JPS6214946A - 触媒の製造方法 - Google Patents
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Production Of Liquid Hydrocarbon Mixture For Refining Petroleum (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は鉱油およびそれらの留分を水素処理しそれによ
って油を脱水素−硫化(dehydro −5ulph
urized) (= HD S > 、m水素−窒素
化(dehydro −nitrogenized)
(1−I ON )および/または水素添加させる(
HYD)、即ち有礪硫黄化合物を硫化水素に転化させ、
有機窒素化合物をアンモニアに転化させ、そして不飽和
化合物を飽和化合物に転化させるための触媒に関する。
って油を脱水素−硫化(dehydro −5ulph
urized) (= HD S > 、m水素−窒素
化(dehydro −nitrogenized)
(1−I ON )および/または水素添加させる(
HYD)、即ち有礪硫黄化合物を硫化水素に転化させ、
有機窒素化合物をアンモニアに転化させ、そして不飽和
化合物を飽和化合物に転化させるための触媒に関する。
そのような触媒はまた酸素および/または金属類の除去
(それぞれHDOおよびHDM)および水添分解に有用
である。またそのような触媒は合成、粗製油(合成粗油
)および液化した石炭の処理にも使われる。
(それぞれHDOおよびHDM)および水添分解に有用
である。またそのような触媒は合成、粗製油(合成粗油
)および液化した石炭の処理にも使われる。
鉱油(留分)における所望の改良に応じて上述したよう
な一つまたは一つ以上の水素処理反応が望まれる(例え
ば、HDSのみまたはHDSとHDN)。水素処理法に
おけるこの望まれる選択″は成る程度までは適切な作業
条件の選択によりおよび好適な触媒の選択によって得ら
れる。
な一つまたは一つ以上の水素処理反応が望まれる(例え
ば、HDSのみまたはHDSとHDN)。水素処理法に
おけるこの望まれる選択″は成る程度までは適切な作業
条件の選択によりおよび好適な触媒の選択によって得ら
れる。
これらの接触的転換は鉱油留分の品質向上および精製に
おける大規模な工業的操業であり、従って、そこでは変
化する選択率および高活性に好適な触媒が要求される。
おける大規模な工業的操業であり、従って、そこでは変
化する選択率および高活性に好適な触媒が要求される。
一般に、この目的に対しては■■族および■族の金属硫
化物の組合わせが担体上で使われる。一般に、これらの
触媒は現場で硫化物にされるので結局酸化物で構成する
形で提供されそして販売される。担体材料としては、転
移(transition)アルミナ、特にガンマ−ア
ルミナが好ましく使用される。
化物の組合わせが担体上で使われる。一般に、これらの
触媒は現場で硫化物にされるので結局酸化物で構成する
形で提供されそして販売される。担体材料としては、転
移(transition)アルミナ、特にガンマ−ア
ルミナが好ましく使用される。
転移アルミナの名により水酸化アルミニウムの熱分解に
よって得られる中間形態が理解されるべきである。これ
らの転移アルミナ類は、それらが処理された温度に応じ
てAl201)−(3)モル当り0.5モルよりも少な
い水を含有する。
よって得られる中間形態が理解されるべきである。これ
らの転移アルミナ類は、それらが処理された温度に応じ
てAl201)−(3)モル当り0.5モルよりも少な
い水を含有する。
周知の転移アルミナ類はガンマ、イータおよびカイ(部
分的に結晶したもの)、ならびにカッパ、シータおよび
デルタであり、後者の三つは最初の三つよりも良く結晶
している。好ましいのは0.4−1.0d/gの気孔容
積を有するアルミナ類である。
分的に結晶したもの)、ならびにカッパ、シータおよび
デルタであり、後者の三つは最初の三つよりも良く結晶
している。好ましいのは0.4−1.0d/gの気孔容
積を有するアルミナ類である。
時には一特殊の適用に対しては一担体中にいくらかの(
25%まで、好ましくは10%未満)非晶質および/ま
たは結晶珪酸アルミニウムを配合することが一有利であ
る。一般に、担材料は予備成形粒子として、即ち押出品
、小球、棒および同種のものとして適用される。
25%まで、好ましくは10%未満)非晶質および/ま
たは結晶珪酸アルミニウムを配合することが一有利であ
る。一般に、担材料は予備成形粒子として、即ち押出品
、小球、棒および同種のものとして適用される。
より特別には、一方において、しばしばコバルトまたは
ニッケルの組み合わせを、そして他方においてモリブデ
ンまたはタングステンの組合わせを主として転移アルミ
ナから成る成形した担体材料上に使われる。
ニッケルの組み合わせを、そして他方においてモリブデ
ンまたはタングステンの組合わせを主として転移アルミ
ナから成る成形した担体材料上に使われる。
この型の触媒およびそれらの製造は先行技術から知られ
る。即ちIJs−A−4,399,058[ガルフ リ
