JPS62155903A - Method for dehydrating organic solvent containing silicon compound - Google Patents

Method for dehydrating organic solvent containing silicon compound

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JPS62155903A
JPS62155903A JP29528285A JP29528285A JPS62155903A JP S62155903 A JPS62155903 A JP S62155903A JP 29528285 A JP29528285 A JP 29528285A JP 29528285 A JP29528285 A JP 29528285A JP S62155903 A JPS62155903 A JP S62155903A
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JP
Japan
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organic solvent
water
silicon
azeotropic
compounds
Prior art date
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Pending
Application number
JP29528285A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masayoshi Ito
正義 伊藤
Hiroji Miyagawa
博治 宮川
Toshihiro Abe
智弘 安部
Masami Murakami
雅美 村上
Kenji Iwata
健二 岩田
Noriyuki Yanagawa
紀行 柳川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To dehydrate an org. solvent dissolving a silicon compd. having at least one Si-H bond or Si-Si bond in the molecule by combining azeotropic distillation and the treatment with a dehydrating agent, and repeating the combined process. CONSTITUTION:An org. solvent contg. water and the silicon compd. shown by the general formula, SixHyOz, and contg. at least one Si-H bond or Si-Si bond in the molecule is dehyrated (in the formula, x is >=1 positive integer, y<=2x+2, z<=2x, y and z are 0 or a positive integer, and either of the two is not 0). At this time, an org. solvent contg. at least one org. compd. which distills azeotropically with water is used. The solvent is distilled at the azeotropic point with water, the distillate is treated with a dehydrating agent and circulated to the original org. solvent, and the process is repeated. Ether compds., hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, ketones, aldehydes, amines, etc., are used as the azeotropic compd., and a molecular sieve is used as the dehydrating agent.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、分子中に少なくとも14W1のSi−H結合
あるいはSt、−Si結合を有するケイ素化合物を溶解
する有機溶剤の脱水方法に関する1゜(従来の技術) 
  、 近年エレクトロニクス工業の発展に伴い、多結晶シリコ
ンあるいはアモルファ・スシリコン等の半導体用シリ・
コンの需要が急激に増大している。水素化ケイ素Sin
 ’j2n+2はかかる半導体用シリコンの製造用原料
として最近その重要性を増して・おり、特にシラン(S
iH(1) 、ジシラン(S、12H8)、・は太陽電
池用半導体の原〜料として、今後大幅な需要増が期待さ
れている。
Detailed Description of the Invention (Field of Industrial Application) The present invention relates to a method for dehydrating an organic solvent that dissolves a silicon compound having at least 14W1 Si-H bonds or St, -Si bonds in the molecule. conventional technology)
In recent years, with the development of the electronics industry, semiconductor silicon such as polycrystalline silicon or amorphous silicon
Demand for consoles is rapidly increasing. Silicon hydride Sin
'j2n+2 has recently become increasingly important as a raw material for manufacturing silicon for semiconductors, and in particular, silane (S
Demand for iH(1), disilane (S, 12H8), and . is expected to increase significantly in the future as raw materials for semiconductors for solar cells.

従来、水素化ケイ素の製造方法としては、以下に例示す
るようないくつかの方法が知られている。
Conventionally, several methods as illustrated below are known as methods for producing silicon hydride.

■Si(IJ、+LiAeH4,−テ、、中LiCl1
+AeCe3+SiH42SiH3(J +SiH4+
SiH2Ce2これらの従来公知の方法の中でケイ化マ
グネシウムのごときケイ素合金と酸とを水溶液中で反応
させる■の方法は、たとえば、■の反応のごとく高価な
還元剤を必要とせず、また■や@の反応のごとく低温ま
たは加圧下に反応させる必要もない上、特にジシラン(
Si2H6)を製造する場合、■の反応のごとく原料と
して高価なヘキサクロロジシラン(S i 2 Ol 
e )を使用するといった欠点もないため、基本的には
最も実施容易なすぐれた方法である。
■Si(IJ, +LiAeH4, -Te,, LiCl1
+AeCe3+SiH42SiH3(J +SiH4+
SiH2Ce2 Among these conventionally known methods, method (2), in which a silicon alloy such as magnesium silicide is reacted with an acid in an aqueous solution, does not require an expensive reducing agent unlike the reaction (2), and also Unlike the @ reaction, there is no need to react at low temperatures or under pressure, and in particular, disilane (
When producing Si2H6), expensive hexachlorodisilane (S i 2 O
Since it does not have the disadvantage of using e), it is basically the easiest and best method to implement.

しかしながら、■の方法においては高級ケイ素化合物の
副生量が多く、ケイ素合金の中のケイ素のモノシラン(
S iH4)、ジシラン(Si2H6)等利用価値の高
い水素化ケイ素への転化率(以下収率という)が低いと
いう致命的な欠点があった。[ツァイトシュリフト・フ
ユアΦアンオルガニッシェ・ラント・アルゲマイネ・ヘ
ミ−(Z。
However, in the method (2), a large amount of high-grade silicon compounds are produced as by-products, and the silicon monosilane in the silicon alloy (
A fatal drawback was that the conversion rate (hereinafter referred to as yield) to silicon hydride, which has high utility value such as SiH4) and disilane (Si2H6), was low. [Zeitschrift für ΦAnorganische Land Allgemeine Hemi (Z.

Anorg、 AIlgem、 CheIll、)] 
303.283 (1960)、ジャーナルeオブ・ジ
・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ (J、 A、
 C,S、)] 57.13413 (1935))。
Anorg, AIlgem, CheIll, )]
303.283 (1960), Journal of the American Chemical Society (J.A.
C,S,)] 57.13413 (1935)).

