JPS62146434A - Magnetic disk - Google Patents

Magnetic disk

Info

Publication number
JPS62146434A
JPS62146434A JP18976486A JP18976486A JPS62146434A JP S62146434 A JPS62146434 A JP S62146434A JP 18976486 A JP18976486 A JP 18976486A JP 18976486 A JP18976486 A JP 18976486A JP S62146434 A JPS62146434 A JP S62146434A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
magnetic
substrate
protective film
disk
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP18976486A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Fumio Maruta
丸田 文生
Hiroshi Kawahara
博 河原
Osamu Shinoura
治 篠浦
Yoshiaki Saito
斎藤 善明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP18976486A priority Critical patent/JPS62146434A/en
Publication of JPS62146434A publication Critical patent/JPS62146434A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To improve durability without deteriorating the electromagnetic conversion characteristic of a medium by providing approximately concentrical grooves on the surface of a substrate on the side where a magnetic layer is formed or on the surface of an underlying layer provided thereon. CONSTITUTION:A magnetic disk 1 has the underlying layer 3 on the nonmagnetic substrate 2 and has usually an intermediate layer 4 consisting of a nonmagnetic metal on the underlying layer 3 and a thin magnetic metallic layer 5 thereon. A protective film 6 consisting of a nonmagnetic metal, a carbon protective film 7 and a top coat layer 8 are successively laminated on the magnetic layer 5. Al or Al alloy is preferably used as the nonmagnetic substrate 2 and is formed to a disk shape having preferably 1.2-1.9mm thickness. A layer contg. compsn. such as Ni-P or Ni-Cu-P is formed by an electroless plating method, etc., as the underlying layer 3. The underlying layer 3 is formed to 3-50mum film thickness and the grooves 9 which are approximately concentrical and have the distribution and depth irregular in the diametral direction are provided on the surface thereof to about 0.001-0.2mum depth. The attraction characteristic and durability are thereby improved without deteriorating the electromagnetic conversion characteristic.

Description

【発明の詳細な説明】 ■ 発明の背址 技術分野 本発明は、いわゆるハードタイプの磁気ディスクの吸着
性、耐久性等の特性等の改良に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Technical Field of the Invention The present invention relates to improvements in the adsorption properties, durability, and other characteristics of so-called hard type magnetic disks.

先行技術とその問題点 磁気ディスク装置に用いられる磁気記録媒体は、一般に
磁気ディスク、またはディスク媒体と呼ばれ、その基本
構造はドーナツ状の基板と通常その両面に設層された磁
性層を有している。
Prior art and its problems Magnetic recording media used in magnetic disk devices are generally called magnetic disks or disk media, and their basic structure includes a donut-shaped substrate and magnetic layers usually placed on both sides of the substrate. ing.

このような記録媒体の基板材質は、例えばアルミ合金等
のハード材と、磁気テープ媒体と同じマイラーなどのプ
ラスチック材の二種類があり、一般に萌者をハードタイ
プの磁気ディスク、後者をフレキシブルディスクと呼ノ
Vでいる。
There are two types of substrate materials for such recording media: hard materials such as aluminum alloy, and plastic materials such as Mylar, which are the same as magnetic tape media.Generally, the former is called a hard type magnetic disk, and the latter is called a flexible disk. I'm calling you V.

ところで、ハートタイプのWL気ディスクでは、浮上型
の磁気ヘッドを用いておりこのヘッドのコンタクト・ス
タート・ストップ時に大きな衝撃が加わり、磁気ヘッド
との機械的接触に対する耐久性、耐摩耗性等、ヘッド吸
着等の問題か指摘されている。
By the way, the heart-type WL disk uses a floating magnetic head, and a large impact is applied to this head during contact, start, and stop, and the durability and abrasion resistance of the head against mechanical contact with the magnetic head are affected. It has been pointed out that there is a problem with adsorption etc.

従来、これらの問題は主として、媒体表面の有する諸物
性に起因するものと考えられており、これらの媒体の最
上層として保護膜が設ける旨の提案が種々なされている
Conventionally, these problems have been thought to be mainly caused by various physical properties of the media surface, and various proposals have been made to provide a protective film as the top layer of these media.

例えば、無機保護膜としては、Rh、Cr(特公昭52
−18001号公11i)Ni−P(特公昭54−33
726号公報)、そのほか、Re%Os、Ru、Ag%
Au、Cu。
For example, examples of inorganic protective films include Rh, Cr (Japanese Patent Publication No. 52
-18001 Publication No. 11i) Ni-P (Special Publication No. 18001-11i)
No. 726), as well as Re%Os, Ru, Ag%
Au, Cu.

Pt、Pd(特公昭57−6177号公報・)、N1−
Cr(特公昭57−17292号公報)等が用いられ、
他方、固体潤滑剤としては、無機ないし有機の潤滑剤、
例えば、珪素化合物、例えば5i02 、Sin、Si
3 N4等(特公昭54−33726号公報)、ポリ珪
酸もしくはシランカップリング剤、例えばテトラヒドロ
キシシラン、ポリアミノシラン等く特公昭59−398
09号公報)およびカーホン等か使用されている。
Pt, Pd (Special Publication No. 57-6177), N1-
Cr (Japanese Patent Publication No. 57-17292) etc. are used,
On the other hand, solid lubricants include inorganic or organic lubricants,
For example, silicon compounds such as 5i02, Sin, Si
3 N4, etc. (Japanese Patent Publication No. 54-33726), polysilicic acid or silane coupling agents, such as tetrahydroxysilane, polyaminosilane, etc., Japanese Patent Publication No. 59-398
No. 09) and car phones are used.

しかしながら、磁性層上に設けられるこれらの従来の保
護膜の材質および構造では、媒体の耐久性、耐摩耗性、
耐候性、耐食性等が十分高く、しかもヘッドが媒体表面
にはりついてしまういわゆる吸着と叶ばれる現象も発生
しないものは実現していない。
However, the materials and structures of these conventional protective films provided on the magnetic layer do not improve the durability, abrasion resistance, or
No material has been developed that has sufficiently high weather resistance, corrosion resistance, etc., and does not cause the so-called adhesion phenomenon in which the head sticks to the surface of the medium.