サーチ(Gulf Re5earch ) ]は硫酸ニ
ッケルおよびモリブデン塩のアンモニア性溶液をアルミ
ナに含浸させた触媒に言及する。9欄、14−32行に
従えば、含浸はal18.4を有するアンモニア性溶液
に−よって行なわれる(モリブデン塩が存在しなければ
pl+は約10であったであろう)。
る。即ちIJs−A−4,399,058[ガルフ リ
サーチ(Gulf Re5earch ) ]は硫酸ニ
ッケルおよびモリブデン塩のアンモニア性溶液をアルミ
ナに含浸させた触媒に言及する。9欄、14−32行に
従えば、含浸はal18.4を有するアンモニア性溶液
に−よって行なわれる(モリブデン塩が存在しなければ
pl+は約10であったであろう)。
またGB−A−1,368,795[ベシネー・サンゴ
パン(Pechiney−5aint Gobain)
]はアンモニア性硝酸ニッケル溶液を含浸させたアル
ミナ質担体をベースにした同様の触媒を開示する。
パン(Pechiney−5aint Gobain)
]はアンモニア性硝酸ニッケル溶液を含浸させたアル
ミナ質担体をベースにした同様の触媒を開示する。
同様に、GB−A−1,408,760[シェル イン
ターナショナル リサーチ マイニング(Shell
Int、 Re5earch Min、) ]はある範
囲の支持材料から、例えばモリブデン酸塩とニッケル/
コバルト塩化物、炭酸塩または酢酸塩の希釈アンモニア
性溶液によってつくったそのような触媒を開示する。
ターナショナル リサーチ マイニング(Shell
Int、 Re5earch Min、) ]はある範
囲の支持材料から、例えばモリブデン酸塩とニッケル/
コバルト塩化物、炭酸塩または酢酸塩の希釈アンモニア
性溶液によってつくったそのような触媒を開示する。
硝酸塩はアンモニア性(2−3%)溶液中に開示されこ
れは6と7.5の間のpHを示す。
れは6と7.5の間のpHを示す。
またNL−A−8303538号[ニラポンオイル(N
ippon Oil> ]があり、これは金属炭酸塩と
酒石酸またはマレイン酸のような有機酸と共に8.5と
10.0の間のI)Hにおけるアンモニア性溶液を開示
する。
ippon Oil> ]があり、これは金属炭酸塩と
酒石酸またはマレイン酸のような有機酸と共に8.5と
10.0の間のI)Hにおけるアンモニア性溶液を開示
する。
最後にUS−A−3,810,830[J、ファン゛ク
リンケ>(vanにl1nken )等、シェルインタ
ナショナル リサーチ ミジ(Shell Int。
リンケ>(vanにl1nken )等、シェルインタ
ナショナル リサーチ ミジ(Shell Int。
Res、 Mij)に譲渡される)はニッケルおよびモ
リブデンのような、好ましくはカーボキシレートおよび
アミン錯体としての金属組合わせを含浸させたシリカ/
アルミナ ヒドロゲルに基づく触媒を開示する。
リブデンのような、好ましくはカーボキシレートおよび
アミン錯体としての金属組合わせを含浸させたシリカ/
アルミナ ヒドロゲルに基づく触媒を開示する。
コバルト−モリブデン触媒は)(DSに対しては活性で
あるが)IDNに対しては辛うじて活性であり、一方廉
価なニッケルーモリブデン触媒はHDNに対しては活性
であるがコバルト−モリブデン触媒と比べるとHDSに
対しては活性度が劣ることが判明した。ニッケルータン
グステン触媒は芳香族化合物の水素添加に対しては特に
活性でありそしてHDSおよびHDNに対してはさらに
穏やかな活性である。ニッケルーモリブデン触媒はまた
この適用にも使われる。
あるが)IDNに対しては辛うじて活性であり、一方廉
価なニッケルーモリブデン触媒はHDNに対しては活性
であるがコバルト−モリブデン触媒と比べるとHDSに
対しては活性度が劣ることが判明した。ニッケルータン
グステン触媒は芳香族化合物の水素添加に対しては特に
活性でありそしてHDSおよびHDNに対してはさらに
穏やかな活性である。ニッケルーモリブデン触媒はまた
この適用にも使われる。
結局、好ましくは廉価なニッケルをベースとして高HD
Sと高HDNを組み合わせそして芳香族化合物の水素添
加に対して高活性な触媒が必要なのである。特にこれに
関しては低金属含量、または多分改良された触媒性質を
有する「標準」金属含量の触媒に対する要求がある。
Sと高HDNを組み合わせそして芳香族化合物の水素添
加に対して高活性な触媒が必要なのである。特にこれに
関しては低金属含量、または多分改良された触媒性質を
有する「標準」金属含量の触媒に対する要求がある。
優れた選択率および活性を有する触媒は、造形したアル
ミナ粒子を特に高Ell値、即ち10.5と13の間、
好ましくは11.0と12.5の間を有するアンモニア
性溶液によって含浸させ、そして引き続き含浸させたア
ルミナ粒子を蒸発乾固させ、焼成しそして硫化すること
によって製造できることが今日判明した。
ミナ粒子を特に高Ell値、即ち10.5と13の間、
好ましくは11.0と12.5の間を有するアンモニア
性溶液によって含浸させ、そして引き続き含浸させたア
ルミナ粒子を蒸発乾固させ、焼成しそして硫化すること
によって製造できることが今日判明した。
