JPS62123423A - 照明光学系 - Google Patents

照明光学系

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JPS62123423A
JPS62123423A JP60263222A JP26322285A JPS62123423A JP S62123423 A JPS62123423 A JP S62123423A JP 60263222 A JP60263222 A JP 60263222A JP 26322285 A JP26322285 A JP 26322285A JP S62123423 A JPS62123423 A JP S62123423A
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light
optical axis
optical integrator
light source
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Projection-Type Copiers In General (AREA)
  • Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の技術分野) 本発明は、所定のパターンを投影するための照明光学系
、特に、ICパターンをマスク(レティクル)からウェ
ハーへ転写するための照明光学系に関する。
(発明の背景) 縮小投影型露光装置や等倍投影型アライナ−等の露光装
置で使用される従来の照明光学系においては、像側(ウ
ェハー側)に関して照明光のt光線が光軸とモ行である
こと、つまり像側から見て射出瞳が無限遠にあるような
テレセントリックな光学系であることが必要である。
その理由は、像側にテレセントリックでない場合には、
焦点深度内でのデフォーカスにより像面が移動したとき
、像の大きさが犬きくなったり、逆に縮んだりして投影
倍率の誤差を生じてしまうからである。
近年、ますます高密度化が進む半導体集積回路のパター
ンの転写に際して、投影されるパターンの最小線幅が微
細化するとともに、パターンの重ね合せのために極めて
高い精度が必要とされてきているが、このような最小線
幅の微細化およびパターンの重ね合せ精度に対して、前
記像の大きさの変化が非常に有害な要因となる。そこで
、縮小投影型露光装置等に用いられる照明装置では、像
側での照明光の主光線と光軸とのモ行度(以f。
テレセントリック性と称す)をなるべく良くしておく必
要がある。
このテレセントリ7り性に関しては、縮小投影型露光装
置に用いられる照明装置だけではなく、プロキシミティ
方式の露光装置に用いられる照明装置に関しても同様の
ことが言える。この場合には、ウェハーに近接して置か
れたマスク面に照明光の一1三光線力< 、iTj直に
当たる必要があり、例えば特刈閉59−160134号
公報で示すように、オプティカルインテグレータの2次
光源側の面がコンデンサーレンズの前側焦点に位置させ
である。
しかしながら、像側(ウェハー側)に関して照明光の主
光線が光軸と上行となるように、つまり像側から見て射
出瞳が無限遠にあるようなテレセントリックな光学系と
なるように、オブテイカルインテグレータの2次光源側
の面を配置しても、オプティカルインテグレータに入射
する光束の強度分布にムラがある場合には、照明される
領域に場所によっては前記テレセントリック性がずれて
しまうという問題点があり、またオブテイカルインテグ
レータ付近に可変絞りを設けた場合には。
絞りの大きさによってテレセントリック性がずれてしま
うことがあるという問題点があった。
(発明の目的) 本発明は、このような従来の問題点に着目して成された
もので、オプティカルインテグレータに入射する光束の
強度分布にムラがある場合でも、テレセントリック性が
ずれたりすることがなく、また可変絞りを有する光学系
についても、絞りの大きさによってテレセントリック性
がずれたりすることがない照明光学系を提供することを
目的としている。
(発明のa要) かかる目的を達成するための本発明の要旨は。
光源もしくは光源像の位置に焦点面を有するコリメータ
ーレンズと、該コリメーターレンズによるモ行光束中に
配置され、多数の2次光源を形成し、該2次光源からの
多光型により物体面を重畳的に照明するオプティカルイ
ンテグレータと、該オプティカルインテグレータの射出
面付近を射出瞳として形成するコンデンサーレンズとを
備えた照明光学系において、該オプティカルインテグレ
ータの入射面における光束の強度分布が不均一性を有す
る場合、該オプティカルインテグレータの位置を、前記
光束の強度分布が均一である場合の位置に対して光軸方
