JPS62183763A - 可変周波数ジエツト換気装置 - Google Patents

可変周波数ジエツト換気装置

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JPS62183763A
JPS62183763A JP62015906A JP1590687A JPS62183763A JP S62183763 A JPS62183763 A JP S62183763A JP 62015906 A JP62015906 A JP 62015906A JP 1590687 A JP1590687 A JP 1590687A JP S62183763 A JPS62183763 A JP S62183763A
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gas
pulse
solenoid
solenoid valve
voltage
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JP62015906A
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エリック・エイチ・グルック
ヘンリー・マクドナルド
ジャイアント・サブニス
バーナード・シー・ウエインバーグ
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ADVANCED PARUMONARII TECHNOL Inc
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ADVANCED PARUMONARII TECHNOL I
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、人間の呼吸を容易にし維持するためにガスを
供給する換気装置に係り、特に呼吸療法のためのガスの
高周波数ジェットを採用する換気装置に係る。より詳細
には、本発明は生理的な速度にて換気を向上させ、特に
呼吸療法中に患者へ供給されるガスの１回の呼吸量をで
きるだけ多くし、これと同時に患者の不快感や外傷を惹
起こしたり悪化させたりする虞れを低減することに係る
。
従来の技術 本発明は高周波数ジェット換気に特に適したものである
が、本発明はかかる換気に限定されるものではない。高
周波数ジェット換気を使用することは、成る種の呼吸条
件の治療に於て非常に有用であることが解っている。高
周波数換気に於ては、肺のガス交換領域へ多量のガスを
供給するのではなく、供給されるガスを高周波数振動さ
せることによって肺内に於ける質量移送プロセスを向上
させることによって換気が達成される。しかしジェット
換気装置により供給されるガスの脈動周波数が増大する
につれて、１回の呼吸により吸入されるに必要なガス量
を供給することが困難になり、またガスパルスを発生す
るために使用される機構の応答時間により制限される。
更に信頼性、保守の容易性、滅菌し易さ等の要件が換気
装置に於て重要な設計上の考慮すべき点である。携帯性
も更に好ましい特性である。従って本発明の主要な目的
は、新規にして改良された換気法、及びかかる換気法に
基づいて作動し、コンパクトであり、比較的容易に保守
を行うことができ、容易に滅菌することができ、広い範
囲の周波数及びデユーティサイクルに亙りできるだけ大
きい１回の呼吸に於ける換気ガス量を供給する高周波数
ジェット換気装置を提供することである。
発明の概要 端的にいえば、本発明の好ましい実施例による装置は新
規な運び去りモジュールを含む換気装置を含んでいる。
運び去りモジュールは吸入ガス供給出口と、低圧ガスの
バイアス流のための入口ポートと、排出ポートとを有す
る運び去り室を形成している。入口ポート及び排出ポー