本発明者らは、上記■の方法における問題点を解決する
方法として、(a)有機溶剤の共存下にて反応を行なう
こと(例えば特願昭58−245773号、同58−2
45772号、同59−119380号)、および(b
)該有機溶剤に溶解した高級ケイ素化合物(一般式S 
il )1 ff1Onで表わされるもの、ただし文は
3以上の正の整数であり、mおよびnはそれぞれ2文+
2.2fLを越えない正の整数であり、いずれか一方は
Oでない)を塩基触媒により、あるいは金属水素化合物
によりS iH、S l 2 Heに分解、低級化する
方法(特願昭59−110703号、同59−1131
94号、同59−106461号、同59−17566
3号、同59−141331号、同59−175662
号)が効果的であることを先に提案した。
The present inventors have proposed (a) carrying out the reaction in the coexistence of an organic solvent (for example, Japanese Patent Application Nos. 58-245773 and 58-2
No. 45772, No. 59-119380), and (b
) A higher silicon compound (general formula S) dissolved in the organic solvent
il ) 1 ff1On, where sentence is a positive integer of 3 or more, and m and n are each 2 sentences +
A positive integer not exceeding 2.2fL, one of which is not O) is decomposed and lowered into SiH and S12He using a base catalyst or a metal hydride compound (Japanese Patent Application No. 110703/1989) No. 59-1131
No. 94, No. 59-106461, No. 59-17566
No. 3, No. 59-141331, No. 59-175662
We have previously proposed that the method (No. 1) is effective.

一方、有機溶剤に溶解した副生高級ケイ素化合物を低級
化する場合においては、予め該有機溶剤に含有されてい
る水分を除去することがS iH、S i2 )(eを
高収率で得るために不可欠な条件である(特願昭59−
106461号、同59−141331号、同59−1
75662号)。また、水分が含有されている状態では
、しばしば溶解している高級ケイ素化合物がゲル化し、
析出するため、長期間の保存が難しい。
On the other hand, when lowering a by-product higher silicon compound dissolved in an organic solvent, it is necessary to remove water contained in the organic solvent in advance to obtain SiH, Si2)(e) in high yield. (Patent application 1982-
No. 106461, No. 59-141331, No. 59-1
No. 75662). In addition, when water is present, dissolved higher silicon compounds often gel.
Due to precipitation, long-term storage is difficult.

これらの問題を回避するためには、上記のごときケイ素
化合物を含む有機溶剤中の含水量を、操作及び処理に先
だち特定範囲(有機溶剤、ケイ素化合物の種類等によっ
て変わり得るが、概して通常5000ppm以下、好ま
しくは11000pp以下、さらに好ましくは500p
pm以下、いっそう好ましくは1100pp、さらによ
りいっそう好ましくは50ppm以下程度である。)に
減少せしめておく必要がある。
In order to avoid these problems, the water content in the organic solvent containing the silicon compound as described above must be controlled within a specific range (this may vary depending on the type of organic solvent and silicon compound, etc., but is generally usually 5000 ppm or less) prior to operation and treatment. , preferably 11000pp or less, more preferably 500pp
pm or less, more preferably 1100 ppm or less, even more preferably about 50 ppm or less. ) must be reduced to

(発明が解決しようとする問題点) 有機溶剤を脱水する方法としては、モレキュラーシーブ
などの吸着剤を用いることが一般的方法として考えられ
る。具体的には該有機溶剤に吸着剤を装入する方法、脱
水剤を充填させたカラムに該有機溶剤を流通させる方法
などがあげられる。しかるにこれらの方法によれば、有
機溶剤中に溶解しているケイ素化合物量が脱水処理操作
によって、通常、相当量減少する。また脱水剤に付着す
る高級ケイ素化合物が多く、これらは発火性があり、脱
水剤の再生時に危険を伴なう。
(Problems to be Solved by the Invention) As a method for dehydrating organic solvents, it is generally considered that an adsorbent such as a molecular sieve is used. Specifically, examples include a method in which an adsorbent is charged into the organic solvent, and a method in which the organic solvent is passed through a column packed with a dehydrating agent. However, according to these methods, the amount of silicon compounds dissolved in the organic solvent is usually reduced by a considerable amount by the dehydration treatment operation. Furthermore, there are many high-grade silicon compounds attached to the dehydrating agent, which are flammable and pose a danger when the dehydrating agent is regenerated.

(問題点を解決するための手段) 本発明者らは、上記の脱水処理における問題点を解決す
べく鋭意研究を重ねた結果、共沸蒸留と脱水剤による処
理とを組合わせ、これを繰返すことにより、その目的を
達成し得ることを見出し、この知見に基づき本発明を完
成するに至った。
(Means for Solving the Problems) As a result of extensive research in order to solve the problems in the dehydration treatment described above, the present inventors combined azeotropic distillation and treatment with a dehydrating agent, and repeated this process. The inventors have discovered that the object can be achieved by doing so, and have completed the present invention based on this knowledge.

すなわち本発明は分子中に少なくとも1個のSi−H結
合、あるいはS i −3i結合を有する一般式SiH
O(ただしXは1以上の正の整数、yは、2X+2を越
えない、2は、2Xを越えない、それぞれ、0もしくは
正の整数であり、いずれか一方はOでない)で表わされ
るケイ素化合物と水を含有する有機溶剤を脱水するに当
り、水と共沸する少なくとも一種の有機化合物成分を含
む有機溶剤を用いて、水との共沸点下にて蒸留し、その
留出液を脱水剤で処理した後、元の有機溶剤に循環させ
る操作を繰返すことを特徴とするケイ素化合物を溶解す
る有機溶剤の脱水方法を提供するものである。
That is, the present invention is directed to the general formula SiH having at least one Si-H bond or Si-3i bond in the molecule.
A silicon compound represented by O (where X is a positive integer of 1 or more, y does not exceed 2X+2, 2 does not exceed 2X, each is 0 or a positive integer, and one of them is not O) When dehydrating an organic solvent containing water and water, an organic solvent containing at least one organic compound component that is azeotropic with water is distilled at the azeotropic point with water, and the distillate is treated with a dehydrating agent. The present invention provides a method for dehydrating an organic solvent for dissolving a silicon compound, which comprises repeating the process of recycling the organic solvent to the original organic solvent.

