JPS62162464A - ラツピング装置 - Google Patents

ラツピング装置

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Publication number
JPS62162464A
JPS62162464A JP61000232A JP23286A JPS62162464A JP S62162464 A JPS62162464 A JP S62162464A JP 61000232 A JP61000232 A JP 61000232A JP 23286 A JP23286 A JP 23286A JP S62162464 A JPS62162464 A JP S62162464A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pressure
speed
lapping
machining
sample
Prior art date
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Pending
Application number
JP61000232A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshio Tamura
利夫 田村
Tsuneo Oku
於久 常雄
Noriyoshi Arakawa
荒川 紀義
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP61000232A priority Critical patent/JPS62162464A/ja
Publication of JPS62162464A publication Critical patent/JPS62162464A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明はラッピング装置に係り、とくに高能率かつスク
ラッチ(5cra tch)のない高精度な仕上面を加
工するのに好適なラッピング装置に関するものである。
〔発明の背景〕
従来の回転式ラッピング装置においては、一般に機械剛
性が低く、振動が大きいため、通常定盤の回転数を10
Orpm以下で、ラッピング速度を数10 m/min
程度に低くなっている。
また試料とランプ定盤との間のなじみを良くしかつスク
ラッチの発生のない仕上面を得るために最初試料とラッ
プ定盤との相対速度を低くしかつ試料をラップ定盤に加
圧する加圧力を小さくして試料を予備加工したのち、一
旦ラッピング装置の駆動を停止して再び所定の速度およ
び加圧力にてラッピング加工を行なう方法が実施されて
いる。
しかるに前記の方法で機械操作が多くなって作業能率が
低下する問題がある。
また従来のラッピング装置においては、たとえば特開昭
53−34190号公報に記載されている如く、加工開
始時には試料を高速度で研摩し、ついで仕上げに向けて
速度を低下しながら研摩し、最終指定寸法の付近では試
料の研摩表面に脆性波jfi層を生じない程度の低速度
で研摩し、上記試料を最終指定寸法に研摩仕上げする研
摩方法が提案されている。
しかるに上記の方法においては、研摩速度の制御を加工
時間により制御しているため、ランプ定盤の形状変化に
より加工能率が一定にならないので、速度を変化させる
時期が不安定になって加工精度が不均一になる恐れがあ
る。
〔発明の目的〕
本発明は前記従来の問題点を解消し、スクラッチのない
高精度な仕上面および高能率を可能とするラッピング装
置を提供することにある。
〔発明の概要〕
本発明は前記の目的を達成するため、ラップ定盤回転式
のラッピング装置において、加工量を検出して加工量に
相当する信号を出力する検知手段と、この検知手段から
の出力信号に連動して加工開始時および加工終了時のラ
ップ定盤の回転速度を低速におよび試料をラップ定盤に
加圧する加圧力を低圧にし、加工中期のラップ定盤の回
転速度を高速に、および試料をラップ定盤に加圧する力
を高圧にするように制御する制御手段とを設けたことを
特徴とするものである。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の一実施例を示す第1図乃至第3図につい
て説明する。第1図は本発明によるラッピング装置全体
を示す斜視図、第2図は第1図に示すラッピング装置本
体部分の一部断面正面図、第3図は加工量とラップ定盤
の回転速度および試料の加圧量との関係を示す図である
lはベースにして、箱形状に形成されている。
2はラップ定盤にして上記ベース1上に回転テーブル3
を介して回転自在に支持されている。↓はラップ定盤回
転駆動機構にして、上記ベースl内に支持され、モータ
5.2個のブーIJ6a、6bおよびベルト7と、上記
回転テーブル3に接続する回転軸8とから形成されてい
る。9はコラムにして、上記ベース1上に固定された揺
動モータ10の駆動により揺動機構(図示せず)を介し
てベースl上に揺動自在に支持されている。旦は2個の
ワークホルダ回転駆動機構にして、夫々上記ベース1上
に支持された支持板12と、この支持板12の一端部に
固定されたモータ13と、このモータ13の軸端部上記
支持板12の下方位置に支持されたブー’J14aと、
このプーリ14aにベルト15を介して接続する2個の
プーリ14bと、上記支持板12に支持され、一端部に
上記2個のプーリ14bを支持し、他端部に後述のワー
クホルダ16の外周面上記ランプ定盤2の回転中心位置
に対して外方に相当する2個所に対接してワークホルダ
16に回転を伝える2個のローラ(図示せず)を支持す
る軸(図示せず)とから形成されている。16はワーク
ホルダにして、後述の試料加圧機構旦の加圧センタ23
の先端部に回転中心部を嵌挿支持され、上記支持台12
の他端部を貫通する穴12a内に上下方向に移動自在に
嵌挿し、下面に試料を吸着支持する如く形成されている
。Hはバイト送り機構にして、上記ベース1上に支持さ
れた切換機構20と、この切換機構20の両側面に上下
方向に位置をずらして接続するバイト前進用モータ19
aおよびバイト後退用モータ19bと、上記切換機構2
0に後端部を接続し。
前端部にバイト18を支持してベースl上をランプ定盤
2の回転中心位置に向って半径方向に前進。
後退可能に支持された摺動体20aとから形成されてい
る。■は試料加圧機構にして、上記コラム9に固定され
たケース22と、このケース22内に設置されたエアー
シリンダ(図示せず)と、このエアーシリンダ内へのエ
アーの給排によって摺動し。
先端部に嵌挿支持するワークホルダ16を上下方向に移
動してワークホルダ16に吸着支持された試料とランプ
定盤2との加圧力を調整するセンタ23とから形成され
ている。なお第2図においては加圧センタ23の先端部
が支持台12に対して上方に位置しているが、これは未
だワークホルダ16を嵌挿支持する前の状態を示すもの
である。24は操作盤にして、上記ベースlとは別な位
置に固定支持され、試料をラッピング加工する前にラッ
プ定盤2の表面を研削するさいには該操作盤24から上
記バイト送り機構Hの2個のモータ19a、19bの駆
動・停止と、ランプ定盤回転駆動機構↓のモータ5の駆
動・停止を行ない、ランプ定盤2の表面の研削が終了後
後述の制御機構25に制御開始の指令を与え、それ以降
は制′4B機構25からの詳細に基いてラップ定盤回転
駆動機構↓のモータ5の駆動・停止を行なう如くしてい
る。25は制御機構にして、上記ベース1内に設置され
