SU701672A1 - Method of the purification of gas from chlorosilane and methylchlorosilane - Google Patents

Method of the purification of gas from chlorosilane and methylchlorosilane

Info

Publication number
SU701672A1
SU701672A1 SU782585571A SU2585571A SU701672A1 SU 701672 A1 SU701672 A1 SU 701672A1 SU 782585571 A SU782585571 A SU 782585571A SU 2585571 A SU2585571 A SU 2585571A SU 701672 A1 SU701672 A1 SU 701672A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
hydride
trichlorosilane
polymer
water
silsesquioxane
Prior art date
Application number
SU782585571A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Брис Юльевич Пригожин
Василий Васильевич Поверенный
Борис Петрович Краснов
Акиф Абдуллович Гезалов
Любовь Николаевна Бородинова
Original Assignee
Предприятие П/Я Г-4236
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я Г-4236 filed Critical Предприятие П/Я Г-4236
Priority to SU782585571A priority Critical patent/SU701672A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU701672A1 publication Critical patent/SU701672A1/en

Links

Description

Изобретение относитс  к способу очистки хлористого водорода и других газов и примесей органо(гидрид) хлорсиланов и может быть использовано в химической промышленности при производстве кремнийорганических материалов.The invention relates to a method for the purification of hydrogen chloride and other gases and impurities of organo (hydride) chlorosilanes and can be used in the chemical industry in the production of organosilicon materials.

Известны способы очистки абгазов, образующихс  в кремнийорганических производствах, от примесей органо (гидрид) хлорсиланов с помс цью различных жидких поглотителей, например продуктов гидролиза этилэтоксисиланов 1.Methods are known for purification of gases produced in organosilicon production from organo (hydride) chlorosilanes impurities with various liquid absorbents, for example, the products of the hydrolysis of ethyl ethoxysilanes 1.

Недостатком использовани  жидких поглотителей  вл етс  необходимость применени  высоких температур или вакуума дл  десорбции органо(гидрид) хлорсиланов из поглотител  и низких температур при их конденсации, а также неизбежные потери поглотител  и загр знение им очищаемого газа.The disadvantage of using liquid scavengers is the need to use high temperatures or vacuum for desorption of organos (hydride) chlorosilanes from the scavenger and low temperatures during their condensation, as well as unavoidable losses of the scavenger and contamination of the gas to be purified.

Наиболее близким к изобретению по технической сущности и достигаемому результату  вл етс  способ очистки газа от примесей органохлорсиланов путем поглощени  их водой 2The closest to the invention in its technical essence and the achieved result is the method of gas purification from impurities of organochlorosilanes by absorption by water 2

ного полиоргано(гидрид)силсесквиоксана . Дл  отделени  твердой фазы необходима фильтраци .polyorgano (hydride) silsesquioxane. Filtration is required to separate the solid phase.

Целью изобретени   вл етс  упрющение процесса.The aim of the invention is to simplify the process.

Эта цель достигаетс  тем, что поглощение трихлорсилана и метилтрихлорсилана ведут порошкообразным полиоргано (гидрид)силсесквиоксаном,содер-1 This goal is achieved by the fact that the absorption of trichlorosilane and methyltrichlorosilane are powdered polyorgano (hydride) silsesquioxane containing 1

0 жгичим 20-50% воды.0 burn 20-50% water.

Верхний предел содержани  воды определ етс  необходимостью сохранени  сыпучести порошкообразного полиоргано (гидрид)силсесквиоксана.The upper limit of the water content is determined by the need to preserve the flowability of the powdered polyorganic (hydride) silsesquioxane.

5five

По мере уменьшени  содержани  воды скорость очистки падает и при содержании воды ниже 20% процесс проводить нецелесообразно. В этом случае полиоргано(гидрид)силсескви0 оксан необходимо увлажнить.As the water content decreases, the cleaning rate drops and when the water content is below 20%, the process is impractical. In this case, polyorgano (hydride) silsesqui0xan must be moistened.

В цел х более равномерного использовани  влаги полиоргано(гидрид)силсесквиоксан целесообразно перемешивать .In order to more uniformly use the moisture of polyorgano (hydride) silsesquioxane, it is advisable to mix.

5five

Процесс осуществл ют следующим образом. The process is carried out as follows.

