JPS62153281A - ６−（１，４−ジメトキシ−５，８−ジオキソナフタレン−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２ｈ−ピラン誘導体 - Google Patents
６−（１，４−ジメトキシ−５，８−ジオキソナフタレン−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２ｈ−ピラン誘導体Info
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- JPS62153281A JPS62153281A JP60292240A JP29224085A JPS62153281A JP S62153281 A JPS62153281 A JP S62153281A JP 60292240 A JP60292240 A JP 60292240A JP 29224085 A JP29224085 A JP 29224085A JP S62153281 A JPS62153281 A JP S62153281A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Pyrane Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
トキシー５．８−ジオキソナフタレン−２−イル）−新
葉！３．４，５．６−チトラヒドロー２Ｈ−ビラン誘導
体に関する。
葉！３．４，５．６−チトラヒドロー２Ｈ−ビラン誘導
体に関する。
優れた制癌剤の開発には社会からの強力な要請があり、
種々の制癌剤が医薬において重要な位置を占めている。
種々の制癌剤が医薬において重要な位置を占めている。
一般に化合物の制癌活性はその化学構造に大きく依存す
ることから既知のものと異なる構造を有するものの中か
ら優れた制癌剤として実用に供せられるものが見出され
る可能性は極めて高い。
ることから既知のものと異なる構造を有するものの中か
ら優れた制癌剤として実用に供せられるものが見出され
る可能性は極めて高い。
本発明の目的は制癌活性を有する新規な６−（１，４−
ジメトキシ−５，８−ジオキソナフタレン−２−イル）
−３，４，５，６−テトラ誘導体−２Ｈ−ビラン誘尋体
を提供することにある。
ジメトキシ−５，８−ジオキソナフタレン−２−イル）
−３，４，５，６−テトラ誘導体−２Ｈ−ビラン誘尋体
を提供することにある。
本発明は一般式
「０
（式中、Ｗは水酸基の保護基である。）で表わされる新
規な６−（１，４−ジメトキシ−５，８−ジオキソナフ
タレン−２−イル）−３，４，５゜６−テトラヒドロ−
２Ｈ−ビラン誘導体である。
規な６−（１，４−ジメトキシ−５，８−ジオキソナフ
タレン−２−イル）−３，４，５゜６−テトラヒドロ−
２Ｈ−ビラン誘導体である。
前記一般式（Ｉ）で表わされる６−（１，４−ジメトキ
シ−５，８−ジオキソナフタレン−２−イノリー３．４
，５．６−チトラヒドロー２Ｈ−ビラン誘導体は以下の
反応式に従い製造することかできる。
シ−５，８−ジオキソナフタレン−２−イノリー３．４
，５．６−チトラヒドロー２Ｈ−ビラン誘導体は以下の
反応式に従い製造することかできる。
（ＪＭｅ ＯＭｅ
ｌＪＭｅ Ｌ）Ｎｌｅ
（式中、几１は水酸基の保膣基である。）〔第１工程〕
本工程は前記式（１１）で衣わされるヘキサン−２−オ
ン誘導体に前記式（１）で表わされる１、４，５゜８−
テトラメトキシナフタレンのリチウム塩を付加させ、前
記式■）で我わされる２−ヘキサノール透導体を製造す
るものである。
ン誘導体に前記式（１）で表わされる１、４，５゜８−
テトラメトキシナフタレンのリチウム塩を付加させ、前
記式■）で我わされる２−ヘキサノール透導体を製造す
るものである。
本工程の原料である６−ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ−４−（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）アミ
ノ−３，５−ジメトキシメチルオキシ−ヘキサン−２−
オンは）は公知の方法により合成できる化合物である（
Ｍ、Ｋａｗａｓａｋｊ、ｅｔ ａｌ、。
シ−４−（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）アミ
ノ−３，５−ジメトキシメチルオキシ−ヘキサン−２−
オンは）は公知の方法により合成できる化合物である（
Ｍ、Ｋａｗａｓａｋｊ、ｅｔ ａｌ、。
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ、、 ２６ 、２６
９３（１９８５） ）。
９３（１９８５） ）。
本工程の付加反応を行なうには溶媒中で行なうことが望
ましく、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
、１．２−ジメトキシエタン、ジオキサン等のエーテル
系溶媒を用いることができる。
ましく、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
、１．２−ジメトキシエタン、ジオキサン等のエーテル
系溶媒を用いることができる。
反応は一７８℃〜５０℃で円滑に進行する。
〔第２工程〕
本工程は前記第ｌ工程で得られる前記式Ｗ）で表わされ
る２−ヘキ叶ノール酩導体のｔ−ブチルジメチルシリル
基を除去し前記弐関で表わされる１゜５−ヘキサンジオ
ール誘導体を製造するものである。
る２−ヘキ叶ノール酩導体のｔ−ブチルジメチルシリル
基を除去し前記弐関で表わされる１゜５−ヘキサンジオ
ール誘導体を製造するものである。
本工程の保護基の除去にあたっては、脱シリル化剤とし
て、例えはテトラブチルアンモニウム＝フロリド、フッ
化水素酸、酢酸等を使用することができる。
て、例えはテトラブチルアンモニウム＝フロリド、フッ
化水素酸、酢酸等を使用することができる。
本工程を行なうには溶媒中で行なうことが望ましく、例
えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１．２−
ジメトキシエタン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ク
ロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素
系溶媒を用いることができる。
えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１．２−
ジメトキシエタン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ク
ロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素
系溶媒を用いることができる。
反応温度はＯ″ｃ−ｉｏｏｏＣで円滑に進行する。