トは供給出口より軸線方向に隔置されており、運び去り
室の実質的に直径方向に互いに対向する位置に配置され
ている。患者に合わせて加湿される低圧ガスが第一のガ
ス供給源より入口ポートへ連続的に供給され、これによ
り換気装置の運転中にバイアス流が形成される。運び去
り室内には吸入ガス供給出口と実質的に軸線方向に整合
された方向にノズルが延在している。このノズルは比較
的高圧に圧縮されたガスパルスの供給源と流体的に連通
しており、供給出口へ向けて実質的に軸線方向に運び去
り室を横切って一連の高速の圧縮ガスパルスを運び去り
室内へ噴射するようになっている。ガスパルスは実質的
にバイアス流の入口ポートと排出ポートとの間の領域よ
り噴射され、換気装置の各換気サイクルの吸気過程に於
て一つの高圧パルスが噴射される。ノズルより噴射され
た高速パルスは運び去り室内に於てバイアス流より比較
的多量の低圧ガスを運び去り、これにより運び去り室の
供給出口より流出する吸入パルスを形成する。ノズルよ
り一連のパルスが噴射される間の各排気過程に於ては、
患者により吐き出され供給出口を経て運び去り室内へ流
入する二酸化炭素を含む運び去り室内のガスは排出ポー
トを経て排出される。
パルス噴射ノズルの外形は、バイアス流より運び去られ
るガスの量を増大させるべく先細状又は先細−末広状の
何れであってもよい。運び去りモジュールは実質的にＴ
形の形状を有しており、供給出口はノズルの孔より軸線
方向に隔置され、ノズルの孔と実質的に同軸をなしてい
る。また運び去りモジュールは運動する部材を含んでい
ない。
導管が高圧換気ガス供給源をノズルに接続している。こ
の導管の途中には圧縮ガスの流れを選択的に遮断して高
圧ガスパルスを発生する弁が設けられている。この弁は
それを閉弁位置より全開位置へ駆動するソレノイドによ
り作動されるようになっている。電子制御回路がソレノ
イドの作動を制御する信号を出力するようになっている
。これらの指令信号は治療されるべき患者にとって最適
の換気プログラムを与えるよう選定されてよい周波数、
パルス幅、及びデユーティサイクルを有している。また
指令信号は所定の継続時間の初期オーバドライブ電圧を
含む実質的に階段状の波形を有している。オーバドライ
ブ電圧はソレノイドが弁の状態を変化するに必要な時間
を低減する機能を果たし、これにより弁が全閉位置より
全開位置へ切換わるに要する時間が低減される。
本発明の新規な方法は、ガスの加湿されたバイアス流を
形成する過程と、そのバイアス流よりガスを運び去って
高度に加湿された吸入ガスを形成する過程とを含んでい
る。運び去り現象は運び去りガスの高圧の供給源より導
き出された高速のガスパルスの影響にバイアス流を曝す
ことよりなっている。本発明は更にガスパルスの周波数
、継続時間、及び幅を変化させて行われるべき処置の要
件を充足するよう運び去りガスに対する制御を実行せん
とするものである。
以下に添付の図を参照しつつ、本発明を実施例について
詳細に説明する。
実施例 第１図に於て、本発明の一つの実施例による換気装置が
符号１０にて全体的に示されている。換気装置１０は通
常の換気周波数にて又は高周波数ジェット換気装置とし
て選択的に使用されよい。
換気装置１０は、後に詳細に説明する如く、４呼吸／分
（１／１５Ｈｚ　）　〜３０００呼吸／分（５０Ｈｚ）
の作動周波数範囲を有し、５％〜９５％の範囲の呼吸時
間、即ちデユーティサイクルを有していることが好まし
い。換気装置１０はカフを有し又はカフを有しない気管
内チューブ（図示せず）を経て患者へ呼吸ガスを供給し
、空気、空気及び酸素、ヘリウム及び酸素、又は他の任
意の適当なガス又はこれらのガスの混合ガスにて換気を
行うよう構成されている。換気装置１ｏはコンパクトで
軽量な構造を存しており、電池又はライン電源により駆
動されてよい。
