JPS62142348A - Semiconductor memory device - Google Patents
Semiconductor memory deviceInfo
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- JPS62142348A JPS62142348A JP61297065A JP29706586A JPS62142348A JP S62142348 A JPS62142348 A JP S62142348A JP 61297065 A JP61297065 A JP 61297065A JP 29706586 A JP29706586 A JP 29706586A JP S62142348 A JPS62142348 A JP S62142348A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はアクセスタイムの向上および消費電力の低減が
可能な半導体メモリ装置に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor memory device that can improve access time and reduce power consumption.
第2図は従来の半導体メモリ装置を示すブロック図であ
る。同図において、1はマトリクス状に配列し、その詳
細な回路を第2図に示すメモリセル、2aおよび2bは
相補的な関係にある一対のビット線、3は選択時に同一
行上にあるメモリセル1を活性化するワード線、4は行
アドレス情報を解読する行デコーダ、5は行アドレス信
号線、6aおよび6bは前記ビット線2aおよび2bに
それぞれ接続するビット線負荷、7は電源端子である。FIG. 2 is a block diagram showing a conventional semiconductor memory device. In the figure, 1 is a memory cell arranged in a matrix, the detailed circuit of which is shown in FIG. 2, 2a and 2b are a pair of complementary bit lines, and 3 is a memory cell on the same row when selected. A word line for activating cell 1, 4 a row decoder for decoding row address information, 5 a row address signal line, 6a and 6b bit line loads connected to the bit lines 2a and 2b, respectively, and 7 a power supply terminal. be.
なお、第3図に示すメモリセルlにおいて、8aおよび
8bはMO3I−ランジスタ、抵抗などで構成する負荷
素子、9aおよび9bはインバータトランジスタ、10
aおよび10bはアクセストランジスタ、llaおよび
llbはメモリセルlのストアノードである。In the memory cell l shown in FIG. 3, 8a and 8b are load elements constituted by MO3I transistors, resistors, etc., 9a and 9b are inverter transistors, and 10
a and 10b are access transistors, lla and llb are store nodes of memory cell l.
次に、上記構成による半導体メモリ装置の動作について
、−例として、ストアノードIlaおよびllbがそれ
ぞれ“H”レベルおよび“L”レベルに書き込まれてい
る場合について説明する。Next, the operation of the semiconductor memory device having the above configuration will be described, for example, when store nodes Ila and llb are written to the "H" level and the "L" level, respectively.
まず、読み出しの場合には読み出そうとするセルのアド
レス情報をアドレス信号線5に入力すると、行デコーダ
4を通し、所望のワード線3を活性化する。そして、こ
のワード線3が活性化されると、′1、”レベルをスト
アしているアクセストランジスタ10bが導通する。こ
のため、電源端子7からビットvA負荷6b、 ビッ
ト線2b、アクセストランジスタ10b、インバータト
ランジスタ9bの経路を電流が流れ、読み出すことがで
きる。First, in the case of reading, when the address information of the cell to be read is inputted to the address signal line 5, the desired word line 3 is activated through the row decoder 4. Then, when this word line 3 is activated, the access transistor 10b storing the '1,'' level becomes conductive. Therefore, from the power supply terminal 7, the bit vA load 6b, the bit line 2b, the access transistor 10b, A current flows through the path of inverter transistor 9b and can be read out.