向あるいは光軸と垂直な方向に変移して構成し、前記光
束の強度分布が不均一・性を有していても該オプティカ
ルインテグレータの移動によりテレセントリyり性を維
持したことを特徴とする照明光学系に存する。
そして、F記照明光学系では、オプティカルインテグレ
ータの入射面における光束の強度分布に応じて、該オプ
ティカルインテグレータを光軸方向あるいは光軸と垂直
な方向に移動した構成にすることにより、前記光束の強
度分布の不均一性に対してもテレセントリック性が保た
れるように成っている。
また、6丁変絞りを有する照明光学系の場合には、該可
変絞りの大きさに応じてオプティカルインテグレータを
光軸方向あるいは光軸と屯直な方向に移動することによ
り、テレセンドリンク性が保たれるように構成すること
もできる。
(実施例) 以ド5図面に基づいて本発明の一実施例を説明する。
第1図は一実施例に係る縮小投影型露光装置に用いられ
る照明光学系を示している。
第1図に示す照明光学系においては、光源としテ水銀ラ
ンプ1が使用されており、該水銀ランプlの周囲には、
水銀ランプ1からの光線を第2焦点3に結像する楕円鏡
2が配置されている。
この第2焦点3に前側焦点面を−・致させてコリメータ
ーレンズ4が配置されている。コリメーターレンズ4か
らの刊行光束中には、水銀ランプ1の中心部の穴によっ
て光のこない部分、すなわち光束の中抜は部分(図の斜
線で示した部分)をなくすためにコーン状プリズム5が
配置されている。このコーン状プリズム5は、コリメー
ターレンズ4からの平行光束の幅を縮小して光束の中抜
は部分をなくしている。
コーン状プリズム5からの平行光束中には、第2図(a
)に示すようなオプティカルインテグレータ6が配置さ
れている。このオプティカルインテグレータ6は第2図
(b)に示すような四角柱状の光学要素60を集合して
できている。各光学要素60はその空気換′H長が入射
面60aおよび射出面60bの焦点距離と等しくなって
いる。しだがって、各光学要素60の入射面60aに入
射したf行光束は、各光学要g60の射出面60bに焦
点を結び、各光学要素60の射出面60bには2次光源
像がそれぞれ形成される。すなわち、オプティカルイン
テグレータ6の入射面6aに入射した平行光束は、その
射出面6bに多数の2次光源像として結像される。
該オプティカルインテグレータ6の射出面6bの近傍に
は絞り7が設けられており、該オプティカルインテグレ
ータ6と絞り7とは光軸方向および光軸に垂直な方向に
一体的に移動可能に成っている。
絞り7の後方にはコンデンサーレンズ8およびマスク9
が配置されており、該マスク9はコンデンサーレンズ8
に関してオプティカルインテグレータ6の入射面6aと
共役な位置に配置されている。したがって、オプティカ
ルインテグレータ6の各光学要素60の入射面60aは
マスク9のLに重ね合せて結像され、これによってマス
ク9が均一に照明されるように成っている。
該マスク9の後方には、マスク9をウェノ\−13に投
影する投影レンズ10.12が配置され、該投影レンズ
10.12間には対物レンズ絞り11が配置されている
。ここで、絞り7はコンデンサーレンズ8および投影レ
ンズ前群10に関して対物レンズ絞り11と共役な位置
に配置されており、かつ投影レンズ後群12の前側焦点
は対物レンズ絞り11とほぼ一致している。
また、絞り7の像がコンデンサーレンズ8.投影レンズ
前群10を経て対物レンズ絞り11の付近に球面収差な
く結像するように、該コンデンサーレンズ8が設計され
ている。また、投影レンズ後群12についてもウェハー
13の側から入射する平行光線について球面収差が1・
分補正されているものとする。
ヒ記構成を有する照明光学系では、水銀ランプ1を出た
光線は楕円鏡2によって一度その第2焦点3の結像し、
コリメーターレンズ4によって平行光束となる。この平
行光束は、コーン状プリズム5によってその幅を縮小さ
れ、これによって図の斜線で示す光束の中抜は部分がな
くされてオプティカルインテグレータ6の入射面6aに
入射する。
各光学要素600Å射面60aに入射した平行光束は、
各光学要素60の射出面60bに焦点を結び、各光学要
素60の射出面60bには2次光源像がそれぞれ形成さ
れる。すなわち、オプテイカルインテグレータ6の射出
面6bに多数の2次光源像が形成される。該多数の2次
光源像からの多光束によってマスク9が重畳的に照明さ
れ、これによってマスク9が均一に照明される。そして
、マスク9は投影レンズio、12によってウェハー1
3に投影される。
ところで、前記絞り7はコンデンサーレンズ8および投
影レンズ前群10を経て対物レンズ絞り11の付近に結
像され(この結像倍率をβpとする)、かつ投影レンズ
後群12の前側焦点を対物レンズ絞り11とほぼ一致さ