換気装置１０は制御ユニット１２と、高圧ガス供給ユニ
ット１４と、低圧ガス供給ユニット１５と、運び去りモ
ジュール１６とを含む一体的なモジュラ−システムであ
る。制御ユニット１２は電子制御装置、安全装置、及び
換気装置のための電源を含んでいる。高圧ガス供給ユニ
ット１４は高圧ガス供給源と、ガス圧制御装置と、高圧
ガス供給源より導かれたガスの制御されたパルスを発生
する弁サブ組立体とを含んでいる。低圧ガス供給ユニッ
ト１５は低圧ガス供給源と、ガスのための加湿装置とを
含んでいる。運び去りモジュール１６は高圧ガスのパル
ス及び加湿された低圧ガスより換気装置の所要の吐出ガ
スを形成する。図に於ては、ガス流導管は太線にて示さ
れており、電気結線は細線にて示されている。制御ユニ
ット１２は通常の分離可能な電気コネクタによりガス供
給ユニット１４に接続されている。ガス供給ユニット１
４．１５及び運び去りモジュール１６は標準的なフレキ
シブルホースにより相互に接続されている。上述のモジ
ュラ−ユニット及びそれらのサブユニットは容易に接続
し分離し得るようになっている。かくしてかかるモジュ
ラ−構造は換気装置の保守を容易にし、また後の詳細な
説明より明らかとなる如く、換気装置を必要な程度にま
で容易に消毒し滅菌し得るものにしている。
第１図に於て、制御ユニット１２は電子制御モジュール
２０を含んでおり、該モジュールはガス供給ユニット１
４内に組込まれたソレノイド弁２２を作動させるための
制御パルスを発生する。また制御モジュール２０は電子
安全モジュール２４へ入力信号を供給する。安全モジュ
ール２４は一次ガス、即ち高圧ガス供給導管に組込まれ
た電気的に作動される遮断弁２６を後に説明する態様に
て制御し、また警報装置２８に接続されている。
典型的には圧縮された乾燥空気、酸素及び窒素、又は酸
素及びヘリウムを貯容する複数個のタンクの形態をなす
圧縮ガス供給源３０が設けられており、該供給源は遮断
弁２６及び調節可能な圧力制御装置３２を経てアキュム
レータ３４に接続されている。アキュムレータ３４の出
口ポートに現われる圧縮ガスは、５〜２５０　ｐｓｌ（
０，３５〜１７、６ｋｇ／ａ？）の範囲の実質的に一定
の制御された圧力を有している。圧縮ガスはアキュムレ
ータ３４より流量センサ３６及びソレノイド弁２２を経
て運び去りモジニール１６へ流れる。流量センサ３６は
情報を有する入力信号を安全モジュール２４へ供給し、
これにより圧縮ガス供給源３０より運び去りモジュール
１６へ流れるガスの性質が連続的にモニタされ、これに
より上述のガスの流量が換気装置の選定された所要の運
転限度内にない場合には警報装置２８を作動させる手段
を与えている。警報装置２８は音響警報及び視覚的警報
を発するものであることが好ましい。マイクロプロセッ
サであることが好ましい安全モジュール２４は、運転パ
ラメータが所定の範囲内にあるか否かを判定すべく、換
気装置の運転状態、特に運び去りモジュールへ流れる主
要なガスの流量及び運び去りモジュールより下流側のガ
スの圧力をモニタするようプログラムされている。モニ
タされたパラメータが患者にとって安全ではない範囲へ
移行すると、安全モジュール２４は遮断弁２６を閉弁さ
せる指令を出力する。
低圧ガス供給ユニット１５には二次圧縮ガス供給源４２
が設けられており、該供給源は遮断弁４４を経て加湿装
置４６に接続されている。加湿装置４６より吐出される
ガスは５　ｐｓｉ（０，３５ｋｇ／ＣＩｌ＋２）の如き
比較的低い圧力にて運び去すモジュール１６へ連続的に
供給される加熱され加湿されたガスのバイアス流である
。二次圧縮ガス供給源４２は典型的には高圧の圧縮ガス
供給源３０により供給されるガスと同一のガスを貯容す
る一つ又はそれ以上のタンクの形態をなしている。加湿
装置４６はカスケードバブル型の加湿装置であり、バイ
アス流が約１００％の相対湿度を有するようにすること
