JPS62171185A - Manufacture of flexible printed circuit - Google Patents

Manufacture of flexible printed circuit

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Publication number
JPS62171185A
JPS62171185A JP61012692A JP1269286A JPS62171185A JP S62171185 A JPS62171185 A JP S62171185A JP 61012692 A JP61012692 A JP 61012692A JP 1269286 A JP1269286 A JP 1269286A JP S62171185 A JPS62171185 A JP S62171185A
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JP
Japan
Prior art keywords
printed circuit
flexible printed
bis
circuit board
metal foil
Prior art date
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Pending
Application number
JP61012692A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
純一 今泉
長尾 孝一
善幸 池添
英吉 佐藤
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Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP61012692A priority Critical patent/JPS62171185A/en
Publication of JPS62171185A publication Critical patent/JPS62171185A/en
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  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野う 本発#4はダイレクトコート法によるフレキシブルプリ
ント基板の製造法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Field of Application) This paper #4 relates to a method for manufacturing a flexible printed circuit board by a direct coating method.

(従来の技術ノ フレキシブルプリント基板は高分子絶縁フィルムの表面
に、導体回路を形成した可撓性のある配線板であり、近
年顕著にみらrrる電子機器の軽薄短小化を有効に達成
する手段として多用さnている。なかでも絶縁フィルム
としては芳香族ポリイミドがその主流を占めつつある。
(Conventional technology) A flexible printed circuit board is a flexible wiring board with a conductor circuit formed on the surface of a polymeric insulating film, and it effectively achieves the miniaturization of electronic devices, which has become noticeable in recent years. Among them, aromatic polyimide is becoming mainstream as an insulating film.

従来一般のフレキシブルプリント基板は、既製のポリイ
ミドフィルムと@箔とを接着剤を介して一体化すること
により製造さn、ていた。そさj、てしまい、ポリイミ
ドの優n、た緒特性を光分く生かせなかった。
Conventionally, general flexible printed circuit boards have been manufactured by integrating a ready-made polyimide film and @foil via an adhesive. Unfortunately, I was unable to take full advantage of polyimide's strong and flexible properties.

この問題を解決する方法として、金属箔上に金属箔と同
程度の熱膨張係数を持つポリアミド酸ワニスを直接流延
塗布、溶媒除去、イミド化反応させることにより製造す
る方法(以下ダイレクトコート法と略す)が提案さr、
つつある。
A method to solve this problem is to directly cast a polyamic acid varnish with a thermal expansion coefficient similar to that of the metal foil onto the metal foil, remove the solvent, and cause an imidization reaction (hereinafter referred to as the direct coating method). omitted) was proposed,
It's coming.

(発明が解決しようとする問題点) この方法によn、ば、前述の接着剤による特注低下が解
決さn、るだけでなく、製造工程の大巾な簡素化が可能
となる。しかしながらこの方法によると、金属箔の表面
処理の仕方によっては、ポリイミド−金属箔間に十分な
接着力が得らj、ず、信頼性に大きな支障をきたす考付
がある。
(Problems to be Solved by the Invention) This method not only solves the above-mentioned problems with customization due to adhesives, but also enables a significant simplification of the manufacturing process. However, according to this method, depending on the method of surface treatment of the metal foil, sufficient adhesion strength between the polyimide and the metal foil may not be obtained, which may seriously impede reliability.

本発明は、かかる欠点のない接着力の非常に優r、たダ
イレクトコート法によるフレキシブルプリント基板を提
供せんとするものである。
The present invention aims to provide a flexible printed circuit board which does not have such drawbacks and has very good adhesive strength and is produced by a direct coating method.

(問題点を解決するための手段及び作用2本発明者らは
、上記ダイレクトコート法により得らr、るフレキシブ
ルプリント基板のポリイミド−金属箔間の接着方向上に
有効に作用するカップリング剤について検討を行った結
果、メルカプトとシラノールエステルの両方の基を有し
たカップリング剤を用いた場合に顕著な接着力の向上が
得らn、ることを見出し本発明に至った。
(Means and Effects for Solving the Problems 2) The present inventors have developed a coupling agent that effectively acts on the adhesive direction between polyimide and metal foil of a flexible printed circuit board obtained by the above-mentioned direct coating method. As a result of studies, it was discovered that a significant improvement in adhesive strength could be obtained when a coupling agent having both mercapto and silanol ester groups was used, leading to the present invention.

