JPS62151407A - 合成樹脂薄膜形成装置 - Google Patents
合成樹脂薄膜形成装置Info
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- JPS62151407A JPS62151407A JP60292068A JP29206885A JPS62151407A JP S62151407 A JPS62151407 A JP S62151407A JP 60292068 A JP60292068 A JP 60292068A JP 29206885 A JP29206885 A JP 29206885A JP S62151407 A JPS62151407 A JP S62151407A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2035—Exposure; Apparatus therefor simultaneous coating and exposure; using a belt mask, e.g. endless
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- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、適宜の基板上に合成樹脂薄膜乞形成す石のに
用い６１ろ合成樹脂薄膜形成装置に関する。
用い６１ろ合成樹脂薄膜形成装置に関する。
ｒ’ｔに、レーザ光は散乱が少なく集束性が良いので、
微小な面積に高〜・エネルギ？照射することができ、こ
ｊを利用して合成樹脂（プラスチック）の重合ケ行なう
ことが知らねている。この場合。
微小な面積に高〜・エネルギ？照射することができ、こ
ｊを利用して合成樹脂（プラスチック）の重合ケ行なう
ことが知らねている。この場合。
ｌ／−ザ光としては、例えば特開昭５８−１４２３３６
号公報や特開昭５９−８９３０３号公報等に示さｊろよ
うに、波長の短い領域の紫外線レーザが用いらハろ。
号公報や特開昭５９−８９３０３号公報等に示さｊろよ
うに、波長の短い領域の紫外線レーザが用いらハろ。
一方、ある物体表面にプラスチックの薄膜を形成する方
法は、例えばスピンコード法、スパッタ法、プラズマ重
合法等のように種々の方法が知らねて（・る。
法は、例えばスピンコード法、スパッタ法、プラズマ重
合法等のように種々の方法が知らねて（・る。
〔発明が解決し７ようとてろ問題点〕
ところで、上記紫外線馨用いたプラスチック重合方法に
おいては、単に重合という化学反応χ発生させろだけで
、同時に薄膜ケ形成することはできなかった。又、上記
スピンコード法等の方法は、プラスチック薄膜乞形成す
ることを工できるが、真空等の所定の条件Ｙ：侠し、装
置が複雑、高価であり、かつ薄膜形成に長時間を要する
欠点ケ有していた。
おいては、単に重合という化学反応χ発生させろだけで
、同時に薄膜ケ形成することはできなかった。又、上記
スピンコード法等の方法は、プラスチック薄膜乞形成す
ることを工できるが、真空等の所定の条件Ｙ：侠し、装
置が複雑、高価であり、かつ薄膜形成に長時間を要する
欠点ケ有していた。
本発明の目的は、上記従来技術の欠点乞除き、空気中で
容易にプラスチック乞薄膜状に重合形成することができ
る合成樹脂薄膜形成装置を提供するにある。
容易にプラスチック乞薄膜状に重合形成することができ
る合成樹脂薄膜形成装置を提供するにある。
上記の目的を達成するため、本発明は、薄膜形成対象と
なる基板上にプラスチック七ツマ暑載立し、赤外線レー
ザの出力光を、反射鏡および光学系馨介してプラスチッ
クモノマに照射するとともに、基板上の像を前記光学系
および反射妹ヲ介して観察装置に導くようにしたことン
特徴とする。
なる基板上にプラスチック七ツマ暑載立し、赤外線レー