本発明におけるケイ素化合物とは、一般式SiHO(た
だしXは1以上の正の整数、x   y   z yは2X+2を越えない、2は2Xを越えない、それぞ
れ、0もしくは正の整数であり、いずれか一方はOでな
い)で表わされるケイ素化合物であって、分子中に少な
くとも1個のSi−H結合、あるいはSi−3i結合を
有する。具体例としては、例えばジシラン(S12H1
3) 、トリシラン(Si3H8) 。
The silicon compound in the present invention has the general formula SiHO (where X is a positive integer of 1 or more, x y z y does not exceed 2X+2, 2 does not exceed 2X, each is 0 or a positive integer, and One of them is not O) and has at least one Si-H bond or Si-3i bond in the molecule. As a specific example, disilane (S12H1
3), trisilane (Si3H8).

n−テトラシラン(S I a Ht o )、イソテ
トラシラン(S1aHto)、シクロヘキサシラン、ポ
リシレン((SiH2)n)、ジシロキサン(Si2H
60)、トリシロキサン(Si2H60)、テトラシロ
キサン(S14H100)、シロキセン(S I 2 
H20)n)などが挙げられる。
n-tetrasilane (SIaHto), isotetrasilane (S1aHto), cyclohexasilane, polysilane ((SiH2)n), disiloxane (Si2H
60), trisiloxane (Si2H60), tetrasiloxane (S14H100), siloxene (S I2
H20)n) etc.

これらのケイ素化合物を溶解する有機溶剤とは、例えば
少なくとも1個のC−0−C結合を分子内に有するエー
テル化合物、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、ケトン化
合物、アルデヒド化合物、アミン化合物、水素化ケイ素
及び有機ケイ素化合物が例として挙げられる。さらに具
体的に例を挙げるとエーテル化合物としては、ジメチル
エーテル、ジエチルエーテル、エチルメチルエーテル、
ジ−n−プロピルエーテル、ジブチルエーテル、エチル
−1−クロロエチルエーテル、エチレングリコールジメ
チルエーテル、テトラヒドロフラ1、ン、テトラヒドロ
ピラン、ジオキサン、アセタールなどがある。また炭水
化水素としてはエタン、プロパン、n−ブタン、i−ブ
タン、n−ペンタン、2−メチルブタン、n−ヘキサン
、2−メチル−ペンタン、3−メチルペンタン、2,2
−ジメチルブタン、n−へブタン、n−オクタン、ベン
ゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン類、アニソ
ールが例として挙げられる。ハロゲン化炭化水素として
はフッ化物が最も望ましく、モノクロルペンタフルオロ
エタン、ジクロロジフルオロメタン、オクタフルオロシ
クロブタン、ジクロロテトラフルオロエタン、ジクロロ
モノフルオロメタン、トリクロロフルオロメタン、トリ
クロロトリフルオロエタン、テトラクロロジフルオロエ
タン、ジクロロエタイなどがある。
Organic solvents that dissolve these silicon compounds include, for example, ether compounds having at least one C-0-C bond in the molecule, hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, ketone compounds, aldehyde compounds, amine compounds, and hydrogenated compounds. Silicon and organosilicon compounds may be mentioned by way of example. To give more specific examples, examples of ether compounds include dimethyl ether, diethyl ether, ethyl methyl ether,
Examples include di-n-propyl ether, dibutyl ether, ethyl-1-chloroethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofurane, tetrahydropyran, dioxane, and acetal. Hydrocarbons include ethane, propane, n-butane, i-butane, n-pentane, 2-methylbutane, n-hexane, 2-methyl-pentane, 3-methylpentane, 2,2
Examples include -dimethylbutane, n-hebutane, n-octane, benzene, toluene, ethylbenzene, xylenes and anisole. The most preferred halogenated hydrocarbons are fluorides, including monochloropentafluoroethane, dichlorodifluoromethane, octafluorocyclobutane, dichlorotetrafluoroethane, dichloromonofluoromethane, trichlorofluoromethane, trichlorotrifluoroethane, tetrachlorodifluoroethane, and dichloroethane. and so on.