そこで、本発明らはこのような問題点に対処すべく、媒
体構造として、磁性層上にカーボン保護膜を有し、この
上に所定の化合物を含仔するトップコート膜を形成させ
る旨の提案を行ついる(この出願の原出願である特願昭
60−289010号公報等)。
Therefore, in order to address these problems, the present inventors have proposed that the medium structure has a carbon protective film on the magnetic layer, and a top coat film containing a predetermined compound is formed on top of the carbon protective film. (Japanese Patent Application No. 60-289010, which is the original application of this application, etc.).

この提案によれば、媒体の耐久性、耐摩耗性、耐候性、
耐食性、吸着等は格段と向上するが、さらにこれらの特
性、特に、吸着特性、耐久性を向上させ、しかも出力が
安定し、エラー発生がなく電磁変換特性に優れた媒体を
得るためには、単に媒体表面を様々の形で処理するのみ
ではなく、媒体の基体表面の処理、形態から見直す必要
がある。
According to this proposal, the durability, abrasion resistance, weather resistance of the media,
Corrosion resistance, adsorption, etc. are greatly improved, but in order to further improve these characteristics, especially adsorption characteristics and durability, and to obtain a medium with stable output, error-free, and excellent electromagnetic conversion characteristics, it is necessary to It is necessary not only to treat the surface of the medium in various ways, but also to reconsider the treatment and form of the substrate surface of the medium.

■ 発明の目的 本発明の目的は、媒体の電磁変換特性を劣化させること
なく、耐久性、耐摩耗性、耐候性、耐食性等に優れ、ヘ
ッド吸着もなく、実用に際してきわめて高い信頼性を有
する磁気ディスクを提供することにある。
■ Purpose of the Invention The purpose of the present invention is to create a magnetic material that does not deteriorate the electromagnetic conversion characteristics of the medium, has excellent durability, abrasion resistance, weather resistance, corrosion resistance, etc., has no head adhesion, and has extremely high reliability in practical use. The goal is to provide discs.

■ 発明の開示 このような目的は、下−記の本発明によって達成される
■Disclosure of the Invention These objects are achieved by the present invention described below.

すなわち本発明は、ディスク状でしかも剛性の非磁性基
体上に、金属薄膜磁性層を存する磁気ディスクにおいて
、 上記、基体の磁性層形成側表面に、あるいはこの上に設
層された下地層表面にほぼ同心円状の溝を設けたことを
特徴とする磁気ディスクである。
That is, the present invention provides a magnetic disk in which a metal thin film magnetic layer is present on a disk-shaped and rigid non-magnetic substrate. This magnetic disk is characterized by having substantially concentric grooves.

■ 発明の1し体内構成 以F、本発明の具体的構成について詳細に説明する。 
第1図には本発明の磁気ディスクの・実施例が示される
(1) Internal Structure of the Invention From 1 to 5, the specific structure of the present invention will be explained in detail.
FIG. 1 shows an embodiment of the magnetic disk of the present invention.

本発明の磁気ディスク1は、非磁性、基体2上に一般に
下地層3を有し、この下地層3の上には逆字、非磁性金
属中間層4を有し、この上に金属薄膜磁性層5を有し、
磁性層5の上に一般に非磁性金属保護[’6、カーボン
保護膜7、トップコート層8が順次積層されて構成され
る。
The magnetic disk 1 of the present invention generally has a base layer 3 on a non-magnetic base 2, a reverse-shaped non-magnetic metal intermediate layer 4 on the base layer 3, and a metal thin film magnetic having layer 5;
Generally, a nonmagnetic metal protection film 7, a carbon protection film 7, and a top coat layer 8 are sequentially laminated on the magnetic layer 5.

本発明で使用される非磁性基体2の材質としては、例え
ば、アルミニウム、アルミニウム合金等の金属、ガラス
、セラミックス、エンジニアリングプラスチック等が挙
げられる。 そして、これらの中でも、機械的剛性、加
工性等が良好でしかも後述する下地層が容易に設層でき
るアルミニウム、アルミニウム合金等を用いるのが好ま
しい。
Examples of the material of the nonmagnetic substrate 2 used in the present invention include metals such as aluminum and aluminum alloys, glass, ceramics, and engineering plastics. Among these, it is preferable to use aluminum, aluminum alloy, etc., which have good mechanical rigidity, workability, etc., and can easily form a base layer, which will be described later.

このような非磁性基体2の厚さは1.2〜1.91I1
m程度であり、その形状は、ディスク状である。
The thickness of such a non-magnetic substrate 2 is 1.2 to 1.91I1
m, and its shape is disk-like.

このような非磁性基体2の材質として、特にA2等の金
属基体を用いるときには、この基体上に下地層3を設け
ることが好ましい。 この下地層3は、N i−P、 
N 1−Cu−P、 N 1−W−P、N1−B等のい
ずれかの組成を含有して形成される。 このものは、液
相メッキ法、特に無電解メッキ法で成膜させることが好
ましい。 無電解メッキ法によれば、きわめて緻密な膜
が形成でき、機械的剛性、硬度、加工性をトげることが
できる。
In particular, when a metal substrate such as A2 is used as the material of the non-magnetic substrate 2, it is preferable to provide the underlayer 3 on this substrate. This base layer 3 is made of N i-P,
It is formed by containing any one of the compositions such as N1-Cu-P, N1-W-P, and N1-B. This film is preferably formed by a liquid phase plating method, particularly an electroless plating method. According to the electroless plating method, an extremely dense film can be formed, and mechanical rigidity, hardness, and workability can be improved.

なお、上記の組成からなる下地層の組成比(wt)は、
以下のとおりである。
In addition, the composition ratio (wt) of the base layer consisting of the above composition is:
It is as follows.