即ち本発明は、導体にポリアミド酸フェスを直接塗布、
乾燥、イミド化させることによって得らn、るフレキシ
ブルプリント基板の製造において、メルカプトとシラノ
ールエステルの両方の基を有するカップリング剤を用い
ることを特徴とするものである。
That is, the present invention directly applies a polyamic acid face to the conductor,
In the production of a flexible printed circuit board obtained by drying and imidization, a coupling agent having both mercapto and silanol ester groups is used.

本発明に係るフレキシブルプリント基板は餉などの金属
箔上に金属箔と同程度の熱膨張係数をもつポリアミドL
!fRyt塗布し、溶媒除去、イミド化することにより
製造することができる。
The flexible printed circuit board according to the present invention is made of polyamide L having a coefficient of thermal expansion comparable to that of the metal foil on a metal foil such as a porcelain.
! It can be manufactured by applying fRyt, removing the solvent, and imidizing it.

金属箔上に最終的に形成されるポリイミドは下記の一般
式で表わさr、る反後単位を有する重合体(ここでR1
)X芳香族ジアミン、ジインシアナートのアミノ基、シ
アナート基を除いた残基であり、 R2は芳香族テトラ
カルボン酸誘導体のカルボン酸誘導部を除いた残基であ
る。〕である。
The polyimide finally formed on the metal foil is a polymer represented by the following general formula r, which has a rear unit (here, R1
) ].

R1としてf! p、m、0−フ二二レンジアミン、2
゜4−ジアミノトルエン、2,5−ジアミノトルエン、
2,4−ジアミノ牛シレン、ジアミノジュレン、1,5
−ジアミノナフタレン、2,6−ジアミノナフタレン、
ベンジジン、 4.4’−ジアミノタ−フェニh、4.
4“′−ジアミノクォーターフェニル、4.4’−ジア
ミノジフェニルメタン、1,2−ビス(アニリノンエタ
ン、4.4’−ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノ
ジフェニルスルホン、2,2−ビス(p−アミノフェニ
ル)フロパン、2,2−ビス(p−アミノフェニルンへ
キサフルオロプロパン、2,6−ジアミノナフタレン、
5.6′−ジメチルベンジジン、5.5’−ジメトキシ
ベンジジン、 5.5’−ジメチル−4,4′−ジアミ
ノジフェニルエーテル、 5.5’−ジメチル4.4’
−ジアミノジフェニルメタン、ジアミノトルエン。
f as R1! p, m, 0-phenyl diamine, 2
゜4-diaminotoluene, 2,5-diaminotoluene,
2,4-diamino-cow sirene, diamino durene, 1,5
-diaminonaphthalene, 2,6-diaminonaphthalene,
benzidine, 4.4'-diaminotaphenylene, 4.
4"'-Diaminoquaterphenyl, 4.4'-diaminodiphenylmethane, 1,2-bis(anilinoneethane, 4.4'-diaminodiphenyl ether, diaminodiphenylsulfone, 2,2-bis(p-aminophenyl)furopane, 2 , 2-bis(p-aminophenyl hexafluoropropane, 2,6-diaminonaphthalene,
5.6'-dimethylbenzidine, 5.5'-dimethoxybenzidine, 5.5'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenyl ether, 5.5'-dimethyl 4.4'
-diaminodiphenylmethane, diaminotoluene.

