JPS62140473A - 光電変換装置の製造方法 - Google Patents

光電変換装置の製造方法

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JPS62140473A
JPS62140473A JP60281671A JP28167185A JPS62140473A JP S62140473 A JPS62140473 A JP S62140473A JP 60281671 A JP60281671 A JP 60281671A JP 28167185 A JP28167185 A JP 28167185A JP S62140473 A JPS62140473 A JP S62140473A
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Koji Toda
耕司 戸田
Yasuo Niwa
康夫 丹羽
Koji Takahashi
幸治 高橋
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明は、鉛とクロムとを含む酸化物の薄膜によって溝
成される光電変換装置の製造方法に関する。
[発明の技術的背景とその問題点] 光電変換装置としてはP−n又はP−n−Pの導電型の
半導体の接合、又は半導体と金属との接合を使用した光
電変換装置か広く使用されていることは周知である。こ
れらの光電変換装置は光をあてると自ら起電力を発生す
るので外部起電力の必要はない。
また、本出願人は上述のような接合を使用することなく
、酸化物誘電体材料の研究を行っていた過程で誘電体材
料の光電変換現象を発見し、鉛とクロムとを含む酸化物
に導電層を形成して成る光電変換装置を先に特願昭53
−20583号(特願昭55−3587/l丹)として
出願した。この光電変換装置によると酸化物に入射した
光は酸化物内で電流に変換され、導電層を経て光電変換
装置の外部へ取出される。この酸化物が薄膜の場合は入
射光に対応して起電力を生じ光感応性を示し、また酸化
物の厚さが大ぎい場合は蓄電気効果を示した。
ところでこの出願で示されている光電変換装置の製造方
法は、酸化鉛と酸化クロムとを混合した後これらを焼結
して焼結体となし、この焼結体に導電層を形成するよう
にしている。
しかしながらこのような焼結法によって誘電体材料の薄
膜体を形成する場合はその厚さに限度がおり、また気孔
の少ない均一な薄膜体を形成するのが困難であるという
問題がある。またこの薄膜体は光透過性を有してないた
め、各種光電変換装置に適用する場合変換効率を高くす
ることができない。
[発明の目的] 本発明は、光透過性を有する薄膜体を形成できるように
しだ光電変換装置の製造方法を提供することを目的とす
るものである。
[発明の概要] 上記目的を達成するための本発明は、鉛とクロムとを含
む酸化物をターゲットとして用い真空中において上記鉛
とクロムとを含む酸化物の薄膜を形成し、次にこの薄膜
を少なくとも鉛を含む雰囲気内において熱処理すること
を特徴とするものである。
[発明の実施例] 以下本発明の詳細な説明する。
実施例1 出発原料として酸化鉛PbO及び酸化クロムCr2O3
を用いPb2CrO5の組成比となる如く秤量した。こ
の原料をポリエチレン製ポットで10〜15時間湿式混
合し、乾燥後400〜50O′Cにて2時間にわたって
仮焼成を行った。仮焼成後ホールミルにて10〜15時
間粉砕を行い粒径約1μ程度とした。この仮焼成粉末に
バインダーを7JOえ、1 ton / ciで加圧成
形した。更に成形体を650〜900′Cにて2時間焼
成し焼結体を得た。
次にこのPb2Crysから成る焼結体をターゲット(
蒸発源)として用い、次のように電子ビーム蒸着法によ
ってカラス基板上にPb2CrO5のa膜を形成した。
すなわち、電子ビーム蒸着装置の真空容器内に上記Pb
2CrO5焼結体を直径15.CM/I+、厚さ3.0
m+の円板状となしたターゲットとノコラス基板とを配
置し、カラス基板を350°C1電子銃の加速電圧を4
kvに保った状態で、容器内の真空度が1 X 10 
’Torrに達したとき蒸着を開始した。蒸着時間を約
1〜2時間に設定することにより、ガラス基板上に0.
5〜1.5μmのP b:z Cr Osの薄膜が形成
された。
尚、゛蒸着中の真空度は4 X 10−5TOr rに
保たれた。
次にこのようにして得られたカラス基板を、Pb2Cr
O5焼結粉末をアルミするつぼに保持した雰囲気内で、
450’Cで1.5時間熱処理を行なった。この熱処理
によって電子ビーム蒸着された非晶質状態のPb2Cr
O5薄膜は結晶化される。Pb2CrO5粉末はPb2
 CrO3簿膜がらPbの成分分離を防止するために用
いられる。
得られたPb2CrO5簿膜はオレンジ色を呈し、第1
図のような透過特性A及び反射特性Bを示す。
横軸は反射された光の波長(A)、F4f軸は透過率及
び反射率(%)を示している。
ここで透過特性Aは本発明によって得られる独自のもの
であり、従来のような焼結体の場合はこのような透過待
[生は得られない。
続いて、Pb2Crys薄膜上に電極となる第2図に示
すようなパターン及び寸法の一対の導電層1,2を、金
を真空蒸着することによって形成した。これによって、
ガラス基板、Pb2CrO5薄膜及び金層から構成され