ケトン化合物としては、例えばアセトン、エチルメチル
ケトン、ジエチルケトン、クロロアセトン、エチルビニ
ルケトン、ジメチルジケトンなどが、アルデヒド化合物
としては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロ
ピオンアルデヒド、アクロレイン、マレインアルデヒド
、エトキシアルデヒド、アミノアセトアルデヒドなどが
、また、アミン化合物としては、メチルアミン、エチル
アミン、ヘキシルアミン、ジエチルアミン、トリメチノ
にアミン、エチレンジアミン、アリルアミン、イソプロ
パツールアミン、アニリンなどが挙げられる。また、水
素化ケイ素としてはジシラン、トリシランなどが、また
、有機ケイ素化合物としては水素化ケイ素の水素原子の
少なくとも1個をアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン
等で置換した有機シラン化合物、有機ハロシラン化合物
、また”nSi−0−8i結合を有するシロキサン化合
物の上記誘導体があり、例としてモノメチルシラン、ジ
メチルシラン、トリメチルシラン、テトラメチルシラン
、ジエチルシラン、トリエチルシラン、テトラ予チルシ
ラン、トリメチルエチル咋う乙 トリメチルブチルシラ
ン、ジメチルジ1     、 エチルシラン、ヘキサメチルジシラン、モノメチルビフ
ルオロシラン、ジメチルジフルオロシラン、トリメチル
フルオロシラン、エチルトリアルオロシラン、ジエチル
ジフルオロシラン、トリニー) ルーyルオロシラン、
ジエチルフルオロクロロシラン、トリメチルメトキシシ
ラン、トリメチルエトキシシランなどが挙げられる。
Examples of ketone compounds include acetone, ethyl methyl ketone, diethyl ketone, chloroacetone, ethyl vinyl ketone, dimethyl diketone, etc.; examples of aldehyde compounds include formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, acrolein, malealdehyde, ethoxyaldehyde, aminoacetaldehyde, etc. However, examples of the amine compound include methylamine, ethylamine, hexylamine, diethylamine, trimethinoamine, ethylenediamine, allylamine, isopropanolamine, and aniline. In addition, examples of silicon hydride include disilane and trisilane, and examples of organic silicon compounds include organic silane compounds in which at least one hydrogen atom of silicon hydride is substituted with an alkyl group, an alkoxy group, a halogen, etc., an organic halosilane compound, There are also the above-mentioned derivatives of siloxane compounds having nSi-0-8i bonds, such as monomethylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, tetramethylsilane, diethylsilane, triethylsilane, tetramethylsilane, trimethylethyl, trimethylbutyl. Silane, dimethyldi1, ethylsilane, hexamethyldisilane, monomethylbifluorosilane, dimethyldifluorosilane, trimethylfluorosilane, ethyltrialosilane, diethyldifluorosilane, trini) fluorosilane,
Examples include diethylfluorochlorosilane, trimethylmethoxysilane, and trimethylethoxysilane.

これらは例示的なものに過ぎず、上記に具体的に示した
物質に限定されるものではない。これらの有機溶剤は2
種以上混合して用いることも可能である。
These are merely exemplary and are not limited to the materials specifically listed above. These organic solvents are 2
It is also possible to use a mixture of more than one species.

本発明においては、有機溶剤は水と共沸するものについ
ては単独にても用い得るが、水と共沸しないものは共沸
する成分を含む多成分系として用いられる。
In the present invention, organic solvents that are azeotropic with water can be used alone, but organic solvents that are not azeotropic with water are used as a multicomponent system containing components that are azeotropic.

水と共沸する有機溶剤としては種々のものを用いうるが
、ケイ素化合物との溶解性、及びその沸点、水との共沸
組成から以下のものが好適な例として挙げられる。例え
ば、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、tert
−ブチルメチルエーテル、ブチルエーテル、イソアミル
エーテル、1.1−ジメトキシエタン、エトキシメトキ
シメタン、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、ヘプタン
、シクロヘキサンなどである。
Various organic solvents that are azeotropic with water can be used, but the following are preferred examples based on their solubility with silicon compounds, their boiling points, and azeotropic compositions with water. For example, ethyl ether, isopropyl ether, tert
-butyl methyl ether, butyl ether, isoamyl ether, 1,1-dimethoxyethane, ethoxymethoxymethane, dioxane, benzene, toluene, heptane, cyclohexane and the like.

また、有機溶剤中のケイ素化合物の濃度には特に制限は
なく、通常0.01ないし100S100Si/mus
ounの範囲である。
In addition, there is no particular limit to the concentration of the silicon compound in the organic solvent, and it is usually 0.01 to 100S100Si/mus.
It is within the range of own.

本発明方法は基本的には水の共沸組成が大きい程有利で
あり、本発明方法を適用するケイ素化合物を含む有機溶
剤中の含水量は前後の反応条件等により異なり特に制限
はないが、通常o、oot〜50重量%、好ましくは0
.01〜5重量%である。含水量が多すぎると溶解して
いるケイ素化合物が析出したり、火と反応しやすくなる
ため好ましくなく、極めて少量の場合実質的に脱水の必
要がなくなる。
Basically, the method of the present invention is more advantageous as the azeotropic composition of water is larger, and the water content in the organic solvent containing a silicon compound to which the method of the present invention is applied varies depending on the reaction conditions before and after, and is not particularly limited. Usually o, oot to 50% by weight, preferably 0
.. 01 to 5% by weight. If the water content is too high, dissolved silicon compounds may precipitate or react easily with fire, which is undesirable, but if the water content is extremely small, there is virtually no need for dehydration.

次に本発明において用いられる脱水剤とは、水を吸着、
吸収し、あるいは水と反応し得るものであればいかなる
ものでも良く、例えばモレキュラーシープ3A、4A、
5A、13X、あるいはプロトン等によりカチオン交換
したモレキュラーシーブ、塩化カルシウム、硫酸ナトリ
ウム、硫酸マグネシウム、硫酸カルシウム、シリカゲル
、アルミナ、硫酸銅、濃硫酸、五酸化リン、水酸化カリ
ウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、酸化カルシウ
ム、ソーダ石灰、ナトリウム、カリウム、アルミニウム
、カルシウムなどが挙げられる。これらの脱水剤は接触
する有機溶剤と実質的に反応しないものであることが望
ましいことはいうまでもない。
Next, the dehydrating agent used in the present invention is a dehydrating agent that adsorbs water.
Any material can be used as long as it can absorb or react with water, such as Molecular Sheep 3A, 4A,
Molecular sieve with cation exchanged with 5A, 13X, or protons, calcium chloride, sodium sulfate, magnesium sulfate, calcium sulfate, silica gel, alumina, copper sulfate, concentrated sulfuric acid, phosphorus pentoxide, potassium hydroxide, sodium hydroxide, potassium carbonate , calcium oxide, soda lime, sodium, potassium, aluminum, calcium, etc. It goes without saying that it is desirable that these dehydrating agents do not substantially react with the organic solvents they come into contact with.