ジアミノベンシトリアルオライド、1,4−ビス(p−
アミノフェノキシ)ベンゼン、4.4’−ビス(p−ア
ミノフェノキシ)ビフェニル、2,2−ビス(4−(p
−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、ジアミノア
ントラキノン、4,4′−ビス(6−アミツフエノキシ
フエニルノジフエニルスルホン、  1.5−ビス(ア
ニリノ〕ヘキサフルオロプロパン、1,4−ビス(アニ
リノ)オクタフルオロブタン、1,5−ビス(アニリノ
)デカフルオロペンタン、1,7−ビス(アニリノ)テ
トラデ力ンルオロへブタン、2,2−ビス(4−(p−
アミノフェノキシ)フェニル)へキサフルオロプロパン
、2,2−ビス(4−(5−アミノフェノキシ2フエニ
ル)へキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−(2
−アミノフェノキジンフェニル)へキサフルオロプロパ
ン、2゜2−ビス(4−(4−アミノンエノキシ)−6
゜5−ジメチルフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2
,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシフ−3,5−
ジトリフルオロメチルフェニル)へキサフルオロプロパ
ン、p−ビス(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフ
ェノキシ)ベンゼン、4.4′−ビス(4−アミノ−2
−トリフルオロメチルフェノキシ)ビフェニル、4.4
’−ビス(4−アミノ−6−トリフルオロメチルフェノ
キシ)ビフェニル、4.4′−ビス(4−アミノ−2−
トリフルオロメチルフェノキシ)ジフェニルスルホン、
4,4′−ビス(5−アミノ−5−トリフルオロメチル
フェノキシ)ジフェニルスルホン、2.2−ビス(4−
(4−アミノ−5−トリフルオロメチルフェノキシ)フ
ェニル)へキサフルオロプロパンなどのジアミン類、並
び忙こn、らのジアミンとホスゲンなどの反応によって
得らnるジイソシアナート例えばトリクレンジイソシア
ナート、ジフェニルメタンジインシアナート、ナフタレ
ンジイソシアナート、ジフェニルエーテルジイソシアナ
ート、フェニレン−1,5−ジイソシアナートなどの芳
香族ジイソシアナート類がある。また、テトラカルボン
酸並びにその銹導体としては次のようなものが挙げらj
Diaminobencitrial olide, 1,4-bis(p-
aminophenoxy)benzene, 4,4'-bis(p-aminophenoxy)biphenyl, 2,2-bis(4-(p
-aminophenoxy)phenyl)propane, diaminoanthraquinone, 4,4'-bis(6-amituphenoxyphenylnodiphenylsulfone, 1,5-bis(anilino)hexafluoropropane, 1,4-bis(anilino) Octafluorobutane, 1,5-bis(anilino)decafluoropentane, 1,7-bis(anilino)tetradefluorohebutane, 2,2-bis(4-(p-
aminophenoxy)phenyl)hexafluoropropane, 2,2-bis(4-(5-aminophenoxy2phenyl)hexafluoropropane, 2,2-bis(4-(2
-Aminophenokidinphenyl)hexafluoropropane, 2゜2-bis(4-(4-aminoneenoxy)-6
゜5-dimethylphenyl)hexafluoropropane, 2
,2-bis(4-(4-aminophenoxif-3,5-
ditrifluoromethylphenyl)hexafluoropropane, p-bis(4-amino-2-trifluoromethylphenoxy)benzene, 4,4'-bis(4-amino-2
-trifluoromethylphenoxy)biphenyl, 4.4
'-bis(4-amino-6-trifluoromethylphenoxy)biphenyl, 4,4'-bis(4-amino-2-
trifluoromethylphenoxy) diphenyl sulfone,
4,4'-bis(5-amino-5-trifluoromethylphenoxy)diphenylsulfone, 2,2-bis(4-
Diamines such as (4-amino-5-trifluoromethylphenoxy)phenyl)hexafluoropropane, as well as diisocyanates obtained by the reaction of diamines such as phosgene and the like, such as triclean diisocyanate, There are aromatic diisocyanates such as diphenylmethane diisocyanate, naphthalene diisocyanate, diphenyl ether diisocyanate, and phenylene-1,5-diisocyanate. In addition, examples of tetracarboxylic acids and their rust conductors include the following:
.