すなわち(N i xCuy)A Pa(N i x 
W ’j ) A P aこれらの場合においては、 x:y=100:0〜10:90、 A:B=97:3〜85:15である。
That is, (N i x Cuy)A Pa(N i x
W'j) APa In these cases, x:y=100:0-10:90, A:B=97:3-85:15.

N1xByの場合にはx:y=97:3〜90:3であ
る。
In the case of N1xBy, x:y=97:3 to 90:3.

この無電解メッキ法のプロセスの一例を簡惟にのべると
、まず、アルカリ性脱脂および酸性脱脂を行った後、数
回のジンケート処理をくり返して行い、さらに重炭酸ナ
トリウム等で表面調整したのちpH4,0〜6.0のニ
ッケル・メッキ浴中で約80〜95℃、約0.5〜3時
間メッキ処理すればよい。
To briefly describe an example of the process of this electroless plating method, first, alkaline degreasing and acid degreasing are performed, followed by several zincate treatments, and after surface adjustment with sodium bicarbonate, pH 4, Plating may be carried out in a 0-6.0 nickel plating bath at about 80-95°C for about 0.5-3 hours.

これらメッキ処理は、例えば特公昭第48−18842
号公報、特公昭第50−1438号公報等に記載されて
いる。
These plating treatments are, for example,
No. 50-1438, Japanese Patent Publication No. 50-1438, etc.

このような下地層3の膜厚は3〜50μm、特に5〜2
0μlが好ましい。
The thickness of such base layer 3 is 3 to 50 μm, particularly 5 to 2 μm.
0 μl is preferred.

本発明において、このような下地層3の表面には、はぼ
同心円状であって、径方向に不規則な分布および深さを
有する溝9が設けられている。
In the present invention, the surface of the base layer 3 is provided with grooves 9 that are substantially concentric and have irregular distribution and depth in the radial direction.

このような同心円状の不規則な溝9は、例えば下地層3
を設層したディスク状基体を回転させながら例えば、研
摩剤を塗設したポリッシングチーブ等を押圧して設ける
ことができる。 また、基体の回転に際し、ポリッシン
グチーブをディスク状基体の径方向に揺動させて、いわ
ゆるオシレーションをかけ、同心円を若干不規則化ない
し揺動させることもできる。
Such concentric irregular grooves 9 are formed, for example, in the base layer 3.
For example, a polishing chip coated with an abrasive can be pressed while rotating the disc-shaped base coated with the abrasive. Further, when the base is rotated, the polishing chive can be oscillated in the radial direction of the disk-shaped base to apply so-called oscillation, thereby making the concentric circles slightly irregular or oscillating.

このようにして形成されている溝9の深さは、0.00
1〜0.2μI程度である。 さらに溝9の数は、基体
径方向の単位長さあたり400〜1600本/IIII
!1程度である。
The depth of the groove 9 formed in this way is 0.00
It is about 1 to 0.2 μI. Furthermore, the number of grooves 9 is 400 to 1600 per unit length in the radial direction of the base material.
! It is about 1.

このような溝9を形成するに際し、工程条件は、通常、
ワーク回転数50〜1000回/分、コンタクト圧力O
〜5 Kg/ CJ 、オシシー9520〜120回/
分、オシレーション振巾0〜100mm程度とする。
When forming such a groove 9, the process conditions are usually
Work rotation speed 50 to 1000 times/min, contact pressure O
~5 Kg/CJ, Ossi 9520~120 times/
minute, and the oscillation width is approximately 0 to 100 mm.

このような同心円上の不規則な溝9を設けることによっ
て、電磁変換特性を劣化させることなく吸着特性および
耐久性が向上する。
By providing such concentric irregular grooves 9, the adsorption characteristics and durability are improved without deteriorating the electromagnetic conversion characteristics.

なお、溝を一方向に設けた場合には、本発明の効果は実
現しない。
Note that if the grooves are provided in one direction, the effects of the present invention will not be achieved.

なお、下地層3を基体2トに設けない場合には、直接基
体2Fに上記の溝9を設ければよい。
In addition, when the base layer 3 is not provided on the base 2F, the above-mentioned groove 9 may be provided directly on the base 2F.

さらにこのような上地層3を有することのある」^体上
にはCoまたはCoとNi、Cr、Pのうちの1種以上
をL成分とする金属薄膜磁性層5が設層される。
Furthermore, a metal thin film magnetic layer 5 whose L component is Co or one or more of Co, Ni, Cr, and P is formed on the body which may have such an upper layer 3.

このものの組成の具体例としては、Co−Ni%Co−
Ni−Cr、Co−Cr、Co−N1−P、Co−Zn
−P、Co−Ni−Mn−Re−P、γ−Fe2O3等
がある。 これらの中では特にCo−Ni、Co−Ni
 −Cr、Co−Cr、Co−N1−P等が好ましく、
これらの合金の好適組成比は重寸比で、Co:N1=1
 : 1〜9: 1、 (Co  Ni  )  CrBにおいてx:y=x 
     yA 1:1〜9:1、八:B=99.9:0.1〜75:2
5、 co:Cr=7二3〜9:1、 (Co N1y)APBにおいて、 x:y=1:O〜1:9、八:B=99.9:0.1〜
85:15である。 これらの範囲をはずれると記録特
性が低ドする。
A specific example of the composition of this product is Co-Ni%Co-
Ni-Cr, Co-Cr, Co-N1-P, Co-Zn
-P, Co-Ni-Mn-Re-P, γ-Fe2O3, etc. Among these, especially Co-Ni, Co-Ni
-Cr, Co-Cr, Co-N1-P, etc. are preferred,
The preferred composition ratio of these alloys is the weight ratio, Co:N1=1
: 1~9: 1, x:y=x in (CoNi)CrB
yA 1:1-9:1, 8:B=99.9:0.1-75:2
5, co:Cr=723~9:1, (CoN1y)APB, x:y=1:O~1:9, 8:B=99.9:0.1~
It is 85:15. Outside these ranges, recording characteristics deteriorate.