ザの出力光を、反射鏡および光学系馨介してプラスチッ
クモノマに照射するとともに、基板上の像を前記光学系
および反射妹ヲ介して観察装置に導くようにしたことン
特徴とする。
赤外線レーザの出力光ンプラスチックモノマに照射する
と、当該照射部分においてプラスチックモノマの重合が
生じろと同時に基板上に薄膜が形成さｔ′Ｉる。
と、当該照射部分においてプラスチックモノマの重合が
生じろと同時に基板上に薄膜が形成さｔ′Ｉる。
以下、本発明乞図示の実施例に基づいて説明する。
第１図は本発明の実施９ｊに係るプラスチック薄膜形成
製蓋の系統図である。図で、１は赤外線レーザであり、
イツトリウム・アルミニウム番ガリウムレーザ（以下、
ＹＡＧレーザと称する）が用いられろ。２はＹＡＧレー
ザ１から出力されろレーザ出力光であり、この場合、波
長１０６０＋ｕｍの赤外線ビームである。４は光学系で
あり、鏡筒４ａ％鏡筒４ａ内に収納された対物レンズ４
ｂ。
製蓋の系統図である。図で、１は赤外線レーザであり、
イツトリウム・アルミニウム番ガリウムレーザ（以下、
ＹＡＧレーザと称する）が用いられろ。２はＹＡＧレー
ザ１から出力されろレーザ出力光であり、この場合、波
長１０６０＋ｕｍの赤外線ビームである。４は光学系で
あり、鏡筒４ａ％鏡筒４ａ内に収納された対物レンズ４
ｂ。
レンズカバーガラス４Ｃおよび鏡筒４ａ７ｉ（駆動して
焦虚位置を調節する焦点調節装置４ｄで構成さねている
。４ｆは焦点を示す。５を；平面上χχ軸方回およびＹ
軸方向に所定距離だけ移動することができろＸＹテーブ
ル、６はＸＹテーブル５上に設置されたホルダ、７はホ
ルダ６上に載置されたガラス基板８はホルダ６の底部に
置かれたカーボン板である。ガラス基板７が対物レンズ
４ｂの焦点４ｆより遠くに位＃するように焦点調節装置
４ｄで焦点４ｆが調節さｒろ。９はガラス基板７上の像
を結像する結像光学系、１０は結像光学系９で結像され
た像を撮ｆｌＪするモニタＴＶカメラ、１１は受像機で
ある。
焦虚位置を調節する焦点調節装置４ｄで構成さねている
。４ｆは焦点を示す。５を；平面上χχ軸方回およびＹ
軸方向に所定距離だけ移動することができろＸＹテーブ
ル、６はＸＹテーブル５上に設置されたホルダ、７はホ
ルダ６上に載置されたガラス基板８はホルダ６の底部に
置かれたカーボン板である。ガラス基板７が対物レンズ
４ｂの焦点４ｆより遠くに位＃するように焦点調節装置
４ｄで焦点４ｆが調節さｒろ。９はガラス基板７上の像
を結像する結像光学系、１０は結像光学系９で結像され
た像を撮ｆｌＪするモニタＴＶカメラ、１１は受像機で
ある。
次に１本発明の動作乞第２図ｆａｌ 、 ｔｂｌおよび
第３図１ａｌ〜ｆｃ）に示すプラスチック状態９乞参照
しながら説明″ｆろ。薄膜形成対象となるガラス基板７
Ｚホルダ６上に置キ、その上にプラスチックモノマＺ塗
布ｆ６゜このプラスチックモノマとして、例えば、ケイ
皮酸１５部、アクリル酸１３部、水酸化バリウム１２部
、混合クロロスチレン３９部より成るモノマが用いられ
ろ。ＹＡＧレーザ１乞励起すると、出力された赤外線ビ
ーム２は反射鏡３を透過し、対物レンズ４ｂで焦点４ｆ
に集束さｔた後、ガラス基板７上のプラスチックモノマ
に照射されろ。照射された赤外線ビーム２はガラス基板
２を通り抜け、カーボン板８に吸収される。−方、ガラ
ス基板７上の照射状態は可視光線として光学系４を経て
反射鏡３に至り１反射鏡３に反射して結像光学系９で結
像し、モニタＴＶカメラ１０を経て受像機１１に映し出
される。操作員はこれをみながら照射位置等を調節する
。
第３図１ａｌ〜ｆｃ）に示すプラスチック状態９乞参照
しながら説明″ｆろ。薄膜形成対象となるガラス基板７
Ｚホルダ６上に置キ、その上にプラスチックモノマＺ塗
布ｆ６゜このプラスチックモノマとして、例えば、ケイ
皮酸１５部、アクリル酸１３部、水酸化バリウム１２部
