JPS62114840A - 移動ステ−ジ - Google Patents

移動ステ−ジ

Info

Publication number
JPS62114840A
JPS62114840A JP60250086A JP25008685A JPS62114840A JP S62114840 A JPS62114840 A JP S62114840A JP 60250086 A JP60250086 A JP 60250086A JP 25008685 A JP25008685 A JP 25008685A JP S62114840 A JPS62114840 A JP S62114840A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
container
magnetic fluid
magnetic
shaft
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60250086A
Other languages
English (en)
Inventor
Takanori Tsutaoka
蔦岡　孝則
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP60250086A priority Critical patent/JPS62114840A/ja
Publication of JPS62114840A publication Critical patent/JPS62114840A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q11/00—Accessories fitted to machine tools for keeping tools or parts of the machine in good working condition or for cooling work; Safety devices specially combined with or arranged in, or specially adapted for use in connection with, machine tools
    • B23Q11/0032—Arrangements for preventing or isolating vibrations in parts of the machine
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Machine Tool Units (AREA)
  • Non-Mechanical Conveyors (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、露光機のステッパーなどの移動ステージに関
するものである。
〔従来の技術〕
半導体技術の発展に伴って、精密加工のため、半導体ウ
ェハー等を移動させて加工を行う目的に並進運動をする
ステージが使用される。このステージは、ステッピング
モーター等で移動制御され、決められた位置で停止する
ようになっているが、保持台になめらかな面で接し、摩
擦を少なくするようになっている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、ステッピングモーター等の駆動系が停止しても
、ステージは駆動系停止時の振動の影響をうけて、ただ
ちに静止せず、露光機などの場合、シャッターを開くた
めにはステージが静止するまで待たなければならなかっ
た。さらには駆動系の共振や振動によシ、ステージ上の
物品に悪影響をおよぼすことがある。
このように、ステージを移動させてそのステージ上で微
細加工を行う・場合には、ステージが構造上振動を受け
やすく、ステージに生じた振動がただちに減衰しにくい
という問題点があった。
〔問題を解決するための手段〕
本発明は磁性流体を充填した容器内に、物品搭載用スデ
ーノ金備えた非磁性の移動体を移動可能に収容し、移動
体又は該移動体が対面する容器の側面及び底面に複数個
の磁石を設けて、移動体を容器内に安定に自己浮揚させ
、移動体に取り付けた進退駆動用シャツｌ、シール軸受
を介して、容器の外部に引き出し、シャフト金軸方向に
駆動することにより、移動体とともに、移動体上のステ
ージを移動式せるようにしたことを特徴とする移動ステ
ージである。
〔作用〕
以下、本発明の原理、作用を図によって説明する。第１
図において、２は磁性流体、１は磁石である。図に示す
ように磁性流体２中に置かれた磁石１は、自らが作る磁
場によシ磁性流体２中に生じる体積力を受けて、重力と
つシ合う位置に安定に自己浮揚する。また、第２図に示
すように磁石以外の物体　（非磁性体）３は図のような
配置で磁石４を設けて、磁束を容器５の壁面に集中させ
ることによシ磁性流体２中に浮揚させることができる。
この作用によシ、使用する磁性流体２の約４倍の比重を
持つものまで自己浮揚させることができる。さらには磁
性流体２中に自己浮揚した物体に外力が加わった場合に
は、センタリングフォースと呼ばれる復元力が作用する
ため、横ぶれなどが起こシにくい、また、磁性流体の粘
性によ）外部振動の減衰が速く、かつ振動を伝えにくい
ため、自己浮揚させた物体を移動させて、それを停止し
た場合には、すみやかに振動を減衰させることができる
。
〔実施例〕
次に本発明の実施例を図によシ説明する。第３図（ａ）
　、　（ｂ）において１３はステージ、１７は磁性流体
、１５は磁石、１６は容器、１４は移動体、１１はシー
ル軸受、１２はシャフトである。第３図（ａ）　、（ｂ
）はそれぞれ、縦方向及び横方向の断面図を示している
。第３図（１）において移動体１４は、その側面、及び
底面に設けた磁石１５　、１５　、・・・の磁場によシ
、容器１６内の磁性流体１７中に安定に浮揚している。
第３図（ｂ）に示すように、シール軸受１１で保持され
たシャフト１２を進退移動させると、移動体１４を同方
向に移動して、ステージ１２を一体動させる。シャフト
１２に連結された駆動系が停止した際には、進退方向に
対する容器１６の左右壁に対するセンタリングフォース
と、磁性流体１７の粘性によシ、ぶれや振動はすみやか
に減衰する。
第４図は、磁石１５を容器１６側に設けて、自己浮揚さ
せるようにした場合である。この様な配置でも、移動体
１４は、磁性流体中に安定に浮揚する。
ここではシール軸受の一例として、磁性流体をシャフト
上に磁場で保持せしめ之ものを使用した。
〔発明の効果〕
本発明は、以上のように磁性流体中に浮揚させた移動体
を移動させることにより、ステージ’ｔ　一体動させる
ようにしたため、ステージの停止時の振□動をすみやか
に減衰させかつ、ステージの移動に伴う横ぶれを無くし
、しかも外部からの振動伝達が小さい、移動ステージを
実現できるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第１図は、磁性流体中での自己浮揚の原理図、第２図は
、磁石を設けた物体を自己浮揚させる場合の例、第３図
（１）、（ｂ）は本発明の一実施例を示すもので、（ａ
）は断面正面図、（ｂ）は断面側面図、第４図は他の実
施例を示す断面正面図である。 １　、４　＃　１５・・・磁石、２．１７・・・磁性流
体、３・・・物体（非磁性体）、１４・・・移動体、１
３・・・ステージ、１６・・・容器、１２・・・シャフ
ト、１１・・・シール軸受特許出願人　日本電気株式会
社１、