より良い性質は活性層の極めて細かい分散および■族の
金属、特にニッケル アルミネートの減少した形成と関
連するという印象が存し、その金属アルミネートは触媒
的に不活性である。それ以上に、高1)H値においては
ポリマー状モリブデン酸塩はより低い程度で形成され、
その結果ニッケルがモリブデンから分離するより低い傾
向を生じる。
金属、特にニッケル アルミネートの減少した形成と関
連するという印象が存し、その金属アルミネートは触媒
的に不活性である。それ以上に、高1)H値においては
ポリマー状モリブデン酸塩はより低い程度で形成され、
その結果ニッケルがモリブデンから分離するより低い傾
向を生じる。
含浸させた支持体材料を乾燥するまで蒸発する間に、ア
ンモニア ガスは逃散し、その結果pHが低下する。し
かし、理論的根拠において、本発明の方法に従えばこれ
は8.5−9.0に満ない値に落ちることはめったにな
い。
ンモニア ガスは逃散し、その結果pHが低下する。し
かし、理論的根拠において、本発明の方法に従えばこれ
は8.5−9.0に満ない値に落ちることはめったにな
い。
もしも、アンモニア性金属溶液において、著しい量の強
酸、特に硫酸および硝酸のような強酸のアニオンが生じ
ると、これらは蒸発中ばかりでなく既に出発時のpl+
においてさえpHの重要な減少をもたらすであろうこと
が予想できる。従って含浸液(現在の場合アンモニア性
金属溶液)はカルボン酸よりも強い酸から誘導されるア
ニオンを完全にまたは実質的に含まずそして特に強い鉱
酸のアニオンを含まず、または実質的に含まず、そして
有機酸のアニオンのような遷移金属と強く結合するよう
なアニオンを含まないことが推賞できる。
酸、特に硫酸および硝酸のような強酸のアニオンが生じ
ると、これらは蒸発中ばかりでなく既に出発時のpl+
においてさえpHの重要な減少をもたらすであろうこと
が予想できる。従って含浸液(現在の場合アンモニア性
金属溶液)はカルボン酸よりも強い酸から誘導されるア
ニオンを完全にまたは実質的に含まずそして特に強い鉱
酸のアニオンを含まず、または実質的に含まず、そして
有機酸のアニオンのような遷移金属と強く結合するよう
なアニオンを含まないことが推賞できる。
従ってアンモニア性金属溶液は■族の微粉金属をアンモ
ニア中の炭酸アンモニアの溶液−中に溶かしそして酸素
を通してつくることができる。アンモニア中の炭酸アン
モニアの溶液はアンモニア溶液中に二酸化炭素を通すこ
とによって都合よくつくられる。アンモニア性金属溶液
はこのようにして実質的にカーボネートおよび/または
ヒドロキシル イオンをアニオンとして含有する。これ
はヒドロキシ カーボネート イオンを含む。
ニア中の炭酸アンモニアの溶液−中に溶かしそして酸素
を通してつくることができる。アンモニア中の炭酸アン
モニアの溶液はアンモニア溶液中に二酸化炭素を通すこ
とによって都合よくつくられる。アンモニア性金属溶液
はこのようにして実質的にカーボネートおよび/または
ヒドロキシル イオンをアニオンとして含有する。これ
はヒドロキシ カーボネート イオンを含む。
別法としてアンモニア性金属イオンは■族の金属を、ざ
らに特に濃厚アンモニア中にニッケル/コバルト カー
ボネートを還流させながら溶解しそして引き続きアンモ
ニウム カーボネートおよび/またはカーバメートを添
加する。アンモニウム モリブデン酸塩/タングステン
酸塩またはその他の■族化合物を次いで加え、そして1
0.5と13.0の間のpl+を有する溶液が生じる。
らに特に濃厚アンモニア中にニッケル/コバルト カー
ボネートを還流させながら溶解しそして引き続きアンモ
ニウム カーボネートおよび/またはカーバメートを添
加する。アンモニウム モリブデン酸塩/タングステン
酸塩またはその他の■族化合物を次いで加え、そして1
0.5と13.0の間のpl+を有する溶液が生じる。
本発明はよく分散した活性相を有する新規の著しく活性
な触媒を提供する。これらの触媒は触媒が低百分率の金
属を含有する際でも水添脱流および水添脱窒素に対して
も極めて活性である。
な触媒を提供する。これらの触媒は触媒が低百分率の金
属を含有する際でも水添脱流および水添脱窒素に対して
も極めて活性である。
触媒は触媒基準で計算して0.5−20、好ましくは1
−10重量%の■族の金属、および2.5−60、好ま
しくは10−25重量%の■族の金属を含み、そしてそ
れらの比率は40:1と1:5の間、好ましくは1:1
と1:3の間(■族対■族)に在る。
−10重量%の■族の金属、および2.5−60、好ま
しくは10−25重量%の■族の金属を含み、そしてそ
れらの比率は40:1と1:5の間、好ましくは1:1
と1:3の間(■族対■族)に在る。
高活性度は良く分散した活性相と関連しこれは触媒1g
当り185ミクOモル酸素以上の酸素化学吸着値に反映
される[アプライド 力タリシス(^pplied C
atalysis ) 17 (1985) 、273
−308、エルセピア サイエンス(Elsevier
Science )出版社、に従って硫化した状態で測
定した1゜好ましくは酸素化学吸着値は200と300
の間の範囲にわたりそして240と270の間の値が典
型的である。