る。ここではテトラカルボン酸として例示するが、こj
、のエステル化物、酸無水物、酸塩化物ももちろん使用
出来る。ピロメリット酸、2,3゜5’、4’−テトラ
カルボキシジフェニル、5.名4.4’−テトラカルボ
キシジフェニル、3.5’、4.4’−テトラカルボキ
シジフェニルエーテル、2,3,5′、4′−テトラカ
ルボキシジフェニルエーテルs 515’94.4′−
テトラカルボキンベンゾンエノン、 2,5゜5’、4
’−テトラカルボキシベンゾフェノン、2,5゜6.7
−テトラカルボキシナフタレン、?、4,5.7−チト
ラカルポキシナ7タレン、1,2,5.6−fトラカル
ボキシナフタレン、5.5’、4.4’−テトラカルボ
キシジフェニルメタン、2,2−ビス(6゜4−ジカル
ボキシフェニル)プロパン、2.2−ビス(5,4−ジ
カルボキシフェニル)へキサフルオロプロパン、 s、
3<4.4’−テトラカルボキシジフェニルスルホン、
  5,4,9,10 −f トラ力にボキシペリレン
、2,2−ビス(4−(5,4−ジカルボキシフェノキ
シ)フェニル)プロパン、2.2−ビス(4−(5,4
−ジカルボキシフェノキシ)フェニル)へキサフルオロ
プロパン、ブタンテトラカルボン酸、シクロペンタンテ
トラカルボン酸などがある。
Ru. Here, it is exemplified as a tetracarboxylic acid, but this
Of course, esters, acid anhydrides, and acid chlorides of , can also be used. Pyromellitic acid, 2,3°5',4'-tetracarboxydiphenyl, 5. Name 4.4'-tetracarboxydiphenyl, 3.5',4.4'-tetracarboxydiphenyl ether, 2,3,5',4'-tetracarboxydiphenyl ether s 515'94.4'-
Tetracarboquinbenzoneenone, 2,5°5',4
'-Tetracarboxybenzophenone, 2,5°6.7
-Tetracarboxynaphthalene, ? , 4,5.7-titracarboxynaphthalene, 1,2,5.6-f tracarboxynaphthalene, 5.5',4.4'-tetracarboxydiphenylmethane, 2,2-bis(6゜4 -dicarboxyphenyl)propane, 2,2-bis(5,4-dicarboxyphenyl)hexafluoropropane, s,
3<4.4'-tetracarboxydiphenyl sulfone,
5,4,9,10 -f Tora force, boxyperylene, 2,2-bis(4-(5,4-dicarboxyphenoxy)phenyl)propane, 2,2-bis(4-(5,4
-dicarboxyphenoxy)phenyl)hexafluoropropane, butanetetracarboxylic acid, cyclopentanetetracarboxylic acid, etc.

また金属箔に塗布するポリアミド酸の溶液は単一である
必要はなく2種頌以上のものを混付あるいは共縮合した
ものをもちいることもできる。むしろポリマーの熱膨張
係数を金属箔と会わせるために適当にモディファイする
ことが望ましい。例えば金属箔に銅mt−用いる場合基
板のカールを防ぐためにポリイミドの50℃5250℃
の平均熱膨張係数t−2X10″″l1l(−1@後に
分子設計する必要がある。
Further, the polyamic acid solution to be applied to the metal foil does not have to be a single solution, but a mixture or co-condensation of two or more types can also be used. Rather, it is desirable to suitably modify the coefficient of thermal expansion of the polymer to match that of the metal foil. For example, when using copper mt for metal foil, polyimide at 50°C, 5250°C to prevent curling of the board.
It is necessary to design the molecule after the average thermal expansion coefficient t-2

合成反応は、N−メチル−2−ピOリドン(NMP)、
N、N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N、N−ジ
メチルアセトアミド(DMAc)、ジメチルスルホキサ
イド(DMSO)、硫酸ジメチル、スルホラン、γ−ブ
チロラクトン、クレゾール、フェノール、ハロゲン化フ
ェノール。
The synthesis reaction consists of N-methyl-2-pyolidone (NMP),
N,N-dimethylformamide (DMF), N,N-dimethylacetamide (DMAc), dimethyl sulfoxide (DMSO), dimethyl sulfate, sulfolane, γ-butyrolactone, cresol, phenol, halogenated phenol.

シクロヘキサノン、ジオキサンなどの溶液中で0〜12
0℃の範囲で行わj、る。
0 to 12 in solutions such as cyclohexanone and dioxane
It is carried out in the range of 0℃.

本発明における金属導体箔として用いら1.るものには
、銅、アルミニウム、鉄、金、銀、ニッケルパラジウム
、クロム、モリブデンなどまたはそ1.らの合金が挙げ
らn6、ポリイミドとの接着力を高めるために、コロナ
放電サンディング等の機械的処理をしてもよい。
1. Used as a metal conductor foil in the present invention. Copper, aluminum, iron, gold, silver, nickel palladium, chromium, molybdenum, etc. These alloys may be subjected to mechanical treatment such as corona discharge sanding in order to increase their adhesion to polyimide.