、混合クロロスチレン３９部より成るモノマが用いられ
ろ。ＹＡＧレーザ１乞励起すると、出力された赤外線ビ
ーム２は反射鏡３を透過し、対物レンズ４ｂで焦点４ｆ
に集束さｔた後、ガラス基板７上のプラスチックモノマ
に照射されろ。照射された赤外線ビーム２はガラス基板
２を通り抜け、カーボン板８に吸収される。−方、ガラ
ス基板７上の照射状態は可視光線として光学系４を経て
反射鏡３に至り１反射鏡３に反射して結像光学系９で結
像し、モニタＴＶカメラ１０を経て受像機１１に映し出
される。操作員はこれをみながら照射位置等を調節する
。
プラスチックモノマにＹＡＧレーザ１から出力された赤
外線ビーム２が照射されろと、当該プラスチックモノマ
は重合されると同時に、第２図（ａ）。
外線ビーム２が照射されろと、当該プラスチックモノマ
は重合されると同時に、第２図（ａ）。
（ｂｌに示すように、光軸Ｋを中心として直径「の範囲
で薄膜化されろ。第２図（ａｌは平面図、第２図（ｂｌ
は第２図（ａｌの線［ｂ−ＩＩｂに沿う断面図で、１３
はガラス基板７上の上記プラスチックモノマ、１４は薄
膜形成部分を示す。直径ｒは数ｍｍ〜１０数価となった
。又、薄膜の厚さはモノマ１３の粘度や照射エネルギに
より制御することができる。
で薄膜化されろ。第２図（ａｌは平面図、第２図（ｂｌ
は第２図（ａｌの線［ｂ−ＩＩｂに沿う断面図で、１３
はガラス基板７上の上記プラスチックモノマ、１４は薄
膜形成部分を示す。直径ｒは数ｍｍ〜１０数価となった
。又、薄膜の厚さはモノマ１３の粘度や照射エネルギに
より制御することができる。
例えば、さぎに例示したモノマを用い、エネルギｘ３Ｊ
、赤外Ｈビーム２を９ｍＳ＠のパルス光として０５秒毎
に１００回照射した場合、膜厚ｄは１３２０Ａとなった
。
、赤外Ｈビーム２を９ｍＳ＠のパルス光として０５秒毎
に１００回照射した場合、膜厚ｄは１３２０Ａとなった
。
このようなりレータ状に薄膜が重合形成されろ理由につ
いては、未だ充分に解明さねていな（゛が。
いては、未だ充分に解明さねていな（゛が。
次のように考えることもできるのではないかと思われる
。即ち、今、仮にモノマ１３０表面に照射される赤外線
ビーム２の径を２ｍｍｂ薄膜の厚さｄを０２μｍ、照射
エネルギを２０Ｊ、モノマ１３の光線吸収率を７チ、モ
ノマ１３の比熱を１．４７Ｊ／ｆｌｋ、 モノマ１３
の熱伝導度を１．２１！ ／ｃｎ！とすると、平均温度
上昇は約５００℃に達する。
。即ち、今、仮にモノマ１３０表面に照射される赤外線
ビーム２の径を２ｍｍｂ薄膜の厚さｄを０２μｍ、照射
エネルギを２０Ｊ、モノマ１３の光線吸収率を７チ、モ
ノマ１３の比熱を１．４７Ｊ／ｆｌｋ、 モノマ１３
の熱伝導度を１．２１！ ／ｃｎ！とすると、平均温度
上昇は約５００℃に達する。
赤外線２のもつエネルギ分布は、いわゆるガウス分布と
なっており、エネルギは中心軸が最大であり周辺になる
ほど小さくなるので、中心付近の温度は平均温度５００
℃よりさらに高温となる。
なっており、エネルギは中心軸が最大であり周辺になる
ほど小さくなるので、中心付近の温度は平均温度５００
℃よりさらに高温となる。
このようなエネルギ状態のビーム２を１例えば厚さ０．
５ ｍｍのモノマ１３に照射すると、中心付近では瞬時
゛に蒸発が生じ、モノマのほとんどが気化するが底部の
モノマは重合してガラス基板に付着する。この状態が第
３図（ａ）に示されている。
５ ｍｍのモノマ１３に照射すると、中心付近では瞬時
゛に蒸発が生じ、モノマのほとんどが気化するが底部の
モノマは重合してガラス基板に付着する。この状態が第
３図（ａ）に示されている。
上記のようにモノマの蒸発が生じろと、潜熱が奪われる
ので温度の上昇は抑制され、薄膜が燃えることはない。
ので温度の上昇は抑制され、薄膜が燃えることはない。
そして、熱は周辺に向って拡散するので、蒸発は中心か
ら外側に回って進行するが。