当り185ミクOモル酸素以上の酸素化学吸着値に反映
される[アプライド 力タリシス(^pplied C
atalysis ) 17 (1985) 、273
−308、エルセピア サイエンス(Elsevier
Science )出版社、に従って硫化した状態で測
定した1゜好ましくは酸素化学吸着値は200と300
の間の範囲にわたりそして240と270の間の値が典
型的である。
高度の分散はまた酸化状態における触媒のBET−表面
積データによって反映される。担体および仕上った触媒
に対して測定した表面積から表面積定着係数(RF)を
次式に従って計算した。
積データによって反映される。担体および仕上った触媒
に対して測定した表面積から表面積定着係数(RF)を
次式に従って計算した。
本発明に従った触媒の表面定着係数(RF)は105と
120の間であり(触媒がP2O5−促進されなければ
)これは活性相の先駆体がよく分散されていることを示
す。
120の間であり(触媒がP2O5−促進されなければ
)これは活性相の先駆体がよく分散されていることを示
す。
鉱酸のアニオンまたは遷移金属に強力に結合するアニオ
ン(有機酸のような)は触媒前駆体中に存在する場合は
活性相の分散に影響するのは当然と考える。
ン(有機酸のような)は触媒前駆体中に存在する場合は
活性相の分散に影響するのは当然と考える。
このようにして本発明に従った触媒は強酸、特に鉱酸か
ら誘導されるアニオンを実質的に含まずに得られるであ
ろうことが明らかであろう。
ら誘導されるアニオンを実質的に含まずに得られるであ
ろうことが明らかであろう。
担体が少なくとも一度上に言及したアンモニア性溶液に
よって含浸させられた優は、それは乾燥されそして焼成
される。乾燥は一般に50°と150℃の間の温度で起
り、その後一般に1500と650℃の間の温度におい
て焼成が行なわれる。
よって含浸させられた優は、それは乾燥されそして焼成
される。乾燥は一般に50°と150℃の間の温度で起
り、その後一般に1500と650℃の間の温度におい
て焼成が行なわれる。
このように酸化物から成る相で得られる触媒は、いつで
も販売できる。
も販売できる。
担体材料の当初の形および性質は大部分は同一のままで
あることは自明であるが、例えば、加工は多孔度に影響
することがある。
あることは自明であるが、例えば、加工は多孔度に影響
することがある。
■族および■族の金属塩のアンモニア中の溶液による含
浸中、しかしまたその前または後においても、一つまた
は一つ以上の促進剤を触媒中に配合することができる。
浸中、しかしまたその前または後においても、一つまた
は一つ以上の促進剤を触媒中に配合することができる。
好適な促進剤(1−10重量%)は例えば酸化カルシウ
ム、酸化亜鉛、酸化バリウムおよびP2O5である。
ム、酸化亜鉛、酸化バリウムおよびP2O5である。
触媒は使う前にまず硫化すべきである。この硫化は触媒
を硫黄含有化合物、例えば硫化水素と混合した水素、二
硫化炭素またはメルカプタンと接触させて生じさせる。
を硫黄含有化合物、例えば硫化水素と混合した水素、二
硫化炭素またはメルカプタンと接触させて生じさせる。
これは都合よく現場で、時には硫黄含有鉱油とともに行
うことができる。酸化物はそれによって完全にまたは実
質的に硫化物に転化される。触媒が硫化された後は、そ
れはいつでも使える。
うことができる。酸化物はそれによって完全にまたは実
質的に硫化物に転化される。触媒が硫化された後は、そ
れはいつでも使える。
本発明に従った水素処理は上記のような触媒によって、
鉱油(留分)および触媒ならびに希望する転化(HDS
、HDNSHDO,HYD、HDM)に応じて極めて幅
の広い条件下で起きる。
鉱油(留分)および触媒ならびに希望する転化(HDS
、HDNSHDO,HYD、HDM)に応じて極めて幅
の広い条件下で起きる。
全圧(主として水素圧力)は10.105Paと300
.10”Paの間で:水素/油(留分)比は1−250
0TrL3/TrL3の間で変化し;反応温度はioo
’と500℃の間で変化する。
.10”Paの間で:水素/油(留分)比は1−250
0TrL3/TrL3の間で変化し;反応温度はioo
’と500℃の間で変化する。
触媒の性質は本願においては下記の標準試験手順に従っ
て決定される。
て決定される。
試験手順:触媒活性の決定。触媒の水素分解活性は有機
硫黄および窒素化合物の接触転化に基づいて決定し、そ
の間硫化水素(H2S)およびアンモニア(NH3)が
炭化水素と共に形成される。
硫黄および窒素化合物の接触転化に基づいて決定し、そ
の間硫化水素(H2S)およびアンモニア(NH3)が
炭化水素と共に形成される。
触媒の水素添加活性はシクロヘキサンの接触水添に基づ
いて決定される。
いて決定される。
試験は内径12m+を有し、5温度読み出しを有する熱
雷対さやを備え、その内の3つは触媒床の頂部、中間部
および底部における温度の測定に利用する加熱した管状
反応器中で行なわれる。
雷対さやを備え、その内の3つは触媒床の頂部、中間部
および底部における温度の測定に利用する加熱した管状
反応器中で行なわれる。
5%チオフェン、1.6%ピリジン(場合によって)5