Claims (1)

В колонку, снабженную тихоходной мешалкой (1-2 об/мин), загружают влажный Полиоргано(гидрид)силсесквиоксан и не пропускают хлористый водо- род (азот,водород.метан или другие газы), содержащий органо(гидрид)три хлорсиланы, при периодическом переме1ш- вании . При проскоке органо (гидр трихлорсилана подачу очищаемого газ прекращают и в колонку подают вод ной пар При достижении необходимой вла;:; ости очистку газа возобновл ют Конденсат вод ного пара, образую щийс  при увлажнении и содерхсащий хлористый водород, используют дл  последующего увлажнени . При таком режиме работы полиорга но (гидрид) силсесквиоксан мохсно ис пользовать посто нно, его поглотительна  способность практически неограниченна. Степень очистки газа 99,5%, Образующийс  в результате очист ки загр зненных газов порошок полиоргано (гидрид)силсесквиоксан по мере его накоплени  отбирают и после дополнительной обработки исполь™ зуют в виде товарного продукта г-идрбфобизирующего порошка, - вертикальную стек л нную колонку, (d 35 мм), снабженну тихс;1 6д14бй меШ(|1Лкой, на впа нную в ее ,часть сетку загружают 95 V bi5omKoo6pc 3Horo полимера сыри ((п нигидридсилсесквиоксан) , содержащего 37 ,,5% воды. Высота сло  200 м, Через слой полимера пропускают 3,3 л/ч хлористого водорода, содерж .ащего 0,624 г/л (10,3 об,%) трихлор силана, uoj:.HMep периодически перемеаи-шают и увлажн ют. Поглотительна  способность полим ра до начала проскока трихлорсилана ,составл ет около 0,3 г/Гв Постепенно проскок трихлорсилана величиваетс  и при содержании водь-., B полимере около 20% составл ет 1/3 исходной концентрации. В этот момент подачу газа прекращают , полимер увлажн ют, пропуска  в течение 4-5 ч через него азот,насыщенныЛ вод ным паром. Образующийс  кислый конденсат собирают в приемник и используют дл  последующег-о у вл шкив ни  . Поглотительна  способность полимера (после увлажнени ) до начала проскока трихлорсилана составл ет около 0,3 г/г., Аналогичны1у1 образом провод т очистку хлористого водорода от метилтрихлорсилана с использованием полиметилсилсесквирксана и очистку азота от трихлорсилана с использованием поли (гидрид)силсесквиоксана. Таким образом, предлагаемый способ .проще известного, поскольку отсутствуют отходы и исключена стади  фильтрации . Формула изобретени  Способ очистки газа от три:-слор- силана и метилтрихлорсилана путем поглощени  водой, от.личающийс   тем, что, с целью упрощени  процесса, поглощение ведут порс кообразным полиоргано(гидрид)силсесквиоксаном , содержа1дим 20-50% воды. Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе 1.Авторское свидетельство СССР №466181, кл, С 01 В 7/08, 1973„ 2,Технологический регламент опытно-промып;ленного производства четыреххлористого кремни  и трихлорсилана, М,, 1977.In a column equipped with a low-speed agitator (1-2 rpm), a wet Poliorgano (hydride) silsesquioxane is loaded and the hydrogen chloride (nitrogen, hydrogen methane or other gases) containing chloro-silanes is not permeated with hydrogen chloride (periodic) moving. In the case of organ leakage (the trichlorosilane hydra, the gas supply to be purified is stopped and water vapor is injected into the column. When the required moisture is reached:; gas purification is resumed, the water vapor condensate formed during the moistening and containing hydrogen chloride are used for the subsequent moistening. With this Polyorganos (hydride) silsesquioxane mode of operation can be used continuously, its absorption capacity is almost unlimited. Gas purification rate is 99.5%, Polyoxylate powder resulting from purification of contaminated gases According to its accumulation, silganesquioxane (hydride) is taken away and after further processing it is used as a marketable product of i-hydroxyphobic powder, a vertical glass column, (d 35 mm), supplied quietly; 1 dBy 95 V bi5omKoo6pc 3Horo polymer feedstock ((n-hydride silsquioxane) containing 37 ,, 5% water. 200 m high. Hydrochloric chloride is passed through the polymer layer containing 0.624 g / l (10.3 vol,%) trichloro silane, uoj: .HMep periodically mix and moisten. The absorption capacity of the polymer before the start of the breakthrough of trichlorosilane is about 0.3 g / Gu. The breakthrough of trichlorosilane is gradually increased when the content of water is. The polymer B is about 20% of 1/3 of the initial concentration. At this point, the gas supply is stopped, the polymer is moistened, nitrogen is passed through it for 4-5 hours, saturated with water vapor. The resulting acidic condensate is collected in a receiver and used for the next time the owner has the pulley. The absorption capacity of the polymer (after wetting) before the breakthrough of trichlorosilane is about 0.3 g / g. In a similar manner, hydrogen chloride is purified from methyl trichlorosilane using polymethylsilsesquirxane and nitrogen is purified from trichlorosilane using poly (hydride) silsesquioxane. Thus, the proposed method. Well-known, since there is no waste and eliminated the stage of filtration. Claims The method for purifying gas from three: -sorosilane and methyltrichlorosilane by absorption in water, which is different in that, in order to simplify the process, the absorption is carried out by a pore-shaped polyorganic (hydride) silsesquioxane containing 20-50% water. Sources of information taken into account in the examination 1. USSR author's certificate №466181, CL, C 01 B 7/08, 1973 2, Technological regulations of the experimental production of silicon tetrachloride and trichlorosilane, M, 1977.
SU782585571A 1978-01-13 1978-01-13 Method of the purification of gas from chlorosilane and methylchlorosilane SU701672A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU782585571A SU701672A1 (en) 1978-01-13 1978-01-13 Method of the purification of gas from chlorosilane and methylchlorosilane