この構成による半導体メモリ装置は同−打上のずべての
メモリセルが活性化されるので、全列に電源からメモリ
セルに電流が流れ込み、コラム数の多い大容量スタティ
ックRAMを構成する場合、消費電流が大きくなる。そ
こで、消費電流を少なくするため、従来、第4図に示す
半導体メモリ装置が提案されている。この場合、行デコ
ーダ4をメモリセルブレーンの中央に配し、ワード線を
左側ワード線3aおよび右側ワード線3bに分割し、左
右のメモリセル群の選択された方のメモリセル群のワー
ド線のみ活性化することにより、全列の内、半数の列に
だけ電流バスを生じさせるものである。なお、12aお
よび12bはそれぞれ左側ワード線3aあるいは右側ワ
ード線3bを選択するアンドゲート、13aおよび13
bはそれぞれこのアンドゲート12aおよび12bを開
状態にするゲート信号線である。In a semiconductor memory device with this configuration, all memory cells on the same device are activated, so current flows from the power supply to the memory cells in all columns, and when configuring a large capacity static RAM with many columns, the current consumption becomes larger. Therefore, in order to reduce current consumption, a semiconductor memory device shown in FIG. 4 has been proposed. In this case, the row decoder 4 is placed in the center of the memory cell brain, the word line is divided into the left word line 3a and the right word line 3b, and only the word line of the selected memory cell group of the left and right memory cell groups is used. When activated, a current bus is generated in only half of all the columns. Note that 12a and 12b are AND gates that select the left word line 3a or the right word line 3b, respectively, and 13a and 13
b is a gate signal line that opens the AND gates 12a and 12b, respectively.
次に、第5図は第4図の思想に基づいて構成した従来の
半導体メモリ装置を示す配置図である。Next, FIG. 5 is a layout diagram showing a conventional semiconductor memory device constructed based on the idea of FIG. 4.
この場合、行デコーダ4aおよび4bを複数列配置し、
ワード線3a〜3dをその倍数だけ分割し、直流電流路
のできる数を減少させるものである。In this case, row decoders 4a and 4b are arranged in multiple columns,
The word lines 3a to 3d are divided into multiples thereof to reduce the number of DC current paths.
しかしながら、従来の半導体メモリ装置は数多くの行デ
コーダを設ける必要がある。このため、チップ面積の増
大を招き、速度性能や歩留まりを損なうなどの欠点があ
った。However, conventional semiconductor memory devices require a large number of row decoders. For this reason, there were drawbacks such as an increase in chip area and a loss in speed performance and yield.
従って、本発明の目的は、高速で、しかも低消費電力の
大容量の半導体メモリ装置を提供するものである。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a high-speed, low-power, large-capacity semiconductor memory device.
このような目的を達成するために本発明は、メモリセル
を71−リクス状に配置したメモリセルアレイを列方向
に分割して配列した複数のメモリセル群と、この複数の
メモリセル群の各々に対応して設けられ各メモリセル群
のうちの特定のものを選択するメモリセル群選択線と、
アクセスすべきメモリセル群の行アドレス情報を解読す
る行デコーダと、この行デコーダの出力端子に接続され
複数のメモリセル群に亘って配置された前置ワード線と
、複数のメモリセル群の各々に対応して設けられメモリ
セル群選択線の選択信号と前置ワード線の出力信号とに
基づいて活性化される分割ワード線とを備え、前置ワー
ド線と分割ワード線とを互いに並行に配置するようにし
たものである。In order to achieve such an object, the present invention provides a plurality of memory cell groups in which a memory cell array in which memory cells are arranged in a 71-x shape is divided and arranged in the column direction, and a plurality of memory cell groups in each of the plurality of memory cell groups. a memory cell group selection line provided correspondingly to select a specific one of each memory cell group;
a row decoder for decoding row address information of a memory cell group to be accessed; a preword line connected to the output terminal of the row decoder and arranged across the plurality of memory cell groups; and each of the plurality of memory cell groups. The front word line and the divided word line are connected in parallel with each other. This is how it is placed.
[作用]
本発明に係る半導体メモリ装置は高速で、しかも低消費
電力である。[Operation] The semiconductor memory device according to the present invention has high speed and low power consumption.
第1図は、本発明に係わる半導体メモリ装置の一実施例
を示すブロック図であり、−例として、列方向に3個に
分割したメモリセル群1a、lbおよび1cを配置した
場合を示す。同図において、14a、14bおよび14
cはこのメモリセル群1a−1cを選択するメモリセル
群選択線、15は分割ワード線としてのワード線3a〜
3cと同一方向に並行して配置した前置ワード線、16
a、16bおよび16cは入力端子がそれぞれ前置ワー
ド線15とメモリセル群選択線14a−140に接続し
、出力端子がそれぞれワード線3a〜3cに接続するア
ンドゲートである。FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention. As an example, it shows a case where three memory cell groups 1a, lb and 1c are arranged in the column direction. In the same figure, 14a, 14b and 14
15 is a memory cell group selection line for selecting the memory cell group 1a-1c, and 15 is a word line 3a to 3a as divided word lines.