%シクロヘキセンおよびトルエン(残余を100%まで
)から成る合成供給原料を定速度で循還させ、予熱コイ
ルを通し、それによって温度を指示した反応温度に上げ
、そして引き続き水素と共に触媒床上に導く。別法とし
て鉱油留分を供給原料として使うことができる。
%シクロヘキセンおよびトルエン(残余を100%まで
)から成る合成供給原料を定速度で循還させ、予熱コイ
ルを通し、それによって温度を指示した反応温度に上げ
、そして引き続き水素と共に触媒床上に導く。別法とし
て鉱油留分を供給原料として使うことができる。
0.25と1.0IllImの間の粒子直径を有する3
りの摩砕しそして篩った触媒粒子から成る触媒床に6g
の炭化珪素の床を適用した。触媒と同一の粒子寸法分布
を有する炭化珪素は予熱帯域として役立ち、そして供給
原料と水素の良好な混合を提供する。反応が開始される
前に触媒はH2中で10%H2Sによって硫化される。
りの摩砕しそして篩った触媒粒子から成る触媒床に6g
の炭化珪素の床を適用した。触媒と同一の粒子寸法分布
を有する炭化珪素は予熱帯域として役立ち、そして供給
原料と水素の良好な混合を提供する。反応が開始される
前に触媒はH2中で10%H2Sによって硫化される。
硫化と試験との条件は第2表中に与えられる。
第2表
硫化条件
温度 :400℃(加熱速度5℃/分)反応時間=4
00℃で1時間 ガス :H2中10%H2S 試験条件 供給原料:トルエン中の5%チオフェン、1.6%ピリ
ジン(時に5%シクロヘキセ ンも) 触媒 :3gの破砕した触媒粒子を篩いそれによって
0.25−1.0履両分を得 る 原料供給:0.4ae/分(液体) 水素 :100m/分 温度 :12時間は325℃で、続いて8時間を37
5℃で 圧力 :10.155Pa GLC技法によって、反応生成物は連続的に測定線上で
分析する。
00℃で1時間 ガス :H2中10%H2S 試験条件 供給原料:トルエン中の5%チオフェン、1.6%ピリ
ジン(時に5%シクロヘキセ ンも) 触媒 :3gの破砕した触媒粒子を篩いそれによって
0.25−1.0履両分を得 る 原料供給:0.4ae/分(液体) 水素 :100m/分 温度 :12時間は325℃で、続いて8時間を37
5℃で 圧力 :10.155Pa GLC技法によって、反応生成物は連続的に測定線上で
分析する。
触媒の触媒活性は325℃におけるチオフェンの水添脱
硫に基づく試験の開始12時間後に測定しそして次式に
従って表現した。
硫に基づく試験の開始12時間後に測定しそして次式に
従って表現した。
チオ
%HDS (水添脱硫) = [1−−] x100%
℃チオ ℃チオー供給原料中のチオフェンm度。
℃チオ ℃チオー供給原料中のチオフェンm度。
Cチオ−反応生成物中のチオフェン濃度。
ピリジンの水添脱窒素における触媒の活性を375℃で
の実験開始20時間後に測定しそして次式に従って表わ
した: C″pyr =供給原料中のピリジン濃度。
の実験開始20時間後に測定しそして次式に従って表わ
した: C″pyr =供給原料中のピリジン濃度。
Cpyr =反応生成物中のピリジン濃度。
cpip =反応生成物中のピペリジン濃度。
シクロヘキセンに対する水添活性はチオフェンおよびピ
リジンについての水添活性に対して上に記載したものと
同じ方法で表わした。
リジンについての水添活性に対して上に記載したものと
同じ方法で表わした。
水添分解および水添添加に対しては次式に従い参照触媒
との関連で表現した: チオ (ハイドロデスルフリーゼーション:水添脱硫)(ハイ
ドロデニトロゲニゼーション:水添脱窒〉(水素添加) RWA−相対的重量活性。
との関連で表現した: チオ (ハイドロデスルフリーゼーション:水添脱硫)(ハイ
ドロデニトロゲニゼーション:水添脱窒〉(水素添加) RWA−相対的重量活性。
Crefチオ=参照触媒に対する反応混合物中のチオフ
ェン濃度。
ェン濃度。
Cr0fpy「、Cre(pip、Cr0(シクロヘキ
シ−上のようである、但しピリジン、ピペリジンおよび
シクロヘキセンに対して。
シ−上のようである、但しピリジン、ピペリジンおよび
シクロヘキセンに対して。
K−反応速度定数。
ef
K =参照触媒に対する反応速度定数。
鉱油留分、例えば軽質循還油および/または軽質ガス油
を水素処理する場合、偽−高次動力学を仮定しくnは少
なくとも1である)、次式を使ってRWAを計算する: 但しC=生成物中の硫黄含量 cS’=供給原料中の硫黄含量 n =反応の次数。
を水素処理する場合、偽−高次動力学を仮定しくnは少
なくとも1である)、次式を使ってRWAを計算する: 但しC=生成物中の硫黄含量 cS’=供給原料中の硫黄含量 n =反応の次数。
)−IDNに対してはRWAの計算に対して類似の方程
式を適用する。
式を適用する。
RVAは次のように計算することができる:但しRVA
=%で表わす相対的容積活性B D = Kg/ It
で表わす嵩密度。
=%で表わす相対的容積活性B D = Kg/ It
で表わす嵩密度。
実際的供給原料を水素処理するときは触媒に対する硫化
手順は第1表に記載するものと同一である。NiMoお
よびC0M0触媒に対する試験条件はそれぞれ第2およ