このような金属薄II!2磁性層5は気相もしくは液相
の種々のメッキ法で設層可能であるが、中でも特に気相
法の1種であるスパッタ法が好ましい。 スパッタ法を
用いることによって磁気特性の良好な磁性層が得られる
Metal Thin II like this! The second magnetic layer 5 can be formed by various plating methods in the gas phase or liquid phase, but sputtering, which is one type of gas phase method, is particularly preferred. By using the sputtering method, a magnetic layer with good magnetic properties can be obtained.

なお、磁性層の組成を上記γ−Fe20.とする場合に
は、Feをターゲットとし、反応性ガス02等を用いた
反応性スパッタによればよい。
In addition, the composition of the magnetic layer is the above-mentioned γ-Fe20. In this case, reactive sputtering using Fe as a target and reactive gas 02 or the like may be used.

スパッタ法は作業を行う領域によって、さらにプラズマ
法とイオンビーム法の2つに大別することができる。
Sputtering methods can be further divided into two types, plasma methods and ion beam methods, depending on the area to be worked on.

プラズマ法によるスパッタ法では、Ar等の不活性ガス
雰囲気中でグロー放電を発生させ、A「イオンによって
ターゲット(蒸着物質)のスパッタを行い、例えば、被
着体に蒸着させる。
In the sputtering method using the plasma method, glow discharge is generated in an inert gas atmosphere such as Ar, and a target (vapor deposition material) is sputtered with A' ions, and is deposited on, for example, an adherend.

ターゲットに数KVの直流電圧を印加する直流スパッタ
リンク、数百〜数KWの高周波数電力を印加する高周波
スパッタリングのいずれであってもよい。
Either a DC sputter link that applies a DC voltage of several KV to the target or a high frequency sputtering that applies a high frequency power of several hundred to several KW may be used.

また、2極から3極、4極スパツタ装置と多極化したほ
か、直行電磁界を加えてプラズマ中の電r−のマグネト
ロンと同様サイクロイド運動を(j、え、高密度プラズ
マを作るとともに、印加電圧を低くし、スパッタを高能
率化したマグネトロン系スパッタリングを用いてもよい
In addition, in addition to increasing the number of poles from two poles to three poles and four pole sputtering equipment, we also applied a perpendicular electromagnetic field to create a cycloidal motion of the electric r- in the plasma similar to a magnetron (j, e), creating a high-density plasma, and increasing the applied voltage. Magnetron-based sputtering may be used in which the sputtering efficiency is lowered and sputtering is made more efficient.

イオンビーム法では、適当なイオン源を用いてArなど
をイオン化し、引出し、電極に印加した負高電圧によっ
て高真空側にイオンビームとして引出し、ターゲット表
面に照射してスパッタしたターゲット物質を例えば被着
体に蒸着させる。
In the ion beam method, Ar or the like is ionized using an appropriate ion source, extracted, and extracted as an ion beam to the high vacuum side using a negative high voltage applied to an electrode.The ion beam is then irradiated onto the target surface to sputter the sputtered target material. Vapor-deposit onto the target body.

また、スパッタ法における被着粒子の運動エネルギーは
約数eV〜100eVであり、例λば蒸着法のそれ(約
0.leV〜1eV)と比べてきわめて大きい。
Further, the kinetic energy of the deposited particles in the sputtering method is about several eV to 100 eV, which is extremely large compared to, for example, that in the vapor deposition method (about 0.leV to 1 eV).

本発明において、ターゲットの材質としては、目的とす
る金属薄+15!磁性層5の組成に対応する合金等を用
いればよい。
In the present invention, the material of the target is the desired metal thinness +15! An alloy or the like corresponding to the composition of the magnetic layer 5 may be used.

ところで、金属薄膜磁性層5の組成をCoPないしCo
N i Pとする場合には、液相メッキ法、特に無電解
メッキ法で設層してもよい。
By the way, the composition of the metal thin film magnetic layer 5 is set to CoP or Co.
In the case of using N i P, the layer may be formed by a liquid phase plating method, particularly an electroless plating method.

そしてその磁性層は上記スパッタ法と同様に良好な磁気
特性を示す。
The magnetic layer exhibits good magnetic properties similar to the sputtering method described above.

無電解メッキに用いるメッキ浴組成、メッキ条件等とし
ては公知の種々のものが適用可能であり、例えば、特公
昭第54−9136号公報、特公昭第55−14865
号公報等に記載のものはいずれも使用可能である。
Various known plating bath compositions, plating conditions, etc. used in electroless plating can be applied, such as those disclosed in Japanese Patent Publication No. 54-9136 and Japanese Patent Publication No. 55-14865.
Any of those described in the No. 1 publication, etc. can be used.

上述してきたような金属薄膜磁性層5の膜厚は200〜
5000人、特に500〜1000人が好ましい。
The thickness of the metal thin film magnetic layer 5 as described above is 200~
5000 people, especially 500-1000 people is preferred.

このような金属薄膜磁性層5を前述したようなスパッタ
法で設層する場合には、下地層3と磁性層5との間に非
磁性金属中間層4を設けることが好ましい。 この非磁
性金属中間層4を設けることによって、媒体の磁気特性
が向上し、記録特性の信頼性の向Eをも図ることができ
る。
When such a metal thin film magnetic layer 5 is formed by the sputtering method as described above, it is preferable to provide a nonmagnetic metal intermediate layer 4 between the underlayer 3 and the magnetic layer 5. By providing this non-magnetic metal intermediate layer 4, the magnetic properties of the medium are improved and the reliability of the recording properties can also be improved.

そしてこの非磁性金属中間層4は通常Crから形成され
るのが最も好ましいが、Cr含有量は99wL%以−E
であればよい。
It is most preferable that this non-magnetic metal intermediate layer 4 is usually formed from Cr, but the Cr content is 99wL% or more.
That's fine.

