinding wheel, it is point 33, and in contrast to FIG. In the case of FIG. 4(b) in which the workpiece 4 rotates 000 times, the position of point 34 is the contact position, that is, the grinding position.

第5図は、ピエゾ素子30とワーク回転用の直流モータ
10との制御系を示すものである。
FIG. 5 shows a control system of the piezo element 30 and the DC motor 10 for rotating the workpiece.

破線で示す制御回路35は、第1図に示しだ操作盤22
内に装備されており、ピエゾ素子30に接続するピエゾ
素子制御回路36と、直流モータ10に接続するモータ
制御回路37とからなシ。
A control circuit 35 indicated by a broken line is connected to the operation panel 22 shown in FIG.
The piezo element control circuit 36 is connected to the piezo element 30 and the motor control circuit 37 is connected to the DC motor 10.

直流モータ10の駆動にともなうワーク4の回転と、ピ
エゾ素子30の印加電圧の変化によるワーク4の傾きと
を同期制御できるようになっている。
The rotation of the work 4 caused by the drive of the DC motor 10 and the inclination of the work 4 caused by changes in the voltage applied to the piezo element 30 can be synchronously controlled.

第6図は、ワーク40回転角θと、ワーク4の傾き角α
の制御状態を示すものである。
Figure 6 shows the rotation angle θ of the work 40 and the inclination angle α of the work 4.
This shows the control status of

第6図(a)は、回転角θ(θ°〜360°)の1時間
tに対する変化を示し、第6図(b)は、傾き角αの一
定角度範囲(αl−α2)の、時間tに対する推移を示
す線図である。
FIG. 6(a) shows the change in rotation angle θ (θ° to 360°) over time t, and FIG. 6(b) shows the change over time in a constant angle range (αl−α2) of the tilt angle α FIG. 3 is a diagram showing the transition with respect to t.

ワーク4の回転が一定速度で(a)図のように進行する
間に、回転テーブル18の往復回動によるワーク4の傾
き角はα01 とα;との間を高速に往復動制御される
While the rotation of the workpiece 4 progresses at a constant speed as shown in FIG.

以上の制御により、角形状のワーク4の端部にα7〜α
;の傾きを有するR部の面取り加工ができる。
With the above control, the edges of the rectangular workpiece 4 are
It is possible to chamfer an R portion with an inclination of ;

々お、第6図(a)に示したワーク回転速度を変化させ
ることにより、非対称な面取り加工も可能である。
Furthermore, by changing the workpiece rotation speed shown in FIG. 6(a), asymmetrical chamfering is also possible.

また1円筒状砥石1の一部が摩耗した場合に、ワーク4
の研削位置を移動させて加工を行いうるように、円筒状
砥石1の軸心と平行に移動するスライドベース19が装
備されており、モータ20の回転により研削位置の移動
設定が可能である。
In addition, when a part of the cylindrical grindstone 1 is worn out, the workpiece 4
A slide base 19 that moves parallel to the axis of the cylindrical grindstone 1 is provided so that the grinding position can be moved to perform processing, and the grinding position can be set by rotating the motor 20.

これによシ、円筒状砥石1を円筒の全長にわたり有効に
使用することができる。
Thereby, the cylindrical grindstone 1 can be effectively used over the entire length of the cylinder.

本実施例によれば、磁気ヘッドなどセラミックス製角形
状物体の端面を能率よく面取り加工を行うことができ、
面取シ形状のばらつきが少なくなる。
According to this embodiment, the end face of a ceramic rectangular object such as a magnetic head can be efficiently chamfered.
Variations in chamfer shape are reduced.

しかも、研削時の砥石の形状修正の容易な円筒形砥石で
あシ、砥石修正費用も安く、量産品の面取り加工に効果
がある。さらに、各種の面取り形状に対応できる利点が
ある。
Moreover, the cylindrical grindstone makes it easy to modify the shape of the whetstone during grinding, the cost of modifying the whetstone is low, and it is effective for chamfering mass-produced products. Furthermore, it has the advantage of being compatible with various chamfered shapes.

次に、前述のように研削によシ面取り加工した面を、ラ
ッピングテープによシ研磨する装置を第7図を参照して
説明する。
Next, an apparatus for polishing a surface chamfered by grinding using a lapping tape as described above will be described with reference to FIG.

第7図は、本発明の他の実施例に係る研磨装置部の略示
構成図である。
FIG. 7 is a schematic configuration diagram of a polishing device section according to another embodiment of the present invention.