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）磁性流体を充填した容器内に、物品搭載用ステー
    ジを備えた非磁性の移動体を移動可能に収容し、移動体
    、又は該移動体が対面する容器の側面及び底面に複数個
    の磁石を設けて移動体を容器内に安定に自己浮揚させ、
    移動体に取り付けた進退駆動用シャフトを、シール軸受
    を介して容器の外部に引き出し、シャフトを軸方向に駆
    動することにより、移動体とともに、移動体上のステー
    ジを移動させるようにしたことを特徴とする移動ステー
    ジ。
JP60250086A 1985-11-08 1985-11-08 移動ステ−ジ Pending JPS62114840A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60250086A JPS62114840A (ja) 1985-11-08 1985-11-08 移動ステ−ジ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60250086A JPS62114840A (ja) 1985-11-08 1985-11-08 移動ステ−ジ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62114840A true JPS62114840A (ja) 1987-05-26

Family

ID=17202597

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60250086A Pending JPS62114840A (ja) 1985-11-08 1985-11-08 移動ステ−ジ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62114840A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01153813A (ja) * 1987-12-11 1989-06-16 Hitachi Seiko Ltd 直線案内装置
JPH01153812A (ja) * 1987-12-11 1989-06-16 Hitachi Seiko Ltd 直線ころがり案内装置
JPH0344593A (ja) * 1989-07-12 1991-02-26 Toshiba Corp 位置決め装置
EP0673709A1 (en) * 1994-03-25 1995-09-27 Fujikura Kasei Co., Ltd. Machine tool damping apparatus
CN104487732A (zh) * 2013-10-11 2015-04-01 宋政辉 磁流体悬浮移动平台
WO2015051603A1 (zh) * 2013-10-11 2015-04-16 宋政辉 磁流体悬浮移动平台

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01153813A (ja) * 1987-12-11 1989-06-16 Hitachi Seiko Ltd 直線案内装置
JPH01153812A (ja) * 1987-12-11 1989-06-16 Hitachi Seiko Ltd 直線ころがり案内装置
JPH0344593A (ja) * 1989-07-12 1991-02-26 Toshiba Corp 位置決め装置
EP0673709A1 (en) * 1994-03-25 1995-09-27 Fujikura Kasei Co., Ltd. Machine tool damping apparatus
CN104487732A (zh) * 2013-10-11 2015-04-01 宋政辉 磁流体悬浮移动平台
WO2015051603A1 (zh) * 2013-10-11 2015-04-16 宋政辉 磁流体悬浮移动平台

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4525659A (en) Positioning stage having a vibration suppressor
US4624617A (en) Linear induction semiconductor wafer transportation apparatus
JP2834832B2 (ja) 姿勢制御装置
US5047676A (en) Brushless linear actuator with sensor-activated coils
US5057723A (en) Linear motor
JPS62114840A (ja) 移動ステ−ジ
US5601027A (en) Positioning system with damped magnetic attraction stopping assembly
KR101665044B1 (ko) 자기 부상 모듈 및 자기 부상 모듈을 포함하는 리니어 모터
EP0792005A1 (en) Linear motor driving type feeding device
EP1594214A1 (en) Driving unit
JP2002283174A (ja) 直線駆動装置
JP2547403B2 (ja) 真空装置用磁気浮上搬送装置
JPH03107639A (ja) 振動防止型位置決め装置
JP2651732B2 (ja) 直線駆動装置
JP3393692B2 (ja) 停止位置決め装置
JPS63133803A (ja) 磁気浮上搬送装置
JPH06218690A (ja) 磁気的に結合された駆動装置の振動減衰方法
JP3270126B2 (ja) 磁気軸受装置
JPH0479702A (ja) 搬送装置
JPH02262091A (ja) 位置決め装置
JPS61226402A (ja) スタツカクレ−ンの振動制止装置
JPS63174895A (ja) 磁気浮上式搬送マニピユレ−タ
JP2562343Y2 (ja) チャッキング用アクチュエータ
JP2707364B2 (ja) 静圧軸受装置
JP3603615B2 (ja) Ｘｙ軸ヘッド位置決め装置