せであるので、ウェハー13側から見た対物レンズ絞り
11の像は無限遠に見え、すなわちウェハー13側に関
して照明光の1=光線が第1図の破線で示すように光軸
とf行となり、テレセントリックに照明されるはずであ
る。
ところが、L記照明光学系において、第5図に示すよう
な強度Iの分布が一様でない平行光束がオプティカルイ
ンテグレータ6に入射した場合には、以下に詳しく述べ
る理由からテレセントリック性がくずれてしまう。
絞り7の像を対物レンズ絞り11の位置に球面収差なく
結像した状態を該対物レンズ絞り11の部分で見たスポ
ットダイアグラムが第3図で示されている。ここで、第
3図(a)はウェハー131゜で像面の端の方に結像す
る光線を選んだときのもので、第3図(b)はウェハー
13hで像面の中心に結像する光線を選んだときのもの
である。すなわち、第3図はオプテイカルインテグレー
タ6の2次光源側、つまりオプティカルインテグレータ
6の射出面6bの共役像を見たものであり、第3図にお
ける各スポットは前記各光学要素60の射出面60bに
結像した2次光源の対物レンズ絞りfml二での像に対
応する。
第3 [4(a) 、 (b)のいずれの場合において
も、スポットダイアグラムは中心に対して幾何学的に対
称に見える(球面収差が補+Eされている)が、第3図
(a)では、第3象限(左トの領域)の光源像のスポッ
トダイアグラムと第1象限(右上の領域)の光源像のス
ポットダイアグラムとを比べると、第3象限の方がスポ
ットの数が少なく、光HHが少ない(この場合、光量は
スボ・ノドの較故に比例するように計算し2である)。
そこで、第3図において光量の改心位置を′O”で示し
である。
先付の改心位置の定義を次のように定めた。
S、”  I(り dx ここで、CM xは光量の改心のX座標、I (x)は
光量の重心を見る面でのX方向における光束の強度分布
、Rは光Uの重心を定義する有効範囲である。
該(1)式から光量の重心のx、y座標CMx。
CM yを求めて光量の改心位置を0”でプロットした
第3図を見ると、第3象限の光計が少ない分だけ光量の
重心位置が第1象限の方にずれていることがわかる。
主光線の定義を光束の強度分布の中心とすると、第3図
(a)の場合は、光量の重心が光軸と一致せず、したが
ってウェハー13上で端の方に結像する光線に関しては
前記テレセントリック性がずれていることになる。
この原因について第4図および第5図を参照して説明す
る。第4図は第3図(a)で示した一点鎖線14を含む
子′F面で切った断面の光路図である。
第4図で光線a、bはマスク9(また、マスク9と共役
なウェハー13)hの光軸から離れた点15に結像する
もので、第3図(δ)の場合に対応している。光線aは
第3図の第1象限の光線に。
光線すはfJS3図の第3象限の光線にそれぞれ対応し
ており、光線aの方が光線すよりも強度が太きい。
この理由について第5図を用いて説明する。
第5図は第4図のオプティカルインテグレータ6付近を
拡大したもので、前記光線a、bがオプティカルインテ
グレータ6に入射するところから示しである。ここで、
該オプティカルインテグレータ6の各光学要素60は光
軸16に関して対称に配置されているものとし、かつ該
オプティカルインテグレータ6に入射する光束の強度分
子ijは。
図に示すように光軸16に関して対称であり、光軸16
から離れるにしたがって減衰しているものとする。
オプティカルインテグレータ6の入射面6aはマスク9
と共役であるので、第4図で7Rすようにマスク91−
のF方の点15に結像する光線は、第5図に示すように
オプティカルインテグレータ6の各光学要素60の入射
面においてに方部を′dJ過した光である。そこで、第
5図において光軸16から2番目の光学要素60A、6
0B C図の斜線で示した光学要素)のJ−刃部に入射
した光線a。
bについて考察すると、入射lll16aでは光5iJ
aの方が光線すより光軸16に近ぐ、したがっ−c光M
Aaの強度Iaの方が光線すの強度Ibよりも大きい。
このことは一対の光学要J60A、60Bについてだけ
ではなく、光軸16に関して対称な各一対の光学要素に
ついても同様のことが言えるので、結局、第4図で示す
ようにマスク9にのド方の点15を通過する光について
は、光軸16よりも一ド側にある各光学要素60を通過
したすべての光線(記号aで代表される光線)は、光軸
16よりもL側にある各光学要素60を通過したすべて
の光線(記号すで代表される光線)よりも強度が強く、
したがって第3図(a)で示したように光量のm心が光
軸と一致しない。
また、マスク9hの中心(光軸位置)に結像する光線は
、オプティカルインテグレータ6の入射面6aで各光学
要素60の中心を通るので、光軸16に関して対称に配