ら外側に回って進行するが。
同時に表面張力のためモノマ１３が外方へ押しやられ、
この結果クレータが形成されると考えられる。第３図［
ｂｌはこの状態を示し、第３図（ｃｌはこれがさらに発
展した状態を示す。なお、モノマから蒸発すル揮発成分
はレンズカバーガラス４Ｃに妨げられて対物レンズ４ｂ
が汚染され２）ことはない。
この結果クレータが形成されると考えられる。第３図［
ｂｌはこの状態を示し、第３図（ｃｌはこれがさらに発
展した状態を示す。なお、モノマから蒸発すル揮発成分
はレンズカバーガラス４Ｃに妨げられて対物レンズ４ｂ
が汚染され２）ことはない。
又、薄膜の形成状態は受像機１１により監視される。
以上の薄膜形成の理論は、前述のように推測の域に留ま
るものであるが、実際のプロセスとしては、上記の装置
により同一条件で同一の薄膜を形成することができる。
るものであるが、実際のプロセスとしては、上記の装置
により同一条件で同一の薄膜を形成することができる。
上記装置において問題となるのは反射鏡３の構造である
。反射鏡３はその機能上、ＹＡＧレーザ１から出力さｊ
た赤外線ビーム２は良く透過して光学系４へ導き、又、
ガラス基板７上の可視像は良く反射して結像光学系９１
＼導く必要がある。このような機能を得ろため、通常、
反射鏡３はガラス等に金属薄膜を蒸着して構成されるが
、金属薄膜は赤外線を良く透過せしめろものでも数チの
吸収損失を避けろことはできない。このため、本実施例
でハ、゛例えば第４図に示すような反射鏡が用いらｔろ
。
。反射鏡３はその機能上、ＹＡＧレーザ１から出力さｊ
た赤外線ビーム２は良く透過して光学系４へ導き、又、
ガラス基板７上の可視像は良く反射して結像光学系９１
＼導く必要がある。このような機能を得ろため、通常、
反射鏡３はガラス等に金属薄膜を蒸着して構成されるが
、金属薄膜は赤外線を良く透過せしめろものでも数チの
吸収損失を避けろことはできない。このため、本実施例
でハ、゛例えば第４図に示すような反射鏡が用いらｔろ
。
第４図は上記実施例に使用さｊろ反射鏡の具体例を示す
系統図である。図で、第１図に示す部分と同一部分には
同一符号が付さねている。３ａは反射鏡３の中心にあけ
らｊた穴、３ｂは穴３ａの部分を除いて形成さｊた金属
蒸着膜を示す。赤外線ビーム２は、その径が極めて細い
ので、穴３ａのみを通過する。一方、ガラス基板７上の
像は広い面積にわたって形成されるので、光線の広がり
も極めて大きく、反射鏡３０面積のほとんどを占める金
属蒸着膜３ｂにより反射されろ。ガラス基板７上の像を
モニタＴＶカメラ１０側からみると、中心部分で反射さ
ｊろ光が欠けているので、像は多少暗くなる。しかし、
像からの光線は散乱光であるので、光軸中心部がなくて
も周囲を通ってくる光で像は充分に再生され、何等の支
障も生じな１．１０ 以上述べたように、本実施例では、ガラス基板上のプラ
スチックモノマをＹＡＧレーザから出力される赤外線ビ
ームで照射することにより、空気中でプラスチックモノ
マを重合すると同時にガラス基板上に薄膜を形成するこ
とができ、装置を簡単に構成することができろ。又、ガ
ラス基板上の像を反射鏡を介して受像機で観察できるよ
うにしたので、赤外線ビーム照射の調節や薄膜形成状態
の監視を行なうことができろ。さらに、反射鏡の中心に
穴を形成したので、赤外線ビームの吸収損失を防止する
ことができろ。
系統図である。図で、第１図に示す部分と同一部分には
同一符号が付さねている。３ａは反射鏡３の中心にあけ
らｊた穴、３ｂは穴３ａの部分を除いて形成さｊた金属
蒸着膜を示す。赤外線ビーム２は、その径が極めて細い
ので、穴３ａのみを通過する。一方、ガラス基板７上の
像は広い面積にわたって形成されるので、光線の広がり
も極めて大きく、反射鏡３０面積のほとんどを占める金
属蒸着膜３ｂにより反射されろ。ガラス基板７上の像を