び3表中に与えられる。
手順は第1表に記載するものと同一である。NiMoお
よびC0M0触媒に対する試験条件はそれぞれ第2およ
び3表中に与えられる。
第3表
NiMo触媒に対する試験条件
供給原料 :LCO”
%S :2.41
1)l)IIIN :890デイーゼル係数
=5 %Ar :86.9 触媒 :3g破砕粒子、0.25−1.0g
m+ 床容積 :9m LH8V :4H” H2/油 :35ONm3/TrL3圧力
ニア0気圧 温度 :370℃ 仮定した反応次数=1.5 第4表 %S :1.76 ppm :500 触媒 :3g破砕粒子、0.25M−1,0
gm 床容積 二〇− Ll−ISV :4H” H2/油 :35ONTrL3/TrL3圧力
ニア0気圧 温度 :325:350:370℃仮定した
反応次数:1.3 ” LGO=軽質ガス油 −LCO=軽質循軽質循 還源触媒として、二つのしばしば使われる次の金属含量
を有する工業触媒を使用する。
=5 %Ar :86.9 触媒 :3g破砕粒子、0.25−1.0g
m+ 床容積 :9m LH8V :4H” H2/油 :35ONm3/TrL3圧力
ニア0気圧 温度 :370℃ 仮定した反応次数=1.5 第4表 %S :1.76 ppm :500 触媒 :3g破砕粒子、0.25M−1,0
gm 床容積 二〇− Ll−ISV :4H” H2/油 :35ONTrL3/TrL3圧力
ニア0気圧 温度 :325:350:370℃仮定した
反応次数:1.3 ” LGO=軽質ガス油 −LCO=軽質循軽質循 還源触媒として、二つのしばしば使われる次の金属含量
を有する工業触媒を使用する。
A(米国) 20.0 5.0 −B(欧州
) 15.7 4.6本発明はここで
以下の実施例に基いて説明する。
) 15.7 4.6本発明はここで
以下の実施例に基いて説明する。
NiC0−49%N i (450!iF)をアンモニ
ウム カーバメートと共に21dの25%アンモニア中
に混合物を撹拌しながら3時間50℃においてアンモニ
アの還流下で溶解した。この溶液は12.1のDHを有
しそして0.13479N r O/adを含有する。
ウム カーバメートと共に21dの25%アンモニア中
に混合物を撹拌しながら3時間50℃においてアンモニ
アの還流下で溶解した。この溶液は12.1のDHを有
しそして0.13479N r O/adを含有する。
B、 触媒工の調製
80gの予備成形したアルミナ(内部表面積270m”
/9気孔容積0.7+lte/g、1.6m押出品)を
:25IIIi!の実施例IAのアンモニア性ニッケル
溶液、23.6g (NH4)6 Mo□024・4H20,水を補った1
20mから成る溶液で含浸させた。
/9気孔容積0.7+lte/g、1.6m押出品)を
:25IIIi!の実施例IAのアンモニア性ニッケル
溶液、23.6g (NH4)6 Mo□024・4H20,水を補った1
20mから成る溶液で含浸させた。
60−のこの溶液を触媒担体に吸収させた。触媒を12
0℃で乾かしそして引き続き焼成し、温度を450℃ま
で毎分5℃上げそしてその後2時間450℃に維持した
。仕上った触媒工は1.8%NiOおよび10.8%M
OO3を含んでいた2実施例■ A、 アンモニア性Ni溶液の調製 微粉状ニッケル粉末(50μ風の平均粒子寸法を有する
200す)をN H’A CO3/ N i = 2(
モル1モル)およびN H3/ N i = 7 (モ
ル1モル)と共に6,1)−(3)水性アンモニア/炭
酸水素アンモニウム中に溶解してアンモニア性ニッケル
溶液を調製する。50℃において801の空気を冷却下
で8時間噴射した。この溶液は10.8のpHおよび0
.04029 NiO/d(7)ニッケル含量を有した
。
0℃で乾かしそして引き続き焼成し、温度を450℃ま
で毎分5℃上げそしてその後2時間450℃に維持した
。仕上った触媒工は1.8%NiOおよび10.8%M
OO3を含んでいた2実施例■ A、 アンモニア性Ni溶液の調製 微粉状ニッケル粉末(50μ風の平均粒子寸法を有する
200す)をN H’A CO3/ N i = 2(
モル1モル)およびN H3/ N i = 7 (モ
ル1モル)と共に6,1)−(3)水性アンモニア/炭
酸水素アンモニウム中に溶解してアンモニア性ニッケル
溶液を調製する。50℃において801の空気を冷却下
で8時間噴射した。この溶液は10.8のpHおよび0
.04029 NiO/d(7)ニッケル含量を有した
。
B、 触媒■の調製
20gの予備成形した担体く内部表面積2607yL2
/g、気孔容積0.7威/g、1.5姻押出品)を: 24.7dの脱イオン水中の70g (NH) Mo 0 ・4H20,3,3戒の2
5%アンモニア水から成る溶液を含浸させた。
/g、気孔容積0.7威/g、1.5姻押出品)を: 24.7dの脱イオン水中の70g (NH) Mo 0 ・4H20,3,3戒の2
5%アンモニア水から成る溶液を含浸させた。
14mのこの溶液を触媒担体に吸収させた。含浸させた
担体を75℃の気流中で一晩乾かした。
担体を75℃の気流中で一晩乾かした。
引き続き酸化モリブデンを含浸させた触媒担体を実施例