置されたオプティカルインテグレータ6の内の光軸16
よりもL側にある各光学深索60を通過する光Laは、
光軸16よりも下側にある各光学霊素60を通過する光
量と同じになる。従って、この場合には光(&¥の改心
のずれは生じない。
このように1第5図に示すような強度分布が−・様でな
いモ行光束がオプティカルインテグレータ6に入射した
場合には、マスク9(ウェハー13)Lで光軸16から
敲れた位置に結像する光線については、光量の重心位置
が光軸16からずれてしまい、その結果としてウェハー
13側にて照明光のL光線が光軸16と平行にならなく
なってしまい、テレセントリック性がくずれる。
これらのことについてさらに考察を加える。第6図は前
記オプティカルインテグレータ6を入射面8al)[か
ら見た図である。マスク9(ウェハー13)l、の中心
(光軸位置)に結像する光線はオプティカルインテグレ
ータ6の各光学’ff 未60の中心に入射し、この入
射する位置を第6図において“ψ”で示しである。また
、マスク9(ウェハー13)上で光軸16から離れた位
置に結像する光線は各光′7要X60に中心からずれた
点に入射し、この入射する位置を第6図において”×”
で示しである。これは、上述したようにオプティカルイ
ンテグレータ6の入射面6aとマスク9(ウェハー13
)とが共役だからである。第6図で各光学要素60の“
φ”や“×”を通過した光線はその射出面6bで2次光
源となるが、入射面6aで見た光量の分7σは“・パか
ら“X”に右上に平行移動しているので、射出面6bで
見た2次光源の光層分布は、第7図の矢印で示すように
左下に平行移動することになる。
この移動沿δは、ウェハー13とオプティカルインテグ
レータ6の入射面6aとの倍率関係をβlとし、ウェハ
ー13Lでの像点の中心からの距離をhとすると、 δ=h・βl            ・・・・・・・
(2)で表わされる。
ところで、オプティカルインテグレータ6の入射面6a
に入射する光束の実際の強度分布は第8図に示すような
形になっている。この図において、縦軸は光強度を、M
IJJAbは光軸からの距離をそれぞれ表わしている。
第8図に示すように、前記コーン状プリズム5を設けた
ことにより光束の中抜は部分はないが、水銀ランプ1の
光源像の大きさが有限であることなどにより、やや中央
部がへこんだ形になっている。
第8図に示す強度分布を簡単のためにガウス曲線で近似
して考えてみると、 1 (X)  = C6e  a’         
   00.110.(3)となる。
ここで、上述したようにウェハーl 3 にで光軸16
からhだけ離れた位置に結像する点から見た射出瞳は、
絞り7の位置、すなわちオプティカルインテグレータ6
の射出面6 b l二でその強度分71】がδ(=h・
β1)だけずれている。
そこで、強度分4jがδだけずれたときに光;a−の重
心位置がどれだけずれるかを見積もると次のようになる
餐]:  6−aL”“ ];式でRに比べてδが小さいとすると。
−δ・g (R) と表わされる。ここで、g (R)は筒中な考察により
常にEffi、 Hに関して単調増加である。
この(4)から、先回の重心位置のずれ丑、すなわち、
前記テレセントリック性のずれ量は画角(ウェハー13
I:、での結像点の位置、すなわちh=δ/β1)に比
例し1絞り7の径Rについて増加関数であることがわか
る。
絞り7の径Rを大きくすることは、照明光のσ値を大き
くすることであり、このσ値は次のように定義される。
σ=(照明光学径のN、A、)/ (投影レンズの+4
.A−)実際にテレセンドリンク性のずれはをウェハー
131、での画角、σ値(絞り7の径R)を変えてシミ
ュレーションしたものを第9図に示しである。
第9図に示すように、画角が小さい(δが小さい)とき
には、(4)式で示すように画角(L:y−δ)が大き
くなるに従ってテレセントリック性のずれら1が大きく
なる。該テレセントリック性のずれ墨は、光軸と主光線
との傾き(rad)で示しである。
ところで、テレセントリック性のずれ笛が画角(にδ)
にほぼ比例していることは、それを補正することに関し
て好都合なことである。
瞳の光a k心が画角に比例してずれることが、画角に
比例してテレセントリック性のずれが起ることの原因で
あるが、いま瞳の光だ重心が画角によらず光軸りにある
ような仮想的な瞳を考える。
投影レンズ後群12の前側焦点面(第11図でAの位置
)にできる実際の瞳像の光罎重心が画角に比例してずれ
るということは、前記仮想的な瞳が第11図でAの位置
からBの位置までデフォーカスしたことと等価である。
第11図において、投影レンズ後群12の焦点距離をf
2、ウェハー13−Lでの像の位置(画角)を光軸から
hとし、また、その画角における実際の瞳像の光!3.