た光電変換装置が得られる。この光電変換装置を第3図
に示すような測定装置を利用して光起電力を測定するこ
とによリ、第4図及び第5図のような特性が得られた。
第3図において、3は光源、4はチョッパー、5はモノ
クロメータ、6は試わ1.7はペンレコーダ、8は測定
回路でおる。第4図及び第5図において、横軸は時間(
分)及び光強度(mW/cni) 、縦軸は共に光起電
力(V)を示している。
第4図は光電変換装置に対して照射する光をオン、オフ
操作した場合の光起電力特性を示し、オンしたときは光
起電力はOから増加し、オフしたときは光起電力はO方
向に減少する。すなわち、光をオン、オフ操作すること
によって、光起電力を発生させ、又は消失させることが
できる。
第5図は光電変換装置に対して照射する光の強度を変化
させた場合の光起電力特性を示し、光の強度に比例して
光起電力は増加する。
第1図、第4図及び第5図のような本発明の特性を光起
電力素子、光センサ素子などに適用すれば、その光透過
性を利用することにより素子動作の変換効率を高くする
ことができる。これは受光部が透過型及び反射型のいず
れにおいても同様である。これらの作用、効果は本発明
によれば、光透過性を有するPb2CrO5薄膜体を形
成することができるという事実に基いている。しかも気
孔がほとんどない均一な薄膜を形成することができる。
実施例2 実施例1と同一組成比、同一条件てガラス基板上にPb
2Cr05N膜を形成した。次にこのようにして得られ
たカラス基板を温度条件を変えて熱処理を行ない、同一
条件で一対の導電層を形成して光電変換装置を形成した
得られた光電変換装置の光感応性を測定したところ、上
記熱処理温度が150′以下では光感応性が得られない
ことを確かめた。
実施例3 実施例1と同様な出発原料を用いてPb5CrO8及び
PbCrO4の組成比となる如くそれぞれ焼結体を形成
し、これらをターゲットとして用いてそれぞれPb5C
rOe11膜及びPbCrO4薄膜を形成した後、熱処
理及び導電層を形成して2種類の光電変換装置を形成し
た。いずれの光電変換装置においても光感応性が得られ
ることを確かめた。
実施例4 実施例1と同様にPbO及びCr2O3を出発原料とし
て用い、両者の比率を順次変化させて配合して種々の組
成比のクロム酸鉛の焼結体を形成した。これらをターゲ
ットとして種々のクロム酸鉛薄膜を形成し、熱処理後導
電層を形成して複数種類の光電変換装置を形成した。こ
れらの光電変換装置の光起電力特性を測定したとこう次
の結果が得られた。すなわち、PbOが99.5mo1
%以上の薄膜の場合及びCr2O3が7QmO1%以上
の薄膜の場合は光起電力はほとんど発生しなかった。な
お、PbOとCr2O3との組成比において、PbCr
O4よりCr2O3が過剰な場合はPbCrO4とCr
2O3との混晶が形成されて存在することが確かめられ
た。同様にして、Pb5croeよりPbOが過剰な1
月合にはPb5CrysとPbOとの混晶が、また中間
領域ではPbO,Cr2O3、Pb2 Crys 、P
bs Croe及びPbCrO4の何らかの組合せの混
晶がそれぞれ存在することが確かめられた。
ざらに、光起電力特性にヴれているのはPb2CrO5
、Pbs CrO3及びPbCrO4の単一の酸化物に
近い薄膜の場合であることを確かめた。
以上の各実施例において、Pb2 CrO3のような鉛
とクロムとを含む酸化物の形成手段は一例として電子ビ
ーム蒸着法の場合について述べたが、これに限らず他に
もスパッタリング法、イオンビーム蒸着法などのその他
の真空中における薄膜形成手段を用いることができ、こ
れによっても同様な作用、効果を得ることができる。ま
た、導電層の材料としては一例として金の場合について
述べたが、他にもアルミニウム、銅などの材料を用いる
ことができる。
薄膜を形成すべき基板としてもガラスに限ることなく他
の材料を選ぶことができる。このように基板上に薄膜を
形成するようにすれば、基板を含めた薄膜体の厚さに制
約を受けることなく気孔の少ない均一な薄膜を有する光
電変換装置を得ることかできる。
[発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、真空中において鉛
とクロムとを含む酸化物の薄膜を形成し、次にこの薄膜
を熱処理するようにしたので、次のような効果か得られ
る。
(1)光透過性を有する薄膜か(昇られるので、光電変
換装置の動作の変換効率を高めることかできる。
(2)気孔のほとんどない均一な薄膜を形成することが
できるので、高品質及び高信頼度の充電変換装置を得る
ことができる。
(3)真空技術の利用によって大間生産が可能なので、
ローコストで光電変換装置を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明実施例によって得られる光電変換装置の
透過率及び反射率を示す特性図、第2図は本発明実施例
によって得られる光電変換装置の電4へを示すパターン
図、第3図は本発明実施例によって得られる光電変換装
置に対する測定装置を示す構成図、第4図及び第5図は
共に本発明実施例によって得られる光電変換装置の光起
電力を示す特性図である。 1.2・・・導電層、3・・・光源、4・・・チョッパ
ー、5・・・モノクロメータ、6・・・試料、7・・・
ペンコーダ、8・・・測定回路。 時間(分)− 渚分す(6w/江2)−