第7図に示す研磨装置は、第1図に示す面取力加工装置
の工具装置部に相当する装置で、第1図に示すワークヘ
ッド部と組合わせて研磨による面取り加工を行うもので
ある。第1図の面取シ加工装置で研削による面取り加工
を行ったのち、第7図に示す研磨装置を備えた面取シ加
工装置で研磨による面取り仕上加工を行えば、最も望ま
しい仕上りが得られる。
The polishing device shown in FIG. 7 corresponds to the tool unit of the chamfering force processing device shown in FIG. 1, and is used in combination with the work head shown in FIG. 1 to perform chamfering by polishing. . The most desirable finish can be obtained by performing chamfering by grinding with the chamfering device shown in Figure 1, and then finishing the chamfering by polishing with the chamfering device equipped with the polishing device shown in Figure 7. .

第7図において、38はラッピングテープ、39は1回
転手段に係るアイドラ、40は、円筒状の剛体ドラム、
41は、この剛体ドラム40の外周に巻装する弾性体シ
ート、42は、これによって形成された円筒状工具に係
るドラムである。
In FIG. 7, 38 is a wrapping tape, 39 is an idler related to one rotation means, 40 is a cylindrical rigid drum,
41 is an elastic sheet wrapped around the outer periphery of this rigid drum 40, and 42 is a drum related to a cylindrical tool formed thereby.

研磨仕上げは柔軟性のある工具で行う必要があるため、
円筒状の剛体ドラム40の外周にポリウ〜、 レタンやゴムなどの弾性体シート41を巻装する。
Polishing must be done with flexible tools, so
An elastic sheet 41 made of polyurethane, urethane, rubber, or the like is wrapped around the outer periphery of a cylindrical rigid drum 40.

そして、このドラム42の外側にラッピングテープ38
をアイドラ39を介して取シ付ける。この状態でドラム
回転用モータ(図示せず)を駆動し、ラッピングテープ
38を走行させる。
Wrapping tape 38 is placed on the outside of this drum 42.
is installed via the idler 39. In this state, a drum rotation motor (not shown) is driven to cause the wrapping tape 38 to travel.

一方、ワーク4を保持するワークヘッド部は、先に研削
加工で説明したと同様、ワーク4をドラム42の外周を
走行するラッピングテープ38に一定の荷重で接触させ
つつ、ワーク4の回転角と傾き角を制御しながら面取り
仕上加工を行う。
On the other hand, the work head section that holds the workpiece 4 adjusts the rotation angle of the workpiece 4 while bringing the workpiece 4 into contact with the wrapping tape 38 running around the outer periphery of the drum 42 with a constant load, as described above for the grinding process. Performs chamfer finishing while controlling the inclination angle.

本実施例によれば、研削加工したワークの仕上げ研磨を
能率よく行うことができ、面取り形状のばらつきの少な
い高精度の面取シ仕上げが可能である。第1図の面取力
加工装置で研削により面取シ加工をしたのち、′第7図
の研磨装置と第1図のワークヘッド部とを組合わせた面
取力加工装置で面取り仕上げを行えば、例えば能率につ
いては、従来のラッピングテープのみで仕上げていた場
合にくらべ、約5倍向上する。
According to this embodiment, it is possible to efficiently perform final polishing of a ground workpiece, and to perform highly accurate chamfer finishing with little variation in chamfer shape. After chamfering is performed by grinding using the chamfering force processing device shown in Fig. 1, chamfering is performed using a chamfering force processing device that combines the polishing device shown in Fig. 7 and the work head section shown in Fig. 1. For example, efficiency is improved by about five times compared to finishing with conventional wrapping tape only.

なお、前述の各実施例の説明では、第1図の面取力加工
装置で研削により面取シ加工したのち、第7図の研磨装
置と第1図のワークヘッド部とを組合わせた面取力加工
装置で研磨による面取り仕上げを行う例を説明したが、
研削による面取シ加工のみで目的を達するワークの加工
については、第1図の面取力加工装置のみの加工でよい
ことはいうまでもない。同様に、第7図の研磨装置と第
1図のワークヘッド部とを組合わせた面取力加工装置を
用いる研磨による面取り加工のみで目的を達する場合も
ありうるものである。
In the description of each of the above-mentioned embodiments, after chamfering is performed by grinding using the chamfering force processing device shown in FIG. 1, the surface obtained by combining the polishing device shown in FIG. We have explained an example of chamfering by polishing using a force processing device.
It goes without saying that for machining a workpiece whose purpose can be achieved only by chamfering by grinding, machining can be performed using only the chamfering force machining device shown in FIG. Similarly, there may be cases where the purpose can be achieved only by chamfering by polishing using a chamfering force processing device that combines the polishing device shown in FIG. 7 and the work head section shown in FIG.