Preword line 16 arranged in parallel in the same direction as 3c.
Reference numerals a, 16b and 16c are AND gates whose input terminals are connected to the front word line 15 and the memory cell group selection lines 14a-140, respectively, and whose output terminals are connected to the word lines 3a-3c, respectively.
次に、上記構成による半導体メモリ装置の動作について
説明する。まず、例えばメモリセル群la内のメモリセ
ルを選択する場合、アクセスすべきメモリセル群1aの
行アドレス情報を行デコーダ4で解読し、前置ワード線
15の1本を活性化する。そして、メモリセル群選択′
gAl 4 aに選択信号を加えると、アンドゲート1
6aが開き、ワード線3aを活性化する。したがって、
図示せぬ電源から図示せぬビット線を経て、メモリセル
群1aへ流れ込むコラム電流が流れるのは選択されたメ
モリセル群la内にあるコラムのみである。Next, the operation of the semiconductor memory device with the above configuration will be explained. First, when selecting a memory cell in the memory cell group la, for example, the row address information of the memory cell group la to be accessed is decoded by the row decoder 4, and one of the front word lines 15 is activated. Then, memory cell group selection′
When a selection signal is added to gAl 4 a, AND gate 1
6a opens and activates word line 3a. therefore,
A column current flowing into the memory cell group 1a from a power supply (not shown) through a bit line (not shown) flows only in the columns in the selected memory cell group la.
なお、以上はメモリセル群la内のメモリセルの選択に
ついて説明したが、他のメモリセル群lbおよびICに
ついても同様にできることはもちろんである。さらに、
メモリセル群を3個に分割した場合について説明したが
N個(N≧2)に分割しても同様にできることはもちろ
んである。また、前置ワード線15のみを低抵抗材料で
構成しておけば、ワード線は抵抗が多少大きくても長さ
が短いため容量が小さく、高速にメモリセルをアクセス
することができる。また、アンドゲート16a〜16C
は入力端子が2個、出力端子が1個のため、回路構成が
簡単になるので、チップ面積の増大を無視することがで
きる。また、行デコーダ4はチップの中央に配置しても
よく、チップの端に配置してもよいことはもちろんであ
る。Note that although the selection of the memory cells in the memory cell group la has been described above, it goes without saying that the same can be done for the other memory cell groups lb and ICs. moreover,
Although the case where the memory cell group is divided into three cells has been described, it goes without saying that the same effect can be achieved even if the memory cell group is divided into N cells (N≧2). Furthermore, if only the pre-word line 15 is made of a low-resistance material, even if the word line has a somewhat high resistance, the word line has a short length and therefore has a small capacitance, and the memory cells can be accessed at high speed. Also, and gates 16a to 16C
Since the circuit has two input terminals and one output terminal, the circuit configuration is simple, and the increase in chip area can be ignored. Furthermore, it goes without saying that the row decoder 4 may be placed at the center of the chip or at the edge of the chip.
以上詳細に説明したように、本発明に係わる半導体メモ
リ装置によれば、メモリセルの選択を1111置ワード
線とワード線の2段階に分けて行なうように、行選択を
階層的に行なうため、列の直流電流路のある列数を減少
することができるので、高速で、しかも低消費電力の人
容品の半導体メモリ装置を構成することができる効果が
ある。As described above in detail, according to the semiconductor memory device according to the present invention, row selection is performed hierarchically such that memory cell selection is performed in two stages: 1111 word line and word line. Since the number of columns with direct current paths in the columns can be reduced, it is possible to construct a semiconductor memory device for personal use that is high-speed and consumes low power.