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU782585571A SU701672A1 (en) 1978-01-13 1978-01-13 Method of the purification of gas from chlorosilane and methylchlorosilane

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU701672A1 true SU701672A1 (en) 1979-12-05

Family

ID=20751477

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU782585571A SU701672A1 (en) 1978-01-13 1978-01-13 Method of the purification of gas from chlorosilane and methylchlorosilane

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU701672A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2450850C2 (en) * 2010-05-24 2012-05-20 Федеральное государственное унитарное предприятие "Российский научный центр "Прикладная химия" Method of removing waste gases of silane

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2450850C2 (en) * 2010-05-24 2012-05-20 Федеральное государственное унитарное предприятие "Российский научный центр "Прикладная химия" Method of removing waste gases of silane

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4409195A (en) Purification of silicon source materials
JP5362731B2 (en) Method for producing high purity hexachlorodisilane
US4127598A (en) Process for removing biphenyls from chlorosilanes
US3948676A (en) Process for preparing hydrophobic particles
KR920701040A (en) Gas separation method by semipermeable membrane
JP2004149351A (en) Chlorosilane and method for purifying the same
JP2960522B2 (en) Purification method of silane mixture
CN101107196B (en) Method for purification of disilicon hexachloride and high purity disilicon hexachloride
JPS63190891A (en) Purification of hexamethyldisiloxane
US4022152A (en) Apparatus for making particulate materials, particularly oxides, hydrophobic
SU701672A1 (en) Method of the purification of gas from chlorosilane and methylchlorosilane
JP2867696B2 (en) Purification method of silicon tetrachloride
US8568597B2 (en) Process for purifying silicon source material by high gravity rotating packed beds
JP2018507160A (en) Method and apparatus for producing fused quartz from a polymerizable polyalkylsiloxane compound using a membrane filter as a purification apparatus
CN102471076A (en) Method for purifying chlorosilanes
EP2032588B1 (en) Method for preparation of alkoxysilanes having reduced halide content
JPWO2010021339A1 (en) Method for purifying silicon tetrachloride
JPH10316691A (en) Removal of phosphorus from chlorosilane
SU783221A1 (en) Method of hydrogen chloride purification
KR102248271B1 (en) Recovery of hydrohalosilanes from reaction residues
EP0770619B1 (en) Process for purifying halosilanes
JPH10265480A (en) Processing of gas containing silanes
JP2015113250A (en) Method for purifying tetrachlorosilane
JP3582983B2 (en) Purification method of alkylsilanes
JPH01211592A (en) Removal of polyfunctional silane from organosilane