そしてこの中間層4は、種々の公知の気相成膜法で形成
可能であるが、通常、上述した金属薄膜磁性層5と同様
にスパッタ法で成膜することが好ましい。 このような
非磁性金属中間層4の膜厚は用いる金属薄膜磁性層5の
種類によって適宜決定すべきであるが、通常500〜4
000人程度である。
This intermediate layer 4 can be formed by various known vapor phase deposition methods, but it is usually preferable to deposit it by sputtering as in the case of the metal thin film magnetic layer 5 described above. The thickness of such a non-magnetic metal intermediate layer 4 should be appropriately determined depending on the type of metal thin film magnetic layer 5 used, but is usually 500 to 40 mm.
Approximately 000 people.

本発明の磁気ディスク1は前述した金属薄膜磁性層5上
にCrなとの非磁性金属保護膜6を設層することが好ま
しい。
In the magnetic disk 1 of the present invention, it is preferable that a non-magnetic metal protective film 6 such as Cr is provided on the metal thin film magnetic layer 5 described above.

この保護膜6の成膜方法は上記の非磁性金属中間層の場
合と同様にすればよい。
The method for forming this protective film 6 may be the same as that for the nonmagnetic metal intermediate layer described above.

このような非磁性金属保護ni 6の膜厚は30〜30
0人、特に50〜200人が好ましい。
The film thickness of such non-magnetic metal protection Ni 6 is 30-30
0 people, especially 50 to 200 people is preferred.

この非磁性金属保護flu 6の上には、通常、さらに
保護膜7が設層される。
A protective film 7 is usually further provided on the non-magnetic metal protective flu 6.

保護膜7は、カーボンから形成することが好ましい。 
その場合組成としてはCr¥1.独からなるが、他の元
素を5wL%未満含有するものであってよい。
Preferably, the protective film 7 is made of carbon.
In that case, the composition is Cr¥1. Although it is made of aluminum, it may contain less than 5wL% of other elements.

保護膜7は、スパッタ法、イオンブレーティング法、蒸
着法、CVD等の各種気相成膜法で形成可能であるが、
中でも特にスパッタ法によるのが好ましい。 この場合
には、形成された膜がきわめて緻密となり、耐久性、耐
較性に優れた効果を有する。
The protective film 7 can be formed by various vapor phase deposition methods such as sputtering, ion blating, vapor deposition, and CVD.
Among these, sputtering is particularly preferred. In this case, the formed film becomes extremely dense and has excellent durability and resistance.

このように形成される保護膜7の膜厚は10〜800人
、特に150〜400人さらに保護@7の表面をプラズ
マ処理しておくことが好ましい。 こうすることにより
保護膜表面を化?的に活性化し、より好ましい態様とし
て設けられる後述のトップコート層8を密着性良く設層
することかできる。 従って接着強度が向l二 −4−
る 。
The thickness of the protective film 7 thus formed is 10 to 800, particularly 150 to 400. Furthermore, it is preferable that the surface of the protective film 7 is subjected to plasma treatment. Does this change the surface of the protective film? The top coat layer 8, which will be described later and is provided as a more preferable embodiment, can be applied with good adhesion. Therefore, the adhesive strength is in the direction of -4-
Ru.

プラズマ処理は公知の方法によって行えばよく、Ar、
Ne、He、N2、H2等の1種ないし2種以上の処理
ガスを用い、電源の周波数50にllz〜13 、56
Mll7.程度、印加電流、処理時間等は通常の条件と
すればよい。
Plasma treatment may be performed by a known method, such as Ar,
Using one or more processing gases such as Ne, He, N2, H2, etc., the frequency of the power supply is 50 to 13, 56.
Mll7. The degree, applied current, processing time, etc. may be set to normal conditions.

保護膜7上にはトップコート層8を設けることが好まし
い。
It is preferable to provide a top coat layer 8 on the protective film 7.

トップコート層8に含イfさせる化合物としては特に有
機フッ素化合物か好ましい。
The compound to be included in the top coat layer 8 is particularly preferably an organic fluorine compound.

このようなトップコート層8の形成方法は、塗布法等の
液相成膜法や蒸着法、スパッタ法、イオンブレーティン
グ法、プラズマ重合法等の気相酸IIQ法などいずれの
方法を用いてもよい。
The top coat layer 8 may be formed using any method such as a liquid phase film formation method such as a coating method, a vapor deposition method, a sputtering method, an ion blasting method, a gas phase acid IIQ method such as a plasma polymerization method, etc. Good too.

このように形成されるトップコート層8の厚さは3〜3
00人、好ましくは5〜150人と4−る。
The thickness of the top coat layer 8 formed in this way is 3 to 3
00 people, preferably 5 to 150 people.

3λ未満では十分な本発明の効果が得られず特に耐久性
が劣り、300人をこえると吸着が発生し、いわゆるヘ
ッドクラッシュを起こすからである。
This is because if it is less than 3λ, sufficient effects of the present invention cannot be obtained and the durability is especially poor, and if it exceeds 300 people, adhesion will occur and so-called head crash will occur.

土−述してきたような磁気ディスクlは、第1図に示さ
れるように片面記録の媒体としてもよいが、基体2の両
面側に磁性層等を第1図と同様に設けた、いわゆる両面
記録の媒体としてもよい。
- The magnetic disk l as described above may be a single-sided recording medium as shown in FIG. It may also be used as a recording medium.

■ 発明の具体的作用効果 本発明の媒体は、非磁性基体表面りに、あるいはこの上
に設層された下地層表面トに、はぼ同心円状の不規則な
溝を有しており、さらにこの上に所定の磁性層等を有し
構成されている。
■Specific Effects of the Invention The medium of the present invention has irregular concentric grooves on the surface of the non-magnetic substrate or on the surface of the underlayer formed thereon, and A predetermined magnetic layer and the like are provided thereon.

従って、得られた媒体は、ヘッド吸着等がきわめて少な
く、耐久性、磁気特性、′市磁変換特性に優れ、実用に
際してきわめて高い信頼性を有する。
Therefore, the obtained medium has very little head adsorption, excellent durability, magnetic properties, and magnetic field conversion properties, and has extremely high reliability in practical use.

■ 発明のIL体的実施例 以F、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。
(2) IL-based Examples of the Invention From now on, specific examples of the present invention will be shown and the present invention will be explained in more detail.

