JPS62119849A - 電子ビ−ム装置 - Google Patents

電子ビ−ム装置

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JPS62119849A
JPS62119849A JP60260327A JP26032785A JPS62119849A JP S62119849 A JPS62119849 A JP S62119849A JP 60260327 A JP60260327 A JP 60260327A JP 26032785 A JP26032785 A JP 26032785A JP S62119849 A JPS62119849 A JP S62119849A
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electron beam
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Akio Ito
昭夫 伊藤
Kazuyuki Ozaki
一幸 尾崎
Kazuo Okubo
大窪 和生
Toshihiro Ishizuka
俊弘 石塚
Yoshiaki Goto
後藤 善朗
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の概要〕 本発明は電子ビーム装置に係り、微細な構造を有する半
導体ディバイスのエネルギー分析を行うための電子ビー
ム装置の電極構造の改良を行うもので、従来の電磁コイ
ル構成の対物レンズを静電レンズとすると共にエネルギ
ー分析用電極を上記静電レンズに兼用した電子ビーム装
置を提供するものである。
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子ビーム装置の電極構造の改良に係り、特に
従来一般に用いられている電磁型対物レンズを静電型の
対物レンズとし、該対物レンズをエネルギー分析電極に
用いた電子ビーム装置に関する。
〔従来の技術〕
近時、半導体ディバイスが高密度化され、そのパターン
は益々微細化され、ディバイスの試験のために機械的な
プローブを用いて試験を行うことが困難となってきてい
る。そのため半導体ディバイスのチップに対し非接触で
試験を行うための種々のマイクロアナライザが提案され
2例えばX線マイクロアナライザ、イオンマイクロアナ
ライザ。
電子ビームを用いたものなどが知られている。これらの
うち電子ビームを試料である半導体ディバイスに照射し
、2次電子を取り出してエネルギー分析を行う電子ビー
ム装置がクローズアップされている。
このような電子ビーム装置の従来構成を第5図について
説明する。
第5図で1は全体として電子ビーム装置を示し。
2はコラムで該コラム内には電子銃3.アノード4、コ
ンデンサレンズ5.ビーム偏向コイル6゜対物レンズ9
.エネルギー分析器11からなるメツシュ状の半球形状
のエネルギー分析電極があり。
これら電極やレンズ系を通してx、Y方向に摺動自在と
なされたステージ13上に半導体ディバイスである試料
12が載置され、この試料に電子ビームが照射される。
ビーム偏向コイル6は偏向系7からの信号でビームを偏
向させ、更に2次電子検出器10はエネルギー分析器1
1を通じて試料12からの2次電子を検出し、該検出出
力はブラウン管8等にて観測される。また、ステージ上
に載置された試料12への電源電圧および信号電圧はコ
ラム外に配した電源およびパターンジェネレータ14に
より供給され、該パターンジェネレータはコンピュータ
15でコントロールされる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
畝上の従来構成による電子ビーム装置では電磁コイルか
らなる対物レンズ9と、エネルギー分析器11からなる
2つのメツシュ状電極11a。
11bの例えば試料側の半球状電極11aに+100〜
500■の電圧を印加し、対物レンズ9側の半球状電極
11bには分析電圧−10〜IOVの電圧を印加して試
料12のエネルギー電圧すなわち2次電子を2次電子検
出器10で検出する。該2次電子検出器10としては2
次電子増倍管あるいはシンチレータで一度光に変換した
あと光電子増倍管で検知し電気信号に変換するようにな
されているが。
電磁コイルとエネルギー分析器とを別々に設けているた
めに構造が複雑であるだけでなく大型化し。
電子ビームの作動範囲が長くなるためにビーム径が増大