mAに従ったアンモニア性ニッケル溶液で含浸させた。
mAに従ったアンモニア性ニッケル溶液で含浸させた。
触媒を75℃で空気流中で一晩乾かしそして引き続き実
施例■のようにして焼成した。
施例■のようにして焼成した。
仕上った触媒■は1,7%のNiOおよび12.1%の
Mo2Sを含んでいた。
Mo2Sを含んでいた。
実施例■
実施例■の手順に従った;しかし含浸は次のもので構成
される溶液で行った: 86aeの実施例IAのアンモニア性ニッケル溶液、5
4.4gのいH) Mo 0 ・4H201水を補足し
て140−とじた。
される溶液で行った: 86aeの実施例IAのアンモニア性ニッケル溶液、5
4.4gのいH) Mo 0 ・4H201水を補足し
て140−とじた。
仕上った触媒■は4.9%NiOおよび20.2%M0
03を含んだ。
03を含んだ。
実施例■
アンモニア性コバルト溶液の調製。
500te25%アンモニア中の塩基性炭酸コバルト(
G O(OH) G O−n H20:45.5%C
o)、77g、および炭酸アンモニウム、164g、ア
ンモニウム環流下で3時間45℃に熱した。続いて15
gの炭酸水素アンモニウムを加えそしてこの混合物をア
ンモニアの環流下で16時間45℃で撹拌した。
G O(OH) G O−n H20:45.5%C
o)、77g、および炭酸アンモニウム、164g、ア
ンモニウム環流下で3時間45℃に熱した。続いて15
gの炭酸水素アンモニウムを加えそしてこの混合物をア
ンモニアの環流下で16時間45℃で撹拌した。
この溶液は12のDHを有しそして0.081gCoo
edを含有していた。
edを含有していた。
80ffの予備成形したアルミナ担体(内部表面積26
0m2/9、気孔容積0.7d/g、1.6馴揮出物)
を次のように構成する溶液で含浸させた: 46.8−のアンモニア性コバルト溶液、17.6g(
NH) Mo 0 ・4H20、水を補って12
0mにする。
0m2/9、気孔容積0.7d/g、1.6馴揮出物)
を次のように構成する溶液で含浸させた: 46.8−のアンモニア性コバルト溶液、17.6g(
NH) Mo 0 ・4H20、水を補って12
0mにする。
含浸中に65t+tf!のこの溶液が触媒担体によって
吸収された。
吸収された。
触媒を一晩120℃で乾かしそして引き続き焼成し、温
度は5℃/分で500℃まで上げそしてその後500℃
に2時間保った。
度は5℃/分で500℃まで上げそしてその後500℃
に2時間保った。
仕上った触媒■は2.3%のCooと8.6%のMoC
2を含有した。
2を含有した。
実施例■−■
触媒■からIVまでを前記の試験手順に従って試験した
。その結果は次表中に与えられる。
。その結果は次表中に与えられる。
118 Φ 0
実施例lX
100gの成形したアルミナ担体(内部表面積250m
2/g、気孔容積0.64d/g、1.5mm押出物)
を水に溶かした25%のアンモニア性溶液(DH=12
)の70ai!中に溶かした4、9gの塩基性炭酸亜鉛 (Zn(OH)2CO3)で含浸させた。過剰の液体を
濾過除去した後、55−の溶液が吸収されたようである
。含浸させた触媒担体を120℃で16時間乾かしそし
て400℃で2時間焼成した(加熱速度=5℃/分)。
2/g、気孔容積0.64d/g、1.5mm押出物)
を水に溶かした25%のアンモニア性溶液(DH=12
)の70ai!中に溶かした4、9gの塩基性炭酸亜鉛 (Zn(OH)2CO3)で含浸させた。過剰の液体を
濾過除去した後、55−の溶液が吸収されたようである
。含浸させた触媒担体を120℃で16時間乾かしそし
て400℃で2時間焼成した(加熱速度=5℃/分)。
亜鉛自励は現在2.65重量%znOであった。含浸さ
れそして焼成された35gの担体をここで19.3ae
のニッケル錯体含有溶液で含浸させたが、これは実施例
IA中に記載するようにしてつくられ(0,1248g
NiO/1alt)、脱イオン水で45afまで補い
そして11.8gのへブタモリブデン酸アンモニウムを
その中に溶かした。33dのこの溶液が予備処理した触
媒担体によって吸収された。
れそして焼成された35gの担体をここで19.3ae
のニッケル錯体含有溶液で含浸させたが、これは実施例
IA中に記載するようにしてつくられ(0,1248g
NiO/1alt)、脱イオン水で45afまで補い
そして11.8gのへブタモリブデン酸アンモニウムを
その中に溶かした。33dのこの溶液が予備処理した触
媒担体によって吸収された。
75℃で16時間乾かしそして400℃で2時間焼成し
た後(加熱速度−5℃/分)、仕上った触媒Vは4.0
%(7)N i O,16,1%(7)Mo03および
2.1%のZnOを含んでいた。
た後(加熱速度−5℃/分)、仕上った触媒Vは4.0
%(7)N i O,16,1%(7)Mo03および
2.1%のZnOを含んでいた。
前記の手順によって得られた活性度はl1e4.Aにつ
いて: RWA ()−IDs)185%:RWA ()−
1[)N)160% : RWA (HYD)1
70%(実施例■−■中に示される条件も参照のこと)
。
いて: RWA ()−IDs)185%:RWA ()−