(実施例1) φ13cm、厚さ1.9mmのディスク状のAffif
f上に、J’Xさ20μmのNiPのド地層を無電解メ
ッキ法で設けた。 なお、無電解メッキ法はF記のプロ
セスおよび製造条件で行った。
(Example 1) Disc-shaped Afif with a diameter of 13 cm and a thickness of 1.9 mm
A NiP layer with a J'X width of 20 μm was provided on f by electroless plating. Note that the electroless plating method was performed under the process and manufacturing conditions described in F.

(N i P無電解メッキ) プロセス       製 造 条 件1゜アルカリ性
 アルブレツブ2o4(実計製薬社脱脂     製)
250社/1.65℃、5分2、酸性脱脂  アルブレ
ツブ23o(実計製薬社製)150社/2.65℃、 5分 3、ジンケート アープ3o2(実計製薬社製)250
1ffi / Q、25℃、30秒4、ジンケート 6
2 vo1%濃硝酸、剥fJi     800rd/
l、25℃、30秒5、ジンケート アープ3o2(実
計製薬社製)250 rml / l、25℃、20秒
6、表面!1整  重炭酸ナトリウム30g/!l、2
0℃、30秒 7、ニッケルメ ナイフラッド719A(実計製薬ツキ
    社製) 80nJI / lナイクラッド71
9B(実計製薬 社製) +50iffi / fl pH4,5、90℃、2時間 なお、下地層の組成はNi:P=85二15二重5比)
とした。
(NiP electroless plating) Process Manufacturing Conditions 1゜Alkaline Albretsubu 2o4 (manufactured by Jitsukei Pharmaceutical Co., Ltd.)
250 companies/1.65°C, 5 minutes 2, acidic degreasing Albretsubu 23o (manufactured by Jitsukei Pharmaceutical Co., Ltd.) 150 companies/2.65°C, 5 minutes 3, Zincate Arp 3o2 (manufactured by Jitsikei Pharmaceutical Co., Ltd.) 250
1ffi/Q, 25℃, 30 seconds 4, zincate 6
2 VO1% concentrated nitric acid, peeling fJi 800rd/
l, 25°C, 30 seconds 5, Zincate Arp 3o2 (manufactured by Jitsukei Pharmaceutical Co., Ltd.) 250 rml/l, 25°C, 20 seconds 6, Surface! 1 hour Sodium bicarbonate 30g/! l, 2
0°C, 30 seconds 7, Nickel metal Niclad 719A (manufactured by Jitskei Pharmaceutical Tsuki Co., Ltd.) 80nJI/l Niclad 71
9B (manufactured by Jitsukei Pharmaceutical Co., Ltd.) +50iffi/fl pH 4.5, 90°C, 2 hours The composition of the base layer is Ni:P = 85 2 15 double 5 ratio)
And so.

次いで、L記のド地層をL記の条件にて研磨処理した。Next, the geological formation described in L was polished under the conditions described in L.

〈表面研磨処理〉 スピードファム■社製のラッピングマシン9B−5Pを
用い、に記基体を回転させながら、不二見研磨−の研磨
液、メディボールNo。
<Surface polishing treatment> Using a lapping machine 9B-5P manufactured by Speed Fam ■, polishing liquid of Fujimi Polishing Co., Ltd. and Mediball No. is applied while rotating the substrate described in .

8(50%希釈液)を用い、100gの加重をかけなが
ら10分間研磨を行った。
8 (50% diluted solution), polishing was performed for 10 minutes while applying a load of 100 g.

その後、ディスク基板洗浄装置(スピードファムクリー
ンシステム■社製)を用いて洗浄した。 工程は以ドに
示すとおりである。
Thereafter, it was cleaned using a disk substrate cleaning device (manufactured by Speed Fam Clean System ■). The process is as shown below.

〈洗浄工程〉 1、中性洗剤溶液、浸漬、超音波 2、M純水、スクラブ 3、超純水、スクラブ 4、超純水、浸漬、超音波 5、超純水、浸漬 6、フロン/エタノール混合液、浸漬、超音波7、フロ
ン/エタノール混合液、浸漬 8、フロン/エタノール、蒸気(→乾燥)このような洗
浄工゛程後、下地層表面に同心円状の不規則な溝を下記
のようにして設けた(以下、テクスチャリング工程とい
う)。 すなわち、テープポリッシングマシン(巴テク
ノ■社製)を用い、基体を回転させながら、基体表面に
同心円状の不規則な溝を設けた。 工程条件は、ポリッ
シングチーブ番j$4000、コンタクト圧力1.2に
g/crn”、オシレージ3250回/分、ワーク回転
′#!L150回/分、オシレーション振幅3mmとし
た。
<Cleaning process> 1. Neutral detergent solution, immersion, ultrasonic 2, M pure water, scrub 3, ultrapure water, scrub 4, ultrapure water, immersion, ultrasonic 5, ultrapure water, immersion 6, Freon/ Ethanol mixture, immersion, ultrasonic waves 7, CFC/ethanol mixture, immersion 8, CFC/ethanol, steam (→dry) After these cleaning steps, concentric irregular grooves are created on the surface of the base layer as shown below. (hereinafter referred to as texturing process). That is, using a tape polishing machine (manufactured by Tomoe Techno Corporation), concentric irregular grooves were formed on the surface of the substrate while rotating the substrate. The process conditions were: polishing chip number J$4000, contact pressure 1.2 g/crn'', oscillation 3250 times/min, work rotation '#!L 150 times/min, and oscillation amplitude 3 mm.

これを本発明処理lとする。This is referred to as processing 1 of the present invention.

この場合、溝の深さの平均値は0.03μmであり、ま
た溝の数の平均値は800木/mraであった。
In this case, the average value of the depth of the grooves was 0.03 μm, and the average value of the number of grooves was 800 wood/mra.