毛心0ずれをΔy、仮想的な瞳の、実際の瞳像からのず
れ漬(デフォーカス酸)をΔZとしである。(第11図
の場合、Δ2はAの位置を原点に左に正の値をとる) このデフォーカス清ΔZは、 Δz = f 2/ (h/Δy−1)    −・−
(5)で表わされる。
前記(2)、(4)式によりΔyを Δy=βl−h−g(R) として北記(5)式に代入すると。
Δz=f2/(1/β1・g(R)−1)・・・(8)
となる。
従って、に記(6)式で表わされるデフォーカス酸ΔZ
を補正してやれば(第11図でAの位置にできた実際の
瞳像を右の方へΔZだけ移動してやれば)、画角に比例
したテレセントリック性のずれはなくなる。具体的には
、対物レンズ絞り11での絞り7の倍率がβPであるか
ら、前記オプティカルインテグレータ6と、該オプティ
カルインテグレータ6と一体の絞り7とを−ΔZ/βP
2だけ移動すればよい。
また、l;記(6)式をみると、Δ2の丑はRの関数、
つまり、照明光学系のσ値によって変る。従って、絞り
7の大きさを可変にしてσ値を変えられるような照明光
学系の場合には、σ値によって17ij記オプテイカル
インテグレータ6および絞り7を光軸に沿って前後に移
動させてやれば、常にテレセンドリンク性のずれは起ら
ない。
なお、オプティカルインテグレータ6の移動によって入
射面6aでの強度分7Ijが変化し、これに伴ってマス
ク9Eでの照明ムラが若ト変化する場合があるので、そ
の場合には、コーン状プリズム5とオプティカルインテ
グレータ6との間に光路補正用のモ行F面ガラスを挿入
することにょって、照明ムシを防I卜することが可能で
ある。
また、オプティカルインテグレータ6を実際に前後動さ
せる代りにオプティカルインテグレータ6とコンデンサ
ーレンズ8との間にモ行モ面ガラスを挿脱してもよい。
以1−述べたようにして補正したテレセントリック性の
ずれと画角との関係を第10図で示しである。この図に
おいて、絞り7の開口径を変えて前記σイ1aをσ−0
,5にした場合と、σ=0.85にした場合の2種類が
示されている。
第9図と第10図とを比べてみると、オプティカルイン
テグレータ6の移動によって前記テレセントリック性の
ずれが非常に良く補正されているのがわかる。
また、第12図は、σ=0.5としてテレセント)ノン
ク性のずれを補正した後に、対物レンズ絞り11の部分
で見た瞳の像のスポットダイアグラムを示している。同
様に、第13図は、σ;0.85としてテレセントリー
2り性のずれを補正した後に、対物レンズ絞り11の部
分で見た瞳の像のスポットダイアグラムを示している。
ここで、第12図および第13図は、トニ記第3図(a
)の場合と同様に、ウェハー13)−、で端の方に結像
する光線を選んだときのものである。
第12図および第13図に示すように、オプティカルイ
ンテグレータ6の射出面6bに形成される2次光源像が
、第3図(a)で示した場合に比べて全体的に左下(第
3象限側)に移動しており、この移!!!]iは前記テ
レセントリック性のずれについての補正鼾の大きい第1
3図の場合の方が第12図の場合より大きい、また、第
12図および第13図に示すように、テレセントリック
性のずれを補正した後の光φの改心位置は“O”で示し
たように光軸と一致している。
ここまでの説明においては、オプティカルインテグレー
タ6の入射面6aでの光束の第8図のごとき強度分布を
ガウス曲線で近似した場合について説明したが、その他
の分布形状であっても該入射面6aでの光束の強度分布
が光軸に対称で、δが比較的小さい場合には、光量の爪
心位2t CM xは近似的にδに比例するので、−ヒ
に述べてきたことと同様にテレセントリック性の補正が
可能である。
次に、前記オプティカルインテグレータ6および絞り7
の移動方向について説明する。
オプティカルインテグレータ6の入射面6aでの光束の
強度分布が第5図で示すように光軸から離れるに従って