1[)N)160% : RWA (HYD)1
70%(実施例■−■中に示される条件も参照のこと)
。
実施例XからX IXまで
金属化合物の異なる相対的量を使用して実施例■に記載
する手順によって触媒vr−xvをつくった。
する手順によって触媒vr−xvをつくった。
触媒■からXvまでを第■および■表中に記載した手順
に従って試験した。結果は第6表中に与えられる。
に従って試験した。結果は第6表中に与えられる。
Claims (12)
- (1)転移アルミナを含有する成形した粒子を、VIII族
の金属およびVI(B)族の金属を含有するアンモニア性
溶液によって含浸させ、然る後蒸発乾固し、焼成しそし
て硫化することによって、これらの金属ならびに担体物
質を含有する触媒を製造する方法において、成形した粒
子を、10.5と13の間、好ましくは11.0と12
.5の間の当初pHを有するアンモニア性金属溶液によ
って含浸させることを特徴とする方法。 - (2)含浸の実施に使用されるアンモニア性金属溶液が
強い鉱酸から誘導されるアニオンを含有しないことを特
徴とする特許請求の範囲第(1)項に記載の方法。 - (3)アンモニア性金属溶液がアニオンとしてカーボネ
ートおよび/またはヒドロキシルイオンを実質的に含有
することを特徴とする特許請求の範囲第(1)または(
2)項に記載の方法。 - (4)VIII族の金属がニッケルであることを特徴とする
特許請求の範囲第(1)−(3)項の何れかの1項に記
載の方法。 - (5)VIII族の金属がコバルトであることを特徴とする
特許請求の範囲第(1)−(3)項の何れかの1項に記
載の方法。 - (6)VI(B)族の金属がモリブデンであることを特徴
とする特許請求の範囲第(1)−(5)項の何れかの1
項に記載の方法。 - (7)VI(B)族の金属がタングステンであることを特
徴とする特許請求の範囲第(1)−(5)項の何れかの
1項に記載の方法。 - (8)アンモニア性溶液がVIII族およびVI(B)族の金
属イオンを40:1および1:5の重量比で含有するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第(1)−(7)項の何
れかの1項に記載の方法。 - (9)VIII族対VI(B)族金属イオンの重量比が1:1
と1:3の間であることを特徴とする特許請求の範囲第
(8)項に記載の方法。 - (10)VI(B)族の金属から誘導される酸化物および
/または硫化物とVIII族の金属から誘導される酸化物お
よび/または硫化物と転移アルミナとを含有する触媒に
おいて、触媒が触媒1g当り少なくとも185ミクロモ
ル酸素の酸素化学吸着活性を有することを特徴とする触
媒。 - (11)触媒が強い鉱酸から誘導されるアニオンを実際
上含有しないことを特徴とする特許請求の範囲第(10
)項に記載の触媒。 - (12)特許請求の範囲第(10)または(11)項に
記載の触媒を使うことを特徴とする鉱油について水素処
理方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8501945A NL8501945A (nl) | 1984-12-07 | 1985-07-08 | Katalysator geschikt voor het ontzwavelen en de bereiding van deze katalysator. |
NL8501945 | 1985-07-08 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6214946A true JPS6214946A (ja) | 1987-01-23 |
Family
ID=19846260
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61084425A Pending JPS6214946A (ja) | 1985-07-08 | 1986-04-14 | 触媒の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6214946A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04210240A (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-31 | Agency Of Ind Science & Technol | 水素化処理触媒およびその製造方法 |
-
1986
- 1986-04-14 JP JP61084425A patent/JPS6214946A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04210240A (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-31 | Agency Of Ind Science & Technol | 水素化処理触媒およびその製造方法 |
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