〔第３工程〕
本工程は前記第２工程で得られる前記式（７）で表わさ
れる１、５−ヘキサンジオール訪等体を酸化して前記式
（ＶＤで表わされる６−（１，４，５，８−テトラメト
キシナフタレン−２−イル）−３゜４．５．６−テトラ
ヒドロ−２−ピラノン誘導体を製造するものである。
れる１、５−ヘキサンジオール訪等体を酸化して前記式
（ＶＤで表わされる６−（１，４，５，８−テトラメト
キシナフタレン−２−イル）−３゜４．５．６−テトラ
ヒドロ−２−ピラノン誘導体を製造するものである。
本工程の酸化にあたりては酸化剤として、例えば、ジメ
チルスルホキシド／オキサリルクロリド／トリエチルア
ミン混合系酸化剤、ジメチルスルホキシド／無水トリフ
ロロ酢酸／トリエチルアミン混合系酸化剤、ピリジニウ
ムクロロクロメート等を用いることができる。
チルスルホキシド／オキサリルクロリド／トリエチルア
ミン混合系酸化剤、ジメチルスルホキシド／無水トリフ
ロロ酢酸／トリエチルアミン混合系酸化剤、ピリジニウ
ムクロロクロメート等を用いることができる。
本工程を行なうには溶媒中で行なうことが望ましく、例
えばクロロホルム、ジクロロエタン、ジクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素系溶媒を用いることができる。
えばクロロホルム、ジクロロエタン、ジクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素系溶媒を用いることができる。
反応温度は一６０℃〜５０℃で円滑に進行すム〔第４工
程〕 本工程は前記第３工程で得られる前記式（ＶＤで表わさ
れる６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン
−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２−ピ
ラノン誘導体を還元し前記式■で衣わされる６−（１，
４，５，８−テトラメトキシナフタレン−２−イル）−
３，４，５，６−−テトラヒドロー２Ｈ−ビラン誘導体
を製造するものである。
程〕 本工程は前記第３工程で得られる前記式（ＶＤで表わさ
れる６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン
−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２−ピ
ラノン誘導体を還元し前記式■で衣わされる６−（１，
４，５，８−テトラメトキシナフタレン−２−イル）−
３，４，５，６−−テトラヒドロー２Ｈ−ビラン誘導体
を製造するものである。
本工程の還元にあたっては還元剤として例えば、ジイソ
ブチルアルミニウムヒドリド、水素化トリー１−ブトキ
シアルミニウムリチウム等を用いることができる。
ブチルアルミニウムヒドリド、水素化トリー１−ブトキ
シアルミニウムリチウム等を用いることができる。
本工程を行なうには溶媒中で行なうことが望ましく、例
えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１．２−
ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、トルエン、ヘキ
サン等の炭化水素系各課を用いることができる。
えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１．２−
ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、トルエン、ヘキ
サン等の炭化水素系各課を用いることができる。
反応温度は一７８°ｃ −ｏ ’ｃで円滑に進行する。
〔第５工框〕
本工程は前記第４工程で肖られる前記式へりで表わされ
る６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン−
２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２ｔｉ−
ビラン誘導体θｃ２位水酸基に水酸基の保鵬基を導入し
前記一般式−で表わされる６−（１，４，５，８−テト
ラメトキシナフタレン−２−イル）−３，４，５，６−
テトラヒドロ−２Ｈ−ビラン誘導体を製造するものであ
る。
る６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン−
２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２ｔｉ−
ビラン誘導体θｃ２位水酸基に水酸基の保鵬基を導入し
前記一般式−で表わされる６−（１，４，５，８−テト
ラメトキシナフタレン−２−イル）−３，４，５，６−
テトラヒドロ−２Ｈ−ビラン誘導体を製造するものであ
る。
本工程に用いられる水酸基の保護基としては、メチル基
、ｔ−ブチル基、アリル基、２，２．２−トリクロロエ
チル尤、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基等のアル
キル基およびアリールメチル基、トリメチルシリル基、
トリエチルシリル基、イソプロピルジメチルシリル基、
ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシ
リル基等のトリアルキルシリル基、メトキシメチル基、
２−メトキシエトキシメチル基、ベンジルオキシメチル
基、２−トリメチルシリルエトキシメチル基、２．２．
２−１−リクロロエトキシメチル基等のアルコキシメチ
ル基、メチルチオメチル基、フェニルチオメチル基など
のアルキル及びアリールチオメチル基等が例示できる。
、ｔ−ブチル基、アリル基、２，２．２−トリクロロエ
チル尤、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基等のアル
キル基およびアリールメチル基、トリメチルシリル基、
トリエチルシリル基、イソプロピルジメチルシリル基、
ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシ
リル基等のトリアルキルシリル基、メトキシメチル基、
２−メトキシエトキシメチル基、ベンジルオキシメチル
基、２−トリメチルシリルエトキシメチル基、２．２．
２−１−リクロロエトキシメチル基等のアルコキシメチ
ル基、メチルチオメチル基、フェニルチオメチル基など
のアルキル及びアリールチオメチル基等が例示できる。
これらの保護基は当業者間で公知の方法（Ｃ，Ｂ、１ｋ
ｅｓｅ 、“ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓ ｉ
ｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ 、ｅｄ、
ｂｙ Ｊ。
ｅｓｅ 、“ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓ ｉ
ｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ 、ｅｄ、
ｂｙ Ｊ。
Ｆ、Ｗ、Ｍｃαｎｉｅ、Ｐｌｅｎｕｍ Ｐｒｅｓｓ、Ｌ
ｏｎｄｏｎ ａｎｄＮｅｗ Ｙｏｒｋ、ｔ９７３．ｐｐ
９ｓ−ｔ４４；Ｔ、Ｗ、Ｇｒｅｅｎｅ。
ｏｎｄｏｎ ａｎｄＮｅｗ Ｙｏｒｋ、ｔ９７３．ｐｐ
９ｓ−ｔ４４；Ｔ、Ｗ、Ｇｒｅｅｎｅ。
”Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇ
ａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”。
ａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”。
Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ ５ｏｎｓ、Ｎｅｗ Ｙｏｒ
ｋ、 １９８１ 、ｐＰＩＯ−８６；大石武、有合化、
封、７１５（１９７８）、）によって導入することかで
きる。
ｋ、 １９８１ 、ｐＰＩＯ−８６；大石武、有合化、
封、７１５（１９７８）、）によって導入することかで
きる。
前記一般式＆Ｉの水酸基の保護基としてアルコキシメチ
ル基を導入する場合には、ハロゲン化アルコキシメチル
をジイソプロピルエチルアミンの存在下面と反応させる
ことにより、＝＝−−−６前記一般式〜υで表わされる
６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン−２
−イル）−３゜４．５．６−テトラヒドロ−２Ｈ−ビラ
ン訪導体を製造することかできる。ｔｔ庫六ｂジアルコ
キシメチル化に用いられるハロゲン化アルコキシメチル
としては、例えば、塩化メトキシメチル、臭化メトキシ
メチル、塩化２−メトキシエトキシメチ等を挙げること
ができる。本工程は無溶媒中で行なうこともできるが、
例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１．
２−ジメトキシエタン、ジオキサン等のエーテル系溶媒
を添加しても行なうことができる。反応温度は室温〜８
０℃で円滑に進行する。
ル基を導入する場合には、ハロゲン化アルコキシメチル
をジイソプロピルエチルアミンの存在下面と反応させる
ことにより、＝＝−−−６前記一般式〜υで表わされる
６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン−２
−イル）−３゜４．５．６−テトラヒドロ−２Ｈ−ビラ
ン訪導体を製造することかできる。ｔｔ庫六ｂジアルコ
キシメチル化に用いられるハロゲン化アルコキシメチル
としては、例えば、塩化メトキシメチル、臭化メトキシ
メチル、塩化２−メトキシエトキシメチ等を挙げること
ができる。本工程は無溶媒中で行なうこともできるが、
例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１．
２−ジメトキシエタン、ジオキサン等のエーテル系溶媒
を添加しても行なうことができる。反応温度は室温〜８
０℃で円滑に進行する。
〔第６エ程〕
本工程は前記第５工程で得られる前記一般式−で表わさ
れる６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン
−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−
ビラン訪導体を還元し前記一般式（２）で衣わされる６
−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン−２−
イル）−３，４゜５．６−テトラヒドロ−２Ｈ−ビラン
誘導体を製造するものである。
れる６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン
−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−
ビラン訪導体を還元し前記一般式（２）で衣わされる６
−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン−２−
イル）−３，４゜５．６−テトラヒドロ−２Ｈ−ビラン
誘導体を製造するものである。
本工程の還元にあたっては還元剤として例えば、水素化
アルミニウムリチウム、水素化ホウ素リチウム等を用い
ることができる。
アルミニウムリチウム、水素化ホウ素リチウム等を用い
ることができる。
本工程を行なうには溶媒中で行なうことが望ましく例え
ばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン１．２−ジメ
トキシエタン、ジオキサン等、のエーテル系溶媒を用い
ることができる。
ばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン１．２−ジメ
トキシエタン、ジオキサン等、のエーテル系溶媒を用い
ることができる。
反応温度はＯ℃〜８０℃で円滑に進行する。
〔第７エ程〕
本工程は前記第６エ程で得られる前記一般式■で表わさ
れる６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン
−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−
ビラン彷導体を酸化し、前記一般式（１）で表わされる
６−（１，４−ジメトキシ−５，８−ジオキソナフタレ
ン−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ
−ビラン誘導体を製造するものである。酸化剤としては
硝酸セリウムアンモニウムを選択できる。
れる６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン
−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−
ビラン彷導体を酸化し、前記一般式（１）で表わされる
６−（１，４−ジメトキシ−５，８−ジオキソナフタレ
ン−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ
−ビラン誘導体を製造するものである。酸化剤としては
硝酸セリウムアンモニウムを選択できる。
本工程は溶媒中で行なうことが望ましく、例えばメタノ
ール、エタノール、プロパツール等のアルコール系溶媒
、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド等の極性溶媒を用いることができる。
ール、エタノール、プロパツール等のアルコール系溶媒
、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド等の極性溶媒を用いることができる。