本発明におけるカップリング剤として用いらn、るもの
は、その分子中にメルカプト基とシラノールエステル基
の両方をもつものであ71.ば何ら限定さn、るもので
はなく、例えばγ−メルカプトプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ
−メルカプトグロビルトリプΩボキシシラン、γ−)t
ルカプトプロビルトリブトキシシラン、γ−メルカプト
プロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロ
ピルメチルジェトキシシラン、γ−メルカプトブロビル
メチルジプロボキシシラン、γ−メルカプトプロピルメ
チルジブトキシシランなどが挙げらj2、信越化学裂K
P−591(商品名)などの様なオリゴマーであっても
よい。その用い方としては、塗布すべき金属箔に予じめ
塗布して用いる方法と、フェスにブレンドする方法があ
る。金属箔に塗布して用いる場合には、カップリング剤
をアセトン、トルエン、アルコール、水等の溶媒に0.
1〜20we%望ましくは0.1〜10W【%俗解し、
予じめ金属箔に塗布、乾燥しておき、ポリアミド酸全塗
布する。筺だブレンドする方法としては、ポリアミック
酸不揮発分に対しカップリング剤を0.1〜10wt%
望!シ<+zQ、1〜5wt% 210え充分に攪拌し
て用いる。接着性の向上を図るには、後者のブレンドす
る方法がより効果的である。
The coupling agent used in the present invention has both a mercapto group and a silanol ester group in its molecule71. For example, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane,
-Mercaptoglobil trip Ωboxysilane, γ-)t
Examples include lucatopropyl tributoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyljethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldiproboxysilane, γ-mercaptopropylmethyldibutoxysilane, etc. Shin-Etsu Kagaku K
It may also be an oligomer such as P-591 (trade name). There are two ways to use it: one is to pre-apply it to the metal foil to be coated, and the other is to blend it into the festival. When used by coating on metal foil, the coupling agent is added to a solvent such as acetone, toluene, alcohol, or water at 0.00%.
1~20we% desirably 0.1~10W [% commonly understood,
Coat it on metal foil in advance, let it dry, and then completely coat it with polyamic acid. The method of kobada blending is to add 0.1 to 10 wt% of the coupling agent to the nonvolatile content of the polyamic acid.
Hope! <+zQ, 1 to 5 wt% 210, stir thoroughly before use. The latter method of blending is more effective in improving adhesion.

本発明において金属箔上にポリイミドフィルム層全形成
させる方法としては、金pA箔の表面にポリアミド酸を
8〜40重景%置部溶液を製膜用スリットから吐出させ
て均一に塗布する。
In the present invention, the entire polyimide film layer is formed on the metal foil by uniformly coating the surface of the gold pA foil with a solution of 8 to 40% polyamic acid by discharging it from a film-forming slit.

この塗工方法としてはロールコータ、コンマコータ、ナ
イフコータ、ドクターブレードフローコータ、密閉コー
タなどによるものが挙げらγ1゜る。
Examples of this coating method include those using a roll coater, comma coater, knife coater, doctor blade flow coater, sealed coater, etc.

次に上記の様にして金M箔に直接塗布したポリマー溶液
の溶媒を60〜200℃で加熱除去する。この時減圧下
で除去することも可能である。最後に200〜450℃
に加熱してイミド化を行う。
Next, the solvent of the polymer solution directly applied to the gold M foil as described above is removed by heating at 60 to 200°C. At this time, it is also possible to remove under reduced pressure. Finally 200-450℃
Imidization is performed by heating to .

この時最終硬化温度が重要である。MIIち金属導体と
ほぼ同じ熱膨張係数をもつポリイミドを形成しても加熱
途中の溶媒蒸発やイミド化反応に伴う収縮応力が発生す
るからである。この応力によりフレキシブルプリント基
板のそりやねじn、が生じる場合がある。
At this time, the final curing temperature is important. This is because even if a polyimide having a coefficient of thermal expansion approximately the same as that of the MII metal conductor is formed, shrinkage stress occurs due to solvent evaporation and imidization reaction during heating. This stress may cause warping or screwing of the flexible printed circuit board.