ができるものであることが好ましい。
更に加湿されたガスのバイアス流に蒸気を導入するため
に超音波噴霧器４７が使用されてよい。低い速度にて流
れる加湿されたガス及び蒸気の流れは、後に説明する態
様にて形成された高速ガスパルスにより運び去りモジュ
ール１６内に於て運び去られ、これにより吐出ガス流が
形成される。前述の如く、この吐出ガス流は気管内チュ
ーブ（図示せず）を経て患者へ供給される。また運び去
りモジュール１６は患者により吐出されたガスを受ける
機能を果たす。２方向制御弁４８の切換え位置に応じて
、吐出されたガスは周囲の大気中へ排出され、或いは再
生ユニット４９へ供給される。
運び去りモジュール１６より気管内チューブまで延在す
るガス流路には、気管内チューブのすぐ上流側の圧力を
検出し且換気装置の安全な作動を確保すべく対応する入
力信号を安全モジュール２４へ供給する圧力センサ５０
が設けられていてよい。
第２図に於て、運び去りモジュール１６は内部に運び去
り室５２を形成するハウジング５１を含んでいる。ハウ
ジング５１は開いた出口端部を有する実質的にＴ形の円
筒状部材である。出口端部にはフィッティング５４が設
けられており、該フィッティングは気管内チューブに通
じ又は気管内チューブの端部を含む導管５６に室５２を
流体的に連通接続している。弁２２によってガス流出ア
キュムレータ３４を調節することにより形成されたガス
パルスはノズル５８を経て運び去り室５２内へ噴射され
る。ノズル５８は先細ノズル又は先細−末広ノズルであ
り、従ってノズルののど部より下流側のガスの流速は高
い。ノズル５８は運び去り室の中心軸線に沿ってハウジ
ング５１の端壁を貫通して運び去り室内へ軸線方向に延
在している。ノズル５８は室５２内にて低圧のバイアス
流を下流側方向へ導くことによって運び去り現象を向上
させるよう空気力学的に成形されている。かくしてノズ
ル５８は前方へ向けて先細状をなす外形を有しているこ
とが好ましい。入口脚部６２及び出口脚部６４がハウジ
ング５１の直径方向に互いに対向する位置にて半径方向
に突出している。
脚部６２及び６４は実質的に互いに同一であり、中央に
配置されたノズル５８より等距離の位置にある。入口脚
部６２は、第２図に於て矢印により示されている如く、
加湿されたガスの低速のバイアス流をポート６６を経て
運び去り室５２へ供給する導管に接続するためのコネク
タ構造体として機能する。加湿されたガスは連続的に運
び去り室へ供給される。換気サイクルの吸気過程に於て
は、加湿されたガスはノズル５８を経て室５２内へ噴射
された高速のガスパルスによって運び去られ、室５２を
経て導管５６へ軸線方向に高速にて駆動され、更に気管
内チューブを経て患者へ供給される。患者へ供給される
換気ガスパルスは、主として入口脚部６２を経て供給さ
れた加湿されたガスであってノズル５８を経て供給され
た乾燥ガスのパルスによって運び去られたガスよりなっ
ている。
従って患者は最も高い相対湿度を有するガスを受入れる
。
換気サイクルの排気過程に於ては、患者により吐き出さ
れたガスは導管５６を経て運び去り室５２へ戻る。吐き
出されたガスは低速のバイアス流によって運び去られ、
これにより出口脚部６４に通ずる吐出ポート６８を経て
排出される。脚部６４は吐き出されたガス及び過剰の加
湿されたガスを弁４８へ導く導管に接続されている。患
者より吐き出された二酸化炭素は一部には加湿されたガ
スのバイアス流の駆動力によってポート６８を経て排出
され、これにより吐き出されたガスがポート６６へ侵入
することが阻止される。
加湿されたガスが一部ガスの高速のパルスにより運び去
られることは、前述の如く流れ制御面として機能するノ
ズル５８の先細状の外形により容易にされる。加湿され
たガスの運び去り現象は運び去り室５２のうち入口ポー
ト６６の下流側端部に近接する軸線方向位置にノズル５