次に本発明方法の実施態様を図面に従って説明する。第
1図において、lはケイ素化合物を溶解している含水有
機溶剤の入った容器であり、少なくとも1種類の水と共
沸する有機溶剤を含む、2は蒸留装置、3は脱水剤の入
った脱水器である。
Next, embodiments of the method of the present invention will be described with reference to the drawings. In Figure 1, l is a container containing a water-containing organic solvent in which a silicon compound is dissolved, and contains at least one kind of organic solvent that is azeotropic with water, 2 is a distillation device, and 3 is a container containing a dehydrating agent. It is a dehydrator.

第1図において、容器lを加熱し、2にて共沸蒸留を行
なう。共沸組成の水を含む2からの留出液は、3の脱水
器にて脱水され、脱水後の有機溶剤は再び容器1に戻さ
れる。有機溶剤の必要循環量は、それぞれ用いる有機溶
剤と水との共沸組成、含水量及び目標とする水の除去量
によって異なるが、使用有機溶剤の概ねlないし100
倍要領の範囲である。
In FIG. 1, a vessel 1 is heated and azeotropic distillation is carried out at 2. The distillate from 2 containing water with an azeotropic composition is dehydrated in the dehydrator 3, and the organic solvent after dehydration is returned to the container 1. The required circulation amount of the organic solvent varies depending on the azeotropic composition of the organic solvent and water used, the water content, and the target amount of water removed, but it is approximately 1 to 100 liters of the organic solvent used.
This is within the same range.

本発明において有機溶剤の水との共沸点が高過ぎる場合
にはケイ素化合物が分解することがあるため好ましくな
い。好ましくは100℃以下である。また共沸組成にお
いては、水の組成割合が少ない場合には該溶液中の水を
共沸により除くための溶媒の循環量を多くする必要があ
り、好ましくない。好ましくはO81重量%以上、さら
に好ましくは1重量%以上である。
In the present invention, it is not preferable if the azeotropic point of the organic solvent with water is too high because the silicon compound may decompose. Preferably it is 100°C or less. In addition, in the azeotropic composition, if the composition ratio of water is small, it is necessary to increase the circulation amount of the solvent to remove water in the solution by azeotropy, which is not preferable. Preferably O8 is at least 1% by weight, more preferably at least 1% by weight.

脱水剤の使用量は、脱水剤の種類および有機溶剤の含水
量によって異なり、また溶解しているケイ素化合物が有
機溶剤と一緒に留出する場合には該ケイ素化合物と反応
あるいは該ケイ素化合物を吸着しないものであることが
望ましい。
The amount of dehydrating agent used varies depending on the type of dehydrating agent and the water content of the organic solvent, and if dissolved silicon compounds are distilled out together with the organic solvent, it may react with the silicon compounds or adsorb the silicon compounds. It is desirable that it not be used.

本発明方法は、共沸蒸留と脱水処理を組合せて繰返すこ
とに特徴があり、実施態様は循環式により連続的に行う
のが好ましいが、これに制限されるものではない。
The method of the present invention is characterized by repeating azeotropic distillation and dehydration in combination, and is preferably carried out continuously in a circulating system, but is not limited thereto.

(発明の効果) 以上のごとく、本発明は、分子中に少なくとも1個のS
i−H結合あるいはSi−3i結合を有するケイ素化合
物を溶解する有機溶剤に対して有機溶剤及びケイ素化合
物の回収率の低下を抑えて、脱水率を高めることができ
るという優れた効果を奏する。本発明は、ケイ素化合物
を溶解している有機溶剤の種類を問わず、該有機溶剤お
よび水とは共沸しないケイ素化合物を溶解している有機
溶剤の脱水には特に効果的である0本発明方法によれば
、脱水剤とケイ素化合物とが直接接触することなく脱水
できるため、脱水剤との接触によるケイ素化合物の損耗
もなく、固形脱水剤においては破過時間が長く、再生、
再利用が容易であるという優れた効果を奏する。
(Effect of the invention) As described above, the present invention provides at least one S in the molecule.
For organic solvents that dissolve silicon compounds having i-H bonds or Si-3i bonds, this has the excellent effect of suppressing a decrease in the recovery rate of organic solvents and silicon compounds and increasing the dehydration rate. The present invention is particularly effective for dehydrating organic solvents in which silicon compounds are dissolved, which are not azeotropic with the organic solvent and water, regardless of the type of organic solvent in which the silicon compounds are dissolved. According to this method, dehydration can be performed without direct contact between the dehydrating agent and the silicon compound, so there is no loss of the silicon compound due to contact with the dehydrating agent, and solid dehydrating agents have a long breakthrough time and are easy to regenerate and
It has the excellent effect of being easy to reuse.

実施例 以下、本発明を実施例によって、より具体的に説明する
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.

実施例l Si4H1oを1 、21 mm o l/mlの濃度
で含む含水量1.1wt%のジエチルエーテル溶液(I
)500m文を第1図に示す装置を用いて窒素雰囲気中
にて共沸させ(共沸点34.2℃)、その留出液をモレ
キュラーシーブ−3Aにて脱水した。第1図においてl
は容量IILのフラスコ、2は段数1段の蒸留装置、3
は窒素中450℃にて2時間焼成したモレキュラーシー
ブ3A(12ないし20メツシユ)65gを脱水済みの
ジエチルエーテルで予め湿らせたものを充填させた内径
20mm、高さ約300mmのガラス製の脱水器とした
。留出液の脱水器への流入速度は15m1/ m i 
nとし、180分間留出、脱水の操作を続けた。この場
合における留出液の総循環量は2.71Lであった。
Example 1 A diethyl ether solution (I
) 500m was azeotropically distilled in a nitrogen atmosphere using the apparatus shown in FIG. 1 (azeotropic point: 34.2°C), and the distillate was dehydrated using Molecular Sieve-3A. In Figure 1, l
is a flask with a capacity of IIL, 2 is a distillation device with one stage, and 3 is a distillation device with one stage.
is a glass dehydrator with an inner diameter of 20 mm and a height of approximately 300 mm, filled with 65 g of molecular sieve 3A (12 to 20 mesh) calcined at 450°C for 2 hours in nitrogen and pre-moistened with dehydrated diethyl ether. And so. The flow rate of distillate into the dehydrator is 15 m1/m i
n, and distillation and dehydration operations were continued for 180 minutes. The total circulating volume of distillate in this case was 2.71 L.