する等の欠点を有する。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は畝上の欠点に鑑みなされたものであり。
その目的とするところは対物レンズをエネルギー分析器
に兼用し、構造簡単でウオーキングディスタンスの短い
集束レンズ系を得んとするもので。
その手段は、試料に電子ビームを照射し該試料から放出
される2次電子のエネルギーを分析して。
該試料電圧の測定を行う装置において。
上記電子ビームを試料に照射する電子ビーム装置の対物
レンズは静電レンズで構成し。
該静電レンズの1つの電極をエネルギー分析電極として
なること特徴とする電子ビーム装置によって達成される
〔作   用〕 本発明の電子ビーム装置は電子銃から放出される電子ビ
ームを集束レンズで集束すると共に試料上にフォーカシ
ングするための対物レンズを静電型レンズとすると共に
該静電型レンズを構成する3つの電極の1つをエネルギ
ー分析用の電極としたものであり、3枚の静電型電極の
うち電子銃側に配設したレンズ電極に焦点合わせ電圧を
、真中の分析電極に分析電圧−10〜10vを加え、更
に試料側に配設した引出電極に500〜1000 Vの
引出電圧を印加することで2次電子検出器に2次電子を
与えるようにしたものである。
〔実 施 例〕
以下1本発明の電子ビーム装置の一実施例を第1図乃至
第3図について詳記する。
第1図は本発明の電子ビーム装置の構成図。
第2図は第1図のエネルギー分析レンズ部分の拡大図。
第3図は本発明の電子ビーム装置のエネルギー分析レン
ズ内の電位分布と電子ビームならびに2次電子の軌道を
模式的に示した模式図である。
第1図の電子ビーム装置において、コラム2内には電子
銃Jから放出された電子ビームを第1の集束レンズ16
a→ビーム偏向コイル6→第2の集束レンズ16b−エ
ネルギー分析レンズ17−必要に応じて焦点補償コイル
20に与えてステージ13上の試料12に照射される。
上記構成では集束レンズ16を第1および第2の集束レ
ンズ16a、16bで構成したものを示したが、電子銃
からの電子ビーム径を試料位置でどの程度の微小径とす
るかで集束レンズ数を適宜窓めればよい。
エネルギー分析レンズ17は第1乃至第3の静電レンズ
を構成するレンズ電極17a2分析電極17b、引出電
極17Cより構成されている。焦点補償コイル20はエ
ネルギー分析電圧の変化に伴う対物レンズ焦点距離変動
を補償するために引出電極17Cと試料間に設けるを可
とする。
また、この焦点補償コイル20に加えられる電圧は分析
電極17bに加える分析電圧−10〜IOVに応じて定
まるゲインを増巾器18を通じて印加する。
他の構成は第5図と同一なので重複説明を省略する。
第2図に示す拡大図で静電レンズで構成されている対物
レンズ、すなわちエネルギー分析レンズ17の各電極1
7a、17b、17cを詳記する。
17aのレンズ電極は電子銃から放出される電子ビーム
に対する焦点距離を制御し、試料12上にフォーカスす
るためのプラス数100V (可変)の電圧が焦点合わ
せ電源22から与えられ1分析電極17’bにはエネル
ギー分析用の電圧2例えば。
−IOV〜+IOVの可変電圧が印加されている。また
、引出電極17Cには試料12に照射した電子ビームに
よって放出される2次電子を加速し、引き出すために引
出電源22から例えば1000 V程度の電圧が印加さ
れる。
上記レンズ電極17a1分析電極17b、引出電極17
Cは中心にアパチャーの穿たれた円板でコラム2にステ
ム26を介して保持されている。
また、2次電子検出器10はレンズ電極17aの上方に
配設されている。一般に静電レンズを用いることは公知
で1例えば第4図に示すように3枚の電極17a’、1
7b’、17c’で構成されているが電極17a’=1
7c’=OV、17b=負の電圧が印加されたユニポテ
ンシャル型レンズであるが本発明では外側の電極に正の
電圧を印加して試料の2次電子の引出レンズ作用の制御
に利用している点で従来のユニポテンシャル型の静電レ
ンズとは異なる。
上記構成における。対物レンズおよびエネルギー分析器
を構成するエネルギー分析レンズ17の等電位線と試料
に照射される電子ビームならびに試料からの2次電子の
様子を示す第3図および第2図によって、エネルギー分
析レンズ17近傍でのこれら電子ビームと2次電子の軌
跡を模式的に説明する。
第3図で、試料電圧■。=0■、レンズ電極17aの印
加電圧Vl = 500V、分析電極17bの印加電圧
V2=−5V、引出電極17Cの印加電圧’/l =1
000Vとすれば、これらによって生ずる等電位線は符