８の出口６０を配置することにより改善されている。従
って高速パルスは加湿されたガスの流入部より僅かに下
流側の位置に於て運び去り室内へ噴射される。加湿され
た低圧の二次ガスを連続的に供給することにより、運び
去り現象のための加湿されたガスを供給することと、運
び去り効果を低下させ、そのため１回の呼吸量を低下さ
せる機械的弁を使用することなく換気装置より二酸化炭
素を除去することとが交互に行われる。
コンプライアンスの小さいチューブがノズル５８をソレ
ノイド弁２２へ接続している。弁２２は開位置と閉位置
とを有する２位置弁である。制御モジュール２０により
発生されソレノイド弁２２へ供給される指令信号は、ノ
ズル５８へ供給されるガスパルスの周波数及び継続時間
を決定する。
かくして弁２２はノズル５８へ供給される圧縮されたガ
スの流れを遮断し、これにより所望のガスパルス列特性
を発生して患者に最適の処置を行うベく、所定の時間間
隔にて周期的に開閉される。
弁２２により発生される圧縮されたガスパルス列の特性
は第４ａ図、第４ｂ図、及び第４ｃ図を参照することに
より最も良好に理解される。横軸はミリセカンドの単位
での時間を表わしており、縦軸はノズル５８より流出す
る高速の換気ガスの流量を表わしている。記号Ｔは一つ
の換気サイクルの時間、即ち吸気過程の、時間とその後
の排気過程の時間との合計を表わしている。記号Ｔ、は
弁２２が開弁している時間を表わしている。第４ａ図乃
至第４ｃ図の各グラフに於て、弁２２が開弁状態にある
時間、即ち吸気時間は換気サイクルＴの３０％である。
第４ａ図のグラフは弁２２が５Ｈｚにて開閉される場合
に於けるパルス列特性を表わしている。第４ｂ図のグラ
フは弁２２が１０Ｈｚにて開閉される場合に於けるパル
ス特性を表わしている。更に第４ｃ図のグラフは弁２２
が２０Ｈｚにて開閉される場合に於けるパルス特性を表
わしている。
一呼吸当りに弁により供給されるガスの体積は第４ａ図
乃至第４Ｃ図のグラフの流量一時間曲線の下方の面積に
等しい。実線は換気装置１０についての流れ特性を表わ
している。また破線は本発明に従って弁が状態変化する
に必要な時間を低減するための特徴が組込まれていない
換気装置についての流れ特性を表わしている。図示の曲
線は弁２２を一つの状態より他の一つの状態へ、即ち全
開状態より全開状態へ又はこれの逆へ切換えるに必要な
時間に起因して矩形波形ではなく台形波形を有している
ことが解る。従来技術に於ては、高パルス周波数に於て
は弁２２が閉弁指令を受ける前に完全に開弁する十分な
時間がなかった。従って第４Ｃ図に於て破線に示された
三角形の流れパターンが形成される。第４ｃ図に於て破
線にて示されている如き流れパターンは１回の呼吸量、
即ち吸気過程中に患者へ供給されるガスの体積を急激に
低下させる。従って十分な１回の呼吸量が高呼吸周波数
に於て供給されるようにするためには、弁２２は開弁指
令に迅速に応答しなければならず、吸気過程のかなりの
部分に亙り開弁状態を維持しなければならない。
第３図に於て、弁２２は制御モジュール２０により発生
される指令信号に応答するソレノイド７０により開閉さ
れるようになっている。制御モジュール２０は矩形波発
生器７２を含んでいる。抵抗器及びコンデンサ回路網７
３が設けられており、該回路網は矩形波発生器７２の時
定数、従って出力周波数を変化させるべく通常の態様に
て調節し得るようになっている。発生器７２の矩形波出
力信号はタイマ回路７４へ供給される。第３図及び第５
図に於て、調節可能な電圧選定回路７８及び調節可能な
デユーティサイクル選定回路８０がタイマ回路７４に接
続されており、これによりタイマ回路７４は所定の電圧
（電圧ｖＩ）、パルス幅（時間ＴＩ）及び周波数ｆを有
する出力波形を出力するようになっている。電圧ｖ１は
弁２２を開弁位置に維持するに必要な最小ソレノイド保