反応温度は一５０℃〜５０℃で円滑に進行する。
以上の如くして得られる前記一般式（１）で表わされる
６−（１，４−ジメトキシ−５，８−ジオキソナフタレ
ン−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ
−ビラン誘導体は悪性腫瘍細胞増殖抑制試験を行なうこ
とにより、制癌剤としての有用性を確認した。
６−（１，４−ジメトキシ−５，８−ジオキソナフタレ
ン−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ
−ビラン誘導体は悪性腫瘍細胞増殖抑制試験を行なうこ
とにより、制癌剤としての有用性を確認した。
試験はマウスのリンパ性白血病細胞（９３ｇｇ）を用い
、常法に従って実施し、抑制率を求めた。
、常法に従って実施し、抑制率を求めた。
以下参考例、実施例及び試験例により本発明の詳細な説
明する。
明する。
一一二＼ごｍ−
参考例１
１．４，５．８−テトラメトキシナフタレン（ｍ、ｐ、
１６７−１６９℃）１．７４ｇ （７，０ｍｍｏｌ）を
無水テトラヒドロフラン１８０ｍ１に溶かし、０℃にて
攪拌しながらｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（１，２
７モル濃度）５．５℃ｍ１（７，０ｍｍｏｌ）を加え、
さらにその温度で２０分間攪拌を続けた。（−）−（３
Ｒ，４Ｓ、５３）−５−ｔ−プチルフチルシリルオキシ
−３，５−ジメトキシメチルオキシ−４−（Ｎ−メトキ
シカルボニル−Ｎ−メチルげミμξ２−ヘキサノン（Ｔ
ｅｔｒａ、ｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ、、２６゜２６９
３ （１９８５）の方法により合成） ２．１３ｇ （
４，９ｍｍｏ ｌ）の無水テトラヒドロフラン溶液１５
ｍ１を０℃にて３０秒間にわたって滴下した。さらにそ
の温度で３分間攪拌を続けた。続いて飽和塩化アンモニ
ウム水溶液１００ｍ１を性別して反応を止めた。トルエ
ン２００ｍ１を加えて攪拌し有機層を分離後飽和塩化ナ
トリウム溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後
溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラム（ｎ
−ヘキサン／酢酸エチル謔３続いてクロロホルム／酢
酸エチル−３）に通し、（−）−（２Ｒ，３Ｒ。
１６７−１６９℃）１．７４ｇ （７，０ｍｍｏｌ）を
無水テトラヒドロフラン１８０ｍ１に溶かし、０℃にて
攪拌しながらｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（１，２
７モル濃度）５．５℃ｍ１（７，０ｍｍｏｌ）を加え、
さらにその温度で２０分間攪拌を続けた。（−）−（３
Ｒ，４Ｓ、５３）−５−ｔ−プチルフチルシリルオキシ
−３，５−ジメトキシメチルオキシ−４−（Ｎ−メトキ
シカルボニル−Ｎ−メチルげミμξ２−ヘキサノン（Ｔ
ｅｔｒａ、ｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ、、２６゜２６９
３ （１９８５）の方法により合成） ２．１３ｇ （
４，９ｍｍｏ ｌ）の無水テトラヒドロフラン溶液１５
ｍ１を０℃にて３０秒間にわたって滴下した。さらにそ
の温度で３分間攪拌を続けた。続いて飽和塩化アンモニ
ウム水溶液１００ｍ１を性別して反応を止めた。トルエ
ン２００ｍ１を加えて攪拌し有機層を分離後飽和塩化ナ
トリウム溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後
溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラム（ｎ
−ヘキサン／酢酸エチル謔３続いてクロロホルム／酢
酸エチル−３）に通し、（−）−（２Ｒ，３Ｒ。
４Ｓ、５３）−６−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−
３，５−ジメトキシメチルオキシ−４−（Ｎ−メトキシ
カルボニル−Ｎ−メチル）アミノ−２−（１，４，５，
８−テトラメトキシナフタレン−２−イル）−２−ヘキ
サノール１．９０ｇ（５７％収率）を淡黄色のカラメル
として得た。
３，５−ジメトキシメチルオキシ−４−（Ｎ−メトキシ
カルボニル−Ｎ−メチル）アミノ−２−（１，４，５，
８−テトラメトキシナフタレン−２−イル）−２−ヘキ
サノール１．９０ｇ（５７％収率）を淡黄色のカラメル
として得た。
〔α） ”−３５，５へ （ｃｍ１．ｏｏ クロロホ
ルム）質量スペクトルｍ／ｅ６８５（Ｍ”）。
ルム）質量スペクトルｍ／ｅ６８５（Ｍ”）。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ） δ（ｐｐｍ）： ０．０３゜０
．０５ （６Ｈ，２ｓ、Ｓｉ （ＣＨコ）露）。
．０５ （６Ｈ，２ｓ、Ｓｉ （ＣＨコ）露）。
０．８６，０．９０ （９Ｈ，２ｇ。
Ｓ ｉ Ｃ（ＣＨｓ） り 、 １．７６ （３Ｈ，
ｓ。
ｓ。
３Ｈ＋）、３．０２ （３Ｈ，ｓ、ＮＣＨｓ） 。
３．１０．３．２９，３．３３．３．３７．３．５５゜
３．６４，３．７Ｇ、３．８１，３．８４．３．８６゜
ｔｓ ３．８９ （２１８０ＣＨｓ） 、 ２．９−５．０
（１０Ｈ，ｍ、ＯＨ，０ＣＨｔＸ ３゜Ｈｓ、Ｈａ、Ｈ
ｓ）、６．８４ （２）（、ｓ。
３．６４，３．７Ｇ、３．８１，３．８４．３．８６゜
ｔｓ ３．８９ （２１８０ＣＨｓ） 、 ２．９−５．０
（１０Ｈ，ｍ、ＯＨ，０ＣＨｔＸ ３゜Ｈｓ、Ｈａ、Ｈ
ｓ）、６．８４ （２）（、ｓ。
ＡｒＨ）、７．００ （ＩＨ，ｓ、ＡｒＨ）。
ＩＲ（ｎａａ ｔ）： ３’４５０ （ＯＨ）。
１６９０ （Ｃｏ）、１６００ （Ａｒ）ｃｍ−’。
元素分析値：ＣｘｘＨ□Ｎｏ、、Ｓ ｌとしての計算値
： Ｃ； ５７．７９． Ｈ、８，０Ｂ。
： Ｃ； ５７．７９． Ｈ、８，０Ｂ。
Ｎ；２．０４％。
分析値： ｃ ； ５７．７６、Ｈ； ７．９３゜Ｎ；
１．９９％。
１．９９％。
参考例２
（−） −（２Ｒ，３Ｒ，４３，５３） −６−ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ−３，５−ジメトキシメチル
オキシ−４−（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）
アミノ−２−（ｌ、４．５．８＝テトラメトキシナフタ
レン−２−イル）−２−ヘキサノール１．５０ ｇ （
２，１９ｍｍｏ １）を無水テトラヒドロフラン５０
ｍ ｌに溶かし、１５〜；フ ２５℃で攪拌下テトラブチルアンモニラを弓リドのテト
ラヒドロフラン溶液（１モル濃度）５．０ｍ Ｉ （
５，０ｍｍｏ ｌ）を加え、その温度で１時間攪拌を続
けた。溶媒を留去した後残渣をシリカゲルカラム（酢酸
エチル）通しく−）−（２３゜３Ｓ、４Ｒ，５Ｒ）−３