モニタＴＶカメラ１０側からみると、中心部分で反射さ
ｊろ光が欠けているので、像は多少暗くなる。しかし、
像からの光線は散乱光であるので、光軸中心部がなくて
も周囲を通ってくる光で像は充分に再生され、何等の支
障も生じな１．１０ 以上述べたように、本実施例では、ガラス基板上のプラ
スチックモノマをＹＡＧレーザから出力される赤外線ビ
ームで照射することにより、空気中でプラスチックモノ
マを重合すると同時にガラス基板上に薄膜を形成するこ
とができ、装置を簡単に構成することができろ。又、ガ
ラス基板上の像を反射鏡を介して受像機で観察できるよ
うにしたので、赤外線ビーム照射の調節や薄膜形成状態
の監視を行なうことができろ。さらに、反射鏡の中心に
穴を形成したので、赤外線ビームの吸収損失を防止する
ことができろ。
第５図は本発明の他の実施例に係るプラスチック薄膜形
成装置の系統図である。図で、第１図に示す部分と同一
部分に舎工同−符号を付して説明を省略する。本実施例
は、結像光学系９から受像機１１に至る系統とＹＡＧレ
ーザ１との配置、および反射鏡１６の構造においてさぎ
の実施例と異なる。即ち１反射鏡１６は、ＹＡＧレーザ
１から出力された赤外線ビーム２を光学系４の方へ反射
するとともに、ガラス基板７上の像を結像光学系９の方
へ透過する。他の構成はさぎの実施９１のものと同じで
あり、又、プラスチックモノマの重合、薄膜形成作用も
同じである。
成装置の系統図である。図で、第１図に示す部分と同一
部分に舎工同−符号を付して説明を省略する。本実施例
は、結像光学系９から受像機１１に至る系統とＹＡＧレ
ーザ１との配置、および反射鏡１６の構造においてさぎ
の実施例と異なる。即ち１反射鏡１６は、ＹＡＧレーザ
１から出力された赤外線ビーム２を光学系４の方へ反射
するとともに、ガラス基板７上の像を結像光学系９の方
へ透過する。他の構成はさぎの実施９１のものと同じで
あり、又、プラスチックモノマの重合、薄膜形成作用も
同じである。
反射鏡１６は、例えば、ガラス板に厚さ１００Ａの金を
蒸着して構成されろ。このような構成においては、赤外
線ビーム２０反射率は９５チ以上であり、可視光の透過
率は５０チ程度であり、実用上充分に使用可能である。
蒸着して構成されろ。このような構成においては、赤外
線ビーム２０反射率は９５チ以上であり、可視光の透過
率は５０チ程度であり、実用上充分に使用可能である。
しかしながら、反射におけろ損失が５チ程度あるので、
この損失を避けたい場合は第６図に示すような反射鏡を
用いる。
この損失を避けたい場合は第６図に示すような反射鏡を
用いる。
第６図は本実施例に使用されろ反射鏡の具体例を示す系
統図である。図で、第５図に示す部分と同一部分には同
一符号が付さねでいる。１６ａは反射鏡１６の中心に形
成さｊ、た全反射ミラー部、１６ｂは透明部である。全
反射ミラー部１６ａは誘電体多層膜より成り、各層の屈
折率と膜厚を適当に選ぶことにより赤外線ビーム２０反
射率をほぼＸＯＯチとすることができろ。全反射ミラー
部１６ａの径は赤外線ビーム２の径よりやや大きく選定
される。透明部１６ｂは透明ガラスであり、ガラス基板
７上の像の光線は大部分透過し、明るい像を得ろことが
できろ。本実施例においても、さぎの実施例と同じ効果
を奏する。
統図である。図で、第５図に示す部分と同一部分には同
一符号が付さねでいる。１６ａは反射鏡１６の中心に形
成さｊ、た全反射ミラー部、１６ｂは透明部である。全
反射ミラー部１６ａは誘電体多層膜より成り、各層の屈
折率と膜厚を適当に選ぶことにより赤外線ビーム２０反
射率をほぼＸＯＯチとすることができろ。全反射ミラー
部１６ａの径は赤外線ビーム２の径よりやや大きく選定
される。透明部１６ｂは透明ガラスであり、ガラス基板
７上の像の光線は大部分透過し、明るい像を得ろことが
できろ。本実施例においても、さぎの実施例と同じ効果
を奏する。