号25で示す如く表される。ここで第2図にも示すよう
に電子ビーム23を1000eV(電子ボルト)程度の
電圧で試料12に照射したとすれば、その軌跡は破線で
示すように分析電極17bのアパチャ近傍で減速拡散さ
れて試料12に集束する。また、この電子ビーム23の
照射によって試料12から放出される2次電子が例えば
leV程度の低速の2次電子24bであれば分析電極近
傍で押し戻されるが、1OeV程度の高速な2次電子2
4aであれば分析電極17bのアパチャ近傍で拡散され
ながらレンズ電極17aのアパチャを飛び出して2次電
子検出器10に達する。
また、第2図に一点鎖線で示す2次電子軌跡は1OeV
より更に大きな速度を有する2次電子の軌跡を示してい
る。よって試料のエネルギー分析を行うことが可能であ
る。
〔発明の効果〕
本発明は畝上の如く構成させたので電子ビーム装置のワ
ーキングディスタンスを短縮できると共に電子ビームか
ら照射されるビーム径の増大を防止することが可能とな
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の電子ビーム装置の構成図。 第2図は第1図に示すエネルギー分析レンズの拡大図。 第3図は本発明の電子ビーム装置のエネルギー分析レン
ズ内の電位分布と電子ビームならびに2次電子の軌跡を
示す模式図。 第4図は静電レンズ構成を示す電極配置図。 第5図は従来の電子ビーム装置の構成図である。 1・・・電子ビーム装置。 2・・・コラム。 3・・・電子銃。 4・・・アノード。 5・・・コンデンサレンズ。 6・・・ビーム偏向コイル。 7・・・偏向系。 8・・・CRT。 9・・・対物レンズ。 lO・・・2次電子検出器。 11・・・エネルギー分析器。 12・・・試料。 13・・・ステージ。 14・・・パターンジェネレータ。 15・・・コンピュータ。 16・・・集束レンズ。 17・・・エネルギー分析レンズ。 17a・・・レンズ電極。 17b・・・分析電極。 17C・・・引出電極。 18・・・増巾器。 20・・・焦点補償コイル。 21・・・焦点合わせ電源。 22・・・引出電源。 23・・・電子ビーム。 24a、24b−・・2次電子。 26・・・ステム。 、1 工、ネIし¥−#jilrレンス゛羽叱六〇n第3図

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)試料に電子ビームを照射し該試料から放出される
    2次電子のエネルギーを分析して。 該試料電圧の測定を行う装置において、 上記電子ビームを試料に照射する電子ビーム装置の対物
    レンズは静電レンズで構成し、 該静電レンズの1つの電極をエネルギー分析電極として
    なること特徴とする電子ビーム装置。
  2. (2)前記静電レンズは少なくとも3つの電極を有し、
    中央の電極にはエネルギー分析用の分析電圧が印加され
    、 該3つの電極のうち前記試料側に配された電極には2次
    電子引出用の正の電圧が印加され、電子銃側に配された
    電極には電子ビーム焦点合わせ用の高電圧を印加してな
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の電子ビ
    ーム装置。
  3. (3)前記分析電圧の印加される電極には−10V〜+
    10V、前記2次電子引出用電極には500V〜100
    0Vの電圧をそれぞれ印加してなることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項記載の電子ビーム装置。
  4. (4)前記静電レンズと試料間にエネルギー分析電圧の
    変化に伴う対物レンズの焦点距離変動を補償する焦点補
    償手段を設けてなることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の電子ビーム装置。
  5. (5)前記焦点補償手段は焦点補償コイルであることを
    特徴とする特許請求の範囲第3項記載の電子ビーム装置
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7205540B2 (en) 2001-09-06 2007-04-17 Ebara Corporation Electron beam apparatus and device manufacturing method using same
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