減少するような場合には、該オプティカルインテグレー
タ6および絞り7を水銀ランプ1から離れる方向(第1
図で右方向)に移動すればよい、なぜなら、(4)式に
おけるg (R)が正であり、従って(6)式のΔZの
値がiEになるからである。また、該入射+m6aでの
光束の強度分布が第14図で示すように光軸から離れる
に従って増加するような場合には(g(R)<OでΔ2
くOだから)、該オプティカルインテグレータ6および
絞り7を水銀ランプ1に近づける方向(第1図で左方向
)に移動すればよい。
また、入射面6aでの光束の強度分布が第15図で示す
ように傾いている場合には、その強度分布を f(x)=ax+b と近似すると、光量の改心位2CMKはとなり、とくに
その傾きが大きくない場合には、b/a〉)δより CMxχ□・R・・・・・・・(7) b となって、画角によらない一定値となる。
このような場合には、オプティカルインテグレータ6お
よび絞り7を光!b16と眞直な方向に移動すれば前記
テレセントリック性のずれが補+IF、される。
また、前記σ値(絞り7の経R)を変えた場合、前記オ
プティカルインテグレータ6を前後動させてテレセント
リック性のずれを補正したが。
該オプティカルインテグレータ6を移動する代りにσ値
に応じてコリメーターレンズ4の焦点距離を変えるよう
に構成してもよいし、またコーン状プリズム5とオプテ
ィカルインテグレータ6との間にアフォーカル光学系を
挿入してその倍率を変換するように構成してもよい。
すなわち、入射面6aでの光束の強度分布をσ値に応じ
て拡大あるいは縮小することにより、σ値を変えても光
漬の改心位置CMxが変化しないようにする。これは、
(4)式でg (R)の中でR(にσ値)を変えるとき
にaを変えてやり、結果としてg (R)の萌を変えな
いことに相当する。そして、aを変えることはコリメー
ターレンズ4の焦点距離やアフォーカル系の倍率を変え
ることによって実現できる。
第16図にコリメーターレンズ4の焦点距離を変えたと
きの光束の強度分布を、第17図にそのときの光学系の
図を示しである。なお、第17図(a)、(b)のコリ
メーターレンズ4は構成レンズの位置を変えることによ
り、その焦点距離が可変になっている。第16図におい
て、実線はσ値が小さく、絞り7の半径をR1とした場
合を1点線はσ値が太きく、絞り7の平[をR2とした
場合をそれぞれ示している。これと対応して第17図(
a)はコリメーターレンズ4の焦点距離が短くてσ値の
小さい場合を、第17図(b)はコリメーターレンズ4
の焦点圧着が長くてσ値が大きい場合なそれぞれ示して
いる。この場合においても、当然のことながら、オズテ
ィカルインテグレータ6および絞り7は予めテレセント
リー2り性が良くなるような位置にセ・・ノドされてい
る。
尚、1.記の説明では、レチクルl−のパターンを投影
対物レンズによってウニへ十に投影する場合について述
べたが、投影対物レンズを用いる場合に限らず、所謂プ
ロキシミティ方式の場合にも、同様にオプティカルイン
テグレータ6に入射する光束の強度分布に不均一性が有
ってもテレセントリック性を維持することが可能である
。この場合には、コンデンサーレンズ8の光源側焦点位
置にオプティカルインテグレータの射出面が位置する状
態を基準(光束の強度分布が均一である場合)として、
オプティカルインテグレータを強度分布の状態に応じて
変位した位置に配置する構成とすれば良い。
(発明の効果) 本発明に係る照明光学系によれば、オプティ力ルインテ
グレータに入射する光束の強度分布にムラがある場合で
も、該光束の強度分布に応じて該オプティカルインテグ
レータを光軸方向あるいは光軸と昨直な方向に移動する
ことにより、非常に良いテレセントリック性を保つこと
ができ、また、可変絞りを口する照明光学系の場合には
、該可変絞りの大きさに応じてオプティカルインテグレ
ータを光軸方向あるいは光軸と昨直な方向に移動するこ