なお、上記各実施例の説明では、レーザとしてＹＡＧレ
ーザを用いた例について説明したが、他の赤外線レーザ
を用いてもよい。又、ガラス基板の配置を焦点より遠方
とした例について説明したが、レーザ光線のエネルギ等
の条件により焦点位吐又は焦点より近い位［Ｃ配置する
ことができる。
ーザを用いた例について説明したが、他の赤外線レーザ
を用いてもよい。又、ガラス基板の配置を焦点より遠方
とした例について説明したが、レーザ光線のエネルギ等
の条件により焦点位吐又は焦点より近い位［Ｃ配置する
ことができる。
さらに、基板をニガラス基板でなくてもよく、又。
プラスチックモノマは上述の例に限定さｊろことはない
。
。
以上述べたように、本発明では、赤外線レーザからの光
線を基板上の合成樹脂モノマに照射するように構成した
ので、空気中でも容易に基板上に薄膜を重合形成するこ
とができ、又、装置も簡単に構成することができる。さ
らに、観察装置により基板上の像を観察するようにした
ので、レーザ光線の照射の調節や薄膜形成状態の監視を
行なうことができ、薄膜形成を正確に行なうことができ
る。
線を基板上の合成樹脂モノマに照射するように構成した
ので、空気中でも容易に基板上に薄膜を重合形成するこ
とができ、又、装置も簡単に構成することができる。さ
らに、観察装置により基板上の像を観察するようにした
ので、レーザ光線の照射の調節や薄膜形成状態の監視を
行なうことができ、薄膜形成を正確に行なうことができ
る。
第１図は本発明の実施例に係る薄膜形成装置の系統図、
第２図ｉａｌ 、 ［ｂｌおよび第３図ｆ”ｌ ＋ ｆ
ｂｌ ｔ ［ｃｌはプラスチックの状態図、第４図は第
１図に示す装置に使用される反射鏡の具体例を示す系統
図、第５図は本発明の他の実施例に係る薄膜形成装置の
系統図、第６図は第５図に示す装置に使用さｒろ反射鏡
の具体例を示す系統図である。 １・・・・・・ＹＡＧレーザ、２・・・・・・赤外線ビ
ーム、３１１６・・・・・・反射鏡、４・・・・・・光
学系、４ｂ・・・・・・対物レンズ、５・・・・・・Ｘ
Ｙテーブル、７・・・・・・ガラス基板、９・・・・・
・結像光学系、１０・・・・・・モニタＴＶカメラ、１
１・・・・・・受像機、１３・・・・・・モノマ、１４
・・・・・・薄膜。 代 埋 人 弁理士 武 顕次部 第１図 ｌｌ ９−一一一結像光学系 ＩＱ−−−−七二９ＴＶ力ｔう ／ ／−−−一々像機 第２図 （ｂ） 第３！！！ （０） （ｃ） （ｂ） 第４図 第５図 ９−−−−ＡΔ像光学系 １０−−−一七ニクＴｖカメラ ｌＩ〜−−一愛イ２〔オζ（ ７ローーーー反射誂
第２図ｉａｌ 、 ［ｂｌおよび第３図ｆ”ｌ ＋ ｆ
ｂｌ ｔ ［ｃｌはプラスチックの状態図、第４図は第
１図に示す装置に使用される反射鏡の具体例を示す系統
図、第５図は本発明の他の実施例に係る薄膜形成装置の
系統図、第６図は第５図に示す装置に使用さｒろ反射鏡
の具体例を示す系統図である。 １・・・・・・ＹＡＧレーザ、２・・・・・・赤外線ビ
ーム、３１１６・・・・・・反射鏡、４・・・・・・光
学系、４ｂ・・・・・・対物レンズ、５・・・・・・Ｘ
Ｙテーブル、７・・・・・・ガラス基板、９・・・・・
・結像光学系、１０・・・・・・モニタＴＶカメラ、１
１・・・・・・受像機、１３・・・・・・モノマ、１４
・・・・・・薄膜。 代 埋 人 弁理士 武 顕次部 第１図 ｌｌ ９−一一一結像光学系 ＩＱ−−−−七二９ＴＶ力ｔう ／ ／−−−一々像機 第２図 （ｂ） 第３！！！ （０） （ｃ） （ｂ） 第４図 第５図 ９−−−−ＡΔ像光学系 １０−−−一七ニクＴｖカメラ ｌＩ〜−−一愛イ２〔オζ（ ７ローーーー反射誂
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、赤外線レーザと、この赤外線レーザから出力された
出力光を通す光学系と、前記出力光の照射位置に支持さ