持電圧であるよう選定される。この電圧は一般にはソレ
ノイドが弁２２を開弁させるに必要な電圧よりも低い。
弁２２を開弁位置に維持するために低電圧を使用するこ
とによりその弁を閉弁させるための時間が低減される。
弁２２を閉弁させる時間は、呼吸サイクルの吸気過程の
終了時にタイマ回路７４の出力電圧が弁ソレノイド７０
より除去された段階に於て発生される時間の短い負の大
きい電圧スパイク−ｖ２により更に低減される。時間Ｔ
Ｉは１換気サイクル当りの吸気時間を最適の値にするよ
う選定される。また周波数ｆは患者の容態に応じて最適
の換気周波数を与えるよう選定される。
また発生器７２よりの矩形波はオーバドライブタイマ回
路７６へ供給される。オーバドライブタイマ回路７６に
は調節可能な電圧選定回路８２及びパルス幅選定回路８
４が接続されており、これによりオーバドライブタイマ
回路７６も第二の電圧（電圧ｖ３−ｖ、）及び第二のパ
ルス幅（時間Ｔ２）を有しタイマ回路７４により発生さ
れる波形と同一の周波数ｆ及び位相を有する第二の波形
を発生するよう調整し得るようになっている。電圧ｖ３
−ｖ、及び時間Ｔ２は後に詳細に説明する如く弁開弁時
間を低減するよう選定される。これら二つの波形は第３
図に於て解図的に示されている如く加算回路７７により
加算され、ソレノイド７０へ供給される。ソレノイド７
０へ供給される波形が第５図に示されている。弁２２の
一つの開閉過程の時間、即ち換気サイクルは時間Ｔにて
示されている。オーバドライブ電圧ｖ３−ｖ、　、即ち
保持電圧■１の少なくとも３倍の電圧を有するオーバド
ライブ電圧をソレノイドへ供給することにより、比較的
大きい電磁力が発生され、弁２２を開弁するための時間
が大きく低減される。かくして高周波数に於て換気装置
により発生される１回の呼吸量は弁が状態変化するに必
要な時間によっては実質的に低減されない。前述の如く
、第４図のグラフに於て、破線はソレノイドにオーバド
ライブ電圧が供給されない場合に於けるパルス特性を示
しており、実線は上述のオーバドライブ電圧が制御モジ
ュールよりソレノイドへ供給される場合に於ける換気装
置のパルス特性を表わしている。
換気装置１０は患者の容態に応じて最適の周波数及びデ
ユーティサイクル、即ち換気サイクル時間に対する吸気
時間の比を選定することにより運転される。患者へ供給
される換気ガスの１回の呼吸量はパルスの周波数及びパ
ルスの継続時間及びガス圧の関数である。圧力制御装置
３２は通常の手段によりガスの圧力を制御する。制御モ
ジュール２０は最適の換気特性を与えるべく弁２２を電
子的に制御する機能を果たす。この後者の特徴は治療期
間を切換え、本発明の換気装置は患者の変化する要件に
応じて手動的に又は自動的に再調節し得るものである。
実際には、制御モジュール及び安全モジュールはプログ
ラマブルマイクロプロセッサを含む一つのサブ組立体で
あってよく、運転モードがキーボードによって入力され
若しくは予めプログラムされたデータより選定されてよ
い。
このことは換気装置を患者より取外すことなく達成され
るので、さもなくば生ずることがある外傷が回避される
。本発明の換気装置はモジュ・−ル構造のものであるの
で、換気装置を滅菌し保守することを比較的容易に行う
ことができる。運び去りモジュール１６は運動する要素
を有しておらず、従って滅菌若しくは交換の目的で換気
装置より容易に取外すことができるものである。
本発明は広い範囲に亙り調節可能な運転パラメータ、特
に融通性を存しており、このことにより本発明の換気装
置を同調間欠強制換気（ＩＭＶ）モードにて使用するこ
とができる。ＩＭＶモードは患者を換気装置より引離す
ことが望ましい場合にマイクロプロセッサをベースとす
る制御モジュール２０を経て選定される。ＩＭＶモード
に於ては、通常の呼吸速度よりも小さい周波数のパルス