以上説明したように本発明は、メモリセルの選択を前置
ワード線と分割ワード線の2段階に分けて行なうように
したことにより、直流電流路のある列数を減少すること
ができるので1、高速で陸つ低消費電力の大容量の半導
体メモリ装置を得ることができる効果がある。As explained above, in the present invention, the selection of memory cells is performed in two stages: front word lines and divided word lines, so that the number of columns with DC current paths can be reduced. This has the advantage that a high-speed, low-power, large-capacity semiconductor memory device can be obtained.
第1図は本発明に係わる半導体メモリ装置の一実施例を
示すブロック図、第2図は従来の半導体メモリ装置を示
すブロック図、第3図は第2図のメモリセルの詳細な回
路図、第4図は従来の他の半導体メモリ装置を示すブロ
ック図、第5図は従来の他の半導体メモリ装置を示す配
置図である。
1a〜1c・・・メモリセル群、3a〜3C・・・ワー
ド線、4・・・行デコーダ、143〜14G・・・メモ
リセル選択線、15・・・前置ワード線、16a〜16
C・・・アンドゲート。FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention, FIG. 2 is a block diagram showing a conventional semiconductor memory device, and FIG. 3 is a detailed circuit diagram of the memory cell shown in FIG. FIG. 4 is a block diagram showing another conventional semiconductor memory device, and FIG. 5 is a layout diagram showing another conventional semiconductor memory device. 1a-1c...Memory cell group, 3a-3C...Word line, 4...Row decoder, 143-14G...Memory cell selection line, 15... Front word line, 16a-16
C...and gate.
Claims (1)
イを列方向に分割して配列した複数のメモリセル群と、
この複数のメモリセル群の各々に対応して設けられ各メ
モリセル群のうちの特定のものを選択するメモリセル群
選択線と、アクセスすべきメモリセル群の行アドレス情
報を解読する行デコーダと、この行デコーダの出力端子
に接続され前記複数のメモリセル群に亘って配置された
前置ワード線と、前記複数のメモリセル群の各々に対応
して設けられ前記メモリセル群選択線の選択信号と前記
前置ワード線の出力信号とに基づいて活性化される分割
ワード線とを備え、前記前置ワード線と前記分割ワード
線とを互いに並行に配置したことを特徴とする半導体メ
モリ装置。a plurality of memory cell groups in which a memory cell array in which memory cells are arranged in a matrix is divided and arranged in a column direction;
a memory cell group selection line provided corresponding to each of the plurality of memory cell groups to select a specific one of each memory cell group; and a row decoder to decode row address information of the memory cell group to be accessed. , a preword line connected to the output terminal of the row decoder and arranged across the plurality of memory cell groups, and a selection of the memory cell group selection line provided corresponding to each of the plurality of memory cell groups. A semiconductor memory device comprising a divided word line activated based on a signal and an output signal of the prefix word line, and wherein the prefix word line and the split word line are arranged in parallel with each other. .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61297065A JPS62142348A (en) | 1986-12-12 | 1986-12-12 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61297065A JPS62142348A (en) | 1986-12-12 | 1986-12-12 | Semiconductor memory device |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57095932A Division JPS58211393A (en) | 1982-06-02 | 1982-06-02 | Semiconductor memory device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62142348A true JPS62142348A (en) | 1987-06-25 |
JPH0347747B2 JPH0347747B2 (en) | 1991-07-22 |
Family
ID=17841762
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61297065A Granted JPS62142348A (en) | 1986-12-12 | 1986-12-12 | Semiconductor memory device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62142348A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01245489A (en) * | 1988-03-25 | 1989-09-29 | Hitachi Ltd | Semiconductor memory device |
US5369619A (en) * | 1990-10-24 | 1994-11-29 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor memory device reading/writing data of multiple bits internally |
-
1986
- 1986-12-12 JP JP61297065A patent/JPS62142348A/en active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01245489A (en) * | 1988-03-25 | 1989-09-29 | Hitachi Ltd | Semiconductor memory device |
US5369619A (en) * | 1990-10-24 | 1994-11-29 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor memory device reading/writing data of multiple bits internally |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0347747B2 (en) | 1991-07-22 |
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