こr、らの応力は最終加熱温度全ポリマーのガラス転移
温度以上にすj、ば容易に緩和することができる。この
ようにして金属箔上に10〜160μmのポリイミドフ
ィルム層が形成さnる。
These stresses can be easily relaxed if the final heating temperature is higher than the glass transition temperature of the entire polymer. In this way, a polyimide film layer of 10 to 160 μm is formed on the metal foil.

本発明においては、塗工、溶媒除去、イミド化を行う雰
囲気が重要である。例えば大気中で前述の一連の操作を
行い銅箔上にポリイミドフィルム層を形成した場合、後
に銅箔をエッチアウトして得らj、るポリイミドフィル
ムにハ劣化が観察さn、る。その原因は、酸素の存在下
での銅イオンとアミド基との反応によるものであり、酸
素を遮断することにより劣化を大巾に抑制できる。イミ
ド理形成後は、熱履歴金堂けても劣化は起りにくい。i
たこの劣化反応は、硬化を行う強熱時に最も進行しここ
で酸素全遮断すると最も大きな効果が得らγCる。ポリ
マー浴液塗布、溶媒除去時にも酸素を遮断することが望
ましい。酸素を遮断する方法として真空雰囲気、不活性
気体雰囲気があシ、不活性気体としてはヘリウム、ネオ
ン、アルゴン、窒素、金属光輝焼鈍用気体やこnらの混
合気体が皐げらn、る。
In the present invention, the atmosphere in which coating, solvent removal, and imidization are performed is important. For example, when a polyimide film layer is formed on a copper foil by carrying out the series of operations described above in the atmosphere, deterioration is observed in the polyimide film obtained by etching out the copper foil later. The cause is the reaction between copper ions and amide groups in the presence of oxygen, and deterioration can be greatly suppressed by blocking oxygen. After imide formation, deterioration is unlikely to occur even if thermal history is lost. i
The deterioration reaction of octopus progresses the most during ignition during curing, and the greatest effect is obtained when oxygen is completely cut off at this point. It is also desirable to block oxygen during polymer bath solution application and solvent removal. A vacuum atmosphere or an inert gas atmosphere is used as a method for blocking oxygen, and examples of the inert gas include helium, neon, argon, nitrogen, metal bright annealing gas, and a mixture of these gases.

(実施例) 次に本発明を実施例に基き史に説明する。(Example) Next, the present invention will be explained based on examples.

合成例1 熱電対、攪拌機、窒素吹込口金取付けた50jステンレ
ス製反応釜に毎分約500m1の乾燥窒素を流しなから
◆−フェニレンジアミン614、1 gr 、 4.4
’−ジアミノジフェニルエーテル280.4grとN−
メチル−2−ピロリドン全17kg入n攪拌しジアミン
全溶解した。この浴Wiヲウォータージャケットで20
℃以下に冷却しながら、5.5’4.4’−ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物2105.4grを除々に加
え重付反応させ、粘ちょうなポリアミド酸ワニスを得た
。以後の塗櫻作業性を良くするためにこのワニスの回転
粘度が約500ポアズになる筐で85°Cでワラキング
全行った。
Synthesis Example 1 About 500 ml of dry nitrogen per minute was poured into a 50J stainless steel reaction pot equipped with a thermocouple, a stirrer, and a nitrogen inlet nozzle.◆-Phenylenediamine 614, 1 gr, 4.4
'-diaminodiphenyl ether 280.4gr and N-
A total of 17 kg of methyl-2-pyrrolidone was added and stirred to completely dissolve the diamine. 20 in this bath Wiwo water jacket
While cooling to below .degree. C., 2105.4 gr of 5.5'4.4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride was gradually added to carry out a weight reaction, thereby obtaining a viscous polyamic acid varnish. In order to improve the subsequent coating workability, this varnish was completely coated at 85°C in a case where the rotational viscosity of the varnish was approximately 500 poise.