また、前述の第1図、第3図に示す面取力加工装置の各
部の機構は、それぞれ−例を示すものであり、本発明は
、それらの例に限定されるものではない。例えば、円筒
状砥石1に小振幅振動を与える振動付与手段は、クラン
ク7、偏心カム9゜スライドテーブル6による機構に限
るものではない。また、ワーク4を円筒状砥石1の外周
に一定荷重で接触せしめる手段も、アーム15.16お
よびばね17等による機構に限るものではない。
Further, the mechanisms of each part of the chamfering force processing device shown in FIGS. 1 and 3 described above are examples, and the present invention is not limited to these examples. For example, the vibration applying means for applying small amplitude vibration to the cylindrical grindstone 1 is not limited to the mechanism using the crank 7, the eccentric cam 9° and the slide table 6. Further, the means for bringing the workpiece 4 into contact with the outer periphery of the cylindrical grindstone 1 with a constant load is not limited to the mechanism using the arms 15, 16, the spring 17, and the like.

さらに、ワーク4に傾き角を与える手段も、回転テーブ
ル18.アーム29.ピエゾ素子30.ベース31.引
張ばね32等による機構に限るものではない。それぞれ
の手段に期待される機能を果しうるものであれば、他の
機構の採用を妨げない。
Furthermore, means for giving an inclination angle to the workpiece 4 is also provided on the rotary table 18. Arm 29. Piezo element 30. Base 31. The mechanism is not limited to the tension spring 32 or the like. This does not preclude the adoption of other mechanisms as long as each means can fulfill the expected functions.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上述べたように1本発明によれば、単純な円筒形状の
、形状修正の容易な工具を用い、角形状物体の端面を能
率よく高精度に面取り加工しうる面取力加工装置を提供
することができる。
As described above, according to the present invention, there is provided a chamfering force processing device that can chamfer the end face of a square object efficiently and with high precision using a simple cylindrical tool whose shape can be easily modified. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本発明の一実施例に係る面取力加工装置の斜
視図、第2図は、ワークの形状を示す図で、(a)は平
面図、(1))は(a)のB−B断面図、第3図は、第
1図のA−A矢視要部平面図、第4図は、円筒状砥石と
ワークとの接触位置を示す説明図、第5図は、制御系の
説明図、第6図は、ワークの回転と傾きとの関係を示す
線図、第7図は、本発明の他の実施例に係る研磨装置部
の略示構成図である。
FIG. 1 is a perspective view of a chamfering force processing device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing the shape of a workpiece, in which (a) is a plan view, and (1)) is (a). FIG. 3 is a plan view of the main part taken along the line A-A in FIG. FIG. 6 is an explanatory diagram of the control system, FIG. 6 is a diagram showing the relationship between the rotation and inclination of the workpiece, and FIG. 7 is a schematic diagram of the polishing apparatus section according to another embodiment of the present invention.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、円筒状工具を少なくとも回転せしめる工具装置部と
、 被加工物を、前記円筒状工具の外周に一定荷重で接触せ
しめる手段と、前記被加工物を回転する手段と、前記被
加工物を前記円筒状工具の外周に対して傾き角を保って
接触せしめる手段とを備えた被加工物保持装置部と、 被加工物の面取り部形状に対応して、少なくとも前記円
筒状工具の外周に接する被加工物の回転角と傾き角とを
制御するための制御手段とを備えたことを特徴とする面
取り加工装置。 2、特許請求の範囲第1項記載のものにおいて、工具装
置部は、円筒状砥石と、この円筒状砥石を回転せしめる
駆動手段と、前記円筒状砥石に軸方向の小振幅振動を与
える振動付与手段とを備えたものである面取力加工装置
。 3、特許請求の範囲第1項記載のものにおいて、工具装
置部は、円筒状剛体ドラムの外周に弾性体シートを巻装
してなる円筒状工具に、回転手段を介してラッピングテ
ープを走行させるようにして被加工物を研磨しうるもの
である面取り加工装置。
[Scope of Claims] 1. A tool device for at least rotating a cylindrical tool; means for bringing a workpiece into contact with the outer periphery of the cylindrical tool with a constant load; and means for rotating the workpiece; a workpiece holding device section comprising means for bringing the workpiece into contact with the outer periphery of the cylindrical tool while maintaining an inclination angle; A chamfering device comprising a control means for controlling a rotation angle and an inclination angle of a workpiece in contact with the outer periphery of a tool. 2. In the tool device described in claim 1, the tool device includes a cylindrical grindstone, a driving means for rotating the cylindrical grindstone, and a vibration imparting device that applies small amplitude vibration in the axial direction to the cylindrical grindstone. A chamfering force processing device comprising means. 3. In the item described in claim 1, the tool device section causes the wrapping tape to run through a cylindrical tool formed by wrapping an elastic sheet around the outer periphery of a cylindrical rigid drum via a rotating means. A chamfering device that can polish a workpiece in this manner.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57173447A (en) * 1981-04-16 1982-10-25 Nakamuratome Seimitsu Kogyo Kk Working device for outer circumference of material difficult to be ground

Patent Citations (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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