−（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）アミノ−２
，４−ジメトキシメチルオキシ−５−（１，４，５，８
−テトラメトキシナフタレン−２−イル）−１，５−ヘ
キサンシイ １￥とルー、２２ｇ（９８％収率）を無色カラメルとし
て得た。
チルジメチルシリルオキシ−３，５−ジメトキシメチル
オキシ−４−（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）
アミノ−２−（ｌ、４．５．８＝テトラメトキシナフタ
レン−２−イル）−２−ヘキサノール１．５０ ｇ （
２，１９ｍｍｏ １）を無水テトラヒドロフラン５０
ｍ ｌに溶かし、１５〜；フ ２５℃で攪拌下テトラブチルアンモニラを弓リドのテト
ラヒドロフラン溶液（１モル濃度）５．０ｍ Ｉ （
５，０ｍｍｏ ｌ）を加え、その温度で１時間攪拌を続
けた。溶媒を留去した後残渣をシリカゲルカラム（酢酸
エチル）通しく−）−（２３゜３Ｓ、４Ｒ，５Ｒ）−３
−（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）アミノ−２
，４−ジメトキシメチルオキシ−５−（１，４，５，８
−テトラメトキシナフタレン−２−イル）−１，５−ヘ
キサンシイ １￥とルー、２２ｇ（９８％収率）を無色カラメルとし
て得た。
〔α） ”−３１，４＝ （ｃ−１，２５クロロホル
、ム）質量スペクトルｍ／ａ５７１（Ｍ”）。
、ム）質量スペクトルｍ／ａ５７１（Ｍ”）。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、） δ（ｐｐｍ）： １．７３（
３Ｈ，ｓ、３Ｈｂ）、２．９６ （３Ｈ，ｓ。
３Ｈ，ｓ、３Ｈｂ）、２．９６ （３Ｈ，ｓ。
ＮＣＨｓ） 、３．２ ４．１ （２８Ｈ，ｍ。
７ ＣＨｘ、２ Ｈ＋、Ｈｚ、Ｈコ、Ｈ４゜２０Ｈ）、
４．４−５．０ （４Ｈ，ｍ。
４．４−５．０ （４Ｈ，ｍ。
ＯＣＨｇＯＸ２）、６．８１ （２Ｈ，ｓ。
ＡｒＨ）、Ｔ、Ｑ５．７．２２ （１１Ｌ ２ｓ、Ａ
ｒＨ）。
ｒＨ）。
ＩＲ（ｎｅａ ｔ） ： ３４５０ （ＯＨ）。
１６８０ （Ｃｏ）、１６００ （Ａｒ） ｃｍ−
’。
’。
参考例３
オキザリルクロリド０．３８ ｇ （３，０ｍｍｏ １
）を無水ジクロロメタン２５ｍ１に溶がし、−６０℃で
撹拌しながら、ジメチルスルホキシドｏ 、 ｓ 誇（
７，０ｍｍｏりの無水ジクロロメタン溶液５ｍｌを加え
、その温度にて２分間攪拌した。（−）−（２３，３３
，４Ｒ，５Ｒ）−３−（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−
メチル）アミノ−２，４−シメトキシメチルオキシー５
− （１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン−２
−イル）−１゜無水ジクロロメタン溶液５ ｍ ｌを加
え、−６０℃にて２０分間攪拌したのちこの温度にてト
リエチルアミン１．５２ｇ （１５，０ｍｍｏ ＋）を
滴下し、反応温度を２０分間かけて０℃まで上げた。飽
和塩化アンモニウム水溶液１００ｍ１と酢酸エチル１０
０ｍ１を加えて反応を止めた。有機層を分離懸し 後飽和食塩水（２０ｍｌＸ２）で洗浄しのち、無水硫酸
マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧下留去した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキ
サン−２）で精製し０．８２ｇ（９１％収率）の（３Ｓ
、４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−４−（Ｎ−メトキシカルボニル
−Ｎ−メチル）アミノ−３，５−ジメトキシメチルオキ
シー６−得た。
）を無水ジクロロメタン２５ｍ１に溶がし、−６０℃で
撹拌しながら、ジメチルスルホキシドｏ 、 ｓ 誇（
７，０ｍｍｏりの無水ジクロロメタン溶液５ｍｌを加え
、その温度にて２分間攪拌した。（−）−（２３，３３
，４Ｒ，５Ｒ）−３−（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−
メチル）アミノ−２，４−シメトキシメチルオキシー５
− （１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン−２
−イル）−１゜無水ジクロロメタン溶液５ ｍ ｌを加
え、−６０℃にて２０分間攪拌したのちこの温度にてト
リエチルアミン１．５２ｇ （１５，０ｍｍｏ ＋）を
滴下し、反応温度を２０分間かけて０℃まで上げた。飽
和塩化アンモニウム水溶液１００ｍ１と酢酸エチル１０
０ｍ１を加えて反応を止めた。有機層を分離懸し 後飽和食塩水（２０ｍｌＸ２）で洗浄しのち、無水硫酸
マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧下留去した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキ
サン−２）で精製し０．８２ｇ（９１％収率）の（３Ｓ
、４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−４−（Ｎ−メトキシカルボニル
−Ｎ−メチル）アミノ−３，５−ジメトキシメチルオキ
シー６−得た。
質量スペクトル：ｍ／５５６７ （Ｍ”）。
Ｎ Ｍ Ｒ（ＣＤ Ｃ１ｓ ）δ（ｐｐｍ）： ２．０
４（３Ｈ，ｓ、 ６ ＣＨ３） 、 ２．９７
（３Ｈ。
４（３Ｈ，ｓ、 ６ ＣＨ３） 、 ２．９７
（３Ｈ。
ｓ、ＮＣＨｓ）、３．２０，３．３６ （６Ｈ。
２ ｓ、０ＣＨｓＸ２）、３．６６．３．７０゜３．８
６，３．９０，３．９２ （１５Ｈ，５ｓ。
６，３．９０，３．９２ （１５Ｈ，５ｓ。
Ａｒ０ＣＨ３Ｘ４．ＣＯ＊ＣＨｉ）、４．５６（２Ｈ，
ｄｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、８Ｈｚ。
ｄｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、８Ｈｚ。
ＯＣＨ＊Ｏ）、４．９２ （２）１．ｄｄ、Ｊ−３６Ｈ
ｚ、 ７ Ｈｚ、 ＯＣＨ＊Ｏ） 、 ６．８４（
２Ｈ，ｓ、ＡｒＨ）、７．００ （ＬＨ。
ｚ、 ７ Ｈｚ、 ＯＣＨ＊Ｏ） 、 ６．８４（
２Ｈ，ｓ、ＡｒＨ）、７．００ （ＬＨ。
ｓ、ＡｒＨ）。
ＩＲ（ｎｅａｔ）：１７４Ｇ （Ｃｏ）。
１６９５ （Ｃｏ）、１６００ （Ａｒ）。
１０２５ （−０） ｃｓ−’。
参考例４
（３３，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ，）−４−（Ｎ−メトキシカ
ルボニル−Ｎ−メチル）アミノ−３，５−ラノン４３５
ｇ （０，７７ｍｍｏ １）を無水トルエン３０ｍ１に
溶かして一７８℃で攪拌しながら、ジイソプチルアルミ