がマイクロプロセッサ内のクロックにより発生され、こ
れにより弁２２のソレノイドのための指令信号の発生が
トリガされる。気管内チューブ内に設けられた圧力セン
サであってよいセンサ８０が患者の自刃の呼吸を検出し
、それに対応する信号であって制御モジュール２０へ入
力される信号を出力する。弁２２は自刃の吐気が検出さ
れる時を除き所定の周波数にて開弁され、自刃の吐気が
検出された場合には吐気の終了まで弁２２の開弁が遅延
され、クロックが０にリセットされる。
また本発明は皮膚を横切る輪状の甲状腺開口の場合には
運び去りモジュール１６及び低圧ガス供給ユニット１５
が除去された状態にて使用されてもよい。緊急事態に於
ては、例えば戦場の状況下や事故の現場に於ける医療技
術者の場合には、呼吸困難に陥っている患者には気管内
チューブを挿入することができない。即ち気管内チュー
ブを適正に挿入するには３０分程度を要し、良好な照明
を要し、高度に熟練した医療専門家を要する。本発明は
、運び去りモジュールが除去されノズル５８と同様のノ
ズルが設けられた状態にて以下の如き要領にて医療技術
者により使用されてよいものである。まず対応するカテ
ーテルと共に針が気管内に挿入され、次いで針が引抜か
れ、しかる後ノズルがカテーテルを経て気管内へ挿入さ
れる。次いで吐気が患者の口又は鼻を介して行われる状
態にてジェット換気が開始される。
以上に於ては本発明を特定の実施例について詳細に説明
したが、本発明はかかる実施例に限定されるものではな
く、本発明の範囲内にて他の種々の実施例が可能である
ことは当業者にとって明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明による高周波数ジェット換気装置を示す
機能ブロック線図である。 第２図は第１図に示された高周波数ジェット換気装置の
運び去りモジュールの一つの好ましい実施例を示す拡大
部分断面図である。 第３図は第１図に示された高周波数ジェット換気装置の
制御モジュールを示す機能ブロック線図である。 第４ａ図、第４ｂ図、第４Ｃ図は第３図の制御モジュー
ルにより発生された制御信号に応答する第２図の運び去
りモジュールに供給されるガスパルス列を示すグラフで
ある。 第５図は第３図に示された制御モジュールにより発生さ
れる制御電圧を示す波形図である。 １０・・・換気装置、１２・・・制御ユニット、１４・
・・高圧ガス供給ユニット、１５・・・低圧ガス供給ユ
ニット、１６・・・運び去りモジュール、２０・・・制
御モジュール、２２・・・ソレノイド弁、２４・・・安
全モジュール、２６・・・遮断弁、２８・・・警報装置
、３０・・・圧縮ガス供給源、３２・・・圧力制御装置
、３４・・・アキュムレータ、３６・・・流量センサ、
４２・・・圧縮ガス供給源、４４・・・遮断弁、４６・
・・加湿装置、４７・・・超音波噴霧器、４８・・・２
方向流れ制御弁、４９・・・再生装置、５０・・・圧力
センサ、５１・・・ハウジング、５２・・・運び去り室
、５４・・・フィッティング。 ５６・・・導管、５８・・・ノズル、６２・・・入口脚
部、６４・・・出口脚部、６６・・・ポート、６８・・
・排出ポート。 ７０・・・ソレノイド、７２・・・矩形波発生器、７４
・・・タイマ回路、７６・・・オーバドライブタイマ回
路。 ７７・・・加算回路、７８・・・電圧選定回路、８０・
・・デユーティサイクル選定回路、８２・・・電圧選定
回路。 ８４・・・パルス幅選定回路 特許出願人　アドヴアンスト・パルモナリー・チクノロ
シーズ・インコーホレイ テッド

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）可変周波数ジェット換気装置にして、軸線を有す
    る運び去り室と、前記室と同軸の供給出口と、入口ポー
    トと排出ポートとを郭定する運び去りモジュールであっ