、上記操作盤24からの制御開始指令を受けたとき、上
記ランプ定盤回転駆動機構↓のモータ5を操作盤24を
介して駆動・停止させるとともにモータ5の回転速度を
後述の変位計28からの検出信号に基いて第3図に示す
如く、あらかじめ設定された低速N1および高速N2に
制御し、同時に試料加圧機構■のエアーシリンダ内にエ
アーを給排するとともに加圧センタ23によるワークホ
ルダ16の上下方向の加圧量を低圧P、および高圧P2
に制御する如く形成されている。また制御機構25はワ
ークホルダ回転駆動機措置のモータ13、揺動モータ1
0および砥粒液供給機構26の駆動および停止を行なう
ように形成されている。
26は砥粒液供給機構にして、上記ベース1に固定され
、砥粒液供給源(図示せず)に接続するとともに、上記
制御機構25からの指令により砥粒液をホース27の先
端部よりラップ定盤2の表面に供給する如く形成されて
いる。28は変位計にして、コラム9に支持され、先端
部を試料の上面に対接して試料の加工量を検出するとと
もに、加工量に相当する検出信号を上記制御機構25に
出力する如く形成されている。
本発明によるラッピング装置は前記の如く構成されてい
るから、先づ、操作盤24からの指令によりラップ定盤
回転駆動機装置のモータ13が駆動してラップ定M2が
回転する。この場合のランプ定盤2の回転数は上記操作
盤24にてバイト18により加工されるのに最適な回転
数にあらかじめ設定されている。またバイト送り機構H
のバイト前進用モータ19aが駆動し、切換機構20お
よび摺動体20aを介してバイト18がラップ定盤2の
表面をその回転中心位置に向って半径方向に前進しつつ
ランプ定盤2の表面を平tH度の良好な面に加工する。
しかるのち、ランプ定盤2の表面の加工が終了すると、
操作盤24からの指令によりラップ定盤回転駆動機装置
のモータ13の駆動が停止してラップ定盤2の回転が停
止する。さらにバイト送り機構、丘のハイド前進用モー
タ19aの駆動が停止し、同時にバイト後退用モータ1
9bが駆動してバイト18が後退移動し、バイト18が
元の位置まで後退したとき、バイト後退用モータ19b
の駆動が停止する。
ついで、ワークホルダ16の下面に試料を吸着保持した
のち、操作盤24から制御a構25に制御開始指令すな
わちラッピング開始指令が与えられると、制御機構25
からの指令に基いて操作盤24を介してランプ定盤回転
駆動機構土のモータ5が駆動してラップ定盤2が低速N
1で回転する。また砥粒液供給機構26が駆動してホー
ス27の先端部からランプ定盤2の表面に砥粒液を供給
するとともに、ワークホルダ回転駆動機措置のモータ1
0が駆動してワークホルダ16が回転する。さらに揺動
モータ10が駆動して、コラム9が揺動運動を行ない、
かつ試料加圧機構針のエアーシリンダ内へのエアーの供
給により加圧センタ23およびワークホルダ16を介し
て試料がラップ定盤2の表面に低圧P、で加圧すると、
試料はランプ定盤20表面でラッピング加工開始され、
この加工状態を変位計28にて検出される。
しかるのち、試料が第3図に示す加工量aまで加工され
、これを変位計28が検出して検出信号を制御機構25
に入力すると、制御機構25からの指令によりランプ定
盤回転駆動機構↓のモータ5が高速N2で回転し、同時
に試料加圧機構■の加圧センタ23がワークホルダ16
を介して試料をラップ定盤2の表面に高圧P2で加圧し
て試料をラッピング加工する。
ついで、試料が第3図に示す加工ff1azまで加工さ
れ、これを変位計28が検出して検出信号を制御機構2
5に入力すると、制御機構25からの指令によりラップ
定盤回転駆動機構↓のモータ5が再び低速N1で回転し
、同時に試料加圧機構■の加圧センタ23がワー〉ホル
ダ16を介して試料をラップ定盤2の表面に低圧P+で
加圧して試料をラッピング加工する。
しかるのち、試料が第3図、に示す加工量a、まで加工
され、これを変位計28が検出して検出信号を制御機構
25に入力すると、制御機構25からの指令によりワー
クホルダ回転駆動機装置のモータ10の駆動が停止して
ワークホルダ16の回転が停止し、揺動モータ10の駆
動が停止してコラム9の揺動が停止し、砥粒液供給機構
26の駆動が停止してラップ定盤2の表面への砥粒液の
供給が停止し、かつ試料加圧機構共のエアーシリンダ内
からアエーが排出して加圧センタ23およびワークホル
ダ16を介して試料が上昇してランプ定盤2の表面から
離間する。また操作盤24を介してランプ定盤回転駆動
機構↓のモータ5の駆動が停止してランプ定盤2の回転
が停止すると、ラッピング加工が終了する。
そこでラッピングされた試料をワークホルダ16より取
外すと作業が終了する。
したがって、本発明ではラッピング加工において、一般
にスク°ラッチが入りやすい加工開始時と終了時のラン
プ定盤2の回転速度を低速に、試料の加圧力を低圧にし
、スクラッチが入りに(い加工中期のランプ定盤2の回
転速度を高速に、試料の加圧力を高圧にしているので、
スクラッチを防止して高精度にかつ高能率をもって自動
的にラッピング加工を行なうことができる。
〔発明の効果〕
以上述べた如く、本発明によればスクラッチのない高精
度の仕上面を高能率で自動的に加工することができる効
果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例を示すラッピング装置全体の斜
視図、第2図は第1図のラッピング装置本体部分を示す
一部断面正面図、第3図は加工量とランプ定盤の回転速
度および試料の加圧量との関係を示す図である。 1・・・ベース、2・・・ラップ定盤、3・・・回転テ
ーブル、±・・・ランプ定盤回転駆動機構、9・・・コ
ラム、10・・・揺動モータ、■・・・ワークホルダ回
転駆動機構、12・・・支持板、16・・・ワークホル
ダ、■・・・バイト送り機構、幻、・・・試料加圧機構
、24・・・操作盤、25・・・制御機構、26・・・
砥粒液供給機構、28・・・変位計。 代理人 弁理士  秋 本 正 実 11  図 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、ラップ定盤回転式のラッピング装置において、加工
    量を検出して加工量に相当する検出信号を出力する検知
    手段と、この検知手段からの出力信号に連動して加工開
    始時および加工終了時のラップ定盤の回転速度を低速に
    、および試料をラップ定盤に加圧する加圧力を低圧にし
    、加工中期のラップ定盤の回転速度を高速に、および試
    料をラップ定盤に加圧する加圧力を高圧に制御する制御
    機構とを設けたことを特徴とするラッピング装置
JP61000232A 1986-01-07 1986-01-07 ラツピング装置 Pending JPS62162464A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61000232A JPS62162464A (ja) 1986-01-07 1986-01-07 ラツピング装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61000232A JPS62162464A (ja) 1986-01-07 1986-01-07 ラツピング装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62162464A true JPS62162464A (ja) 1987-07-18