終了後の容器1中の回収したジエチルエーテル溶液の量
は480mJl(回収率96%)、回収ジエチルエーテ
ル中の含水量は15wtppm。
The amount of the recovered diethyl ether solution in the container 1 after completion of the process was 480 mJl (recovery rate 96%), and the water content in the recovered diethyl ether was 15 wtppm.

た。Ta.

実施例2〜5 第1図の装置を用いて行った留出、脱水処理の操作時間
をそれぞれ80分間、110分間、1470分間又は2
50分間(この場合における留出液の総循環量はそれぞ
れ1.21.1.7Jl、2.1M、3.8Jl)とし
た以外は実施例1と同様に実験を行なった。
Examples 2 to 5 The operation time of distillation and dehydration treatment performed using the apparatus shown in Fig. 1 was 80 minutes, 110 minutes, 1470 minutes, or 2 minutes, respectively.
The experiment was carried out in the same manner as in Example 1, except that the distillate was circulated for 50 minutes (the total circulation amount of the distillate in this case was 1, 21, 1.7 Jl, 2.1 M, and 3.8 Jl, respectively).

回収したジエチルエーテル中の含水量、S l a H
1Gの濃度等を測定した結果を後記第1表に示した。
Water content in recovered diethyl ether, S l a H
The results of measuring the concentration of 1G, etc. are shown in Table 1 below.

この実施例1〜5により得られた循環率(!tk循環液
量/仕込み液量)と含水量の関係を第2図に示した。
The relationship between the circulation rate (!tk circulating liquid amount/charged liquid amount) and water content obtained in Examples 1 to 5 is shown in FIG.

実施例6〜10 脱水器3に充填したモレキュラーシーブ3Aのかわりに
モレキュラーシーブ5A(12〜20メツシユ、窒素中
450℃にて2時間焼成したもの)65g、A立203
 (20〜40メツシユ。
Examples 6 to 10 Instead of the molecular sieve 3A filled in the dehydrator 3, 65 g of molecular sieve 5A (12 to 20 mesh, calcined in nitrogen at 450°C for 2 hours), A stand 203
(20 to 40 meals.

窒素中400℃にて2時間焼成したもの)75g1無水
C&C12(20ないし80メツシユ)70g、CaO
(20ないし80メ−7シ、)70g、またはNa0H
(粒状)50gを用いた以外は実施例1と同様に実験を
行なった。
Calcined at 400°C for 2 hours in nitrogen) 75g 1 anhydrous C&C12 (20 to 80 mesh) 70g, CaO
(20 to 80 me-7shi,) 70g, or NaOH
The experiment was conducted in the same manner as in Example 1 except that 50 g (granular) was used.

1に うして回収したジエチルエーテル中の含水率、31 a
 H10の濃度等を測定した結果を後記第1表に示した
。 。
Moisture content in diethyl ether recovered in step 1, 31a
The results of measuring the concentration of H10, etc. are shown in Table 1 below. .

実施例11〜14゜ ジエチルエーテル溶液のかわりにイソプロピルエーテル
、ベンゼン、ジオキサンまたはシクロヘキサンをそれぞ
れ500mjLを用い、留出、脱水の操作の時間を10
0分とした以外は実施例1と同様に実験を行なった。こ
れら脱水前の溶液中の814 Htt度はそれぞれ1.
38.1.14.1.03又は1.78mmoJl/m
JL含水量はそれぞれ0.51.0.05.2.5又は
O,11wt%であった。結果を第1表に示す。
Examples 11 to 14 Using 500 mjL each of isopropyl ether, benzene, dioxane or cyclohexane instead of diethyl ether solution, the distillation and dehydration operations were carried out for 10 hours.
The experiment was conducted in the same manner as in Example 1 except that the time was 0 minutes. The degree of 814 Htt in these solutions before dehydration is 1.
38.1.14.1.03 or 1.78mmoJl/m
The JL water content was 0.51, 0.05, 2.5 or O, 11 wt%, respectively. The results are shown in Table 1.

実施例15 12文容のセパラブルフラスコに、濃度20wt%の塩
酸水溶液10Q、ジエチルエーテル1500gを装入し
た。水素ガス雰囲気中、上記混合液が還流している条件
下(反応温度35℃)でさらにケイ化マグネシウム30
0gを(粒度100ないし200メツシユ、3910 
m m o n−3i)攪拌しながら300分かけて、
1.0g/minの一定速度で加え続けた。反応終了後
(ケイ化マグネシウム投入終了後)、反応液を0°Cに
冷却し、静置後、ジエチルエーテル層約2.0文を分離
した。反応器中の酸性水溶性は80°Cになるまで昇温
し、溶解している少量のジエチルエーテルを追出し、上
記二層分離したジエチルエーテル層と混合した。反応中
、二層分離および酸性水溶液の加熱処理の操作の間に生
成したガスは初め一70℃に冷却したジエチルエーテル
の入ったトラップ(トラップ(I))にて、次に液体窒
素温度で冷却したトラップ(トラップ(II))にて捕
集した。
Example 15 A 12-liter separable flask was charged with 10Q of an aqueous hydrochloric acid solution having a concentration of 20 wt% and 1500 g of diethyl ether. In a hydrogen gas atmosphere, under conditions where the above mixture is refluxing (reaction temperature: 35°C), 30% of magnesium silicide is added.
0g (particle size 100 to 200 mesh, 3910
m m o n-3i) Over 300 minutes while stirring,
Addition continued at a constant rate of 1.0 g/min. After the reaction was completed (after the addition of magnesium silicide), the reaction solution was cooled to 0°C, left to stand, and about 2.0 grams of diethyl ether layer was separated. The acid water solubility in the reactor was heated to 80°C, and a small amount of dissolved diethyl ether was expelled and mixed with the diethyl ether layer separated into two layers. During the reaction, the gas generated during the two-layer separation and heating treatment of the acidic aqueous solution was first placed in a trap (trap (I)) containing diethyl ether cooled to -70°C, and then cooled at liquid nitrogen temperature. It was collected in a trap (Trap (II)).