なお、比較処理lとして、本発明処理において、基体を
一方向に振幅250 mm、速度500mm/secで
往復運動させ、またそれと直角方向に振幅3川但、線速
10 mml secでオシレージコンを行い、一方向
に111記とほぼ同じ深さおよび分布を打する溝を下地
層表面トに形成した。
As a comparison process 1, in the process of the present invention, the base body was reciprocated in one direction at an amplitude of 250 mm and a speed of 500 mm/sec, and oscilloscope control was performed in a direction perpendicular to this at an amplitude of 3 degrees and a linear speed of 10 mm/sec. Grooves were formed in one direction on the surface of the base layer with approximately the same depth and distribution as in item 111.

その後、さらに重犯と同様な洗浄を行った後、Crから
成る非磁性磁性金属中間層をスパッタで膜厚2000人
に設層した。設層条件は、Ar圧力2.OPa、DC8
KWとした。
Thereafter, after further cleaning in the same manner as in the serious case, a non-magnetic magnetic metal intermediate layer made of Cr was deposited to a thickness of 2000 mm by sputtering. The layer installation conditions were Ar pressure 2. OPa, DC8
It was set as KW.

なお、この中間層形成面にArガス圧0. 2Pa、R
F400Wの条件でエツチング処理を行った。
Note that an Ar gas pressure of 0. 2Pa, R
Etching treatment was performed under the condition of F400W.

その後、この−Lに連続して以下に示すような各袖金属
薄膜磁性層を設層した。
Thereafter, each sleeve metal thin film magnetic layer as shown below was formed continuously on this -L.

〈金属薄膜磁性層の形成〉 CoNi@i性層をスパッタ法を用いて形成した。 成
膜条件はArガス圧2.OPa、DC8KWとした。 
CoN i組成重量比はCo/N i = 80 / 
20.11!2厚は600人とした。
<Formation of metal thin film magnetic layer> A CoNi@i layer was formed using a sputtering method. The film forming conditions were Ar gas pressure 2. OPa, DC8KW.
The CoN i composition weight ratio is Co/N i = 80/
20.11!2 thickness was set at 600 people.

このようにして設層された金属薄1反磁性層上にCrか
ら成る非磁性金属保護膜を形成した。
A nonmagnetic metal protective film made of Cr was formed on the metal thin diamagnetic layer thus formed.

成膜はスパッタ法で行い、その条件は、Arガス圧2.
OPa、DC8KWとし、膜厚は200人とした。
Film formation is performed by sputtering, and the conditions are Ar gas pressure 2.
OPa, DC8KW, and film thickness were set to 200.

さらにこの保護膜の上に、カーボン保護膜をスパッタ法
で、厚さ400人に設けた。 なお、スパッタ条件はA
rガス圧0.2Pa、DC8KWとした。
Further, on this protective film, a carbon protective film with a thickness of 400 mm was provided by sputtering. Note that the sputtering conditions are A
The r gas pressure was 0.2 Pa and the DC was 8 KW.

このカーボン保護膜の表面をプラズマ処理した。 なお
、プラズマ条件は処理ガスN2.圧力5Pa、電源は1
3 、56MIIzの高周波とし、投入′重力は3KW
とした。 そのトにド記に示すような潤滑剤を含むl・
ツブコート層をスピンコード法で設層した。 スピンコ
ード条件は回転数1000 rpm、10秒間とした。
The surface of this carbon protective film was subjected to plasma treatment. Note that the plasma conditions are processing gas N2. Pressure 5Pa, power supply 1
3. The high frequency is 56MIIz, and the input gravity is 3KW.
And so. It contains a lubricant as shown in C.
A whirlpool coat layer was applied using a spin cord method. The spin code conditions were a rotation speed of 1000 rpm and a duration of 10 seconds.

 膜厚は100人とした。The film thickness was 100 people.

〈トップコート層組成1〉 ポ1滑削として以下に示される構造式からなるKRYT
OXI 57FS (デュポン社製)(ここでn=11
〜49) をフロン113(ダイキン工業社製、ダイフロン5−3
)の溶媒中に混合し、潤滑剤含有塗布液濃度を0.05
車量%に調整した。
<Top coat layer composition 1> KRYT consisting of the structural formula shown below as Po1 sliding
OXI 57FS (manufactured by DuPont) (where n=11
~49) to Freon 113 (manufactured by Daikin Industries, Ltd., Daiflon 5-3)
) in a solvent, and the concentration of the lubricant-containing coating solution was 0.05.
Adjusted to vehicle volume%.

(1)1匹二乳5」L性 磁気ディスクサンプルの作成直後およびCSS (コン
タクト・スタート・アンド・ストップ)3万回後のディ
スク記録面当りのエラー数を1lill定し、C5S前
後でのエラー数(ミッシングパルス数)の増加を表示し
た[ ili位二ピット/面]。
(1) The number of errors per disk recording surface is determined to be 1lill immediately after creating a 1 animal, 2 milk, 5" L magnetic disk sample and after 30,000 CSS (contact start and stop) operations, and the errors before and after C5S are determined. The increase in the number of missing pulses (number of missing pulses) is displayed [2 pits/plane].

なお、ディスク記録面当りのエラー数は、日q電r−エ
ンジニアリング社製磁気ディスク用す−ディファイヤー
にて測定し、設定条件は、ミッシングパルスのスライス
レベルを65%とした。 ヘッドはMn−Znのモノリ
シックヘッドを用いた。
The number of errors per disk recording surface was measured using a magnetic disk defyer manufactured by Nippon Qden R-Engineering Co., Ltd., and the setting conditions were a missing pulse slice level of 65%. A Mn-Zn monolithic head was used as the head.

(2)吸着 CSS (コンタクト・スタート・アンド・ストップ)
テスト3万回後、20℃、60%RH172時間の条件
下で、Mn−Znフェライトヘッドを磁気ディスクサン
プル表面上に静置しておき、急にサンプルを回転させた
ときの初期摩控係数を測定した。
(2) Adsorption CSS (contact start and stop)
After 30,000 tests, the Mn-Zn ferrite head was left stationary on the surface of the magnetic disk sample under conditions of 20°C, 60% RH, and 172 hours, and the initial friction coefficient when the sample was suddenly rotated was determined. It was measured.