Family

ID=11468220

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61000232A Pending JPS62162464A (ja) 1986-01-07 1986-01-07 ラツピング装置

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JP (1) JPS62162464A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4836529A (en) * 1986-09-09 1989-06-06 Ikegami Tsushinki Co., Ltd. Sorting machine
JPH01156857U (ja) * 1988-04-20 1989-10-27
WO1996024466A1 (en) * 1995-02-06 1996-08-15 Advanced Micro Devices, Inc. Chemical-mechanical polishing of thin materials using a pulse polishing technique
USRE37622E1 (en) 1992-06-15 2002-04-02 Speedfam-Ipec Corporation Wafer polishing method and apparatus

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56146666A (en) * 1980-04-14 1981-11-14 Supiide Fuamu Kk Lapping device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56146666A (en) * 1980-04-14 1981-11-14 Supiide Fuamu Kk Lapping device

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4836529A (en) * 1986-09-09 1989-06-06 Ikegami Tsushinki Co., Ltd. Sorting machine
JPH01156857U (ja) * 1988-04-20 1989-10-27
USRE37622E1 (en) 1992-06-15 2002-04-02 Speedfam-Ipec Corporation Wafer polishing method and apparatus
WO1996024466A1 (en) * 1995-02-06 1996-08-15 Advanced Micro Devices, Inc. Chemical-mechanical polishing of thin materials using a pulse polishing technique

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