次に二層分離後のジエチルエーテル層およびトラップ(
I)中のエーテルを混合したものを、実段数約3段の蒸
留塔にて蒸留し、S I Ha、Si2H6を蒸留分離
し、S iH4(沸点−112”O)、Si、2H7(
沸点=14.5℃)を液体窒素温度で冷却したトラップ
(n )中に追加、捕集した。トラップ(n)および蒸
留後のジエチルエーテル層に残ったS iH、S t 
2 He、Si  H,Si4H1oの量は、ガスクロ
マトゲ3日 ラフイーにより分析、定量した。
Next, the diethyl ether layer after two-layer separation and the trap (
The mixture of ethers in I) is distilled in a distillation column with about 3 plates, and S I Ha and Si2H6 are separated by distillation, and S iH4 (boiling point -112"O), Si, 2H7 (
(boiling point = 14.5°C) was added and collected in a trap (n) cooled at liquid nitrogen temperature. S iH, S t remaining in trap (n) and diethyl ether layer after distillation
The amounts of 2 He, Si 2 H, and Si 4 H1o were analyzed and quantified using a gas chromatograph 3-day Roughy.

トラップ(II )およびジエチルエーテル層中のシラ
ン類の量は以下に示す値(mmou)であった。
The amounts of silanes in the trap (II) and diethyl ether layer were as shown below (mmou).

SiH4Si2H6Si3H8Si4H1゜トラップ(
II)    1470 335  20   0ジエ
チルエーテル  0  5  105  60またジエ
チルエーテル層中のSiJlを比色分析したところ含有
i1−1655mmOJLであった。また赤外吸収スペ
クトルにより、該ケイ素化合物中にはS i −3i結
合、Si−H結合の他にSi−0−3M結合も相当量存
在することが認められた。これにさらにジエチルエーテ
ルを追加し、ジエチルエーテル溶液(II)2.5M(
含水量1.1wt%)を得た。この溶液(II )中の
Si濃度は0.659mmoiS i atm/mus
oln、またSiH,SiHc7)濃度はそれぞれ0.
032mmou/mJ1so l n、。
SiH4Si2H6Si3H8Si4H1° trap (
II) 1470 335 20 0 Diethyl ether 0 5 105 60 Also, colorimetric analysis of SiJl in the diethyl ether layer revealed that the content was i1-1655 mmOJL. Furthermore, infrared absorption spectroscopy revealed that in addition to Si-3i bonds and Si-H bonds, a considerable amount of Si-0-3M bonds also existed in the silicon compound. Further diethyl ether was added to this, and diethyl ether solution (II) 2.5M (
A water content of 1.1 wt%) was obtained. The Si concentration in this solution (II) is 0.659 mmoiSi atm/mus
oln, SiH, SiHc7) concentration is 0.
032mmou/mJ1so ln,.

0 、021mmou/mJ1 s o 1 nであっ
た。
It was 0.021 mmou/mJ1 so 1 n.

実施例1におけるS 14 Htoのジエチルエーテル
溶液のかわりに、上記のジエチルエーテル溶液500 
m lを用いた以外は実施例1と同様にして、脱水処理
を行なった。
Instead of the diethyl ether solution of S 14 Hto in Example 1, the above diethyl ether solution 500
Dehydration treatment was carried out in the same manner as in Example 1 except that ml was used.

こうして回収したジエチルエーテル中の含水率、Si濃
度等を測定した結果を第1表に示した。なお脱水前の原
料は1晩室温での保存で容易にゲル化したが、上記脱水
後の溶液は1ケ月間室温で保存しても、ゲル化は全く認
られなかった。
Table 1 shows the results of measuring the water content, Si concentration, etc. in diethyl ether thus recovered. Note that the raw material before dehydration easily gelled when stored overnight at room temperature, but no gelation was observed in the solution after dehydration even when stored at room temperature for one month.

実施例16 実施例15において、モレキュラーシーブ3Aの使用量
を10gとし、また脱水器3を通過後の留出液を容器l
に戻さずに別の容器に採取し、この容器中のジエチルエ
ーテルの含水量を一定時間間隔で分析した以外は実施例
15と同様にして、脱水処理を行なった。
Example 16 In Example 15, the amount of molecular sieve 3A used was 10 g, and the distillate after passing through the dehydrator 3 was placed in a container l.
Dehydration treatment was carried out in the same manner as in Example 15, except that the water content of diethyl ether in this container was analyzed at regular time intervals.

この試験結果を後記第3図に示した。The test results are shown in Figure 3 below.