ニウムビドリドのヘキサン溶液（１，０モル濃度）０．
９２ｍ１ （０，９２ｍｍｏ １）を滴下し、この温
度にて２０分間撹拌した。メタノールＱ、５ｍｌを性別
して反応を止め更に飽和塩化アンモニウム水溶液１００
ｍ１を加え、酢酸エチル（３０ｍｌＸ２）で抽出した。
ルボニル−Ｎ−メチル）アミノ−３，５−ラノン４３５
ｇ （０，７７ｍｍｏ １）を無水トルエン３０ｍ１に
溶かして一７８℃で攪拌しながら、ジイソプチルアルミ
ニウムビドリドのヘキサン溶液（１，０モル濃度）０．
９２ｍ１ （０，９２ｍｍｏ １）を滴下し、この温
度にて２０分間撹拌した。メタノールＱ、５ｍｌを性別
して反応を止め更に飽和塩化アンモニウム水溶液１００
ｍ１を加え、酢酸エチル（３０ｍｌＸ２）で抽出した。
有機層を合わせ、飽和食塩水（２０ｍｌｘ２）で洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を減圧留去した。
、無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を減圧留去した。
残渣をメタノール３０ｍ１に溶かし無水炭酸カリウム２
．Ｏｇを加え、３０分間加熱還流した後、反応液を濾過
し、濾液を減圧上濃縮した。このものをシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン−２井手
）で精製しく＋）−（３Ｓ、４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−２−
ヒドロキシ−４−（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチ
ル）アミノ−３，５−ジメトキシメチルオキシ−６−メ
チル−６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレ
ン−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ
−ピラン３５４■（８２％収率）を淡黄色カラメルとし
て得た。
．Ｏｇを加え、３０分間加熱還流した後、反応液を濾過
し、濾液を減圧上濃縮した。このものをシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン−２井手
）で精製しく＋）−（３Ｓ、４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−２−
ヒドロキシ−４−（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチ
ル）アミノ−３，５−ジメトキシメチルオキシ−６−メ
チル−６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレ
ン−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ
−ピラン３５４■（８２％収率）を淡黄色カラメルとし
て得た。
〔α〕２°＋１２．１° （Ｃ−１，０５クロロホルム
）ＭＷスペクトルｍ／ｅ５６９ （Ｍ” ）。
）ＭＷスペクトルｍ／ｅ５６９ （Ｍ” ）。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ） δ （ｐｐｍ）： １．８３゜
１．９１ （３Ｈ，２ｓ、 ６−ＣＨｓ）。
１．９１ （３Ｈ，２ｓ、 ６−ＣＨｓ）。
２．９６． ２．９９ （３Ｈ，２ｓ、 ＮＣＨり
。
。
３．２８ （３Ｈ，ｓ、０ＣＨｓ）、 ３．３７（
３Ｍ、ｓ、０ＣＨｓ）、３．４４．３（１９Ｈ，ｍ、
ＯＣ［ｉ３Ｘ ４． ＣＯｇＣＨｓ。
３Ｍ、ｓ、０ＣＨｓ）、３．４４．３（１９Ｈ，ｍ、
ＯＣ［ｉ３Ｘ ４． ＣＯｇＣＨｓ。
ＯＨ，ＨＩ Ｈ，、Ｈｓ）、 ４．４−４．９（５
Ｈ，ｍ、０ＣＨ３Ｘ２．Ｈｔ）、６．８０（２Ｈ，ｓ、
ＡｒＨ）、 ７．７２ （ＩＨ，ｓ。
Ｈ，ｍ、０ＣＨ３Ｘ２．Ｈｔ）、６．８０（２Ｈ，ｓ、
ＡｒＨ）、 ７．７２ （ＩＨ，ｓ。
Ａｒｃ）。
ＩＲ（ｎｅａ ｔ） ： ３４５０ （ＯＨ）
。
。
１６９０ （Ｃｏ）、 １６００ （Ａｒ）。
１０７０、 １０３０ （０）ａｍ−’。
（＋）−（３３，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−２−ヒドロキシ
−４−（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）アミノ
−３，５−ジメトキシメチルオキシ−６−メチル−６−
（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン−２−イ
ル）−３，４，５゜６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン３
５０■（０，６２ｍｍｏ りを無水テトラヒドロフラン
５．０ｍｌに溶かし、ジイソプロピルエチルアミン４．
４４ ｇ （３４ｍｍｏ １）りｏｏメチルメチルエー
テル３．１８１（３９ｍｍｏ ｌ）を加えたのち３時間
加熱還流した。続いて水冷攪拌下トリエチルアミン２ｍ
ｌ、メタノール３ ｍ ｌを注加してこの温度で１５分
間おいたのち酢酸エチル８０ｍ１を加えた。有機層を冷
３ＮＨＣ１水、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し無
水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を減圧上留去した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル
／ヘキサン−２）で精製し、（−）−（３Ｓ、４Ｒ，５
Ｒ。
−４−（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）アミノ
−３，５−ジメトキシメチルオキシ−６−メチル−６−
（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン−２−イ
ル）−３，４，５゜６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン３
５０■（０，６２ｍｍｏ りを無水テトラヒドロフラン
５．０ｍｌに溶かし、ジイソプロピルエチルアミン４．
４４ ｇ （３４ｍｍｏ １）りｏｏメチルメチルエー
テル３．１８１（３９ｍｍｏ ｌ）を加えたのち３時間
加熱還流した。続いて水冷攪拌下トリエチルアミン２ｍ
ｌ、メタノール３ ｍ ｌを注加してこの温度で１５分
間おいたのち酢酸エチル８０ｍ１を加えた。有機層を冷
３ＮＨＣ１水、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し無
水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を減圧上留去した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル
／ヘキサン−２）で精製し、（−）−（３Ｓ、４Ｒ，５
Ｒ。
６Ｒ）−４（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）ア
ミノ−２，３，５−）リメトキシメチルオキシー６−メ
チル−６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレ
ン−２−イル’）３，４．５゜６−テトラヒドロー２
Ｈ−ピラン３４３曜（９１％収率）を無色結晶として得
た。
ミノ−２，３，５−）リメトキシメチルオキシー６−メ
チル−６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレ
ン−２−イル’）３，４．５゜６−テトラヒドロー２
Ｈ−ピラン３４３曜（９１％収率）を無色結晶として得
た。
ｍ、ｐ、１１５−１１６℃。
〔α） ”−１６，２°・ （Ｃ−１，１０クロロホル
ム）質量スペクトルｍ／ ｅ ６１３ （Ｍ’″）。
ム）質量スペクトルｍ／ ｅ ６１３ （Ｍ’″）。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ） δ （ｐｐｍ）７１．８２（３
Ｈ，ｓ、Ｇ ＣＨｓ）、２．９６゜３．００ （３
Ｈ，２ｓ、ＮＣＨｓ）、３．２３゜３．２Ｂ、３．４０
（９Ｈ，３ｓ、０ＣＩ（り×３） 、 ３．５ ４
．３ （１７ｔｔ、 ｆｎ。
Ｈ，ｓ、Ｇ ＣＨｓ）、２．９６゜３．００ （３
Ｈ，２ｓ、ＮＣＨｓ）、３．２３゜３．２Ｂ、３．４０
（９Ｈ，３ｓ、０ＣＩ（り×３） 、 ３．５ ４
．３ （１７ｔｔ、 ｆｎ。
０ＣＨｓＸ５．Ｈｓ、Ｈｓ）、 ４．３ ５．３（２
Ｈ，ｓ、ＡｒＨ）、７．７４ （ＬＨ，ｓ。
Ｈ，ｓ、ＡｒＨ）、７．７４ （ＬＨ，ｓ。
ＡｒＨ）。
ＩＲ（ＫＢｒ） ：１７００ （Ｃｏ）、 １６
００（Ａ ｒ） 、 １０２０ （−０−） Ｃ
１１−’。
００（Ａ ｒ） 、 １０２０ （−０−） Ｃ
１１−’。
元素分析値：Ｃ□Ｈ４５ＮＯｔｓとしての計算値： Ｃ
； ５６．７６、 Ｈ； ７．０６゜Ｎｉ２．２８％。
； ５６．７６、 Ｈ； ７．０６゜Ｎｉ２．２８％。
分析値： Ｃｉ ５６．６３． Ｈｉ ７．１？。
Ｎｉ２．２１％。
参考例６
！
（−）−（３３，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−４−（Ｎ−メト
キシカルボニル−Ｎ−メチル）アミノ−２，３，５−）
ジメトキシメチルオキシ−６−メチル−６−（１，４，
５，８−テトラメトキシナフタレン−２−イル）−３，
４，５，６−テトラを無水エーテル４０ｍ１に溶かし水
素化アルミニ１時間加熱還流後メタノール１ｍｌを注加
して反応を止めた。酢酸エチル１００ｍ１を加え、この
有機層を飽和食塩水（２０ｍｌｘ３）で洗浄し無水硫酸
マグネシウムで乾燥後溶媒を減圧留去した。
キシカルボニル−Ｎ−メチル）アミノ−２，３，５−）
ジメトキシメチルオキシ−６−メチル−６−（１，４，
５，８−テトラメトキシナフタレン−２−イル）−３，
４，５，６−テトラを無水エーテル４０ｍ１に溶かし水
素化アルミニ１時間加熱還流後メタノール１ｍｌを注加
して反応を止めた。酢酸エチル１００ｍ１を加え、この
有機層を飽和食塩水（２０ｍｌｘ３）で洗浄し無水硫酸
マグネシウムで乾燥後溶媒を減圧留去した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチ
ル／ヘキサン−２）で精製しく−）−（３Ｓ、４Ｒ，５
Ｒ，６Ｒ）−４−ジメチルアミノ−２，３，５−１−ジ
メトキシメチルオキシ−６−メチル−６−（１，４，５
，８−テトラメトキシナフタレン−２−イル）−３，４
，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラ７６４１■（９５
％収率）を無色結晶として得た。
ル／ヘキサン−２）で精製しく−）−（３Ｓ、４Ｒ，５
Ｒ，６Ｒ）−４−ジメチルアミノ−２，３，５−１−ジ
メトキシメチルオキシ−６−メチル−６−（１，４，５
，８−テトラメトキシナフタレン−２−イル）−３，４
，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラ７６４１■（９５
％収率）を無色結晶として得た。
ｍ、 ｐ、１０９−１１０℃。
〔α）”Ｏ（ｃｍ１．０８ クロロホルム）［）
（ｃｒ） ” −１０，３’″ （Ｃ−１，０８りｏｏ
ホル＠５ ム）質量スペクトルｍ／ｅ：５６９ （Ｍ”）。
ホル＠５ ム）質量スペクトルｍ／ｅ：５６９ （Ｍ”）。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、） δ（ｐｐｍ）： １．８４（
３Ｈ，ｇ、６ ＣＨｓ）、２．５３ （６Ｈ。
３Ｈ，ｇ、６ ＣＨｓ）、２．５３ （６Ｈ。
ｓ、Ｎ （ＣＨｓ）ｇ）、３．０２ （Ｉ Ｈ，ｔ。
Ｊ＝８．７Ｈｚ、Ｈａ）、３．３５ （６Ｈ，ｓ。
０ＣＨｓＸ２）、３．３８ （３Ｈ，ｓ。
ＯＣＲ，）、３．７１．３．８４，３．９０゜３．９２
（１２１（，４ｓ、Ａｒ０ＣＨｓＸ ４）。
（１２１（，４ｓ、Ａｒ０ＣＨｓＸ ４）。
３．５−４．２ （２Ｈ，ｍ、Ｈｓ、Ｈｓ）。
４．６−５．３ （７Ｈ，ｍ、０ＣＨｔＯＸ３゜Ｈｚ）
、６．８０ （２Ｈ，ｓ、ＡｒＨ）。
、６．８０ （２Ｈ，ｓ、ＡｒＨ）。
７．７０ （ＩＨ，ｓ、ＡｒＨ）
ｒＲ（ＫＢｒ） ：ｌ６００ （Ａｒ）、 １０
７０゜１ ０４０、 ｌ Ｏ２０（−０−） ｃ
ｍ−’。
７０゜１ ０４０、 ｌ Ｏ２０（−０−） ｃ
ｍ−’。
元素分析値’ Ｃ＊ ＊ Ｈａ ｓ Ｎ Ｏ□として計
算値： Ｃ，５９，０４，Ｈ； ７．６１゜Ｎ；２．４
Ｇ％。
算値： Ｃ，５９，０４，Ｈ； ７．６１゜Ｎ；２．４
Ｇ％。
分析値： Ｃ，５８，８６，Ｈ； ７．５７゜Ｎ；２．
４０％。
４０％。
実施例１
（−）−（３Ｓ、４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−４−ジメチルア
ミノ−２，３，５−）リメトキシメチルすキシ−６−メ
チル−６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレ
ン−２−イル）−３，４゜５．６−テトラヒドロ−２Ｈ
−ビラン３００■（０，５３ｍｍｏｌ）をエタノール８
ｍｌに溶かし、−４０℃で硝酸セリウムアンモニウム１
．８０ｇ（３，２８ｍｍｏ １）の３ｍｌ水溶液を加え
、温度を上げた。０℃で１０分間攪拌後、酢酸エチル２
０ｍ１．水２０ｍ１を加えて激しく攪拌しながら飽和重
曹水を滴下して水層をｐＨ−８とした。を機層を分離後
飽和食塩水（ｌｏｍｌ）で洗浄したのち０．５ＮＨＣ１
水（２０ｍｌｘ２）で逆抽出し、飽和重曹水でｐＨ−８
としたのち再度酢酸エチル（２０ｍｌＸ２）で抽出した
、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を減圧上