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)鉛とクロムとを含む酸化物をターゲットとして用
    い真空中において上記鉛とクロムとを含む酸化物の薄膜
    を形成し、次にこの薄膜を少なくとも鉛を含む雰囲気内
    において熱処理することを特徴とする光電変換装置の製
    造方法
  2. (2)前記鉛とクロムとを含む酸化物の薄膜をガラス基
    板上に形成することを特徴とする特許請求の範囲第1項
    記載の光電変換装置の製造方法。
  3. (3)前記鉛とクロムとを含む酸化物の薄膜上に一対の
    導電層を形成することを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の光電変換装置の製造方法。
  4. (4)前記鉛をPbOに換算して30〜99.5mol
    %及びクロムをCr_2O_3に換算して0.5〜70
    mol%の組成比を有する酸化物をターゲットとして用
    いることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光電
    変換製造方法。
  5. (5)前記酸化物としてPb_5CrO_8、PB_2
    CrO_5及びPbCrO_4の少なくとも一種を含む
    ものをターゲットとして用いることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載の光電変換装置の製造方法。
  6. (6)前記酸化物として板状に形成された焼結体磁器を
    用いることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光
    電変換装置の製造方法。
JP60281671A 1985-12-14 1985-12-14 光電変換装置の製造方法 Expired - Lifetime JPH0620157B2 (ja)

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JP60281671A JPH0620157B2 (ja) 1985-12-14 1985-12-14 光電変換装置の製造方法
US06/873,881 US4724157A (en) 1985-12-14 1986-06-13 Method of manufacturing a photoelectric conversion device
US07/108,330 US4835007A (en) 1985-12-14 1987-10-14 Method of manufacturing a photoelectric conversion device
US07/108,180 US4781767A (en) 1985-12-14 1987-10-14 Photoelectric conversion device

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02150074A (ja) * 1988-12-01 1990-06-08 Koji Toda 光電流発生装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH02150074A (ja) * 1988-12-01 1990-06-08 Koji Toda 光電流発生装置

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