比較例1 実施例16で用いたと同じジエチルエーテル溶液(II
 )を、蒸留器lを通さずそのまま直接実施例16で用
いたと同じ脱水器2に、装入速度15mal/minの
一定速度で装入した。品外は実施例16と同様にして脱
水処理した。こうして脱水器を通過後のジエチルエチル
エーテル溶液の含水量を一定時間間隔で分析した。
Comparative Example 1 The same diethyl ether solution (II
) was directly charged into the same dehydrator 2 as used in Example 16 without passing through the distiller 1 at a constant charging rate of 15 mal/min. The outside of the product was dehydrated in the same manner as in Example 16. The water content of the diethyl ethyl ether solution after passing through the dehydrator was analyzed at regular time intervals.

この結果を実施例16の結果とともに第3図に□ 示した。この場合における回収したジエチルエーテル中
のSi濃度からケイ素化合物の回収率を算出したところ
68%であり、脱水剤との直接接触によりケイ素化合物
がかなり損耗していることがわかった。
This result is shown in FIG. 3 along with the result of Example 16. In this case, the recovery rate of the silicon compound was calculated from the Si concentration in the recovered diethyl ether and was 68%, indicating that the silicon compound was considerably lost due to direct contact with the dehydrating agent.

実施例17 実施例16で使用後のモレキュラーシーブ3Aを、初め
空気中にて1時間焼成、その後窒素中450℃にて2時
間焼成した。このモレキュラーシーブを用い、実施例1
6と同様に脱水処理を行なった。
Example 17 Molecular sieve 3A used in Example 16 was first calcined in air for 1 hour, and then calcined in nitrogen at 450° C. for 2 hours. Using this molecular sieve, Example 1
Dehydration treatment was performed in the same manner as in 6.

結果を第4図に示した。The results are shown in Figure 4.

比較例2 比較例1で使用したモレキュラーシーブを、実施例17
に記載したと同じ方法で再生し、これを用い、実施−1
6と同様に脱水処理を行なった。
Comparative Example 2 The molecular sieve used in Comparative Example 1 was replaced with Example 17.
Reproduced in the same manner as described in , and using this, Implementation-1
Dehydration treatment was performed in the same manner as in 6.

結果を第4図に示した。第4図から明らかなごとく、ケ
イ素化合物と直接接触させた脱水剤の吸着能力は小さく
、かつ、破過時間がかなり短い。
The results are shown in Figure 4. As is clear from FIG. 4, the adsorption capacity of the dehydrating agent brought into direct contact with the silicon compound is small and the breakthrough time is quite short.

これはおそらく分解したケイ素化合物が脱水剤の表面を
被覆したためと思われる。
This is probably because the decomposed silicon compound coated the surface of the dehydrating agent.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明方法の実施に用いられる脱水方式の説明
図、第2図は本発明の実施例1〜5における循環率と有
機溶剤中の含水量の関係を示すグラフ、第3図は実施例
16と比較例1の留出液量と有機溶剤中の含水量との関
係を示すグラフ、第4図は実施例17と比較例2の、留
出液量との関係を示すグラフである。 符号の説明 1・・・脱水処理される有機溶剤の容器2・・・蒸留装
置 3・・・脱水器 第1図 第3図 第4図
Figure 1 is an explanatory diagram of the dehydration system used to implement the method of the present invention, Figure 2 is a graph showing the relationship between the circulation rate and the water content in the organic solvent in Examples 1 to 5 of the present invention, and Figure 3 is a graph showing the relationship between the circulation rate and the water content in the organic solvent in Examples 1 to 5 of the present invention. FIG. 4 is a graph showing the relationship between the amount of distillate and the water content in the organic solvent in Example 16 and Comparative Example 1, and FIG. 4 is a graph showing the relationship between the amount of distillate in Example 17 and Comparative Example 2. be. Explanation of symbols 1... Container for organic solvent to be dehydrated 2... Distillation device 3... Dehydrator Fig. 1 Fig. 3 Fig. 4

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)分子中に少なくとも1個のSi−H結合、あるい
はSi−Si結合を有する一般式Si_xH_yO_z
(ただしxは1以上の正の整数、yは、2x+2を越え
ない、zは、2xを越えない、それぞれ、0もしくは正
の整数であり、いずれか一方は0でない)で表わされる
ケイ素化合物と水を含有する有機溶剤を脱水するに当り
、水と共沸する少なくとも一種の有機化合物成分を含む
有機溶剤を用いて、水との共沸点下にて蒸留し、その留
出液を脱水剤で処理した後、元の有機溶剤に循環させる
操作を繰返すことを特徴とするケイ素化合物を含有する
有機溶剤の脱水方法。
(1) General formula Si_xH_yO_z having at least one Si-H bond or Si-Si bond in the molecule
(However, x is a positive integer of 1 or more, y does not exceed 2x+2, z does not exceed 2x, each is 0 or a positive integer, and one of them is not 0) When dehydrating an organic solvent containing water, an organic solvent containing at least one organic compound component that is azeotropic with water is used to distill it under the azeotropic point with water, and the distillate is treated with a dehydrating agent. A method for dehydrating an organic solvent containing a silicon compound, which comprises repeating an operation of recycling the original organic solvent after treatment.
(2)有機溶剤がエーテル化合物、炭化水素、ハロゲン
化炭化水素、ケトン化合物、アルデヒド化合物、アミン
化合物、水素化ケイ素及び有機ケイ素化合物から選ばれ
る特許請求の範囲第1項記載の方法。
(2) The method according to claim 1, wherein the organic solvent is selected from ether compounds, hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, ketone compounds, aldehyde compounds, amine compounds, silicon hydrides, and organosilicon compounds.
(3)脱水剤がモレキュラーシーブである特許請求の範
囲第1項記載の方法。
(3) The method according to claim 1, wherein the dehydrating agent is a molecular sieve.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015048298A (en) * 2013-09-04 2015-03-16 株式会社日本触媒 Storage method of hydrogenated silane compound

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5029474A (en) * 1973-03-14 1975-03-25

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