留去し得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（酢酸エチル）で精製し、（３３，４Ｒ，５Ｒ。
ミノ−２，３，５−）リメトキシメチルすキシ−６−メ
チル−６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレ
ン−２−イル）−３，４゜５．６−テトラヒドロ−２Ｈ
−ビラン３００■（０，５３ｍｍｏｌ）をエタノール８
ｍｌに溶かし、−４０℃で硝酸セリウムアンモニウム１
．８０ｇ（３，２８ｍｍｏ １）の３ｍｌ水溶液を加え
、温度を上げた。０℃で１０分間攪拌後、酢酸エチル２
０ｍ１．水２０ｍ１を加えて激しく攪拌しながら飽和重
曹水を滴下して水層をｐＨ−８とした。を機層を分離後
飽和食塩水（ｌｏｍｌ）で洗浄したのち０．５ＮＨＣ１
水（２０ｍｌｘ２）で逆抽出し、飽和重曹水でｐＨ−８
としたのち再度酢酸エチル（２０ｍｌＸ２）で抽出した
、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を減圧上
留去し得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（酢酸エチル）で精製し、（３３，４Ｒ，５Ｒ。
６Ｒ）−６−（１，４−ジメトキシ−５，８−ジオキソ
ナフタレン−２−イル）−４−ジメチルアミノ−２，３
，５−トリメトキシメチルオキシ−６−メチル−３，４
，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ビラン５９ｗ（２１％
収率）を黄色カラメルとして得た。
ナフタレン−２−イル）−４−ジメチルアミノ−２，３
，５−トリメトキシメチルオキシ−６−メチル−３，４
，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ビラン５９ｗ（２１％
収率）を黄色カラメルとして得た。
質量分析ｍ／ｅ ： ５３９ （Ｍ” ）。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ） δ （ｐｐｍ）： １．８１
（３Ｈ，ｓ、６ ＣＨｓ）、２．４８ （６Ｈ。
（３Ｈ，ｓ、６ ＣＨｓ）、２．４８ （６Ｈ。
ｓ、Ｎ （ＣＨｓ）ｔ） 、２．８３ （Ｌ Ｈ，ｔ
。
。
Ｊ＝ ６ Ｈｚ、Ｈ４）、３．２３，３．３９゜３．４
０ （９Ｈ，３ｓ、ｏｃＨｆｆｘ ３） 。
０ （９Ｈ，３ｓ、ｏｃＨｆｆｘ ３） 。
３．８２．３．９９ （６Ｈ，２ｓ、Ａｒ０ＣＨｓＸ
２）、４．２７ （ＬＨ，ｄ、Ｊ−６Ｈｚ。
２）、４．２７ （ＬＨ，ｄ、Ｊ−６Ｈｚ。
Ｈｓ）、４．５−５．２ （７Ｈ，ｍ、ＯＣＲ，０ｘ３
．Ｏ−ＣＭ−０）、６．７６ （２Ｈ，ｓ。
．Ｏ−ＣＭ−０）、６．７６ （２Ｈ，ｓ。
八ｒＨ） 、 ８．０４ （ＩＨ，ｓ、 ＡｒＨ） 。
ＩＲ（ｎｅａｔ）：１６６０ （Ｃｏ）。
１０４０、 １０２０ （Ｃ−０−Ｃ）ａｍ−籠。
試験例（癌細胞増殖阻害作用）
マウスリンパ性白病細胞（ｐ ３８８）を１０％仔牛脂
児血清含をのＲＰメ１６４０培養液に加え、培養細胞数
を５Ｘ１０’個／ ｌ ｍ １に調製し、本発明の新規
６− （１，４−ジメトキシ−５，８−ジオキソナフタ
レン−２−イル）−３，４，５゜６−テトラヒドロー２
Ｈ−とラン誘導体（１）を所定の濃度になるように添加
し、３７℃で２日間５０％細胞増殖阻害濃度［Ｃｓｏを
求めた結果を第１表に示す。
児血清含をのＲＰメ１６４０培養液に加え、培養細胞数
を５Ｘ１０’個／ ｌ ｍ １に調製し、本発明の新規
６− （１，４−ジメトキシ−５，８−ジオキソナフタ
レン−２−イル）−３，４，５゜６−テトラヒドロー２
Ｈ−とラン誘導体（１）を所定の濃度になるように添加
し、３７℃で２日間５０％細胞増殖阻害濃度［Ｃｓｏを
求めた結果を第１表に示す。
第１表
６−（１，４−ジメトキシ−５，８−ジオキソナフタレ
ン−２−イル） −３，４，５，６−テトラヒドロー２
Ｈ（ｐ ３８ Ｂ）に対するＩＣｓ。
ン−２−イル） −３，４，５，６−テトラヒドロー２
Ｈ（ｐ ３８ Ｂ）に対するＩＣｓ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼−（ I ） で表わされる６−（１，４−ジメトキシ−５，８−ジオ
キソナフタレン−２−イル）−３，４，５，６−テトラ
ヒドロ−２Ｈ−ピラン誘導体（式中、Ｒ＾１は水酸基の
保護基である。）。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60292240A JPS62153281A (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | ６−（１，４−ジメトキシ−５，８−ジオキソナフタレン−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２ｈ−ピラン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60292240A JPS62153281A (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | ６−（１，４−ジメトキシ−５，８−ジオキソナフタレン−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２ｈ−ピラン誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62153281A true JPS62153281A (ja) | 1987-07-08 |
| JPH0586787B2 JPH0586787B2 (ja) | 1993-12-14 |
Family
ID=17779280
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60292240A Granted JPS62153281A (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | ６−（１，４−ジメトキシ−５，８−ジオキソナフタレン−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２ｈ−ピラン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62153281A (ja) |
-
1985
- 1985-12-26 JP JP60292240A patent/JPS62153281A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0586787B2 (ja) | 1993-12-14 |
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