とにより、テレセンドリンク性を保つことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図から第17図は本発明の−・実施例を示しており
、第1図は照明光学系の概略的な配置図。 第2図(a)はオプティカルインテグレータの全体を示
す斜視図、第2図(b)はオプティカルインテグレータ
を構成する光学要素の−・つを示す斜視M   笛 9
 【J !斗   卆 1.  k ・/  L  1
1 −、  M  ←1 の 上i 丁 1市 Lヂオ
プティカルインテグレータの射出面を絞りの位置で見た
ときのスポットダイアグラムで、第3図(a)はマスク
Lで光軸から離れた位置に結像する光線についてのスポ
ットダイアグラム、第3図(b)はマスクにの光軸位置
に結像する光線についてのスポットダイアグラム、第4
図は第3図(a)の一点鎖線を含む子午面で切った断面
での光路図、第5図は第4図の=一部を拡大して示した
説明図、第6図はオプティカルインテグレータの入射面
での画角ごとの光線の入射点を示した説明図。 第7図はオプティカルインテグレータの射出面側での先
着の移動を示した説明図、第8図はオプティカルインテ
グレータの入射面での光束の強度分布図、第9図は補正
前における画角とテレセンI・リー、り性のずれ昨との
関係を示すグラフ、第10図は補正後における画角とテ
レセントリック性のずれ諺との関係を示すグラフ、第1
1図は第1図の一部を拡大した説明図、第1z図および
第13図はテレセントリック性の補し!E後に、マスク
Lで光軸から敲れた位置に結像する光線について、オプ
ティカルインテグレータの射出面を絞りの位とで見たと
きのスポットタイアゲラムで、第12図はσ=0.5の
場合のスポットダイアグラム、第13図はσ=0.85
の場合のスポットダイアグラム、第14図、第15図お
よび第16図はそれぞれオプティカルインテグレータの
入射面での光重の強度分布図、第17図(a)、(b)
はコリメーターレンズの焦点距離が変った場合の光路の
部分図である。 1・・・水銀ランプ(光源) 3・・・第2焦点(光源像の位置) 4・・・コリメーターレンズ 6・・・オプティカルインテグレータ 6a・・・入射面      6b・・・射出面7・・
・絞り(可変絞り) 第1図 ((2)     (b) 第2図 第4図 第6図 第7図 第8図 第9図     第70図 第1f図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)光源もしくは光源像の位置に焦点面を有するコリ
    メーターレンズと、該コリメーターレンズによる平行光
    束中に配置され、多数の2次光源を形成し、該2次光源
    からの多光束により物体面を重畳的に照明するオプティ
    カルインテグレータと、該オプティカルインテグレータ
    の射出面付近を射出瞳として形成するコンデンサーレン
    ズとを備えた照明光学系において、該オプティカルイン
    テグレータの入射面における光束の強度分布が不均一性
    を有する場合、該オプティカルインテグレータの位置を
    、前記光束の強度分布が均一である場合の位置に対して
    光軸方向あるいは光軸と垂直な方向に変移して構成し、
    前記光束の強度分布が不均一性を有していても該オプテ
    ィカルインテグレータの移動によりテレセントリック性
    を維持したことを特徴とする照明光学系。
  2. (2)前記オプティカルインテグレータの射出面近傍に
    可変絞りを設け、該可変絞りの大きさに応じて該オプテ
    ィカルインテグレータを光軸方向あるいは光軸と垂直な
    方向に移動可能に構成したことを特徴とする特許請求の
    範囲第1項に記載の照明光学系。
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