表1の結果より本発明の効果があきらかである。From the results in Table 1, the effects of the present invention are clear.

なお、サンプルNo、103については、下地層表面処
理を行わなかった。
Note that for sample No. 103, the surface treatment of the base layer was not performed.

に記すンプルNo、101(本発明)およびサンプルN
o、103(比較)はともに−出力波形が均一であり、
エラーの増加もなかった。
Sample No. 101 (present invention) and sample N described in
o, 103 (comparison) both - output waveform is uniform,
There was no increase in errors.

これらの結果より、本発明のものは、電磁変換特性を劣
化させることなく、媒体の耐久性、耐摩耗性、吸着特性
等が向上することがわかる。
From these results, it can be seen that the product of the present invention improves the durability, abrasion resistance, adsorption characteristics, etc. of the medium without deteriorating the electromagnetic conversion characteristics.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本発明の磁気ディスクの断面図を示す。 符号の簡単な説明 1・・・磁気ディスク、2・・・非磁性基体、3・・・
ド地層、4・・・非磁性金属中間層、5・・・金属薄膜
磁性層、6・・・非磁性金属保護膜、7・・・保護膜、
8・・・トップコート層、9・・・溝
FIG. 1 shows a cross-sectional view of a magnetic disk of the present invention. Brief explanation of symbols 1...Magnetic disk, 2...Nonmagnetic substrate, 3...
4... Nonmagnetic metal intermediate layer, 5... Metal thin film magnetic layer, 6... Nonmagnetic metal protective film, 7... Protective film,
8...Top coat layer, 9...Groove

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ディスク状でしかも剛性の非磁性基体上に、金属
薄膜磁性層を有する磁気ディスクにおいて、 上記、基体の磁性層形成側表面に、あるいはこの上に設
層された下地層表面にほぼ同心円状の溝を設けたことを
特徴とする磁気ディスク。
(1) In a magnetic disk having a metal thin film magnetic layer on a disk-shaped and rigid non-magnetic substrate, a circle approximately concentric with the surface of the magnetic layer forming side of the substrate or the surface of the underlayer formed thereon. A magnetic disk characterized by having grooves in the shape of a shape.
JP18976486A 1986-08-13 1986-08-13 Magnetic disk Pending JPS62146434A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18976486A JPS62146434A (en) 1986-08-13 1986-08-13 Magnetic disk

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18976486A JPS62146434A (en) 1986-08-13 1986-08-13 Magnetic disk

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28901085A Division JPS62146430A (en) 1985-12-21 1985-12-21 Magnetic recording medium

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62146434A true JPS62146434A (en) 1987-06-30

Family

ID=16246790

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18976486A Pending JPS62146434A (en) 1986-08-13 1986-08-13 Magnetic disk

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62146434A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02208826A (en) * 1989-02-08 1990-08-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Thin film type magnetic disk
US5225955A (en) * 1989-10-11 1993-07-06 Hitachi Metals, Ltd. Disk-shaped magnetic recording medium having novel textured surface
US5605733A (en) * 1992-01-22 1997-02-25 Hitachi, Ltd. Magnetic recording medium, method for its production, and system for its use
US5723198A (en) * 1993-06-11 1998-03-03 Hitachi, Ltd. Multi-layered magnetic recording medium and magnetic recording system employing the same
EP1271483A1 (en) * 2001-06-29 2003-01-02 Sony Corporation Metallic thin film type magnetic recording medium and method of manufacturing thereof

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02208826A (en) * 1989-02-08 1990-08-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Thin film type magnetic disk
US5225955A (en) * 1989-10-11 1993-07-06 Hitachi Metals, Ltd. Disk-shaped magnetic recording medium having novel textured surface
US5605733A (en) * 1992-01-22 1997-02-25 Hitachi, Ltd. Magnetic recording medium, method for its production, and system for its use
US5723198A (en) * 1993-06-11 1998-03-03 Hitachi, Ltd. Multi-layered magnetic recording medium and magnetic recording system employing the same
EP1271483A1 (en) * 2001-06-29 2003-01-02 Sony Corporation Metallic thin film type magnetic recording medium and method of manufacturing thereof
US7070871B2 (en) 2001-06-29 2006-07-04 Sony Corporation Metallic thin film type magnetic recording medium and method of manufacturing thereof
US7449221B2 (en) * 2001-06-29 2008-11-11 Sony Corporation Metallic thin film type magnetic recording medium and method of manufacturing thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS61267929A (en) Magnetic recording medium
JPS62234229A (en) Magnetic recording medium
JP4479572B2 (en) Method for manufacturing disk substrate for perpendicular magnetic recording medium, disk substrate for perpendicular magnetic recording medium, and perpendicular magnetic recording medium
JPS62146434A (en) Magnetic disk
JPH05143972A (en) Metal thin film magnetic recording medium and its production
JPH02285508A (en) Magnetic recording medium
JPS61142525A (en) Magnetic recording medium
JP2000212738A (en) Magnetron sputtering method and production of magnetic recording medium
JP2004022025A (en) Magnetic recording medium, its manufacturing method and magnetic storage device using the same
JP2704615B2 (en) Magnetic recording device
JPS62150526A (en) Magnetic recording medium
JPH01271908A (en) Magnetic storage body and magnetic storage device and its manufacture
JP2727504B2 (en) Magnetic recording media
JPS62146430A (en) Magnetic recording medium
JPS62146431A (en) Magnetic recording medium
JPS62150525A (en) Magnetic recording medium
JPS62234228A (en) Magnetic recording medium
JPS5868229A (en) Magnetic recording medium
JPS63113924A (en) Magnetic recording medium
JPS62150527A (en) Magnetic recording medium
JPS62150528A (en) Magnetic recording medium
JPS63113822A (en) Magnetic recording medium
JP2003223710A (en) Magnetic recording medium, lubrication film and magnetic recording device
JPS6334723A (en) Magnetic recording medium
JP2651568B2 (en) Manufacturing method of magnetic recording medium