    て、前記入口ポート及び前記排出ポートは前記供給出口
    より軸線方向に隔置され且前記室の実質的に直径方向に
    互いに対向する位置に配置された運び去りモジュールと
    、加湿されたガスを低圧にて前記入口ポートへ供給し、
    前記入口ポートと前記排出ポートとの間にて前記運び去
    り室を横切るバイアス流を形成する手段と、 一連の高圧ガスパルスを発生するパルス発生手段と、 前記ガスパルスの周波数を変化させる手段と、前記パル
    ス発生手段と流体的に連通し前記ガスパルスを前記運び
    去り室内へ噴射するノズル手段であって、前記ノズル手
    段は前記ガスパルスを前記供給出口へ向けて導くよう配
    置され且配向されており、前記ノズル手段は吸気過程に
    於ては前記ノズル手段よりの高速のパルスが前記バイア
    ス流より低圧の加湿されたガスを運び去って前記供給出
    口より流出する加湿されたガスパルスを形成し、前記ノ
    ズル手段よって一連のガスパルスが前記運び去り室内へ
    噴射される間の排気過程中には前記運び去り室内のガス
    が前記排出ポートを経て排出されるよう前記ノズル手段
    は前記ガスパルスに対し高速を付与するノズル手段と、 を含む可変周波数ジェット換気装置。
  2. （２）可変周波数ジェット換気装置にして、一連の高圧
    ガスパルスを発生するガスパルス発生手段を含み、該ガ
    スパルス発生手段は 排出ポートを有する高圧に圧縮されたガス供給源と、 第一の端部に於て前記排出ポートに連結された導管と、 前記導管の途中に設けられ前記導管内を流れる圧縮ガス
    の流れを選択的に遮断する常閉型の弁装置であって、前
    記弁装置はソレノイドを含む常閉型のソレノイド弁装置
    と、 前記ソレノイド弁装置のための制御電圧パルスを発生す
    る手段であって、各制御電圧パルスは少なくとも初期電
    圧レベルと第二の電圧レベルとを有し、前記第二の電圧
    レベルは前記ソレノイド弁装置を開弁状態に維持するに
    十分であるが前記ソレノイド弁装置を開弁させるには不
    十分である電流を前記ソレノイド弁装置のソレノイドに
    流すに十分であり、前記初期電圧レベルは前記第二の電
    圧レベルよりも高く且前記ソレノイド弁装置を閉弁状態
    より開弁状態へ移行させるに十分な電流を前記ソレノイ
    ド弁装置の前記ソレノイドに流す電圧レベルである制御
    電圧パルスを発生する手段と、前記導管の第二の端部を
    経て前記ガスパルス発生手段と流体的に連通するノズル
    手段であって、前記ノズル手段は排出端部を有し、先細
    部分を含み、前記排出端部より上流側方向に平滑に末広
    状をなす外形を有するノズル手段と、 を含む可変周波数ジェット換気装置。
  3. （３）呼吸療法に使用されるガスパルスを発生する方法
    にして、 一次ガス流を与える過程と、 常閉型のソレノイド弁により一次ガス流を周期的に遮断
    する過程と、 第一及び第二の電圧レベルを有するソレノイド制御電圧
    パルスであって、前記電圧レベルは前記ソレノイド弁の
    ソレノイドの定格電圧よりも高い初期電圧と、前記定格
    電圧よりも低く且前記ソレノイドを作動状態に維持する
    に十分な第二の連続的な電圧とを含むソレノイド制御電
    圧パルスを発生する過程と、 前記電圧パルスを前記ソレノイド弁の前記ソレノイドに
    供給してガスパルスを発生させる過程と、を含む方法。
JP62015906A 1986-01-27 1987-01-26 可変周波数ジエツト換気装置 Pending JPS62183763A (ja)

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