笑施fIl i 合成例1で合成したポリアミド酸ワニスにγ−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン固型分に対し1.0wt
%添加し光分攪拌した。このワニスを日本鉱業製JTC
銅箔(商品名、65μm’tJi解箔以下JTC箔と略
す)に塗工機を用いて塗工し、強制循環乾燥炉中で乾燥
を行い、次いでターンロール方式望累雰囲硬化炉中67
0℃でイミド化反応を完結させフレキシブル銅張板を得
た。このフレキシブル銅張板の銅をエツチングし耐巾Q
、 5 +nmの回路をもつフレキシブルプリント基板
全作成した。このフレキシブルプリント基板のビール強
度(90°5Qmm−4−9は、機械方向(以下MDと
略す) 2.4 kg −Cm−’/。
1.0 wt of γ-mercaptopropyltrimethoxysilane solid content was added to the polyamic acid varnish synthesized in Synthesis Example 1.
% and stirred optically. This varnish is manufactured by Nippon Mining Co., Ltd.
Coating was performed on copper foil (trade name: 65μm'tJi defoiling, hereafter abbreviated as JTC foil) using a coating machine, dried in a forced circulation drying oven, and then dried in a turn-roll type continuous atmosphere curing oven.
The imidization reaction was completed at 0°C to obtain a flexible copper-clad board. By etching the copper of this flexible copper clad board, the width Q
, a complete flexible printed circuit board with a 5+nm circuit was fabricated. The beer strength (90°5Qmm-4-9) of this flexible printed circuit board is 2.4 kg-Cm-'/ in the machine direction (hereinafter abbreviated as MD).

機械力向に対して垂直方向(以下TDと略す)2.5 
kg −cm−1であった。
Direction perpendicular to mechanical force direction (hereinafter abbreviated as TD) 2.5
kg-cm-1.

実施例2 γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランのメタノー
ル5wt−%溶/!!を塗布、乾燥したJTC箔に合成
例1で合成したポリアミド歇ワニス1!:実施例1と同
様に塗工、乾燥、イミド化。
Example 2 5 wt-% methanol solution of γ-mercaptopropyltrimethoxysilane/! ! Polyamide varnish 1 synthesized in Synthesis Example 1 was coated and dried on JTC foil. : Coating, drying, and imidization in the same manner as in Example 1.

エツチングし7レキシプルプリント基板を得た。After etching, a 7 lexiple printed circuit board was obtained.

このフレキシブルプリント基板のビール強度に、MD 
、TD力向とも1.9 kg −cr’であった。
Due to the beer strength of this flexible printed circuit board, MD
, TD force direction were both 1.9 kg-cr'.

実施例5 γ−メルカプトグロビルトリプトキシシランを用いた他
は実施例11と同様にしてフレキシブルプリント基板を
得た。このフレキシブルプリント基板のビール強度は、
MD 、TD力方向も2、5 ’fJ!、−C1ll−
’ でアラy、:。
Example 5 A flexible printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 11 except that γ-mercaptoglobil triptoxysilane was used. The beer strength of this flexible printed circuit board is
The MD and TD force directions are also 2.5'fJ! , -C1ll-
'Ayyyyyyyyyyyyyyy, :.

実施例4 γ−メルカプトグロビルトリプトキシシランを用いた他
は、実施例2とII!r1様にしてフレキシブルプリン
ト基板を得た。ビール強度は、MD。
Example 4 Example 2 and II, except that γ-mercaptoglobil triptoxysilane was used! A flexible printed circuit board was obtained in the same manner as r1. Beer strength is MD.

TD力方向も1.9にに・Cll1−1であった。The TD force direction was also 1.9.Cll1-1.

実施例5 信越化学内KP−591([品名、メルカプタン−シラ
ノールエステル糸カップリング剤、化学構造未知、以下
KP−591と略す)をポリアミド酸ワニスの固型分に
対し2.5wt・ %用いた他は実施fl11と同様に
してフレキシブルプリント基板を得た。ビール5!i度
はMDD向2゜9 kg −cn+−1、TDD向15
 kg ・Cm−’ T th ッf、:。
Example 5 Shin-Etsu Chemical's KP-591 (product name, mercaptan-silanol ester thread coupling agent, chemical structure unknown, hereinafter abbreviated as KP-591) was used at 2.5 wt% based on the solid content of polyamic acid varnish. Otherwise, a flexible printed circuit board was obtained in the same manner as in Example fl11. Beer 5! i degree is 2゜9 kg -cn+-1 for MDD, 15 for TDD
kg ・Cm-' T th ff, :.