れかつ合成樹脂モノマが載置された基板と、この基板上
の像を観察する観察装置と、前記赤外線レーザおよび前
記観察装置と前記光学系との間に介在する反射鏡とを備
えていることを特徴とする合成樹脂薄膜形成装置。 ２、特許請求の範囲第１項において、前記基板は、前記
光学系の焦点より遠方に位置することを特徴とする合成
樹脂薄膜形成装置。 ３、特許請求の範囲第１項において、前記光学系は、焦
点位置を調節する調節手段を備えていることを特徴とす
る合成樹脂薄膜形成装置。 ４、特許請求の範囲第１項において、前記反射鏡は、前
記出力光を透過し、かつ、前記基板上の像の可視光を反
射する構成とされていることを特徴とする合成樹脂薄膜
形成装置。 ５、特許請求の範囲第４項において、前記反射鏡は、そ
のほぼ中心部分に前記出力光が透過する貫通穴を備えて
いることを特徴とする合成樹脂薄膜形成装置。 ６、特許請求の範囲第１項において、前記反射鏡は、前
記基板上の像の可視光を透過し、かつ、前記出力光を反
射する構成とされていることを特徴とする合成樹脂薄膜
形成装置。 ７、特許請求の範囲第６項において、前記反射鏡は、そ
のほぼ中心部分に前記出力光を全反射する全反射ミラー
部を備えていることを特徴とする合成樹脂薄膜形成装置
。 ８、特許請求の範囲第１項において、前記観察装置は、
前記基板上の像を結像する結像光学系を備えていること
を特徴とする合成樹脂薄膜形成装置９、特許請求の範囲
第１項において、前記観察装置は、前記基板上の像を結
像する結像光学系と、この結像光学系で得られた像を映
し出すモニタテレビジヨンとで構成されていることを特
徴とする合成樹脂薄膜形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60292068A JPS62151407A (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | 合成樹脂薄膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60292068A JPS62151407A (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | 合成樹脂薄膜形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62151407A true JPS62151407A (ja) | 1987-07-06 |
Family
ID=17777116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60292068A Pending JPS62151407A (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | 合成樹脂薄膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62151407A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05138469A (ja) * | 1991-09-23 | 1993-06-01 | Takeshi Yanagisawa | ２次元運動機構 |
-
1985
- 1985-12-26 JP JP60292068A patent/JPS62151407A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05138469A (ja) * | 1991-09-23 | 1993-06-01 | Takeshi Yanagisawa | ２次元運動機構 |
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