実施例6 KP−591のn−ブタノール5wt%浴液を用いた他
は、実施例2と同様にしてフレキシブルプリント基、f
を得た。ビーに強度は、 MDD向2.5 kg −c
m−” 、 T D方向2.7 kg −c+n−I 
Tあった。
Example 6 A flexible printed group, f
I got it. The strength of the bee is 2.5 kg-c for MDD.
m-", TD direction 2.7 kg -c+n-I
There was a T.

比較例1 合成例1で合成した#象加のポリアミド酸ワニスを用い
た他は、実施例1と同様にしてフレキシブルプリント基
板を得た。ビールgifi&IMDy5向αf3 kg
 −cm−1’l’ f)方向1. Q kg −Cm
−’であった0 トリメトキシシランのメタノール5wt−%溶成を用い
た他は実施fl! 2と同様にしてフレキシブルプリン
ト基板を得た。ビール強度はMD刀同0、9 kg −
Cm−’ T D方向1.Q kg −crn−’であ
ツタ。
Comparative Example 1 A flexible printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 1, except that the #elephant polyamic acid varnish synthesized in Synthesis Example 1 was used. Beer gifi & IMDy5 direction αf3 kg
-cm-1'l' f) Direction 1. Q kg-Cm
-' was carried out except that 5 wt-% methanol elution of trimethoxysilane was used! A flexible printed circuit board was obtained in the same manner as in 2. Beer strength is the same as MD sword 0, 9 kg -
Cm-' T D direction 1. Q kg -crn-' and ivy.

比較例5 N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
を用いた他は実施例2と同様にしてフレキシブルプリン
ト基板を得た。ビール強度は、MD 、TD力方向もi
、 o kg−cm” テあツタ。
Comparative Example 5 A flexible printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 2 except that N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane was used. Beer strength is MD, TD force direction is also i
, o kg-cm” Te Atsuta.

比較例4 γ−グリシドキシグロビルトリメトキシシランを用いた
他は、実施例2と同様にしてフレキシブルプリント基板
を得た。ビール強度はMD力四回11kg −cm−’
 T D方向Q、8 kg −c+n−I T アラた
Comparative Example 4 A flexible printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 2, except that γ-glycidoxyglobyltrimethoxysilane was used. Beer strength is MD force 4 times 11kg -cm-'
TD direction Q, 8 kg -c+n-IT Arata.

比較例5 楠本化成製CAVCOMOD  APG(商品名、ジル
コアルミネート系カップリング剤)のアセトン溶gを用
いた他は実施例2と同様にしてフレキシブルプリント基
板ヲ得た。ビール強度は、MD 、TD力方向も0.6
1(g −cm−”tl’ ;hった。
Comparative Example 5 A flexible printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 2, except that an acetone solution of CAVCOMOD APG (trade name, zircoaluminate coupling agent) manufactured by Kusumoto Kasei Co., Ltd. was used. Beer strength is 0.6 in both MD and TD force directions.
1(g-cm-"tl'; h.

(発明の効果) 以上詳細に説明した如く本発明によnば、接着力の非常
に優n、たダイレクトコート法によるフレキシブルプリ
ント基板の製造が可能になった。
(Effects of the Invention) As described above in detail, according to the present invention, it has become possible to manufacture a flexible printed circuit board with very good adhesive strength by the direct coating method.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1、ポリアミド酸ワニスを導体に直接塗布しイミド化さ
せるフレキシブルプリント基板の製造法において、メル
カプトとシラノールエステルの両方の基を有するカップ
リング剤を用いることを特徴とするフレキシブルプリン
ト基板の製造法。
1. A method for manufacturing a flexible printed circuit board in which a polyamic acid varnish is directly applied to a conductor and imidized, the method comprising using a coupling agent having both mercapto and silanol ester groups.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS593991A (en) * 1982-06-29 1984-01-10 東レ株式会社 Printed circuit board
JPS60127348A (en) * 1983-12-12 1985-07-08 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Epoxy resin composition and electrical laminated board
JPS60243120A (en) * 1984-05-18 1985-12-03 Hitachi Ltd Flexible printed base board and production thereof

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